DE1102032B - Vakuumdichte Schweiss- bzw. Loet-verbindung zwischen einem nicht-metallischen, schwer schmelzbaren Material, einem weiteren Bauteil aus Silber, Kupfer oder Gold und einer Zwischenschicht aus den Reaktionsprodukten des schwer schmelzbaren Materials mit Titan oder Zirkon sowie einem Lot aus Indium, Gallium, Thallium, Zink oder Cadmium sowie Verfahren zu deren Herstellung - Google Patents

Vakuumdichte Schweiss- bzw. Loet-verbindung zwischen einem nicht-metallischen, schwer schmelzbaren Material, einem weiteren Bauteil aus Silber, Kupfer oder Gold und einer Zwischenschicht aus den Reaktionsprodukten des schwer schmelzbaren Materials mit Titan oder Zirkon sowie einem Lot aus Indium, Gallium, Thallium, Zink oder Cadmium sowie Verfahren zu deren Herstellung

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DE1102032B
DE1102032B DEG22838A DEG0022838A DE1102032B DE 1102032 B DE1102032 B DE 1102032B DE G22838 A DEG22838 A DE G22838A DE G0022838 A DEG0022838 A DE G0022838A DE 1102032 B DE1102032 B DE 1102032B
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General Electric Co
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    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
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    • B23K35/30Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 1550 degrees C
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
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Description

  • Vakuumdichte Schweiß- bzw. Lötverbindung zwischen einem nichtmetallischen, schwer schmelzbaren Material, einem weiteren Bauteil aus Silber, Kupfer oder Gold und einer Zwischenschicht aus den Reaktionsprodukten des schwer schmelzbaren Materials mit Titan oder Zirkon sowie einem Lot aus Indium, Gallium, Thallium, Zink oder Cadmium sowie Verfahren zu deren Herstellung Die Erfindung bezieht sich auf eine Schweiß- bzw. Lötverbindung und ein Verfahren zu deren Herstellung durch Verbinden nichtmetallischer, schwer schmelzbarer Körper miteinander oder mit einem metallischen Bauteil und auf ein solches Verfahren, bei dem eine Verbindung von beträchtlicher Festigkeit erzeugt wird, die auch bei hohen Arbeitstemperaturen beständig ist. Das Verfahren nach der Erfindung eignet sich insbesondere zum Verbinden von Quarz mit metallischen Bauteilen, beispielsweise aus Silber.
  • Eine derartige Verbindung ist oft bei Röhren- oder Glühbirnenfassungen erforderlich sowie um ein isoliertes Endstück für eine elektrische Entladungsvorrichtung, einen Kondensator, ein Wellenleiterfenster oder eine ähnliche Vorrichtung herzustellen.
  • Wenn man ein Metall starr mit einem Nichtmetall verbindet, wird die Festigkeit der sich ergebenden Verbindungsstelle außer durch die Festigkeit der einzelnen Komponenten auch noch durch die Spannung an der Berührungsfläche bestimmt. Diese Spannung ist eine Funktion des Unterschiedes des Wärme ausdehnungskoeffizienten, des metallischen und des nichtmetallischenKörpers, desTemperaturunterschiedes zwischen den Bedingungen, bei denen die Vorrichtung betrieben wird und bei denen die Verbindung hergestellt wurde, des Elastizitätsmoduls der Stoffe und der Federungsgrenze des Baumetalls.
  • Die stärkste Bindung kann man erreichen, wenn das Metall und das Nichtmetall identische Wärmeausdehnungseigenschaften aufweisen. In diesem Fall treten keine Spannungen auf, und die Festigkeit der Verbindung ist dieselbe wie die des Komplexes an der Berührungsstelle. Diese ideale Kombination tritt selten auf und kann praktisch nicht erreicht werden. Das letztere scheint bei Quarzglas oder Schmelzquarz der Fall zu sein, dessen Wärmeausdehnungskoeffizient 0,55 - 10-8 je ° C beträgt. Der Begriff Quarz soll hier Schmelzquarz oder Quarzglas und nicht kristallines Quarz bedeuten. Das Metall Wolfram liegt hinsichtlich seines Ausdehnungskoeffizienten von 4,7 - 10-e je ° C dem Quarzglas wahrscheinlich am nächsten. Bei diesem Unterschied in der Ausdehnung und wegen der großen Festigkeit von Wolfram erweisen sich massive Verbindungen direkt zwischen Quarzglas und Wolfram nicht als zweckmäßig.
