DE1024352B

DE1024352B - Verfahren und Einrichtung zur Herstellung eines fuer Elektronenstrahlen empfindlichen Filmes

Info

Publication number: DE1024352B
Application number: DEV4764A
Authority: DE
Inventors: Gustav Fries
Original assignee: JULIUS CATO VERDENBURG INGLESB
Current assignee: JULIUS CATO VERDENBURG INGLESB
Priority date: 1951-07-31
Filing date: 1952-07-15
Publication date: 1958-02-13

Description

DEUTSCHES

Beim Verfahren des Hauptpatents 1 005 84O¹ wird ein für Elektronenstrahlen, empfindlicher Film verwendet, der sich, durch eine Trägerfolie auszeichnet, auf die unter Luftabschluß eine durch Kathodenstrahlen entsprechend deren Intensität sich kornlos verfärbende, klar durchsichtige Schicht aufgebracht ist, über der eine, ebenfalls unter Luftabschluß aufgebrachte, für Kathodenstrahlen durchlässige Schutzschicht angeordnet ist, welche die elektronenempfindliche Schicht auf der Trägerfolie dicht gegen Lufteinwirkung abschließt.

Auch eine Herstellungsmöglichkeit eines derartigen Films wurde in dem Hauptpatent aufgezeigt. Die vorliegende Erfindung stellt sich zur Aufgabe, ein verbessertes Verfahren und eine Einrichtung zur Herstellung derartiger Filme zu schaffen.

Das Verfahren zur Herstellung eines elektronenempfindlichen Aufzeichnungsträgers gemäß der Erfindung besteht darin, daß das Filmträgermaterial, in ununterbrochener Folge durch eine Vakuumkammer hindurchlaufend, in dieser einseitig mit einer elektronen- und luftempfindlichen Schicht versehen wird, welche sofort daran anschließend mit einer strahlendurchlässigen, für Luft jedoch undurchlässigen Schicht bedeckt wird, so daß die luftempfindliche Schicht vollkommen luftdicht abgeschlossen ist und der Film nach dem Austritt aus dem Vakuum damit luftbeständig ist.

Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung werden im Hochvakuum ionische Kristalle z. B. aus ionischen Salzen aufgedampft, die die elektronenempfindliche Schicht bilden, welche nach der Aufdampfung keine körnig kristalline Struktur aufweist. Bei dem neuen Verfahren wird entweder ein Trägermaterial oder ein Schutzschichtmittel verwendet, das für Elektronenstrahlen durchlässig ist.

Es ist vorteilhaft, den Film vor seinem Eintritt in die Vakuumkammer, in der Hochvakuum herrscht und die Schichten aufgebracht werden, eine Vorvakuumkammer durchlaufen zu lassen.

Die Vorvakuum- und die Hochvakuumkammer sind vorzugsweise durch enge Kanäle, durch die der Film geführt wird, miteinander verbunden. Nach einer weiteren Ausführungsform des Verfahrens wird der Film in der Vorvakuunikammer entgast. Die Entgasung wird, durch Elektronenbeschuß wirksam unterstützt.

Vorzugsweise besteht die Schutzschicht des Filmes aus demselben filmbildenden Material wie der Träger. Diese Schutzschicht wird als Film geeigneter Dicke außerhalb des Vakuums hergestellt und läuft durch einen Kanal, einen. Vorvakuum raum und einen zweiten Kanal in den Hochvakuum raum. In letzerem wird der Schutzfilm so gelenkt, daß er mit dem Verfahren und Einrichtung zur

Herstellung eines für Elektronenstrahlen

empfindlichen Filmes

Zusatz zum Patent 1 005 840

Anmelder:
Gustav Fries,

Heidelberg-Schlierbach, Im Grund 14,

und Julius Cato Vredenburg-Inglesby,

London

Vertreter: Dr.-Ing, R. Meldau, Patentanwalt,
Harsewinkel (Westf.)

Beanspruchte Priorität;
Großbritannien vom 31. Juli 1951

Gustav Fries, Heidelberg-Schlierbach,
ist als Erfinder genannt worden

Träger zusammenläuft, auf welchen die elektronenempfindliche Bildschicht aufgebracht worden ist, und in diesem Hochvakuumraum wird er auf der Bildschicht befestigt.

