DE10262286B4 - Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung - Google Patents

Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung Download PDF

Info

Publication number
DE10262286B4
DE10262286B4 DE10262286A DE10262286A DE10262286B4 DE 10262286 B4 DE10262286 B4 DE 10262286B4 DE 10262286 A DE10262286 A DE 10262286A DE 10262286 A DE10262286 A DE 10262286A DE 10262286 B4 DE10262286 B4 DE 10262286B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
circuit
power
power supply
load
amplifier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE10262286A
Other languages
English (en)
Inventor
Itsuo Yuzurihara
Masahiro Kikuchi
Toyoaki Suenaga
Yoichi Ishikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyosan Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Kyosan Electric Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyosan Electric Manufacturing Co Ltd filed Critical Kyosan Electric Manufacturing Co Ltd
Priority to DE10257147A priority Critical patent/DE10257147B4/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10262286B4 publication Critical patent/DE10262286B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M7/00Conversion of ac power input into dc power output; Conversion of dc power input into ac power output
    • H02M7/42Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal
    • H02M7/44Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters
    • H02M7/48Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode
    • H02M7/53Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal
    • H02M7/537Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only, e.g. single switched pulse inverters
    • H02M7/5387Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only, e.g. single switched pulse inverters in a bridge configuration
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Inverter Devices (AREA)
  • Amplifiers (AREA)

Abstract

Leistungsversorgungsvorrichtung (1) zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung (2) als Last, welche Leistungsversorgungsvorrichtung folgendes aufweist:
– eine variable DC-Gleichstrom-Leistungsversorgung (10);
– eine der DC-Gleichstrom-Leistungsversorgung nachgeordnete Leistungswandlerschaltung, die eine Vielzahl von Verstärkerschaltungen (20) der D-Klasse mit einer Vielzahl von Umschaltelementen (Q1–Q4) aufweist und die einen von der variablen DC-Gleichstrom-Leistungsversorgung ausgegebenen Gleichstrom in Hochfrequenzleistung umwandelt;
– eine der Leistungswandlerschaltung (20) nachgeordnete Lastimpedanzwandlerschaltung (30), die die Phase des Laststroms verzögert, um die Impedanz der Plasmaerzeugungsvorrichtung (2) in eine Lastimpedanz umzuwandeln, bei welcher der Last-Strom eine der Last-Spannung nacheilende Phase hat;
– eine der Lastimpedanzwandlerschaltung (30) nachgeordnete Zusammensetzschaltung (40) zum Zusammensetzen von Ausgaben der Vielzahl der Verstärkerschaltungen (20), um eine Hochfrequenzleistung mit einer Spannung zu erzeugen, die höher als diejenige der Ausgabe jeder Verstärkerschaltung (20) ist;
– eine der Zusammensetzschaltung (40) nachgeordnete Filterschaltung (50);
– einen der Filterschaltung (50) nachgeordneten Leistungssensor (60), der die von dem Filter...