  • Bei Quarz handelt es sich wahrscheinlich um das günstigste dielektrische Material zur Verwendung für Hochfrequenzentladungsvorrichtungen u. dgl., da es eine hohe Spannungsfestigkeit und einen geringen dielektrischen Verlust aufweist. Unglücklicherweise ist bei vielen Anwendungsarten von Quarz in Vorrich- tungen dieser Art eine Metall-Quarz-Verbindung erforderlich, die eine genügende Festigkeit und Vakuumdichte aufweist und die man bei Temperaturen in der Größenordnung von mehreren hundert Grad Celsius verwenden kann. Bisher hat es sich so gut wie unmöglieh erwiesen, diese Erfordernisse gleichzeitig zu erfüllen, und infolgedessen ist dieses -äußerst günstige Material nur in beschränktem Maße verwendet worden.
  • Die mechanischen Eigenschaften von klarem Schmelzquarz sind wie folgt:
    Druckfestigkeit . . . . . : . . . . . . 11200 kg/cm2
    Dehnfestigkeit . . . . . . . . . . . . . 492 kg/cm2
    Schmelzpunkt : . . . . . . . . . . . . . über 1000° C
    Wegen des Schmelzpunktes von Silber (960° C) im Vergleich zu der sehr hohen Erweichungstemperatur von Quarz kann man nach den üblichen Schmelz- und Formverfahren keine Verbindungen von Quarzglas mit dem Baumetall herstellen: -Es ist häufig versucht worden, bessere Verfahren zur Herstellung von Verbindungen zu entwickeln, um eine Verbindungsstelle von guter Festigkeit bei erhöhter Temperatur, die gleichzeitig vakuumdicht ist, herzustellen. In dieser Richtung sind beträchtliche Fortschritte er-zielt worden, und ein derartiges Verfahren unter Verwendung eines aktiven Metallhydrids und eines Lötmetalls, beispielsweise Kupfer oder Silber, ist in der deutschen Patentschrift 842 469 beschrieben. Die direkte Anwendung dieses Verfahrens für die Herstellung von Bindungen zwischen Stoffen, wie Quarz und Silber, war nicht erfolgreich. Gemäß dem in .obiger Patentschrift beschriebenen Verfahren lassen sich durch Verwendung niedrig schmelzender, geschmeidiger Lötmetalle Bindungen zwischen nichtmetallischen, feuerfesten und metallischen Bauteilen mit im wesentlichen verschiedenen Wärmeausdehnungskoeffizienten herstellen. Bindeschichten, die nach diesem Verfahren hergestellt werden, enthalten jedoch in sich eine Schicht von Lötmetall und sind auf solche Anwendungsbereiche beschränkt, bei denen die auftretenden Temperaturen unterhalb des Schmelzpunktes des verwendeten Lötmetalls liegen. Demgemäß ist es ein wichtiges Ziel der Erfindung, die Einschränkung hinsichtlich der Temperatur zu beseitigen und gleichzeitig eine Bindung von beträchtlicher mechanischer Festigkeit zu erzielen.
  • Die Erfindung betrifft eine vakuumdichte Schweiß-bzw. Lötverbindung zwischen einem nichtmetallischen, schwer schmelzbaren Material, einem Bauteil aus Silber, Kupfer oder Gold und einer Zwischenschicht aus den Reaktionsprodukten des schwer schmelzbaren Materials mit Titan oder Zirkon und einem Lot aus Indium, Gallium, Thallium, Zink oder Cadmium, wobei erfindungsgemäß eine weitere Zwischenschicht vorgesehen ist, die im wesentlichen aus einer a-Phasenlegierung des Lots mit dem Metall des Bauteils besteht und praktisch frei ist von unlegiertem Lot.