Das Verfahren arbeitet kontinuierlich, und aus diesem Grunde läuft der fertige Film vom Hochvakuumraum weiter durch einen. Kanal zu einem Vorvakuumraum und aus dem letzteren durch einen weiteren Kanal heraus.

Zur Prüfung und/oder Regulierung der Güte des Herstellungsverfahrens wird, vorzugsweise auf den fertigen Film, während er noch durch die Apparatur läuft und bevor er auf eine Spule aufgewickelt wird, ein Geräusch oder Ton mit Hilfe einer Kathodenstrahlröhre od. dgl. aufgezeichnet. Dieses Geräusch oder dieser Ton. wird unmittelbar nach der Aufnahme lichtelektrisch reproduziert. Der wiedergegebene Ton und seine Qualität geben somit eine Kontrolle, daß der Herstellungsvorgang richtig arbeitet, und zwar

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bevor der verarbeitete Film auf seine Spule aufgewickelt wird. Das wiedergegebene Signal kann ferner dazu benutzt werden, automatisch die einzelnen Stufen des Verfahrens zu regulieren und gegebenenfalls die Apparatur automatisch anzuhalten.

Weitere Merkmale der Erfindung gehen aus den Unteransprüchen und der Beschreibung der in den Zeichnungen dargestellten. Ausführungsbeispiele hervor. In den Zeichnungen sind

Wenn nun der Motor 6 angelassen wird, so bewegen sich alle oben beschriebenen umlaufenden Teile der Apparatur in der durch Pfeile daran angegebenen Bewegungsrichtung; d.h. nachdem der Film 1 von der Vorratsspule 67 bis zur Aufwickelspule 10 durch die Einrichtung nach Fig. 2 eingeführt ist, wird er durch die Zahntrommel 18 von der Spule 67 abgezogen. Bei seiner Bewegung läuft der Film 1 über die Führungsrolle 42 durch den ersten Kanal 43 und über

Fig. 1 a und 1 b eine Draufsicht bzw. ein Quer- io die Führungsrolle 44 in den Vorvakuumraum 45. Aus

schnitt durch einen elektronenempfindlichen Film mit Schutzschicht, entsprechend demjenigen des Hauptpatents,

Fig. 2 eine Gesamtansicht der Vorrichtung zur Herstellung dieses Filmes, gesehen in der Schnittebene C-D von Fig. 3,

Fig. 3 ein Schnitt in der Hbene A-B von Fig. 2, . Fig. 4 Hilfseinrichtungen für die Funktion der Einrichtung, wobei, entsprechend den angebrachten

diesem Raum ist die Luft mittels der von Motor 46 angetriebenen Vorvakuumpumpe 47 bis zu einem Druck von etwa IO-³ mm Quecksilbersäule (Torr) ausgepumpt worden.

Nach Umlenkung über die Rolle 44 wird Film 1 über die Rolle 48 geleitet, die gegen das Gehäuse 53 hochspannungsmäßig isoliert ist. An dieser Rolle liegt der positive Pol einer Gleichspannung von etwa 2000.Volt. Der negative Pol ist mit der Elektrode 49

Zeichen, A einen Schallfrequenzgenerator, B einen 20 verbunden, welche der Rolle 48 gegenüberliegt. Unter

Schallfrequenzverstärker mit Lautsprecher C und D einen Hochfrequenzgenerator mit Netzteil für Gleichstromhochspannung darstellt. Die Zeichen a, b, c und d in Fig. 4 bedeuten Verbindungen, die zu den

dem in der Kammer 45 gewählten Vakuum bildet sich eine Glimmentladung zwischen der Elektrode 49 und der Rolle 48 in Richtung nach der Rolle 48 zu aus. Dadurch wird der über die Rolle 48 geleitete

entsprechend bezeichneten Anschlüssen in Fig. 2 25 Film auf seiner der Elektrode 49 zugekehrten Ober- und 3 führen. Die Verbindung c in Fig. 4 ist der fläche mit Elektronen bombardiert und auf diese Punkt, von welchem aus gegebenenfalls eine Regulier- Weise von den letzten Spuren von Gas und Vervorrichtung gesteuert werden, kann. unreinigungen befreit. Bei seiner weiteren Bewegung

Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren soll ein läuft der Film über die Führungsrolle 50 und durch elektronenempfindlicher Film hergestellt werden, wie 30 den Kanal 51 in den Hochvakuumraum 52. Sollte sich dieser in Fig. la und Ib gezeigt ist. Vorzugsweise auf seiner Oberfläche noch irgendwelche elektrische besteht er aus einem durchsichtigen Träger 1, der mit Ladung befinden, so wird diese beim Lauf des der Perforation 2 versehen ist. Auf diesen Träger Filmes 1 über die Rolle 50 beseitigt, da diese Rolle kommt die elektronenempfindliche Schicht 3, die dann leitend mit dem Metallgehäuse 53 der Kammer 45 mit der auch durchsichtigen elektronendurchlässigen 35 verbunden ist, welches ebenso wie alle anderen Schutzschicht 4 so abgedeckt wird, daß sich die Metallgehäuse der Apparatur bei 54 geerdet ist.

Bevor der Film zur Zahntrommel. 18 gelangt, wird auf ihn die aktive elektiOnenempfindliche Schicht 3 vom Verdampfungsgefäß 55 (welches vorzugsweise 40 aus Tantal oder Mobydän besteht) aufgedampft. Das aufzudampfende elektronenempfindliche Material kommt aus dem Vorratsbehälter 57 (Fig. 3). Mittels des Handrades 58, der Schraubenspindel 59 und der Spindelmutter 60 kann die Fördergeschwindigkeit des 45 Förderwerkes 34 genau eingestellt werden, indem man das Reibrad 27 auf der Reibscheibe 26 verschiebt, wodurch die dem Gefäß 55 aus Behälter 57 zugeführte Materialmenge genau zugemessen wird. Die Einstellung dieser Zumessung kann auch automatisch weitergeleitet, mit deren Hilfe der Schutzfilm 4 auf 5° erfolgen.

dem Film 1 aufgebracht wird. Das auf der Welle 16 Das Verdampfen des Materials vom Gefäß 55 er-

(Fig. 3) mit der Rolle 14 montierte Zahnrad 17 treibt folgt dadurch, daß letzteres durch Wirbelströme erferner über Zahnrad 19 eine Trommel 18 an. In hitzt wird, die in dem Metall durch eine, um den gleicherweise wird Welle 23 von einem Kettenrad 20 Boden des Gefäßes 55 herumgelegte Wicklung 61 erauf der Welle 16 über Kette 21 und Kettenrad 22 an- 55 zeugt werden, die von einem HochfrequenzgeneratorD getrieben. Auf der Welle 23 sind das Kettenrad 24. (Fig. 4) mit Wechselstrom einer Frequenz von vordie Trommel 25 und die Reibscheibe 26 (Fig. 3) be- zugsweise zwischen. 1 und 20 Megahertz gespeist festigt. Reibscheibe 26 überträgt ihre Bewegung an wird.

Reibrad 27. Dieses Reibrad 27 wird gegen die Reib- Die Wicklung 61 ist auf einem Halter 62 montiert,

scheibe 26 dadurch angedrückt, daß die Feder 28 auf 60 der mittels Handrad 63, Schraubenspindel 64 und den Gelenkhebel 30 einwirkt, welcher das Lager 29 Spindelmutter 65 auf- und abwärts bewegt werden für das Rad 27 trägt. Der Gelenkpunkt des Hebels 30 kann. Hierdurch wird das Gefäß 55 mehr oder wenibefindet sich auf der Höhe des Kardangelenkes 31, ger tief in das Hochfrequenzwechselfeld der Wickweiches die Drehung des Reibrades 27 mittels einer lung 61 eingetaucht, und auf diese Art kann man die Welle 32 und eines Kegelgetriebes 33 auf das Förder- 65 Temperatur des Gefäßes 55 und dadurch die Ver

Schicht 3 luftdicht zwischen dem Träger 1 und der Schutzschicht 4 befindet, was besonders gut dadurch erreicht wird, daß die Schutzschicht 4 mit ihren Rändern. 5 dicht auf dem Träger 1 aufliegt.