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung.
  • Eine Leistungsversorgungsvorrichtung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung ist als Leistungsversorgungsvorrichtung bekannt, die in einem Schritt eines Halbleiterherstellungsprozesses, z. B. einem Schritt eines Hochfrequenz-Sputterns, einer Plasma-CVD, eines Plasma-Ätzens, eines Plasma-Veraschens oder von ähnlichem, zu dem Zweck verwendet wird, stabiles Plasma zu erzeugen.
  • Eine herkömmliche Leistungsversorgungsvorrichtung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung hat ein Verstärkungssystem, das einen mehrstufigen linearen Verstärker aufweist, d. h. Verstärker, die in mehreren Stufen verbunden sind, zum Verstärken von schwachen Oszillationen, die durch einen eingebauten Quarzoszillator erzeugt werden, bis zur schließlichen Ausgabe in einer Reihenfolge. Das Verstärkungssystem, das bei der Leistungsversorgung verwendet wird, wird lineares Verstärkungssystem genannt, das eine relativ niedrige Effizienz von etwa 50% hat.
  • Jedoch kann eine Verwendung eines solchen herkömmlichen Verstärkers mit einer niedrigen Verstärkungseffizienz die Anforderung nach einer großen Versorgungsleistung für Plasma auf dem Markt nicht erfüllen, weil dies das Volumen und den Leistungsverlust der Leistungsversorgungsvorrichtung sehr groß macht. Aus diesem Grund wird in letzter Zeit hauptsächlich der so genannte Schaltmodus-Verstärker verwendet, der ein Verstärkungssystem mit einer Effizienz hat, die höher als diejenige des herkömmlichen ist, d. h. mehr als 80%. Der Schaltmodus-Verstärker enthält zwei Verstärkungssysteme, d. h. die so genannte D-Klasse und die so genannte E-Klasse. Für die Leistungsversorgung für Plasma wird allgemein das Verstärkungssystem der E-Klasse verwendet.
  • 17 zeigt einen Schaltungsaufbau eines allgemeinen Verstärkungssystems der E-Klasse. Beim System der E-Klasse sind ein Schaltelement QS und eine Drosselspule RFC in Bezug auf eine Eingangsspannung VDD in Reihe geschaltet. Eine Sinuswellenausgabe wird aus der Verbindung zwischen dem Schaltelement QS und der Drosselspule RFC über einen Reihenresonanzkreis erhalten, der einen Resonanzkondensator C0 und einen Resonanzreaktor L0 aufweist.
  • Bei dem in 17 gezeigten System der E-Klasse wird der Spitzenwert einer an das Schaltelement QS angelegten Spannung so groß, dass er das Dreifache der Leistungsversorgungsspannung VDD selbst in einem eingeschwungenen Zustand der Last übersteigt, weil das Schaltelement QS über die Drosselspule RFC an die Leistungsversorgung VDD angeschlossen ist. Weiterhin kann sich bei einer Plasmaerzeugungsvorrichtung, bei welcher es steile Schwankungen bezüglich einer Last gibt, die Last von einem Leerlauf zu einem Kurzschluss und umgekehrt in kurzer Zeit ändern, und zwar bei einem Übergangsphänomen, so dass in Abhängigkeit von der Änderung der Zustände oft eine sehr große Spannung an das Schaltelement QS angelegt werden kann. Es gibt ein derartiges Problem, dass das Schaltelement QS in einem Moment zerstört werden kann, in welchem die an das Schaltelement QS (im Folgenden auch Umschaltelement genannt) angelegte Spannung die zulässige Spannung einmal übersteigt.
  • Aus DE 100 18 879 A1 ist ein Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung einer Anlage der Plasma- oder Oberflächentechnik bekannt, mit einer Brückenschaltung von elektronischen Leistungsschaltern, die ausgangsseitig mit der Last der Anlage verbunden sind. Die Leistungsschalter sind mit Steuersignalaufbereitseinrichtungen verbunden, die in gewünschter Weise die Leistungsschalter ansteuern, um eine freie Wahl der Impulsform zu ermöglichen. Die maximal zusätzliche Stromdynamik für die schaltenden Transistoren und Freilaufdioden wird durch zwei ausgangsseitige Induktivitäten eingestellt, die die Stromdynamik begrenzen sollen, um sowohl die Leistungsschalter als auch die Plasmaanlage selbst und die sich darin befindlichen Substrate zu schützen.
  • Aus US 5,394,061 A ist eine Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung als Last bekannt, mit einer Push-Pull-Endstufe, einem Tiefpassfilter und einem Anpassungsschaltkreis, so dass die das Tiefpassfilter passierende Hochfrequenzleistung über den Anpassungsschaltkreis an die Elektroden einer Plasmakammer gegeben wird. Der Anpassungsschaltkreis weist einen Impedanzeinstellungsmechanismus auf. Außerdem ist ein Stehwellenverhältnis-Messgerät vorgesehen, um auf der Verbindung zwischen Tiefpassfilter und Anpassungsschaltkreis das Stehwellenverhältnis zu erfassen. Abhängig vom erfassten Stehwellenverhältnis wird mittels einer CPU der Anpassungsschaltkreis eingestellt.
  • Aus Hideaki Fujita und Hirofumi Akagi: „A 2 MHz 2-kW voltage-source inverter for low-temperature plasma generators: Implementation of fast switching with a third-order resonant circuit", IEEE Transactions an Industry Applications, Vol. 35, No. 1, Januar/Februar 1999, Seiten 21 bis 27, ist es bekannt, zwischen den Ausgang einer H-Brücke mit vier MOSFETs und einem Anpassungstransformator einen Resonanzschaltkreis dritter Ordnung einzufügen, um ein schnelles Laden/Entladen der Ausgangskapazität der jeweiligen MOSFET's zu erreichen. Dazu wird der Resonanzschaltkreis dritter Ordnung auf eine Resonanzfrequenz geringfügig unterhalb der dreifachen Betriebsfrequenz abgestimmt, so dass er sich auf der dritten Harmonischen induktiv verhält, jedoch auf der Grundfrequenz einen voreilenden Stromanteil durch den Kondensator des Resonanzschaltkreises bewirkt.
  • Aus US 6,426,599 B1 ist ein Umrichterschaltkreis zum Betreiben einer Bogenlampe bekannt. Der Umrichter erlaubt eine Frequenzmodulation, um mittels des von der Lampe ausgestrahlten Lichts Information übertragen zu können. Die Lampe als Last des Umrichters umfasst einen Kondensator 40 und eine Induktivität 38, die zusammen mit der Lampe die Last bilden. Die Last wird in einem Frequenzbereich von 20 bis 40 kHz betrieben.
  • In M. K. Kazimierczuk, "Class D voltage-switching MOSFET power amplifier", IEE proceedings-B, Vol 138, No. 6, November 1991, Seiten 285 bis 296, wird ein D Klasse spannungsschaltender MOSFET Leistungsverstärker analysiert. In diesem Beitrag wird das Verhalten von Leistungs-MOSFETs in D Klasse Schaltungen sowohl für kapazitive als auch für induktive Lasten erörtert und gezeigt, dass der Betrieb oberhalb der Resonanzfrequenz, also eine induktive Last, zu bevorzugen ist.
  • Eine Aufgabe der Erfindung besteht im Realisieren einer Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung, die eine hohe Effizienz hat und die das Umschaltelement vor steilen Übergangsschwankungen schützen kann, die einer Plasmalast eigen sind.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst wie im Anspruch 1 angegeben.
  • Gemäß der Leistungsversorgungsvorrichtung der Erfindung ist es deshalb, weil die Leistungs-Wandlerschaltung eine Vielzahl von Verstärkerschaltungen der D-Klasse mit einer Vielzahl von Umschaltelementen aufweist und eine DC-Leistungsausgabe der DC-Leistungsversorgung in eine Hochfrequenzleistung zur Ausgabe umwandelt, möglich, die an jedes Umschaltelement angelegte Spannung bis zu der Spannung zu unterdrücken, die maximal durch die DC-Leistungsversorgung zugeführt wird. Demgemäß ist es selbst dann, wenn die Leistungsversorgungsvorrichtung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung verwendet wird, bei welcher es steile Schwankungen bezüglich einer Last bei einem Übergangsphänomen gibt, möglich, eine Zerstörung des Umschaltelements in der Leistungsversorgungsvorrichtung zu verhindern.
  • Weiterhin wird deshalb, weil die Lastimpedanz zu einer vorbestimmten verzögerten Last in Bezug auf die Leistungswandlerschaltung durch die Lastimpedanzwandlerschaltung umgewandelt wird, der Laststrom auch bezüglich einer Phase verzögert. Als Ergebnis ist es möglich, den Verlust in der Schaltung zu reduzieren, der durch Umschaltoperationen auftreten kann, und eine Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas mit einer hohen Effizienz zu realisieren.
  • Genauer gesagt wird der Laststrom bezüglich einer Phase in Bezug auf die Leistungs-Wandlerschaltung so verzögert, dass die Richtung des Laststroms nach einem Verstreichen einer vorbestimmten Zeit geändert wird, nachdem die Halbleiterschalter einschalten, wie beispielsweise einer Zeit, die länger als eine Erholungszeit für die parasitären Dioden der Halbleiterschalter ist. Dadurch ist es möglich, zu verhindern, dass ein Kurzschlussstrom durch die Verstärkerschaltung fließt, und daher ist es möglich, den Verlust zu reduzieren, der durch Schaltoperationen erfolgen kann.
  • Vorzugsweise weist die Leistungswandlerschaltung eine Vollbrücken-Inverterschaltung auf, bei welcher die Vielzahl von Umschaltelementen in einer Brückenschaltung vorgesehen ist.