  • Das Verbinden des nichtmetallischen, feuerfesten Körpers mit dem Bauteil aus verhältnismäßig nachgiebigem Metall erfolgt durch eine Zwischenschicht, welche aus den Metallen Titan oder Zirkor;, die vorzugsweise in situ durch Dissoziation des Metallhydrids erzeugt werden, und einem geschmeidigen Lötmetall von niedrigem Schmelzpunkt besteht, Das Titan oder Zirkon liegt nur in der zur Herstellung der Verbindung an den nichtmetallischen, feuerfesten Körper erforderlichen Menge vor, so daß die sich ergebende Legierung aus dem aktiven Metall und dem biegsamen -Lötmetall von niedrigem Schmelzpunkt nicht spröde ist. Ebenso muß die zur Legierungsbildung mit dem metallischen Bauteil zur Verfügung stehende Menge an- biegsamem Lötmetall mit niedrigem Schmelzpunktso weit beschränkt sein, daß bei der Legierungsbildung zwischen dem biegsamen Lötmetall und dem Bauteil während der nachfolgenden Erhitzungsstufe die entstehende Legierung biegsam ist =und einen bedeutend höheren Schmelzpunkt als das - biegsame Lötmetall aufweist. Dies tritt nur auf, wenn die arPhasenlegie= rung vorliegt: Die Bindung kann man jeder Temperatur unterhalb des Schmelzpunktes dieser Legierung unterwerfen. Im Fall der vorzugsweise verwendeten Stoffe, die weiter unten beschrieben werden sollen, beträgt diese Temperatur ein mehrfaches des Schmelzpunktes des biegsamen Lötmetalls. Demnach kann man eine Bindung herstellen, die sich zur Verwendung bei Temperaturen von beispielsweise 500° C eignet und hierbei die mechanischen Eigenschaften: beibehält Dies konnte man nach bekannten Verfahren nur durch eine Schicht von niedrigschmelzendem Lötmetall erzielen, wö4ürch:die Verbindung nur in niedrigen Temperaturbereiehen verwendet werden konnte.
  • Stoffe, die man erfindungsgemäß verwenden kann, können kurz in folgender Weise zusammengefaßt werden: Bei dem nichtmetallischen, feuerfesten Körper kann- das Verfahren nach der Erfindung besonders vorteilhaft bei Quarz und ähnlichen hoch siliciumdioxydhaltigen Stoffen verwendet werden. Bei dem aktiven Metall kann es sich um Zirkonium oder Titan handeln, und es wird vorzugsweise in Gestalt eines Hydrids verwendet, da sich das elementare Metall schwer in reinem Zustand halten läßt und bei der Lagerung leicht Gas aufnimmt, das die Bindung mindert. Wenn man Hydride verwendet, wird in den meisten Fällen Titan dem Zirkonium vorgezogen. Bei den biegsamen Lötmetallen handelt es sich um Indium, Gallium, Thallium, Zink und Cadmium. Indium und Gallium werden hier insbesondere für Vakuumummantelungen verwendet, da sie im Vergleich zu den anderen erwähnten Lötmetallen einen ziemlich niedrigen Dampfdruck aufweisen. Sie besitzen auch gute metallurgische Eigenschaften zur Legierungsbildung mit den Bauteilen, die aus Silber, Geld oder Kupfer bestehen können. Die Zustandsdiagramme von Silber und Kupfer mit Indium und Gallium zeigen, daß die a-Phasenlegierungen bei Anwesenheit eines beträchtlichen Prozentsatzes von Lötmetall vorliegen. Zink und Cadmium zeigen einen höheren Dampfdruck und sind für Vakuumummantelungen weniger geeignet.-Außerdem werden Legierungen von Cadmium und Kupfer leicht hart und unnachgiebig. Thallium befriedigt nur in Verbindung mit Silber als Baumetall.