In der in Fig. 3 dargestellten Apparatur zur Herstellung des Films ist der perforierte Trägerfilm 1 auf der Vorratsspule 67 (Fig. 2) aufgewickelt. Motor 6 treibt die beiden gezahnten Filmvorschubrollen 8 und 9 über Zahnrad 7; von der Zahnrolle 9 aus wird die Filmauf wickelspule 10 durch einen Riemen 11 angetrieben. Weiterhin ist der Antrieb für die Zahnradpumpe 13., z. B. mittels Kette 12, von der Zahnradrolle 8 abgeleitet und wird von 13 zur Rolle 14

werk 34 überträgt. Die Becher 35 des letzteren laufen mit ihrem Förderband 36 über die Rollen 37 und 38. Schließlich ist noch der Antrieb der Schöpfwalze 39 (Fig. 2) vom Kettenrad 24 mittels Kette 40 zu Kettenrad 41 vorgesehen.

dampfungsgeschwindigkeit des darin befindlichen
Materials beeinflussen. Dieser Vorgang kann auch
automatisch dadurch geregelt werden, daß hierzu eine
Vorrichtung durch Anschluß derselben an Punkt c
(Fig. 4) durch die auf dem Film bei 85 (Fig. 2) auf-

gezeichnete Tonspannung gesteuert wird. Es ist weiterhin noch ein zweites Verdampfungsgefäß 100, von gleichem Bau wie beim Gefäß 55 beschrieben, vorgesehen. Dieses zweite Gefäß wird benutzt, wenn man die Schutzschicht aufdampfen will, anstatt sie, wie oben beschrieben, in Form eines Filmes aufzubringen. Mit dem Verdampfungsgefäß 100 ist ein Materialvorratsbehälter, ähnlich wie Behälter 57 bei Gefäß 55, mit einem Förderwerk 34 und' Rutsche 56 verbunden.

Der Heizstrom wird der Wicklung 61 für Gefäß 55 bzw. 101 für Gefäß 100· über Leitungen 103 bzw. 66 zugeführt, welche vom Hochfrequenzgenerator D (Fig. 4) isoliert und vakuumdicht durch die Wandung des Raumes 52 geführt sind.

Von der Zahnrolle 18 ab wird dann, der nunmehr mit der elektronenempfindlichen. Schicht 3 versehene Film 1 mittels der Zahnwalze 8 weitergezogen. Bei dieser Bewegung wird die Schutzschicht 4 über die Schicht 3 aufgebracht, während der Film unter der Rolle 14 läuft. Dieser Schutzfilm wird aus Zaponlack Zelluloselack; besonders geeignet ist 116 der AGFA-Filmfabrik) hergestellt, welcher vom Behälter 70 durch die mit Regulierhahn 71 versehene Leitung auf eine Wasserschicht fließt, die in der Rinne 68 in Pfeilrichtung 69 abläuft. Der Fluß des Wassers wird durch die Zahnradpumpe 13 aufrechterhalten, welche das Wasser vom Sammelbehälter 72 in kontinuierlichem Umlauf durch Leitung 73 mit Regulierhahn 74 fördert. Die Fluggeschwindigkeit des Wassers kann dadurch reguliert werden, daß die Rinne 68 bei 75 drehbar montiert ist und mittels Schraubenspindel 76 mehr oder weniger steil eingestellt werden kann. Die Rinne 68 ist so¹ lang, daß der auf die Wasseroberfläche fließende Zaponlack sich darauf ausbreiten und teilweise trocknen kann, bevor er das Ende der Rinne erreicht. Während dieses Vorganges kann die auf dem Wasser schwimmende Schicht von Zaponlack mittels eines kleinen Ultraschallgenerators (nicht dargestellt; am Ankleben an den Seiten der Rinne 68 gehindert werden. Der teilweise getrocknete Zaponlackfilm 4 wird am Ende der Rinne 68 durch die Trommel 39 aufgenommen und trocknet auf seinem Wege zur Führungsrolle 25 weiter. Nach seinem Lauf über diese Rolle läuft er weiter durch, den Kanal 77 in den Vorvakuumraum 78 und durch den Kanal 76 zur Rolle 14, unter der er sich auf die Schicht 3 auf dem von der Zahnrolle 18 kommenden Träger 1 legt.