  • Die oben beschriebene vorbestimmte verzögerte Last veranlasst vorzugsweise eine Phase einer Laststromverzögerung so, dass eine Richtung des Laststroms nach einem Verstreichen einer vorbestimmten Zeit umgekehrt wird, seit eines der Umschaltelemente einschaltet.
  • Die vorbestimmte Zeit kann länger als eine Zeit sein, die einer Erholungszeit für parasitäre Dioden von dem einen der Umschaltelemente entspricht.
  • Die Lastimpedanzwandlerschaltung kann eine Recktanz Xs aufweisen, die zu einem ihrer Eingangsanschlüsse in Reihe geschaltet ist, und eine Recktanz Xp, die zu den Eingangsanschlüssen parallel geschaltet ist, wobei jede der Recktanzen Xs und Xp eine Spule oder einen Kondensator aufweist, um die Phase eines verzögerten Laststroms zu bestimmen.
  • Außerdem weist die Leistungsversorgungsvorrichtung weiterhin eine Zusammensetzungsschaltung auf zum Zusammensetzen von Ausgaben der Vielzahl von Verstärkerschaltungen, die über die Lastimpedanzwandlerschaltung versorgt werden, um eine Hochfrequenzleistung mit einer hohen Spannung zu erzeugen, eine Filterschaltung zum Abschneiden bzw. Begrenzen harmonischer Komponenten einer Ausgabe der Zusammensetzungsschaltung; einen Leistungssensor zum Erfassen einer Ausgangsleistung der Filterschaltung; und eine Steuerschaltung zum Steuern eines Leistungsumwandlungsbetriebs der DC-Leistungsversorgung auf der Basis eines erfassten Werts des Leistungssensors.
  • Vorzugsweise weist jede der Verstärkerschaltungen der D-Klasse folgendes auf: einen ersten, einen zweiten, einen dritten und einen vierten Halbleiterschalter, die in einer Brückenschaltung verbunden sind; und einen Transformator, wobei ein Anschluss einer Primärwicklung des Transformators an eine Verbindungsstelle des ersten und des zweiten Halbleiterschalters angeschlossen ist und der andere Anschluss der Primärwicklung an eine Verbindungsstelle des dritten und des vierten Halbleiterschalters angeschlossen ist.
  • Der erste, der zweite, der dritte und der vierte Halbleiterschalter haben jeweils eine erste, eine zweite, eine dritte und eine vierte parasitäre Diode; und die vorbestimmte verzögerte Last lässt zu, dass die Verstärkerschaltung von der ersten und der vierten parasitären Diode, die EIN-geschaltet sind, zu dem ersten und dem vierten Halbleiterschalter, die EIN-geschaltet sind, überträgt bzw. transferiert, so dass weder ein übermäßiger Strom noch eine übermäßige Spannung im zweiten und im dritten Halbleiterschalter und in der zweiten und der dritten parasitären Diode erzeugt wird, und von der zweiten und der dritten parasitären Diode, die EIN-geschaltet sind, zum zweiten und zum dritten Halbleiterschalter, die EIN-geschaltet sind, überträgt bzw. transferiert, so dass weder ein übermäßiger Strom noch eine übermäßige Spannung im ersten und im vierten Halbleiterschalter und in der ersten und der vierten parasitären Diode erzeugt wird.
  • Die vorliegende Erfindung wird vollständiger aus der hierin nachfolgend angegebenen detaillierten Beschreibung und den beigefügten Zeichnungen, die nur anhand einer Darstellung angegeben sind und somit nicht als Definition der Beschränkungen der vorliegenden Erfindung dienen sollen, vollständiger verstanden werden, wobei:
  • 1 ein Blockdiagramm ist, das einen schematischen Aufbau der Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt;
  • 2 ein Blockdiagramm ist, das einen schematischen Aufbau eines Ausführungsbeispiels des Verstärkers zeigt;
  • 3 ein Blockdiagramm ist, das ein Ersatzschaltbild der Lastimpedanzwandlerschaltung zeigt;
  • 4 ein Blockdiagramm ist, das ein Ersatzschaltbild der in 1 gezeigten Leistungsversorgungsvorrichtung zeigt;
  • 5A5C Zeitdiagramme sind, die den Betrieb der in 4 gezeigten Verstärkerschaltung zeigen;
  • 6 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 7 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 8 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 9 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 10A10C Zeitdiagramme sind, die den Betreib der Verstärkerschaltung in einem Fall einer führenden Last zeigen;
  • 11 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 12 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 13 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 14 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 15 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt;
  • 16 ein Schaltungsdiagramm ist, das ein Beispiel eines Strompfads in einem Verstärker zeigt; und
  • 17 ein Schaltungsdiagramm ist, das einen Grundaufbau eines Verstärkers der E-Klasse zeigt.
  • Nun wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung detailliert unter Bezugnahme auf die Zeichnungen erklärt.
  • 1 ist ein Blockdiagramm, das einen schematischen Aufbau der Leistungsversorgungsvorrichtung 1 zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung zeigt. Die Leistungsversorgungsvorrichtung 1 wandelt beispielsweise eine Dreiphasen-Wechselstromleistung, die von der kommerziellen Frequenzleistungsversorgung zugeführt wird, in eine Hochfrequenzleistung, z. B. eine Funkfrequenzleistung, mit einer vorbestimmten Spannung um und führt sie zu einer Plasmaerzeugungsvorrichtung 2, die eine Last ist. Wenn die Vorrichtung 2 von der Seite der Leistungsversorgungsvorrichtung 1 angeschaut wird, ist die Plasmaerzeugungsvorrichtung 2 mit einer Last eines reinen Widerstands von 50 Ω an die Leistungsversorgungsvorrichtung 1 durch ein Anpasselement (nicht gezeigt) angepasst.
  • Die Leistungsversorgungsvorrichtung 1 weist eine variable DC-Leistungsversorgungseinheit 10, eine Vielzahl von Hochfrequenz-Verstärkerschaltungen, z. B. Funkfrequenz-Verstärkerschaltungen 20, die hierin nachfolgend einfach "Verstärkerschaltungen" genannt werden, eine Lastimpedanz-Wandlerschaltung 30, eine Zusammensetzungsschaltung 40, eine Filterschaltung 50, einen Leistungssensor 60 und eine Steuerschaltung 70 auf.
  • Die variable DC-Leistungsversorgungseinheit 10 betätigt einen Wandler, der eine eingegebene AC-Leistung in eine DC-Leistung zur Ausgabe umwandelt. Der Betrieb der Leistungsumwandlung wird durch die Steuerschaltung 70 gesteuert.
  • Die Verstärkerschaltungen 20 sind die so genannten Verstärker der Klasse D, die Umschaltelemente (Q1 und Q2; oder Q3 und Q4) enthalten, die zueinander in Reihe geschaltet sind. Die Verstärkerschaltungen 20 wandeln die von der Variablen DC-Leistungsversorgungseinheit 10 zugeführte DC-Leistung in eine Hochfrequenzleistung, z. B. eine Funkfrequenzleistung, zur Ausgabe um.
  • Der Aufbau der Verstärkerschaltung 20 ist in 2 gezeigt. Die Verstärkerschaltung 20 weist vier Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 auf, die in Brückenschaltung verbunden sind, und einen Transformator 21.
  • Jeder der vier Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 ist ein MOS-FET. Ein Ein- oder Aus-Zustand zwischen dem Drainanschluss und dem Sourceanschluss jedes Halbleiterschalters Q1, Q2, Q3 oder Q4, d. h. ein Ein- oder Aus-Zustand jedes Halbleiterschalters, wird durch ein Spannungssignal, d. h. ein Gate-Signal, gesteuert, das von einer jeweiligen Treiberschaltung in einen jeweiligen Gateanschluss eingegeben wird.
  • Der Sourceanschluss des Halbleiterschalters Q1 ist mit dem Drainanschluss des Halbleiterschalters Q2 verbunden und der Sourceanschluss des Halbleiterschalters Q3 ist mit dem Drainanschluss des Halbleiterschalters Q4 verbunden. Die Drainanschlüsse der Halbleiterschalter Q1 und Q3 sind miteinander verbunden und die Sourceanschlüsse der Halbleiterschalter Q2 und Q4 sind miteinander verbunden.
  • Ein Anschluss der Primärwicklung, welche später beschrieben wird, des Transformators 21 ist an die Verbindungsstelle der Halbleiterschalter Q1 und Q2 angeschlossen, und der andere Anschluss der Primärwicklung ist an die Verbindungsstelle der Halbleiterschalter Q3 und Q4 angeschlossen.
  • Die Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 wandeln eine eingegebene DC-Leistung in eine Hochfrequenz, z. B. eine Funkfrequenz bzw. Radiofrequenz, um, und zwar im Wesentlichen einen sinusförmigen Strom durch ein erstes Paar von Halbleiterschaltern Q1 und Q4 und ein zweites Paar von Halbleiterschaltern Q2 und Q3, wobei das erste und das zweite Paar abwechselnd und wiederholt ein- und ausgeschaltet werden.
  • Das bedeutet, dass die Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 die so genannte Verstärkerschaltung der Klasse D bilden und die von der variablen DC-Leistungsversorgungseinheit 10 zugeführte DC-Leistung in eine Hochfrequenzleistung zur Ausgabe umwandeln und als Vollbrückeninverter zum Ausgeben der umgewandelten Hochfrequenzleistung in die primäre Seite des Transformators 21 fungieren.
  • Die Dioden D1, D2, D3 und D4, die zu den Halbleiterschaltern Q1, Q2, Q3 und Q4 nicht parallel geschaltet sind, sind jeweils parasitäre Dioden der Halbleiterschaltung Q1, Q2, Q3 und Q4.