  • Die Erfindung wird nun an Hand von- Beispielen des Verfahrens unter Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert: Fig. 1 ist eine Teilaufsicht auf einen zusammengesetzten Körper gemäß der Erfindung; Fig.2 stellt eine Vergrößerung eines Teiles des zusammengesetzten Körpers gemäß Fig.1 dar und zeigt die Teile vor dem- Zusammensetzen; -Fig. 3 ist .eine -ähnliche Ansicht und zeigt die Teile nach Herstellung der Bindung; Fig: 4 ist eine Teilaufsicht auf einen zweiten zusammengesetzten Körper; -Fig. S ist eine Teilaufsicht auf einen Teil des in Fig. 4 gezeigten Körpers; Fig. 6,. 7, ß bzw: 9 zeigen die Zustandsdiagramme der folgenden Legierungen: Indium-Silber, Indium-Kupfer, Gallium-Silber und Gallium-Kupfer. -Fg. 1 Brläutert-dieAnwendungsweise der Erfindung bei einer Konstrukticxn, .die sieh für ein Wellenleiterfenster od. dg1.. eignet. Das Fenster weist eine Scheibe aus -Quarz. 1 aufs. die -mit einer- ringförmigen Metallscheibe 2 verbunden ist, Die Scheibe 2 weist am Außenrand den Mansch 2 A .auf, den man zum Auflötei.-oder sonetigen Befestigen des Fensters an ein Raumfilter verwenden kann.- Die Scheibe kann aus Silber;. Gold oder -Kupfer, -jedoch vorzugsweise aus Silber sein, Ein Ring. 3ebenfalls-ausQuarz, mit einer Dicke, die im wesentlichen der der Quarzscheibel entspricht, ist mit der gegenüberliegenden Seite der Metallscheibe-2 verbunden. Dieser Widerdruckxing aus .demselben ,Stoff wie das Fenster dient zum Ausgleich der Kräfte .auf den gegenüberliegenden Seiten des Bauteiles 2 und um ein ,Stauehen des Bauteiles und ein dadurch verursachtes Brechen der Bindung zu verhindern. Bei der. Vorbereitung .der Teile ?. und 3 zur Herstellung der Bindung bestreicht man die Oberfläche 4 und 5, -die -mit dem Flansch . des Ringes 2 verbunden werden - sollen, zuerst mit einer dünnen Schicht eines flüchtigen Klebstoffes, beispielsweise einer Lösung von Polyvinylalkohol, Polybutan od. dgl, Die klebrige überzogene Fläche wird dann mit einer dünnen Schicht feingepulvertem Titan- oder Zirkoniumhydrid (lichte Maschenweite 0,048 mm oder feiner) überzogen. Alles überschüssige Hydrid wird entfernt," so daß eine Schicht zurückbleibt, deren Dicke im wesentlichen der Korngröße entspricht. Daraufhin wird gepulvertes Lötmetall, vorzugsweise Indium, über die dünne Titanhydridschieht aufgebracht und die überzogenen Bauteile unter eine Glocke gelegt, welche evakuiert wird. Nachdem ein gutes Vakuum, vorzugsweise in der Größenordnung von 0,1 R, erreicht ist, erhöht man die Temperatur so weit, daß der Wasserstoff aus dem Hydrid freigesetzt wird, das reaktionsfähige Metall mit dem Quarz reagiert und mit dem Indium eine Legierung bildet, Die Temperatur kann dabei in einem beträchtlichen Bereich verändert werden. Eine Temperatur von 530 bis 600° C ist angemessen, um das Hydrid mit genügender Schnelligkeit zu dissoziieren und mit dem Quarz und dem Indium in etwa 3 bis 5 Minuten zu reagieren. Der so aufgebrachte Überzug sollte vorzugsweise eine Dicke von etwa 0,0254 bis 0,254 mm aufweisen und kann bei einigen Stoffkombinationen dicker sein, insbesondere wenn man einen dicken Bauteil verwendet. Ein Überschuß an Lötmetall wird durch Abkratzen mit einem scharfen Werkzeug entfernt, Es ist ferner notwendig; die zur Verfügung stehende Indiummenge so zu beschränken, daß nach dem darauffolgenden Erhitzen mit dem Silberteil 2 das gesamte Indium mit dem Silber eine Legierung, und zwar nur eine a-Phasenlegierung, bildet. Aus dem Zustandsdiagramm der Fig.6 ist zu ersehen, daß hierfür weniger als 20% Indium in der Indium-Silber-Legierung erforderlich sind. Vorzugsweise beschränkt man die Indiumrnenge so, daß die Indium-Silber-Legierung bedeutend weniger als 200/ö Indium, beispielsweise 1 bis 3%, enthält. Dann setzt man die Teile 1 und 3 an die gegenüberliegenden Seiten des Silberbauteiles 2, wobei die Oberflächen 4 und 5 mit :den gegenüberliegenden Seiten des Flansches 6 in Berührung kommen. Die Teile werden nun in dieser Lage durch eine Feder oder ein Gewicht zusammengehalten und wiederum in eine Vakuumkammer gelegt und unter Vakuum , so hoch erhitzt, daß der Bauteil 2 reit dem gesamten Lötmetall eine Legierung bildet, ,also etwa auf 85c0° C, jedoch auf jeden Fall auf eine Temperatur unterhalb des Schmelzpunktes der homogenen Legierung von Indium und Silber. Bei den soeben beschriebenen Stoffen würde der Schmelzpunkt oberhalb von 700° C, jedoch unterhalb von 960,5° C, "dem Schmelzpunkt des reinen Silbers, liegen, wobei die genaue Temperatur von dem Verhältnis von Indium zu Silber abhängt.
  • Die für die zweite Erhitzungsstufe erforderliche Zeit verändert sich mit der Masse der zu behandelnden Teile und der Geschwindigkeit der Wärmezufuhr. Bei dem in Fig. 1 gezeigten Aufbau erfordert die zweite Erhitzungsstufe, wenn die Quarzteile 1 und 3 eine Dicke von 6,350 mm aufweisen, etwa 10 Minuten.
  • Wenn das Erhitzen bei zu hoher Temperatur erfolgt, wird natürlich die gesamte Metallmasse flüssig und läuft aus dem Verbindungsstück. Bei Zuschaltung der oben angegebenen Maßnahmen bietet jedoch die Bestimmung der Indiummenge und das Einhalten einer oberen Temperaturgrenze für die zweite Erhitzungsstufe keine Schwierigkeit.
  • In dem oben beschriebenen Beispiel wird das Verfahren nach der Erfindung im Vakuum durchgeführt. Selbstverständlich kann man das Verfahren auch unter handelsüblichen, nicht reaktionsfähigen Gasen, beispielsweise Helium, Argon, Kenon, Krypton u. dgl" durchführen. Wenn man das Verfahren in einer Gasatmosphäre durchführt, erhitzen sich die Teile schneller, und die Erhitzungszeiten werden dementsprechend abgekürzt, Die vorliegende Erfindung und ihre Vorteile ergeben sich klarer aus einer Betrachtung des Zustandsdiagramms der Fig.6 für Indium und Silber, Während Indium bei 155,4° C schmilzt, schmilzt die z-Phasenlegierung, die sieh mit einem Gehalt bis zu 209/o Indium bilden kann, in einem Temperaturbereich von 693 bis 960,5° C. Eine Legierung, die beispielsweise 10°/o Indium enthält, schmilzt bei etwa 850° C. Das Verfahren nach der Erfindung fußt auf der Erkenntnis, daß bei dem Verbinden von Stoffen wie Quarz und einem Metallbauteil zurr Zweck einer Verwendung bei hohen Temperaturen die mechanische Biegsamkeit mit einem verhältnismäßig hohen Schmelzpunkt vereinigt werden kann, Das beschriebene Verfahren kann man auch mit anderen, zuvor erwähnten Stoffkombinationen durchführen, Um "diese zu erläutern, sei auf die restlichen Zuständsdiagramme in Fig. 7, 8 und 9 hingewiesen, Bei Kupfer und Indium z, B. kann man die günstigen Ergebnisse des Verfahrens nach der Erfindung erzielen, wenn man den Gehalt von Iridium in der Indium,Kupfer-Legierung unterhalb von etwa 7°/o hält. Bei einem Indiumgehalt von 30% kann die Temperatur der zweiten Erhtzungsstufe sogar 950° C be> trägen, -muß jedoch natürlich wesentlich niedriger als 1000° C, dem Schmelzpunkt der 3%igen Indiumr Kupfer-Legierung, liegen, In gleicher Weise kann man das Verfahren mit Gallium-Silber oder Gallium--Kupfer durchführen, Bei Gallium-Silber erhält man sicher die a-Phase, wenn der Galliurngehalt unter etwa. 8% liegt. Bei 7,,511/o Gallium liegt der Schmelzpunkt der Legierung bei etwa 875° C. Demgemäß kann die zweite Erhitzungsstufe zwischen 750 und 850° C durchgeführt werden. Bei Kupfer-Gallium kann der Gehalt an Gallium bei der a-Phase bis zu etwa 159/0 betragen, wobei dar Schmelzpunkt der a-Phasenlegierung bei etwa 91011 C beginnt. Bei einem Galliumgehalt im Bereich von etwa 2,51% können Temperaturen beträchtlich über 9100 C eingehalten werden. Bei einem Galliumgehalt in der Größenordnung von 2,5% kann die Temperatur- der zweiten Erhitzungsstufe bei -dem Verfahren zur Herstellung der Verbindung im Bereich von 900 bis 1000° C liegen.