Der Film 1 mit der Schicht 3 und der Schutzschicht 4 wird dann mittels der Zahnwalze 8 über die Rollen 81, 82 und 83 durch den Kanal 84 in den Vorvakuumraum 45 und über die leicht gekrümmte Bahn 85 gezogen. Beim Lauf über diese Bahn liegt der Film dicht an ihr an, da die Rolle 82 unter der Wirkung der Feder 86 den Film zwischen den Zahnwalzen 8 und 18 straff gespannt hält. Die Bahn 85 könnte auch durch, eine Rolle mit Schwungrad ersetzt sein.

Damit Luft die Schicht 3 nicht an den Kanten 5 (Fig. 1 a) der Deckschicht erreichen kann, wenn der Film durch den Kanal 87 in die Atmosphäre tritt, ist im Hochvakuumraum über der Rolle 83 eine elektrisch geheizte Rolle 88 vorgesehen, welche dazu dient, die Kanten der Deckschicht 4 mit dem Film 1 zu verschmelzen. Prinzipiell könnte dies auch durch Hochfrequenzheizung erzielt werden, indem man die beiden Seitenkanten des Filmes im Hochvakuumraum 52 nach seinem Lauf über die Rolle 14 durch ein elektrostatisches Hochfrequenzfeld laufen läßt.

Nachdem der Film den Kanal 87 verlassen hat, werden sicherheitshalber die beiden Kanten der Schutzschicht leicht mit Azeton oder einem anderen Filmlösungsmittel bestrichen, welches von Behälter 89 durch zwei¹ Dochte 90 zu den Filmkanten geleitet wird.

Nach Verlassen der Zahnrolle 8 erfolgt die Weiterbewegung des fertigen Filmes mittels der Zahnrolle 9. Bei dieser Bewegung wird der Film über die Führungsrolle 91, mit der die Druckrolle 92 zusammenarbeitet, und die mit konstanter Geschwindigkeit laufende Walze 93 geleitet, innerhalb deren sich die von. der Lichtquelle 95 beleuchtete Photozelle 94 befindet.

Nach Verlassen der Zahnwalze 9 wird der fertige Film auf die vom Riemen 11 angetriebene Spule 10 aufgewickelt.

Der fertige Film wird dadurch geprüft, daß oberhalb der Bahn 85 eine Kathodenstrahlröhre 96 angeordnet ist, deren die Röhre durch ein Lenardfenster verlassender Kathodenstrahl 97 zur Erzeugung einer Schallaufzeichnung auf den am Lenardfenster vorbeilaufenden Film Ij 3, 4 benutzt wird. Der Kathodenstrahl 97 wird mit Schallfrequenz vom Generator A (Fig. 4) moduliert, die dem Wehneltzylinder 99 zwecks Modulierung des daraus austretenden Kathodenstrahles 97 zugeführt wird.

Der aufgezeichnete Ton wird später reproduziert, und zwar an der Stelle, an welcher der Film um die Walze 93 zwischen der Lichtquelle 95 und der Photozelle 94 läuft, wobei die Ausgangsleistung der Photozelle 94 dem den Ton mittels Lautsprechers C wiedergebenden Verstärker B (Fig. 4) zugeführt wird. Zusätzlich oder statt dessen könnte die Ausgangsenergie des Verstärkers bei c zur automatischen Regelung des Filmherstellungsvorganges benutzt werden.