  • Der Transformator 21 weist eine Primärwicklung und eine Sekundärwicklung auf, die miteinander elektromagnetisch gekoppelt sind. Ein Ende der Primärwicklung ist an die Verbindungsstelle der Halbleiterschaltung Q1 und Q2 angeschlossen und das andere Ende ist an die Verbindungsstelle der Halbleiterschaltung Q3 und Q4 angeschlossen. Der Transformator 21 transformiert die zwischen den beiden Enden der Primärwicklung angelegte Spannung gemäß dem Windungsverhältnis der Wicklungen zum Erzeugen einer transformierten Spannung zwischen den beiden Enden der Sekundärwicklung.
  • In 1 dient die Lastimpedanzwandlerschaltung 30 zum Veranlassen, dass die Plasmaerzeugungsvorrichtung 2, die eine Last ist, eine verzögerte Last in Bezug auf die Verstärkerschaltungen 20 ist. Ein Ersatzschaltbild für die Lastimpedanzwandlerschaltung 30 ist in 3 gezeigt.
  • In 3 ist ein Ersatzschaltbild für die Lastimpedanzwandlerschaltung 30, die an den letzteren Teil einer Verstärkerschaltung 20 angeschlossen ist, dargestellt.
  • Die Lastimpedanzwandlerschaltung 30 kann als die Ersatzschaltung ausgedrückt werden, die eine Recktanz Xs aufweist, die zu einem der Eingangsanschlüsse in Reihe geschaltet ist, und eine Recktanz Xp, die zu den Eingangsanschlüssen parallel geschaltet ist. Jede der Recktanzen Xs und Xp kann aus einer Spule, einem Kondensator oder ähnlichem aufgebaut sein. Die Recktanzen Xs und Xp können die Lastimpedanz der Plasmaerzeugungsvorrichtung 2, wenn sie von der Seite der Verstärkerschaltungen 20 gesehen wird, in "eine verzögerte Last" umwandeln, indem die Werte der Recktanzen Xs und Xp geeignet ausgewählt werden. Das bedeutet, dass die Last, wenn sie von der Seite der Verstärkerschaltungen 20 gesehen wird, durch die Lastimpedanzwandlerschaltung 30 auf äquivalente Weise als "eine verzögerte Last" bestimmt werden kann.
  • In 1 setzt die Zusammensetzungsschaltung 40 die Ausgaben der Vielzahl von Verstärkerschaltungen 20 über die Lastimpedanzwandlerschaltung 30 zusammen, um eine Hochfrequenzleistung mit einer Spannung zu erzeugen, die höher als diejenige der Ausgabe jeder Verstärkerschaltung 20 ist.
  • Die Filterschaltung 50 weist beispielsweise eine Spule und einen Kondensator auf, um harmonische Komponenten, die ein Rauschen erzeugen, von der Ausgabe der Zusammensetzungsschaltung 40 abzuschneiden.
  • Der Leistungssensor 60 erfasst die Ausgangsleistung der Filterschaltung 50 und gibt den erfassten Wert zur Steuerschaltung 70 aus.
  • Die Steuerschaltung 70 führt die so genannte Rückkopplung, d. h. eine Steuerung des Leistungsumwandlungsbetriebs der variablen DC-Leistungsversorgungseinheit 10, auf der Basis des erfassten Werts des Leistungssensors 60 durch.
  • Als nächstes wird der Betrieb der Leistungsversorgungsvorrichtung gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung erklärt. Die Erklärung wird unter Bezugnahme auf 4 durchgeführt, die die Leistungsversorgungsvorrichtung 1 zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung schematisch zeigt, um die Erklärung einfach und verständlich zu machen.
  • In 4, die die Leistungsversorgungsvorrichtung 1 zeigt, ist eine Vielzahl von Verstärkerschaltungen weggelassen und ist nur eine Verstärkerschaltung 20 gezeichnet, und sind die Zusammensetzungsschaltung 40, die Filterschaltung 50 und der Leistungssensor 60 auch weggelassen. Weiterhin ist eine konstante Spannung einer DC-Leistungsversorgung VDD anstelle der variablen DC-Leistungsversorgungseinheit 10 gezeigt, und eine Last 3, die über die Lastimpedanzwandlerschaltung 30 in "eine verzögerte Last" umgewandelt wurde, anstelle der Plasmaerzeugungsvorrichtung 2, wenn sie von der Seite der Verstärkerschaltungen 20 aus gesehen wird.
  • Die 5A5C sind Zeitdiagramme, die den Betrieb der in 4 gezeigten Verstärkerschaltung 20 zeigen. 5A zeigt einen EIN- und AUS-Zustand der Halbleiterschaltungen Q1 und Q4 und 5B zeigt einen EIN- und AUS-Zustand der Halbleiterschalter Q2 und Q3 und 5 zeigt den Strom, der zur Primärseite bzw. Primärwicklung des Transformators 21 fließt. Die Abszissenachse zeigt gemeinsam die Zeit t. Die Zeitintervalle I–IV entsprechen einer Betriebsperiode der Verstärkerschaltung 20.
  • In 5C zeigt der obere Teil in Bezug auf die zentrale laterale Linie den Strom, der in der Primärwicklung des Transformators 21 von "A" zu "B" fließt (in der Richtung nach unten in 4), was hierin nachfolgend "A-zu-B-Richtung" genannt werden kann, und zeigt der untere Teil in Bezug auf die zentrale laterale Linie den Strom, der von "B" zu "A" fließt (in der Richtung nach unten in 4), was hierin nachfolgend "B-zu-A-Richtung" genannt werden kann.
  • In 5C zeigt die durchgezogene Linie den Strom, der in die Verstärkerschaltung 20 fließt, und zeigt die gestrichelte Linie den Strom, der in die Verstärkerschaltung 20 fließt, wenn keine Lastimpedanzwandlerschaltung 30 vorgesehen ist, d. h. wenn die Last 3, die von den (in Bezug auf die) Verstärkerschaltungen 20 gesehen wird, eine Last von nur einem Widerstand ist. Das bedeutet, dass deshalb, weil die Last 3, die von den Verstärkerschaltungen 20 gesehen wird, "eine verzögerte Last" ist, die Phase des Stroms, der zur Primärwicklung des Transformators 21 fließt, zum EIN/AUS-Zustand der Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 verzögert wird.
  • Die verzögerte Phase des Stroms hängt von der Schaltungskonstanten der Lastimpedanzwandlerschaltung 30 ab, d. h. den Werten der Recktanzen Xs und Xp. Der Wert davon wird so bestimmt, dass die Richtung des Stroms nach einem Verstreichen einer vorbestimmten Zeit seit dem Einschalten der Halbleiterschalter geändert wird, insbesondere einer Zeit entsprechend der Stabilisierungs- bzw. Erholungszeit für Dioden, wie es später beschrieben wird.
  • Intervall I:
  • In den 5A und 5B ist jeder der Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 im Intervall I AUS-geschaltet. Während des Intervalls fließt der Strom in der Primärwicklung des Transformators in der B-zu-A-Richtung und sind die Dioden D1 und D4 EIN-geschaltet, wie es in 6 gezeigt ist.
  • Intervall II:
  • Im Intervall II wird, obwohl die Halbleiterschalter Q1 und Q4 EIN-geschaltet sind, der Strom, der in der Primärwicklung des Transformators 21 fließt, verzögert, um die Richtung zu ändern, weil die Last 3, die von den Verstärkerschaltungen 20 gesehen wird, "eine verzögerte Last" ist.
  • Zu Beginn des Intervalls II fährt der Strom fort, in der B-zu-A-Richtung zu fließen, während der Zustand genau zuvor beibehalten wird, wie der Zustand, der in 6 gezeigt ist, und die Dioden D1 und D4 EIN-geschaltet sind. Danach fließt, obwohl die Flussrichtung des Stroms geändert wird, weil die Halbleiterschalter Q1 und Q4 EIN-geschaltet sind, der Strom in der Primärwicklung des Transformators in der A-zu-B-Richtung, wie es in 7 gezeigt ist.
  • Wie es oben beschrieben ist, wird deshalb, weil die Last 3" eine verzögerte Last" in Bezug auf die Verstärkerschaltungen 20 ist, die Flussrichtung des Stroms verzögert, nachdem die Halbleiterschalter Q1 und Q4 EIN-geschaltet werden, und dann wird seine Richtung geändert. Somit wird der Zustand der Verstärkerschaltungen 20 von den Dioden D1 und D4, die EIN-geschaltet sind, zu den Halbleiterschaltern Q1 und Q4, die EIN-geschaltet sind, transferiert. Als Ergebnis wird weder ein übermäßiger Strom noch eine übermäßige Spannung in den Halbleiterschaltern Q2 und Q3 und in den Dioden D2 und D3 erzeugt.
  • Intervall III:
  • Im darauf folgenden Intervall III fährt der Strom dann, wenn die Halbleiterschalter Q1 und Q4 AUS-geschaltet werden, damit fort, in der A-zu-B-Richtung zu fließen, während der Zustand genau zuvor beibehalten wird, wie es in 8 gezeigt ist, und die Dioden D2 und D3 EIN-geschaltet sind.
  • Intervall IV:
  • Im Intervall IV wird, obwohl die Halbleiterschalter Q2 und Q3 EIN-geschaltet sind, der Strom, der in der Primärwicklung des Transformators 21 fließt, verzögert, um die Richtung zu ändern, weil die Last 3" eine verzögerte Last" in Bezug auf die Verstärkerschaltung 20 ist.
  • Während eines Beginnens des Intervalls IV fährt der Strom damit fort, in der A-zu-B-Richtung zu fließen, während der Zustand genau zuvor beibehalten wird, wie der Zustand, der in 8 gezeigt ist, und die Dioden D2 und D3 EIN-geschaltet sind. Danach fließt, obwohl die Flussrichtung des Stroms geändert wird, weil die Halbleiterschalter Q2 und Q3 EIN-geschaltet sind, der Strom in der Primärwicklung des Transformators in der B-zu-A-Richtung, wie es in 9 gezeigt ist.
  • Wie es oben beschrieben ist, wird deshalb, weil die Last 3, die von den Verstärkerschaltern 20 gesehen wird, "eine verzögerte Last" ist, die Flussrichtung des Stroms verzögert, nachdem die Halbleiterschalter Q2 und Q3 EIN-geschaltet sind, und dann wird seine Richtung geändert. Somit wird der Zustand der Verstärkerschaltungen 20 von den Dioden D2 und D3 die EIN-geschaltet sind, zu den Halbleiterschaltern Q2 und Q3, die EIN-geschaltet sind, transferiert. Als Ergebnis wird weder ein übermäßiger Strom noch eine übermäßige Spannung in den Halbleiterschaltern Q1 und Q4 und in den Dioden D1 und D4 erzeugt.
  • Wenn die Halbleiterschalter Q2 und Q3 am Ende des Intervalls IV AUS-geschaltet werden, wird eine Betriebsperiode der Verstärkerschaltungen 20 beendet. Danach werden gleiche Operationen vom Intervall I bis zum Intervall IV wiederholt.
  • Wie es oben beschrieben ist, fungieren die Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4, die die Verstärkerschaltung 20 bilden, als Vollbrückeninverter und bilden auch eine Verstärkerschaltung der D-Klasse. Als Ergebnis wird weder ein übermäßiger Strom noch eine übermäßige Spannung in den Halbleiterschaltern Q1, Q2, Q3 und Q4 erzeugt, und daher wird eine Spannung, die nicht größer als eine DC-Leistungsversorgung VDD ist, zwischen dem Sourceanschluss und dem Drainanschluss jedes Halbleiterschalters angelegt. Daher wird selbst dann, wenn steile Übergangsschwankungen bezüglich einer Last, die einer Plasmaerzeugungsvorrichtung eigen sind, erzeugt werden, keine übermäßige Spannung in den Halbleiterschaltern Q1, Q2, Q3 und Q4 erzeugt. Demgemäß ist es möglich, eine Zerstörung dieser Halbleiterschalter zu verhindern.
  • Ein Umwandeln der Last 3, die von der Verstärkerschaltung 20 gesehen wird, in "eine verzögerte Last" über die Lastimpedanz-Wandlerschaltung 30, d. h. ein Veranlassen, dass die Phase des Stroms zu einer verzögerten Phase wird, ermöglicht eine Reduzierung des Umschaltverlustes der Schaltung und eine Realisierung einer hohen Effizienz.
  • Die Verstärkerschaltung 20 kann bei einer erwünschten Frequenz betrieben werden, weil sie keinerlei Element hat, das von der Betriebsfrequenz abhängt. Das bedeutet, dass die Verstärkerschaltung 20 bei einer erwünschten Frequenz betrieben werden kann, indem das Treibersignal, d. h. ein Gate-Signal, der Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 geändert wird. Daher ist zum Ausführen eines Betriebs davon bei einer anderen Frequenz für eine gesamte Leistungsversorgungsvorrichtung 1 zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung nur ein Ändern der Schaltungskonstanten der Lastimpedanzwandlerschaltung 30 und der Filterschaltung 50 erforderlich, ohne andere Schaltungselemente zu ändern.
  • Als nächstes wird der Betrieb der Leistungsversorgungsvorrichtung 1 in einem derartigen Fall erklärt, dass die Last 3, die von der Verstärkerschaltung 20 gesehen wird, eine führende bzw. voreilende Last wäre.
  • Die 10A10C sind Zeitdiagramme, die den Betrieb der Verstärkerschaltung 20 in einem Fall zeigen, dass die Last 3 eine "führende bzw. voreilende Last" ist. 10A zeigt einen EIN- und AUS-Zustand der Halbleiterschalter Q1 und Q4 und 10B zeigt einen EIN- und AUS-Zustand der Halbleiterschalter Q2 und Q3 und 10C zeigt den Strom I, der durch die Primärwicklung des Transformators 21 fließt. Die Abszissenachse zeigt gemeinsam die Zeit t. Die Zeitintervalle I–IV entsprechen einer Betriebsperiode der Verstärkerschaltung 20, wie im Fall der 5A und 5C.
  • In 10C zeigt die gestrichelte Linie den Strom, wenn keine Lastimpedanzwandlerschaltung 30 vorgesehen ist, wie im Fall der 5C. Das bedeutet, dass deshalb, weil die Last 3" eine führende Last" in Bezug auf die Verstärkerschaltungen 20 ist, die Phase des Stroms, der zur Primärwicklung des Transformators 21 fließt, zum EIN/AUS-Zustand der Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 führt.
  • Intervall I:
  • In den 10A und 10B ist jeder der Halbleiterschalter Q1, Q2, Q3 und Q4 im Intervall I AUS-geschaltet. Während des Intervalls fließt der Strom in der Primärwicklung des Transformators in der A-zu-B-Richtung und sind die Dioden D2 und D3 EIN-geschaltet, wie es in 11 gezeigt ist.
  • Intervall II:
  • Im Intervall II werden, obwohl die Halbleiterschalter Q1 und Q4 EIN-geschaltet werden, die Dioden D2 und D3 nicht sofort genau dann AUS-geschaltet, nachdem die Halbleiterschalter EIN-geschaltet wurden, und zwar aufgrund der Erholungs(Umkehrerholungs- bzw. Sperrverzögerungs-)Kennlinien davon. Folglich werden der Halbleiterschalter Q1 und die Dioden D3 jeweils mit den Dioden D2 und dem Halbleiterschalter Q4 kurzgeschlossen, was in Verlusten resultiert, weil ein Kurzschlussstrom durch sie fließt, wie es in 12 gezeigt ist.
  • Wenn eine Zeitperiode entsprechend der Erholungs(Umkehrerholungs-)Zeit der Dioden D2 und D3 verstrichen ist, werden diese Dioden AUS-geschaltet, so dass der Strom in der A-zu-B-Richtung fließt, und werden die Halbleiterschalter Q1 und Q4 EIN-geschaltet, wie es in 13 gezeigt ist.
  • Am Ende des Intervalls II wird deshalb, weil die Last 3" eine führende bzw. voreilende Last" in Bezug auf die Verstärkerschaltungen 20 ist, die Flussrichtung des Stroms zur B-zu-A-Richtung geschaltet und werden die Halbleiterschalter Q1 und Q4 EIN-geschaltet und werden auch die Dioden D1 und D4 EIN-geschaltet.
  • Intervall III:
  • Im darauf folgenden Intervall III fährt der Strom dann, wenn die Halbleiterschalter Q1 und Q4 AUS-geschaltet werden, damit fort, in der B-zu-A-Richtung zu fließen, während der Zustand genau zuvor beibehalten wird, wie es in 14 gezeigt ist, und werden die Dioden D1 und D4 EIN-geschaltet.
  • Intervall IV:
  • Im Intervall IV werden, obwohl die Halbleiterschalter Q2 und Q3 EIN-geschaltet werden, die Dioden D1 und D4 nicht sofort genau dann AUS-geschaltet, nachdem die Halbleiterschalter EIN-geschaltet wurden, und zwar aufgrund der Stabilisierungs- bzw. Erholungskennlinien davon. Folglich werden die Diode D1 und der Halbleiterschalter Q3 jeweils mit dem Halbleiterschalter Q2 und der Diode D4 kurzgeschlossen, was in Verlusten resultiert, weil ein Kurzschlussstrom durch sie fließt, wie es in 15 gezeigt ist.
  • Wenn eine Zeitperiode entsprechend der Erholungszeit der Diode D1 und D4 verstrichen ist, werden diese Dioden AUS-geschaltet, so dass der Strom in der B-zu-A-Richtung fließt, und werden die Halbleiterschalter Q2 und Q3 EIN-geschaltet, wie es in 16 gezeigt ist.
  • Am Ende des Intervalls IV wird deshalb, weil die Last 3" eine führende bzw. voreilende Last" in Bezug auf die Verstärkerschaltungen 20 ist, die Flussrichtung des Stroms zu der A-zu-B-Richtung geschaltet und werden die Halbleiterschalter Q2 und Q3 EIN-geschaltet und werden auf die Dioden D2 und D3 EIN-geschaltet.
  • Wenn die Halbleiterschalter Q2 und Q3 AUS-geschaltet werden, ist eine Betriebsperiode der Verstärkerschaltungen 20 beendet. Darauf folgend werden gleiche Operationen ab dem Intervall I bis zum Intervall IV wiederholt.
  • Wie es oben beschrieben ist, werden in einem Fall, in welchem die Phase eines Stroms in eine führende bzw. voreilende Phase gelangt, die parasitären Dioden nicht sofort dann AUS-geschaltet, wenn die Umschaltelemente EIN-geschaltet wurden, und zwar aufgrund ihrer Erholungskennlinien. Als Ergebnis wird jede der parasitären Dioden zum Halbleiterschalter kurzgeschlossen, der in Reihe zu der parasitären Diode geschaltet ist, und zwar bei jedem EIN/AUS-Zustand der Umschaltelemente, um in erhöhten Verlusten der Schaltung zu resultieren. Das bedeutet, dass die Verluste von der Umschaltfrequenz der Schaltung abhängen. Insbesondere werden die Verluste in einer Funkfrequenz-Leistungsversorgungsvorrichtung, wie beispielsweise einer Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung, sehr erhöht.
  • Selbst wenn die Last 3 dieselbe Phase hat, d. h. selbst dann, wenn keine Lastimpedanzwandlerschaltung 30 vorgesehen ist, und die Last 3 eine Plasmaerzeugungsvorrichtung 2a ist, die eine Last von nur einem Widerstand ist, bringt sie ähnliche Ergebnisse hervor. Beispielsweise fließt im Intervall II dann, wenn die Halbleiterschalter Q1 und Q4 EIN-geschaltet werden, der Strom in der A-zu-B-Richtung, wie es in 10C durch die gestrichelte Linie gezeigt ist. Demgemäß fließt ein durch die Erholungskennlinien der Dioden D2 und D3 verursachter Kurzschlussstrom, wie beim Fall der 12, um darin zu resultieren, dass Verluste in der Schaltung auftreten.
  • Gegensätzlich dazu fließt der Strom dann, wenn die Last 3" eine verzögerte Last" in Bezug auf die Verstärkerschaltungen 20 ist, d. h. wenn die Phase des Stroms verzögert ist, wie es oben beschrieben ist, wie beispielsweise im Intervall II, wenn die Halbleiterschalter Q1 und Q4 EIN-geschaltet werden, in der B-zu-A-Richtung, wie es in 5C gezeigt ist. Das bedeutet, dass die Schaltung ruhig bzw. glatt vom EIN-Zustand der Dioden D1 und D4 zum EIN-Zustand der Halbleiterschalter Q1 und Q4 transferiert wird, und kein Kurzschlussstrom fließt. Demgemäß ist es möglich, durch ein EIN/AUS-Schalten der Umschaltelemente verursachte Verluste zu reduzieren und eine hohe Effizienz zu realisieren.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung ist es möglich, eine Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung zu realisieren, die eine hohe Effizienz hat und die das Umschaltelement vor steilen Übergangsschwankungen der Plasmalast schützen kann.

Claims (4)

  1. Leistungsversorgungsvorrichtung (1) zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung (2) als Last, welche Leistungsversorgungsvorrichtung folgendes aufweist: – eine variable DC-Gleichstrom-Leistungsversorgung (10); – eine der DC-Gleichstrom-Leistungsversorgung nachgeordnete Leistungswandlerschaltung, die eine Vielzahl von Verstärkerschaltungen (20) der D-Klasse mit einer Vielzahl von Umschaltelementen (Q1–Q4) aufweist und die einen von der variablen DC-Gleichstrom-Leistungsversorgung ausgegebenen Gleichstrom in Hochfrequenzleistung umwandelt; – eine der Leistungswandlerschaltung (20) nachgeordnete Lastimpedanzwandlerschaltung (30), die die Phase des Laststroms verzögert, um die Impedanz der Plasmaerzeugungsvorrichtung (2) in eine Lastimpedanz umzuwandeln, bei welcher der Last-Strom eine der Last-Spannung nacheilende Phase hat; – eine der Lastimpedanzwandlerschaltung (30) nachgeordnete Zusammensetzschaltung (40) zum Zusammensetzen von Ausgaben der Vielzahl der Verstärkerschaltungen (20), um eine Hochfrequenzleistung mit einer Spannung zu erzeugen, die höher als diejenige der Ausgabe jeder Verstärkerschaltung (20) ist; – eine der Zusammensetzschaltung (40) nachgeordnete Filterschaltung (50); – einen der Filterschaltung (50) nachgeordneten Leistungssensor (60), der die von dem Filter (50) ausgegebene Hochfrequenzleistung erfasst; und – eine Steuerschaltung (70), die die Leistung der variablen DC-Gleichstrom-Leistungsversorgung (10) basierend auf dem erfassten Wert des Leistungssensors (60) steuert.
  2. Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Plasma nach Anspruch 1, wobei die Leistungs-Wandlerschaltung aus Verstärkern (20) aufgebaut ist, die eine Vollbrücken-Inverterschaltung aufweisen, bei welcher eine Vielzahl von Schaltelementen in einer Brückenschaltung geschaltet ist.
  3. Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Plasma nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Lastimpedanz-Wandlerschaltung (30) eine Recktanz Xs aufweist, die zu einem ihrer Eingangsanschlüsse in Reihe geschaltet ist, und eine Recktanz Xp, die zu den Eingangsanschlüssen parallel geschaltet ist, wobei jede der Recktanzen Xs und Xp eine Spule oder einen Kondensator aufweist, um die Phase des nacheilenden Stroms zu bestimmen.
  4. Leistungsversorgungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Umschaltelemente (Q1–Q4) Halbleiterschalter sind, die parasitäre Dioden umfassen, die derart antiparallel geschaltet sind, dass der Laststrom während einer Zeitdauer vom Einschalten des Schaltelementes bis zur Umkehr des Laststroms über die parasitäre Diode des Halbleiterschalters fließt.
DE10262286A 2002-08-09 2002-12-06 Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung Expired - Lifetime DE10262286B4 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10257147A DE10257147B4 (de) 2002-08-09 2002-12-06 Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002-233942 2002-08-09
JP2002233942A JP3641785B2 (ja) 2002-08-09 2002-08-09 プラズマ発生用電源装置
DE10257147A DE10257147B4 (de) 2002-08-09 2002-12-06 Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10262286B4 true DE10262286B4 (de) 2009-03-19