  • Bei Verwendung der IndiumRGold=Legierung kann man die a-Phasenlegiernng mit weniger als 5 % Indium bilden, wobei der Schmelzpunkt der Legierung etwa 647° C beträgt. Bei 2% Indium liegt der Schmelzpunkt der Legierung bei etwa 900° C. Bei diesem Indiumgehalt liegt die für die zweite Erhitzungsstufe geeignete Temperatur unter der zuletzt genannten Temperatur von 900° C und oberhalb der zuerst genannten Temperatur von 647° C.
  • Bei Verwendung der Gallium-Gold-Legierung kann man die a-Phase mit weniger als 25°/o Gallium bilden, wobei der Schmelzpunkt der Legierung 275° C beträgt. Bei 511/o Gallium, einem geeigneten Prozentsatz für die Zwecke der Erfindung, liegt der Schmelzpunkt der Legierung bei etwa 950° C. Deshalb sollte bei diesem Gehalt die zweite Erhitzungsstufe unterhalb 950° C und wesentlich oberhalb der zuerst genannten Temperatur durchgeführt werden.
  • Man kann das Verfahren auch mit Kombinationen anderer Lötmetalle durchführen, und zwar von Thallium, Cadmium und Zink mit den drei Baumetallen, nämlich Silber, Gold und Kupfer. Auskunft über diese Legierungen einschließlich der Mindesttemperatur bei der für einen bestimmten Gehalt an biegsamem Lötmetall nur die a-Phasenlegierung gebildet wird, geben metallurgische Lehrbücher, z. B. M. H a n s o i i, »Der Aufbau der Zweistofflegierungen«, Berlin, 1936, Verlag Julius Springer. Unter den möglichen Kombinationen dieser Stoffe erweist sich Thallium mit Gold und Kupfer infolge der Metallurgie der Legierungen dieser Stoffe als nicht zweckmäßig. Auch die Cadmium-Kupfer-Legierung ist nicht geeignet, da sie hart ist, so daß einer der Vorteile, die Nachgiebigkeit des Bauteiles, die durch das Verfahren nach der Erfindung angestrebt wird, mit Cadmium-Kupfer-Legierungen nicht erreicht wird.
  • Die übrigen Kombinationen kann man jedoch im allgemeinen in der beschriebenen Weise durchführen, wobei man die Lötmetallmenge so weit beschränkt, daB- nur biegsame oder a-Phasenlegierungen in der zweiten Erhitzungsstufe entstehen. Auf diese Art ist es möglich, eine Verbindung mit einer biegsamen Zwischenschicht zu erzeugen, die gleichzeitig bei Temperaturen beträchtlich über dem Schmelzpunkt des verwendeten biegsamen Lötmetalls beständig ist.
  • In Fig. 4 und 5 wird eine weitere Ausführungsform. der Erfindung gezeigt, in der eine Übertragungsleitung konzentrischer Art mit »den konzentrischen. Leitern 10 und 11 mittels einer Quarzscheibe 12 und' eines ringförmigen Quarzteiles, der zwischen dem inneren und dem äußeren Leiter befestigt ist, abgeschlossen ist. Ein dritter Quarzteil 14 umfaßt den äußeren Leiter, wobei alle Quarzteile in einer gemeinsamen Ebene liegen; so daß beide Seiten der Leiter 10 und 11 im wesentlichen den gleichen Spannungen unterliegen. Für die Quarzteile 12, 13 und 14 und die Bauteile 10 und 11 aus Silber und Indiumlötmetall wird das Verfahren genauso, wie bei Fig. 1 bis 3 beschrieben, durchgeführt. Selbstverständlich kann man gemäß vorausgehender detaillierter Beschreibung andere Stoffkombinationen verwenden.