Das Verfahren und die Filmherstellungsapparatur gemäß der Erfindung kann auch zur Herstellung kurzer Filmlängen oder -einheiten benutzt werden. Jede Einheit könnte z. B. der Größe eines einzeln aufzuzeichnenden Bildes entsprechen. Dies kann man dadurch erreichen, daß man die Schutzschicht 4 mit dem Trägerfilm 1 auch in den Bereichen, zwischen den einzelnen. Einheiten mit dem Trägerfilm verschmilzt. Der fertige Film kann dann entlang innerhalb· dieser Querstreifen liegender Ouerlinien durchgetrennt werden, so daß in jeder einzelnen Einheit die Schutzschicht ringsum einen dichten Abschluß mit dem Trägerfilm bildet. Die Ouerverschmelzung kann mittels einer Walze mit entsprechendem Abstand, von zwei aufeinanderfolgenden Verschmelzungsstreifen angeordneten Rippen erfolgen, welche ähnlich wie Rolle 88 als Schweißelektroden dienen, Das Verschmelzen kann durch Erhitzen der Rippen oder dadurch, erfolgen, daß die Rippen als Hochfrequenzelektroden benutzt werden.

Bei elektronenempfindlichen Filmen, die nach dem beschriebenen Verfahren hergestellt werden, ist und bleibt die aktive Schicht 3 (Fig. Ib) vollkommen durchsichtig, bis sich durch den Einfluß einer auftreffenden Elektronenstrahlung entsprechend, deren Intensität Farbzentren bilden. Diese Farbzentren können in bekannter Weise durch Wärmestrahlen, oder indem der Film durch ein elektrisches Feld geführt wird, wieder gelöscht werden, so daß der Film erneut für eine Bestrahlung mit Elektronen verwendbar ist.

Das erfindungsgemäße Verfahren und die Einrichtung zu seiner Durchführung ist nicht allein auf die

Herstellung eines Filmes beschränkt, wie dieser beschrieben wurde. Es ist erkennbar, daß ebensogut damit auch elektronenempfindliche Filme eines anderen Schich.taufbau.es erzeugt werden können.

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Herstellen eines für Elektronenstrahlen empfindlichen Filmes nach Patent 1 005 84O¹, dadurch gekennzeichnet, daß das Filmträgermaterial, in ununterbrochener Folge durch eine Vakuumkammer hindurchlaufend, in dieser einseitig mit einer elektronen- und luftempfindliehen, Schlicht versehen wird, welche sofort daran anschließend mit einer strahilendiurchlässigen, für Luft jedoch undurchlässigen Schicht bedeckt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Hochvakuum solche ionischen Kristalle aufgedampft werden, die eine elektronenempfmdliche Schicht bilden.

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß entweder ein Trägermaterial oder ein Schutzschichtmaterial verwendet wird, das für Elektronenstrahlen durchlässig ist.

4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Film hergestellt wird, dessen beide Außensehichten aus gleichem Material bestehen.

5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Film vor seinem Eintritt in die Hochvakuumkammer, in der die Schichten aufgebracht werden, eine Vorvakuumkammer durchläuft.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Film in der Vorvakuumkammer zwecks Entfernung von Gasresten einem Elektronenbeschuß ausgesetzt wird.

7. Verfahren nach den Ansprüchen 5 undi 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Film aus der Vorvakuum- in die Hochvakuumkammer durch enge Kanäle geführt wird.

8. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht in Form eines Filmes über einen Vorvakuumraum in die Hochvakuumkammer geführt und: dort auf den mit der elektronenempfindlichen Schicht versehenen Film aufgelegt wird.

9. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht auf den mit der elektronenempfmdlichen Schicht versehenen Film aufgedampft wird.

10. Verfahren nach den Ansprüchen 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß (zur Überwachung oder Regelung der Güte des Herstellungsverfahrens) auf dem fertigen Film, während er noch durch die Apparatur läuft, und bevor er auf eine Spule aufgewickelt wird, ein Geräusch oder einen Ton mittels einer Kathodenstrahlröhre od. dgl. aufgezeichnet, und dieses Geräusch oder dieser Ton ununmittelbar nach der Aufzeichnung lichtelektrisch wiedergegeben wird.

11. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch Transportmittel, die den Film in dien Hochvakuumraum (52) und! aus diesen Raum herausleiten, Mittel innerhalb des Raumes, um auf die Oberfläche des Filmes eine Schicht von ionischen Kristallen aufzubringen, und Mittel innerhalb des Raumes, um eine Schutzschicht auf diese Schicht aufzutragen und diese Schutzschicht luftdicht mit dem Film zu verbinden.