Family

ID=31185142

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10262286A Expired - Lifetime DE10262286B4 (de) 2002-08-09 2002-12-06 Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung
DE10257147A Expired - Lifetime DE10257147B4 (de) 2002-08-09 2002-12-06 Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10257147A Expired - Lifetime DE10257147B4 (de) 2002-08-09 2002-12-06 Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6777881B2 (de)
JP (1) JP3641785B2 (de)
DE (2) DE10262286B4 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8421377B2 (en) 2007-07-23 2013-04-16 Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Protecting high-frequency amplifers

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7157857B2 (en) * 2003-12-19 2007-01-02 Advanced Energy Industries, Inc. Stabilizing plasma and generator interactions
EP1701376B1 (de) * 2005-03-10 2006-11-08 HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG Vakuumplasmagenerator
ATE500604T1 (de) * 2005-03-30 2011-03-15 Huettinger Elektronik Gmbh Vakuumplasmagenerator
US7586099B2 (en) 2005-03-30 2009-09-08 Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Vacuum plasma generator
US7780814B2 (en) * 2005-07-08 2010-08-24 Applied Materials, Inc. Wafer pre-clean reactor cable termination for selective suppression/reflection of source and bias frequency cross products
EP1783904B1 (de) 2005-10-17 2008-04-16 HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG HF-Plasmaversorgungseinrichtung
EP1968188B1 (de) * 2007-03-09 2012-08-08 HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG Klasse-D Verstärkeranordnung
JP5144284B2 (ja) * 2008-01-16 2013-02-13 本田技研工業株式会社 電力変換回路
US8674606B2 (en) * 2009-04-27 2014-03-18 Advanced Energy Industries, Inc. Detecting and preventing instabilities in plasma processes
US9287092B2 (en) * 2009-05-01 2016-03-15 Advanced Energy Industries, Inc. Method and apparatus for controlling ion energy distribution
DE102010008777A1 (de) 2010-02-22 2011-08-25 Siemens Aktiengesellschaft, 80333 Hochfrequenzversorgung einer Last ohne Impedanzanpassung
JP5681943B2 (ja) * 2010-08-30 2015-03-11 株式会社ダイヘン 高周波電源装置
FR2988933B1 (fr) * 2012-03-30 2014-04-04 Geo27 S Ar L Generateur de courant et procede de generation d'impulsions de courant
US9279722B2 (en) 2012-04-30 2016-03-08 Agilent Technologies, Inc. Optical emission system including dichroic beam combiner
JP5534365B2 (ja) 2012-06-18 2014-06-25 株式会社京三製作所 高周波電力供給装置、及び反射波電力制御方法
JP6009931B2 (ja) * 2012-12-19 2016-10-19 株式会社ダイヘン 高周波電源装置
EP2961056A4 (de) * 2013-02-22 2016-10-26 Fuji Machine Mfg Wechselstromstromquellenvorrichtung
JP5729732B2 (ja) 2013-09-27 2015-06-03 株式会社京三製作所 直流電源装置、直流電源装置の制御方法
JP2016054041A (ja) * 2014-09-03 2016-04-14 株式会社島津製作所 高周波電源装置
JP5930560B1 (ja) 2015-01-30 2016-06-08 株式会社京三製作所 高周波絶縁ゲートドライバ回路、及びゲート回路駆動方法
JP5788616B1 (ja) * 2015-02-04 2015-10-07 株式会社京三製作所 高周波電源装置、及びデュアルカソード用電源
WO2021022303A1 (en) * 2019-07-31 2021-02-04 Lam Research Corporation Radio frequency power generator having multiple output ports
CN114762079A (zh) 2019-12-02 2022-07-15 朗姆研究公司 射频辅助等离子体生成中的阻抗变换
US11994542B2 (en) 2020-03-27 2024-05-28 Lam Research Corporation RF signal parameter measurement in an integrated circuit fabrication chamber

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5394061A (en) * 1993-01-14 1995-02-28 Adtec Co., Ltd. High frequency plasma power source and impedance matching device for supplying power to a semiconductor processing apparatus
DE10018879A1 (de) * 2000-04-17 2001-10-25 Melec Gmbh Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung
US6426599B1 (en) * 1999-04-14 2002-07-30 Talking Lights, Llc Dual-use electronic transceiver set for wireless data networks

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH536161A (de) * 1970-09-18 1973-04-30 Messer Griesheim Gmbh Verfahren und Schaltungsanordnung zum Plasmaschweissen
US4629887A (en) * 1983-03-08 1986-12-16 Allied Corporation Plasma excitation system
DE9109503U1 (de) * 1991-07-31 1991-10-17 Magtron Magneto Elektronische Geraete Gmbh, 7583 Ottersweier Schaltungsanordnung für ein Stromversorgungsgerät für Geräte und Anlagen der Plasma- und Oberflächentechnik
US5175472A (en) * 1991-12-30 1992-12-29 Comdel, Inc. Power monitor of RF plasma
US5418707A (en) * 1992-04-13 1995-05-23 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High voltage dc-dc converter with dynamic voltage regulation and decoupling during load-generated arcs
DE69304522T2 (de) * 1992-04-16 1997-01-23 Advanced Energy Ind Inc Stabilisator fuer schalt-mode geleistet radio-frequenz plasma einrichtung
DE4337504B4 (de) * 1993-11-03 2005-04-28 Sms Elotherm Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Ansteuerung von abschaltbaren Leistungshalbleitern eines Resonanz-Umrichters mit angepaßter Schaltgeschwindigkeit
US6150628A (en) * 1997-06-26 2000-11-21 Applied Science And Technology, Inc. Toroidal low-field reactive gas source
JP2929284B2 (ja) * 1997-09-10 1999-08-03 株式会社アドテック 高周波プラズマ処理装置のためのインピーダンス整合及び電力制御システム
WO2001008288A2 (en) * 1999-07-22 2001-02-01 Eni Technology, Inc. Power supplies having protection circuits
DE19949394A1 (de) * 1999-10-13 2001-04-19 Balzers Process Systems Gmbh Elektrische Versorgungseinheit und Verfahren zur Reduktion der Funkenbildung beim Sputtern
DE10122598B4 (de) * 2000-05-16 2012-12-27 Rübig Ges.m.b.H. & Co. KG Verfahren für die Ionisierung eines Arbeitsgases zur Oberflächenbehandlung eines Werkstückes
US6855906B2 (en) * 2001-10-16 2005-02-15 Adam Alexander Brailove Induction plasma reactor
DE10161743B4 (de) * 2001-12-15 2004-08-05 Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG Hochfrequenzanregungsanordnung
US6703080B2 (en) * 2002-05-20 2004-03-09 Eni Technology, Inc. Method and apparatus for VHF plasma processing with load mismatch reliability and stability

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5394061A (en) * 1993-01-14 1995-02-28 Adtec Co., Ltd. High frequency plasma power source and impedance matching device for supplying power to a semiconductor processing apparatus
US6426599B1 (en) * 1999-04-14 2002-07-30 Talking Lights, Llc Dual-use electronic transceiver set for wireless data networks
DE10018879A1 (de) * 2000-04-17 2001-10-25 Melec Gmbh Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Hideaki Fujita Hirofumi Akagi: "A 2-MHz 2-kW voltage-source inverter for low-temperature plasma generators: implementation of fast switching with a third-order resonant circuit". IEEE Transactions on Industry Applications, Vol. 35, No. 1, Jan./Feb. 1999, p. 21-27 *
M.K. Kazimierczuk, "Class D voltage-switching MOSFET power amplifier", IEE proceedings-B, Vol. 138, No. 6, Nov. 1991, p 285-296 *
M.K. Kazimierczuk: "Class D voltage-switching MOSF ET power amplifier". Iee proceedings-B, Vol. 138, No. 6, Nov. 1991, P 285- 296; Hideaki Fujita Hirof umi Akagi: "A 2-MHz 2-kW voltage-source inverter f or low-temperature plasma generators: implementati on of fast switching with a third-order resonant c ircuit". IEEE Transactions on Industry Application s, Vol. 35, No. 1, Jan./Feb. 1999, p. 21-27

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8421377B2 (en) 2007-07-23 2013-04-16 Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Protecting high-frequency amplifers
US8866400B2 (en) 2007-07-23 2014-10-21 Trumpf Huettinger Gmbh + Co. Kg Plasma supply device

Also Published As

Publication number Publication date
DE10257147B4 (de) 2008-12-04
JP3641785B2 (ja) 2005-04-27
JP2004080846A (ja) 2004-03-11
US20040032212A1 (en) 2004-02-19
DE10257147A1 (de) 2004-02-26
US6777881B2 (en) 2004-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10262286B4 (de) Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung
DE602005003872T2 (de) HF Generator mit Spannungsregulator
DE10211609B4 (de) Verfahren und Leistungsverstärker zur Erzeugung von sinusförmigen Hochfrequenzsignalen zum Betreiben einer Last
DE3789691T2 (de) Schwingende Gleichrichterschaltung.
DE60109504T2 (de) Resonanter Leistungsumwandler
DE4040693C2 (de)
DE4234725B4 (de) Gleichspannungswandler
DE102010037040A1 (de) Schaltwechselrichter und Wandler für Leistungsumwandlung
DE68921434T2 (de) Hochfrequenz-Leistungswechselrichter mit Nullspannung kommentierender Resonanz mit ausgebreitetem Leitungs- und Lastbereich.
EP1710898B1 (de) Umschaltbarer Spannungswandler
EP1852959A1 (de) Stromversorgung für einen Mittelfrequenz-Plasmagenerator
DE10259088A1 (de) Resonanzkonverter mit Spannungsregelung und Verfahren zum Treiben von veränderlichen Lasten
DE4302056A1 (de) Resonanter Wechselrichter
DE69125280T2 (de) Verlustarmer Schwingkreis für Kapazitäts-Treiber
DE102014106417A1 (de) Systeme und Verfahren zum Eliminieren von Übergangsverlusten in DC-DC-Wandlern
DE3889012T2 (de) Hochspannungsgleichstromleistungsversorgung.
EP3667917A1 (de) Steuerschaltung für eine oszillatorschaltung zum betrieb von parallelgespeisten oszillatoren
DE102013105541A1 (de) Schaltnetzteil und ein verfahren zum betreiben eines schaltnetzteils
DE10118040A1 (de) DC-DC Konverter
DE102017113468A1 (de) Leistungswandler mit einem autotransformator und verfahren zur leistungswandlung
EP1286454A2 (de) Schaltregler und diesen verwendender Verstärker
DE102018122061A1 (de) Leitungswandlungsvorrichtung
WO2018114528A1 (de) Steuerschaltung mit einem zweipunktregler zur regelung eines getakteten wandlers
EP1532726B1 (de) Schaltregler
DE3686889T2 (de) Selbstschwingender hochfrequenzenergieumformer.

Legal Events

Date Code Title Description
Q172 Divided out of (supplement):

Ref document number: 10257147

Country of ref document: DE

Kind code of ref document: P

8110 Request for examination paragraph 44
AC Divided out of

Ref document number: 10257147

Country of ref document: DE

Kind code of ref document: P

8364 No opposition during term of opposition
R071 Expiry of right