DE1100006B - Verfahren zur Herstellung von Siliciumverbindungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von SiliciumverbindungenInfo
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- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005591 polysilicon Chemical class 0.000 description 4
- 239000005046 Chlorosilane Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- -1 alkylchlorosilanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical class Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000519 Ferrosilicon Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005662 Paraffin oil Substances 0.000 description 1
- 239000004264 Petrolatum Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910021348 calcium disilicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- VNJCDDZVNHPVNM-UHFFFAOYSA-N chloro(ethyl)silane Chemical class CC[SiH2]Cl VNJCDDZVNHPVNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 229940066842 petrolatum Drugs 0.000 description 1
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- DWFFKGPZNGKUPH-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenesilicon Chemical class S=[Si] DWFFKGPZNGKUPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/04—Hydrides of silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0801—General processes
Landscapes
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Description
- Verfahren zur Herstellung von Siliciumverbindungen Es wurde gefunden, daß man Siliciumverbindungen, beispielsweise Siliciumchloride, Chlorsilane, Alkylchlorsilane, Siliciumester, Polysiliciumester und Siliciumsulfide, erhält, wenn man Silicium, Siliciumlegierungen, Silicium-M,etall-Mischungen, Silicideoder Gemische dieser Stoffe zusammen mit katalytisch wirksamen Metallen und/oder Metallverbindungen in Gegenwart eines Verdünnungsmittels und bei einer solchen Temperatur, bei der das Verdünnungsmittel flüssig ist, in einem Mahlreaktor vermahlt und in diesem, gegebenenfalls in Abwesenheit eines flüssigen Verdünnungsmittels, zu den Siliziumverbindungen umsetzt.
- Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, daß die Gefahr der Inaktivierung der katalysatorhaltigen Mischung durch Luft nach dem Mahlen völlig ausgeschlossen ist, weil die Mischung zur Durchführung der Reaktion nicht aus dem Mahl reaktor entnommen wird. Vorzugsweise wendet man das katalytisch wirksame Metall in einer in dem Verdünnungsmittel löslichen Form an. Die katalytisch wirksame Komponente kann dem Silicium auch als Metall zulegiert sein. Diesen Ausgangsmaterialien können bei ihrer Herstellung auch halogenbindende Metalle, z. B. Calcium, Magnesium oder Zink, zugesetzt werden.
- Die Vermahlung kann gegebenenfalls in einer Inertgasatmosphäre durchgeführt werden.
- Der Siliciumgehalt der Ausgangsprodukte wird bei den Umsetzungen quantitativ ausgenutzt. Zum Beispiel ergibt ein Ausgangsmaterial, das als Siliciumkomponente Ferrosilicium (20°/o Si) enthält, mit Methylchlorid Methylchlorsilane, die im Mittel pro Si-Atom 1,5 bis 2,5 Methylgruppen enthalten. Im Rückstand verbleibt siliciumfreies, pyrophores Eisen.
- Ein Ausgangsmaterial, das als Siliciumkomponente Calciumdisilicid enthält, liefert mit Äthylchlorid Äthylchlorsilane, die pro Si-Atom im Mittel 2 bis 3 Alkylgruppen enthalten. Als Rückstand verbleibt Calciumchlorid. Das gleiche Ausgangsmaterial ergibt mit Chlorgas zunächst pyrophores Silicium und daraus bei weiterer Chloreinwirkung Polysiliciumchloride. Mit Chlorwasserstoff liefert es Chlorsilane, die im Mittel 2 bis 3 H-Atome pro Si-Atome enthalten. Die Wahl des anzuwendenden Verdünnungsmittels richtet sich nach der Art der beabsichtigten Reaktion. Für Reaktionen mit gasförmigen Alkylchloriden empfiehlt sich die Verwendung von geschmolzenem Hart- oder Weichparaffin, Vaseline, Paraffinöl, Siliconöl oder Alkylchlorpolysilanen. In anderen Fällen, z. B. bei Reaktionen mit Chlorbenzol, kann die mit dem Silicium umzusetzende Verbindung selbst als Verdünnungsmittel dienen. Für Reaktionen mit Alkoholen verwendet man als Verdünnungsmittel zweckmäßig Alkohole, Kieselsäureester oder Kieselsäurepolyester, für die Herstellung von Silicium chloriden, Polysiliciumchloriden oder Chlorsilanen halogen- bzw. halogenwasserstoffbeständige Verdünnungsmittel, wie Tetrachlorkohlenstoff, Tetrachloräthan, Siliciumtetrachlorid oder Polysiliciumchloride.
- Soll die Umsetzung des Ausgangsmaterials in Abwesenheit eines Verdünnungsmittels erfolgen, so wählt man als Verdünnungsmittel bei der Vermahlung des Ausgangsmaterials einen leichtsiedenden Kohlenwasserstoff, Halogenkohlenwasserstoff oder Äther, trennt ihn nach der Vermahlung von der katalysatorhaltigen Mischung ab und führt anschließend die Umsetzung zu Siliciumverbindungen in Abwesenheit eines Verdünnungsmittels in dem Mahlreaktor durch.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH Verfahren zur Herstellung von Siliciumverbindungen, dadurch gekennzeichnet, daß man Silicium, Siliciumlegierungen, Silicium-Metall-Mischungen, Silicide oder Gemische dieser Stoffe zusammen mit katalytisch wirksamen Metallen und/oder Metallverbindungen in Gegenwart eines Verdünnungsmittels und bei einer solchen Temperatur, bei der das Verdünnungsmittel flüssig ist, in einem Mahlreaktor vermahlt und in diesem, gegebenenfalls in Abwesenheit eines flüssigen Verdünnungsmittels, zu den Siliciumverbindungen umsetzt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEB55734A DE1100006B (de) | 1958-12-04 | 1958-12-04 | Verfahren zur Herstellung von Siliciumverbindungen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEB55734A DE1100006B (de) | 1958-12-04 | 1958-12-04 | Verfahren zur Herstellung von Siliciumverbindungen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1100006B true DE1100006B (de) | 1961-02-23 |
Family
ID=6971085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEB55734A Pending DE1100006B (de) | 1958-12-04 | 1958-12-04 | Verfahren zur Herstellung von Siliciumverbindungen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1100006B (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3141899A (en) * | 1960-06-02 | 1964-07-21 | Philadelphia Quartz Co | Preparation of organo-halogenosilanes |
US7153991B2 (en) | 2000-12-01 | 2006-12-26 | General Electric Company | Rochow-Müller direct synthesis using nanosized copper catalyst precursors |
EP1887009A1 (de) * | 2000-12-01 | 2008-02-13 | General Electric Company | Direkte Rochow-Müller-Synthese mit kupfernen Katalysatorvorläufern mit Teilchenabmessungen im Nanobereich |
US7495120B2 (en) | 2001-01-31 | 2009-02-24 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
US7858818B2 (en) | 2001-01-31 | 2010-12-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
-
1958
- 1958-12-04 DE DEB55734A patent/DE1100006B/de active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3141899A (en) * | 1960-06-02 | 1964-07-21 | Philadelphia Quartz Co | Preparation of organo-halogenosilanes |
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US7495120B2 (en) | 2001-01-31 | 2009-02-24 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
US7858818B2 (en) | 2001-01-31 | 2010-12-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
US8513449B2 (en) | 2001-01-31 | 2013-08-20 | Momentive Performance Materials, Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
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