12. Einrichtung nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch einen Vorvakuumraum (45), der mit dem Hochvakuumraum (52) durch Kanäle (51,84) verbunden ist, durch welche der Film beim Ein- und Auslauf in den bzw. aus dem Hochvakuumraum läuft und die den Film so eng umschließen, daß Luftdurchgang in den Hochvakuumraum im wesentlichen verhindert wird.

13. Einrichtung nach Anspruch 12, gekennzeichnet durch Kanäle für den Filmeintritt in den Vorvakuumraum und seinen Austritt aus letzterem, die dem Film eng angepaßt sind und Durchgang von Luft längs des Filmes in den Vorvakuumraum (45) im wesentlichen verhindern.

14. Einrichtung nach. Anspruch 11, 12' oder 13, gekennzeichnet durch Mittel, um eine die Schutzschicht bildende Filmschicht (4) in den Hochvakuumraum (52) hinein durch einen zweiten Vorvakuumraum (78) zu leiten, der mit dem Hochvalkuumraum (52) durch einen den Luftzutritt längs des Filmes in den Hochvakuumraum im wesentlichen verhindernden Kanal (79) verbunden ist.

15. Einrichtung nach Anspruch 12, 13 oder 14, gekennzeichnet durch eine im Vorvakuumraum (45) angeordnete Walze (48) aus leitendem Material, über die der Film bei seiner Bewegung zum Hochvakuum raum läuft, sowie durch eine im Abstand von dieser Walze angeordnete, ihr zugekehrte Elektrode (49) und Mittel zum Anlegen einer hohen Spannungsdifferenz zwischen Walze und Elektrode mit dem positiven Pol an der Walze und dem negativen Pol an der Elektrode.

16. Einrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorvakuumkammer (45) mit einer Kathodenstrahlröhre (96) versehen ist, welche ein Lenardfenster (98) besitzt, durch das die Kathodenstrahlen auf dem Film projiziert werden, während er vom Hochvakuum raum aus durch den Vorvakuumraum läuft.

17. Einrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß Mittel vorgesehen sind, um diesen Kathodenstrahl mit einem Ton zu modulieren.

18. Einrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 17, gekennzeichnet durch Mittel, welche auf die Kanten der Schutzschicht und des Filmes beim Verlassen der Vorvakuumkammer ein Lösungsmittel auftragen.

19. Einrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 18, bei der der fertige Film auf einer Spule, aufgewickelt wird, dadurch gekennzeichnet, daß der fertige Film bei seinem Übergang zwischen dem Vorvakuumraum (45) und der Spule (107) an einer lichtelektrischen Sdhallwiedergabeeinrichtung (95) vorbeigeführt wird.

20. Einrichtung nach einem der Ansprüche 11 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß der Hochvakuumraum Mittel zum Aufdampfen des ionischen Kristallmaterials auf den Film bei dessen Lauf durch die Hochvakuumkammer enthält.

21. Einrichtung nach Anspruch 20, gekennzeichnet durch Mittel, um ionisclhes Kristallmaterial zu dem Aufdampfmittel in bestimmten abgemesse-

nen Quantitäten entsprechend der zeitlichen Bewegung des Filmes durch den Hochvakuumraum zuzuführen.

22. Einrichtung nach Anspruch 21, gekennzeichnet durch Mittel, um die Zuführgeschwindigkeit des ionischen Kristallmaterials zu den Aufdampfmitteln zu regeln.

23. Einrichtung nach einem der Ansprüche 14

10

bis 22, gekennzeichnet durch Mittel zur Herstellung der Filmschutzschicht, welche einen filmbildenden Lack auf eine kontinuierlich sich bewegende Flüssigkeitsschicht fließen lassen, der bei seinem Lauf auf dieser Flüssigkeitsschicht teilweise erhärtet, den teilweise erhärteten Film dann von der Flüssigkeitsschicht entfernen und in den Hochvakuumraum einführen.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen