DE1059574B - Feldemission-Elektronenstrahler mit hohem Richtstrahlwert - Google Patents
Feldemission-Elektronenstrahler mit hohem RichtstrahlwertInfo
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/02—Electron guns
- H01J3/021—Electron guns using a field emission, photo emission, or secondary emission electron source
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- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Description
DEUTSCHES
Die Erfindung bezieht sich auf Feldemissionsstrahler mit hohem Richtstrahlwert, die ein elektrostatisches
Absaugfeld mit parallelem Feldlinienverlauf aufweisen.
Es ist bereits eine Hohlkathode bekanntgeworden, und zwar die spezielle Form einer Kaltkathode in
einer gasgefüllten Kathodenstrahlröhre, die einen scharf gebündelten, gegebenenfalls parallelen Strahl
erzeugt.
Auch Feldemissionskathoden mit parallelem Absaugfeld sind bekannt. Die bisherigen Ausführungen
sind aber so instabil, daß der Einsatz von Feldemissions-Elektronenstrahlern in der Technik praktisch
nicht erfolgen konnte, weder für kontinuierlichen Betrieb noch für Impulsbetrieb.
Nur bei feinen hochgereinigten Wolframspitzen (Krümmungsradien 0,02 bis 1 μ, sehr kleine Emissionsfläche)
und sehr gutem A^akuum (10—7 bis IQ— 8 Torr, genügend langsame Änderung des Elektronenaustrittspotentials
durch Wolframoxydation im Restgas) konnten bisher die hohen Elektronenstromdichten
der Feldemission (Zefe=IO4 bis IO8A-Cm—2)
stationär realisiert werden. Trotz der hohen Emissionsstromdichte ergeben aber Elektronenquellen solcher
Art nur einen relativ mäßigen Richtstrahlwert
i?==~~-, weil die Elektronen von der Spitze aus
in einen sehr großen Raumwinkel πα2 (a = Aperturwinkel)
emittiert werden. Die Emission aus ganz oder nahezu ebenen Kathoden in einen kleinen Raumwinkel
πα2 ist bisher nicht gelungen, auch nicht bei impulsmäßiger Beanspruchung von Feldemissionskathoden.
Die Ursache der Instabilität sind Schwankungen des Wertes der Elektronenaustrittsarbeit an der Feldemissionskathodenzone
sowie Undefinierte Nebenemissionszonen, z. B. erzeugt durch Maltereffekte, ferner Änderungen der Geometrie der Feldemissionsströme, z. B. durch im Entladungsraum vagabundierende
Ionen, welche die Feldemissionskathode durch Zerstäubung abtragen.
Diese an sich geringfügigen Einflüsse bewirken bei der außerordentlichen Steilheit der Feldemissionscharakteristik Schwankungen der Elektronenemission
um Größenordnungen. Hieran und an der mit der Fläche zunehmenden Wahrscheinlichkeit von Nebenemissionsstrom
(z. B. Verunreinigungen) scheiterte bisher die Entwicklung eines technisch brauchbaren
Feldemissions-Elektronenstrahlers mit sehr hohem Richtstrahlwert.
Diese Nachteile werden vermieden, wenn erfindungsgemäß die Feldemission aus einem Metall mit
sehr großer Elektronenaustrittsarbeit, insbesondere durch Heizung gereinigtes Platin, besteht, in dessen
Feldemission-Elektronenstrahler
mit hohem Richtstrahlwert
mit hohem Richtstrahlwert
Anmelder:
VEB Vakutronik,
Dresden-A 21, Dornblüthstr. 14
VEB Vakutronik,
Dresden-A 21, Dornblüthstr. 14
Manfred von Ardenne, Dresden-Bad Weißer Hirsch,
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
Mittelpunkt eine sehr kleine Kathodenfläche aus einem Material kleiner Elektronenaustrittsarbeit, insbesondere
Tantal oder Magnesium, angeordnet ist.
Die Stabilisierung des Arbeitspunktes auf der Feldemissionskurve wird durch einen Regelmechanismus
mit sehr geringer Zeitkonstante, die kleiner als IO-5 ist, erreicht. Dadurch werden Emissionsstromdichten
von der Größenordnung IO6 A/cm2 beherrschbar, während üblicherweise in der Technik nur Elektronenstromdichten
von bis zu 100 A/cm2 bei Kathoden erzielt wurden. Es ergibt sich also ein quantitativer
Fortschritt von vier Größenordnungen gegenüber dem Bekannten.
Im Hinblick auf die Laufzeit der vom Feldstrom gebildeten Ionen hat dieser Regelmechanismus vorteilhaft
eine Zeitkonstante von kleiner als IO-5 Sekunden. Die Regelung kann beispielsweise bei kapazitätsarmem
Elektrodenaufbau einfach durch einen hochohmigen Vorwiderstand in der Zuleitung zur Feldemissionskathode
bewirkt werden, welcher die Spannung zwischen den beteiligten Elektroden reduziert,
sobald der Feldstrom kräftig ansteigt. Wenn erforderlich, läßt sich die Zeitkonstante der Regelung unter
Verwendung von Regelverstärkern, welche jedoch einen gewissen Aufwand bedeuten, stets genügend
klein halten. Bedeutend rationeller ist eine Stabilisierung des Feldelektronenstromes durch die eigene
Raumladung. Die Nachrechnung ergibt, daß eine automatische Stabilisation durch die feldabschirmende
Wirkung der Raumladung bei Beschleunigungsspannungen um Ub = S · IO4 Volt (Absaugabständen
df ^iIO-3 cm!) für Emissionsstromdichten um jek = IO6A-Cm—2 zu erwarten ist. ·—■ Die Wahrscheinlichkeit
von Nebenemissionszentren läßt sich, wie Versuche zeigten, durch Beschränkung der Nebenfläche
auf den zur Reduktion der Feldliniendivergenz notwendigen Mindestwert und Verwendung von durch
permanente Ausheizung hochgereinigtem Platin genügend klein halten.
909 557/338
Bei ElektiOdeii von handelsüblichen Röntgenröhren ist es an sich bekannt, die Feldemissionskathodenfläche
aus einem Material mit kleiner Elektronenaustrittsarbeit, z. B. Tantal, herzustellen. Es ist auch
bereits bekannt, die Teile, die keine autoelektronischen Entladungen aussenden sollen, mit einem Überzug von
z. B. Chromoxyd zu versehen, der eine störende Feldemission herabsetzen soll. Demgegenüber besteht die
Erfindung in der Kombination einer Kathodenfläche aus einem AIaterial kleiner Elektronenaustrittsarbeit
mit einer unmittelbar angrenzenden Nebenkathodenfläche aus einem Metall von sehr großer Elektronenaustrittsarbeät,
insbesondere Platin.
Die Zeichnung veranschaulicht in den Fig. 1 und 2 zwei beispielsweise Ausführungsformen des beschriebenen
Strahlerzeugungssystems.
Durch die gewählte Geometrie des Elektronenabsaugfeldes, insbesondere wegen der Kleinheit der Beschleunigungsstrecke
(etwa IO^2 mm !), ist ein kritisch schneller Abbau der Mikrokathode infolge Zerstäubung
durch A-uftreffen von Restgasionen bei normalen Drücken bis etwa IO "3 Torr nicht mehr zu befürchten.
Durch die gewählte Kleinheit der eigentlichen Feldemissionskathodenfläche F wird sichergestellt, daß
trotz der hohen Emissionsstromdichte der Emissionsstrom Jek des Strahlers sich in der heute üblichen
Größenordnung von 0,1 bis 10 Milliampere hält.
Bei dem System nach Fig. 1 erfolgt die Emissionsstromstabilisation durch äußere Schaltungsmittel. Als
eigentliche Feldemissionskathode dient die Tantaloder Magnesiumstirnfläche eines feinsten Drahtes 2,
welcher beispielsweise von einem geheizten oder heizbaren Platinmantel 1 der gezeichneten Geometrie eingehüllt
ist (Herstellung etwa nach Art der Wollastondrahtmethode). Ein Nachteil des Systems nach Fig. 1
liegt darin, daß der gesamte Feldstrom der Nebenkathodenfläche nur wenig kleiner ist als der Strom
der eigentlichen Feldemissionskathode sowie daß zur Stabilisation der Aufwand äußerer Schaltungsmittel
notwendig ist.
Bei dem System nach Fig. 2 sind diese Nachteile vermieden. Hier ist die Emission der eigentlichen
Feldemissionskathode um viele Größenordnungen 15
höher als die Emission der Nebenkathodenfläche. Dieser große Unterschied wird vorzugsweise durch
die Kalottenform der eigentlichen Feldemissionskathode (z. B. Tantal) erreicht, welche die an der
Oberfläche angreifende Feldstärke in diesem Gebiet beträchtlich erhöht. Die Stabilisierung erfolgt durch
die feldabschirmende Wirkung der Strahlraumladung auf einfachste Weise. Allerdings tritt diese Wirkung
erst bei Emissionsstromdichten der Größenordnung IO8 A ·αη~- ein, so daß zur Kleinhaltung des gesamten
Emissionsstromes eine eigentliche Feldemissionskathode von nur etwa 1 μ Durchmesser zur Anwendung
kommen kann. Die Herstellung einer definierten Kaiotte von etwa 1 μ Durchmesser aus beispielsweise
Tantal auf der polierten und hochgereinigten Platinoberfläche 3 ist nicht ganz einfach. Diese
Kalotte läßt sich jedoch in der gewünschten Geometrie in folgender Weise aufbringen:
Unmittelbar vor der hochgereinigten Platinstirnao fläche 3 wird im Abstand von beispielsweise 1 μ eine
durchbohrte Folie 4 im Vakuum angeordnet. Die Bohrung in der Folie 4 wird beispielsweise durch Elektronen
in einem elektronenoptischen System mit verkleinernder Elektronenoptik mit 1 bis 2 μ Bohrungsdurchmesser hergestellt. Dampft man im Hochvakuum
durch eine solche Bohrung hindurch Tantal aus einem Verdampfungsschiffchen in genügender Menge heraus,
so bildet sich auf der Stirnfläche der Kathodenelektrode eine Tantalkalotte 6 mit etwa der gezeichneten
Geometrie.
Die Einstellung des die Feldstärke mitbestimmenden Absaugabstandes d zwischen Kathode und Anode
kann in besonders bequemer Weise durch Veränderung der Temperatur und damit der thermischen Ausdehnung
von Teilen des Systems geregelt werden. Beispielsweise kann die Temperatur des Platinkathodendrahtes
(1 in Fig. 1 bzw. 5 in Fig. 2) zwischen 500 und 1000° C verändert und hierdurch der Feinabgleich
des Absaugabstandes d und damit der Feldstärke E erfolgen.
Die zu erwartenden Daten für die jeweiligen Elektronenaustrittsarbeiten, Geometrie und Anodenspannung
sind aus den nachfolgenden Tabellen ersichtlich.
25
30
System 1
(Abgeschätzte Daten)
(Abgeschätzte Daten)
Daten
Kathode Ta(Mg) |
Nebenkathode PtI(PtII) |
||
10-3 | > 10-3 | cm | |
42 | 42 | kV | |
4,2 | <4,2 | ΙΟ-7 V · cm-i | |
10-7 | 3· ΙΟ-5 | cm2 | |
103 (1Q4) | 1 (10-3) | A · cm—2 | |
0,1 (1) | 3-ΙΟ-3 (3-ΙΟ-*) | mA | |
Durch äußere Mittel | |||
System 2 |
Absaugabstand d
Anodenspannung Ub
Absaugfeldstärke E
Eff. Kathodenfläche F ...
Emissionsstromdichte jek
Emissionsstromdichte jek
Emissionsstrom JeIl
Stabilisation
(Abgeschätzte Daten)
Daten | Kathode Ta(Mg) |
Nebenkathode PtI(PtII) |
||
10-3 25 ... 30 7... 8.5 IO-8 IO6... 107 10... 100 |
> ΙΟ-3 25 ... 30 2.5 3 · ΙΟ-5 ΙΟ-6 3 · ΙΟ-8 Durch Raumladung |
cm kV 10-7V-cm-i cm2 A · cm-2 mA |
Claims (4)
1. Feldemissionskathode mit hohem Richtstrahlwert und parallelem Absaugfeld, dadurch gekennzeichnet,
daß die Feldemissionskathode aus einem Kathodenkörper aus einem Metall mit sehr großer
Elektronenaustrittsarbeit, insbesondere durch Heizung gereinigtes Platin, besteht, in dessen Mittelpunkt
eine sehr kleine Kathodenfläche aus einem Material kleiner Elektronenaustrittsarbeit, insbesondere
Tantal oder Magnesium, angeordnet ist.
2. Feldemissionskathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein feiner Tantal- oder
Magnesiumdraht (2) von einem heizbaren Platinmantel (1) eingehüllt ist (Fig. 1).
3. Feldemissionskathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der Mitte einer
polierten, hochgereinigten und heizbaren Platinoberfläche (5) eine Kalotte (6) aus Magnesium
oder Tantal aufgebracht ist (Fig. 2).
4. Verfahren zur Herstellung einer Feldemissionskathode nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kalotte dadurch hergestellt wird, daß das Magnesium oder Tantal im Vakuum
durch eine feine Folienbohrung hindurch auf die Platinoberfläche aufgedampft wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschriften Nr. 575 361, 680'824,
;9 830, 735 313.
Deutsche Patentschriften Nr. 575 361, 680'824,
;9 830, 735 313.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
& 909 557/338 6.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEA22656A DE1059574B (de) | 1955-05-10 | 1955-05-10 | Feldemission-Elektronenstrahler mit hohem Richtstrahlwert |
GB2874455A GB796424A (en) | 1955-05-10 | 1955-10-10 | A field emission electron gun of high brightness |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEA22656A DE1059574B (de) | 1955-05-10 | 1955-05-10 | Feldemission-Elektronenstrahler mit hohem Richtstrahlwert |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1059574B true DE1059574B (de) | 1959-06-18 |
Family
ID=6925239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEA22656A Pending DE1059574B (de) | 1955-05-10 | 1955-05-10 | Feldemission-Elektronenstrahler mit hohem Richtstrahlwert |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1059574B (de) |
GB (1) | GB796424A (de) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE575361C (de) * | 1926-08-08 | 1933-04-27 | Phoenix Roentgenroehrenfabrike | Kathodenanordnung fuer Hochspannungsvakuumroehren |
DE680824C (de) * | 1934-04-27 | 1939-09-07 | Willi Krug Dr Ing | Gasgefuellte Kathodenstrahlroehre mit kalter, mit Bohrung versehener Kathode |
DE689830C (de) * | 1937-05-15 | 1940-04-04 | Siemens & Halske Akt Ges | Verfahren zur Verbesserung der Emissionseigenschaften kalter Spitzenkathoden |
DE735313C (de) * | 1937-06-30 | 1943-05-12 | Aeg | Einrichtung zur Erzeugung eines vorzugsweise intensitaetsgesteuerten Elektronenstrahles durch Feldemission einer mit einer Spitze versehenen kalten Kathode unter Verwendung eines elektronenoptischen Abbildungssystems |
-
1955
- 1955-05-10 DE DEA22656A patent/DE1059574B/de active Pending
- 1955-10-10 GB GB2874455A patent/GB796424A/en not_active Expired
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE575361C (de) * | 1926-08-08 | 1933-04-27 | Phoenix Roentgenroehrenfabrike | Kathodenanordnung fuer Hochspannungsvakuumroehren |
DE680824C (de) * | 1934-04-27 | 1939-09-07 | Willi Krug Dr Ing | Gasgefuellte Kathodenstrahlroehre mit kalter, mit Bohrung versehener Kathode |
DE689830C (de) * | 1937-05-15 | 1940-04-04 | Siemens & Halske Akt Ges | Verfahren zur Verbesserung der Emissionseigenschaften kalter Spitzenkathoden |
DE735313C (de) * | 1937-06-30 | 1943-05-12 | Aeg | Einrichtung zur Erzeugung eines vorzugsweise intensitaetsgesteuerten Elektronenstrahles durch Feldemission einer mit einer Spitze versehenen kalten Kathode unter Verwendung eines elektronenoptischen Abbildungssystems |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB796424A (en) | 1958-06-11 |
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