  • Es ist zu erwähnen, daß bei den beschriebenen Bauarten gleiche Flächen-auf gegenüberliegenden Seiten der Bauteile an-das Isolierungsstück gebunden sind. Diese Anordnung, die man hinsichtlich der gegenüberliegenden Flächen der Metallteile als symmetrische Anordnung bezeichnen .kann, neigt dazu, die Spannüngen auszugleichen, so -daß sich der Metallbauteil nicht wirft und nicht von-.dein nichtmetallischen Bauteil abgerissen wird.
  • Obwohl in - der vorausgehenden Beschreibung die Vorteile des Verfahrens nach der Erfindung nur beim= Verbinden von Quarz oder Körpern aus geschmolzenem Siliziumdioxyd hervorgehoben wurden, ist es in gleicher Weise bei' anderen nichtmetallischen, feuerfesten Körpern anzuwenden. -

Claims (4)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Vakuumdichte Schweiß- bzw. Lötverbindung zwischen einem nichtmetallischen, schwer schmelzbaren Material, einem weiteren Bauteil aus Silber, Kupfer oder Gold und einer Zwischenschicht aus den Reaktionsprodukten des schwer schmelzbaren Materials mit Titan oder Zirkon sowie einem Lot aus Indium, Gallium, Thallium, Zink oder Cadmium, gekennzeichnet durch eine - zusätzliche Zwischenschicht, die im wesentlichen aus einer a-Phasenlegierung des Lots mit dem Metall des Bauteiles besteht und praktisch frei von unlegiertem Lot ist.
  2. 2. Schweiß- bzw. Lotverbindung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das nichtmetallische, schwer schmelzbare Material Quarz ist.
  3. 3. Schweiß- - bzw. Lötverbindung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch- gekennzeichnet, daß 1 bis 3 % Indium in der a-Phase der Indium-Silber-Zwischenschicht vorhanden sind.
  4. 4. Verfahren zur Herstellung einer Schweiß-bzw. Lötverbindung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß pulverisiertes Titan- oder Zirkönhydrid und das Lot auf .die Oberfläche des nichtmetallischen, schwer schmelzbaren Körpers aufgebracht und in bekannter Weise in einer inerten Atmosphäre erhitzt wird, worauf die so überzogene Fläche mit dem Bauteil aus Silber, Kupfer oder Gold in Berührung gebracht und anschließend der zusammengesetzte Körper in inerter -Atmosphäre oberhalb der unteren Temperaturgrenze, bei der sich nur eine a-Phasenlegierung zwischen dem Lot und dem Metall -des Bauteiles bildet, erhitzt wird. -5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Erhitzen bei einer Temperatur höher :als 700 und niedriger als 960,5° C vorgenommen wird. 6: Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Erhitzen bei 850° C erfolgt. -In Betracht gezogene Druckschriften: -Deutsche Patentschrift Nr. 842 469. -
DEG22838A 1956-08-30 1957-08-30 Vakuumdichte Schweiss- bzw. Loet-verbindung zwischen einem nicht-metallischen, schwer schmelzbaren Material, einem weiteren Bauteil aus Silber, Kupfer oder Gold und einer Zwischenschicht aus den Reaktionsprodukten des schwer schmelzbaren Materials mit Titan oder Zirkon sowie einem Lot aus Indium, Gallium, Thallium, Zink oder Cadmium sowie Verfahren zu deren Herstellung Pending DE1102032B (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005013187A1 (de) * 2005-03-22 2006-09-28 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Verbinden zweier Bauteile, sowie Baugruppe

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE842469C (de) * 1946-02-19 1952-06-26 Gen Electric Verfahren zum UEberziehen nichtmetallischer Werkstoffe

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE842469C (de) * 1946-02-19 1952-06-26 Gen Electric Verfahren zum UEberziehen nichtmetallischer Werkstoffe

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005013187A1 (de) * 2005-03-22 2006-09-28 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Verbinden zweier Bauteile, sowie Baugruppe
US7551375B2 (en) 2005-03-22 2009-06-23 Carl Zeiss Smt Ag Process for connecting an optical element of a microlithographic projection exposure apparatus to a mount, and assembly

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