DE10232937A1

DE10232937A1 - Strukturdefinierendes Material für OLEDs

Info

Publication number: DE10232937A1
Application number: DE2002132937
Authority: DE
Inventors: Elizabeth Tai; Matthias Stoesel
Original assignee: Osram Opto Semiconductors GmbH
Current assignee: Pictiva Displays International Ltd
Priority date: 2001-07-20
Filing date: 2002-07-19
Publication date: 2003-02-06
Anticipated expiration: 2022-07-20
Also published as: DE10232937B4; US6656611B2; US20040096697A1; JP2003045672A; US20030017360A1; US7160633B2

Abstract

Polysiloxanmaterial kann dazu verwendet werden, eine isolierende Struktur in einem organischen lichtemittierenden Bauelement (OLED) auszubilden. Zusätzlich zu der isolierenden Struktur kann ein OLED eine elektrolumineszierende organische Schicht aufweisen, die in lichtemittierende Elemente unterteilt ist, z. B. Displaypixel, die zwischen Elektrodenschichten angeordnet sind. Eine an die Elektrodenschichten angelegte Spannung bewirkt, daß das Bauelement Licht emittiert. Bei einer Art von isolierender Struktur kann es sich um eine Bankstruktur handeln, die aus einer dünnen Folie aus Polysiloxan mit Öffnungen ausgebildet ist, die den Displaypixeln entsprechen. Pixel können mit der Abscheidung einer oder mehrerer Schichten organischen Materials in die Öffnungen ausgebildet werden. Bei einer anderen Art von isolierender Struktur kann es sich um einen oder mehrere isolierende Streifen handeln, die eine Elektrodenschicht während der Konstruktion in Elektrodenstreifen unterteilen und/oder Elektrodenstreifen isolieren, während das OLED in Betrieb ist.

Description

Allgemeiner Stand der Technik

Die vorliegende Anmeldung betrifft ein strukturdefinierendes Material für organische lichtemittierende Bauelemente (OLEDs). OLEDs verwenden elektrolumineszierende organische Materialien, um beispielsweise Beleuchtungselemente für Displayeinrichtungen bereitzustellen. OLEDs können so ausgelegt werden, daß sie herkömmliche nichtorganische Displaytechnologien ersetzen, oder für neue Anwendungen.
Eine typische OLED-Displayeinrichtung weist eine "Sandwich-" oder geschichtete Konstruktion auf. Zum Konstruieren eines typischen OLED wird zunächst auf einem transparenten Substrat eine transparente leitende Schicht abgeschieden. Die transparente leitende Schicht besteht in der Regel aus einem transparenten leitenden Oxidmaterial, zum Beispiel Indium-Zinnoxid (ITO). Alternativ können für die transparente leitende Schicht andere Materialien, einschließlich dünne Metallfilme, verwendet werden. Die transparente leitende Schicht kann als eine der Elektrodenschichten (in der Regel die Anode) des OLED dienen. Als nächstes wird ein Satz aus einer oder mehreren organischen Schichten auf der transparenten leitenden Schicht abgeschieden. Die verwendeten Abscheidungstechniken können von den Arten des abgeschiedenen organischen Materials abhängen. Die organischen Schichten können verschiedene Funktionen erfüllen, wie etwa Löcherinjektion, Löchertransport, Elektroneninjektion, Elektronentransport und/oder als emittierende oder Zwischenschichten. Schließlich werden eine oder mehrere leitende Schichten abgeschieden, die als eine andere Elektrodenschicht (in der Regel die Kathode) des OLED-Bauelements dienen können. Diese zweite Elektrodenschicht weist in der Regel eine Unterschicht auf, die aus einem Metall mit einer niedrigen Austrittsarbeit (z. B. Ca, Mg, Ba oder Li) ausgebildet ist, und eine kappende Unterschicht aus einem gegenüber Luft stabileren Metall mit einer hohen Austrittsarbeit (z. B. Ag oder Al). Für die zweite Elektrodenschicht können andere Arten von Material verwendet werden, wie etwa Metallegierungen oder Kombinationen aus isolierenden und metallischen Unterschichten.
Bei Betrieb wird eine Spannung an die Elektrodenschichten angelegt, Ladungsträger werden in die organischen Schichten injiziert, eine Rekombination findet statt und ein Teil der Rekombinationsenergie verläßt das Bauelement als Photonen. Die Photonen treten durch die transparente erste Elektrodenschicht und das Substrat hindurch und sind als emittiertes Licht sichtbar.

Kurze Darstellung der Erfindung

Die Erfinder der vorliegenden Erfindung erkannten, daß der Einsatz von Polysiloxan als strukturdefinierendes Material für eine oder mehrere Trenn- oder isolierende Strukturen in einem OLED (z. B. eine Bankstruktur für die Pixelbegrenzung, isolierende Streifen zum Isolieren von Elektroden usw.) zu dramatischen Verbesserungen bei Herstellungsausbeute, -leichtigkeit und -kosten sowie zu einer verbesserten Zuverlässigkeit und Lebensdauer des OLED führt. Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben infolgedessen OLEDs mit isolierenden Polysiloxanstrukturen und entsprechende Herstellungstechniken entwickelt.
Bei einer Implementierung kann ein lichtemittierendes Bauelement mehrere Elektrodenschichten enthalten, einschließlich einer Anodenschicht und einer Kathodenschicht, eine zwischen der Anoden- und Kathodenschicht angeordnete elektrolumineszierende organische Schicht und eine isolierende Polysiloxanstruktur, die die elektrolumineszierende organische Schicht in mehrere lichtemittierende Elemente trennt. Das lichtemittierende Bauelement kann außerdem mindestens eine weitere organische Schicht enthalten, die neben der elektrolumineszierenden organischen Schicht angeordnet ist. In diesem Fall kann die mindestens eine weitere organische Schicht so konfiguriert sein, daß sie eine oder mehrere der folgenden Funktionen ausführt: Löcherinjektion, Löchertransport, Elektroneninjektion und Elektronentransport. Die isolierende Polysiloxanstruktur, die die elektrolumineszierende Schicht in mehrere Pixel unterteilen kann, kann eine dünne Folie aus Polysiloxanmaterial mit mehreren Öffnungen sein. Die Anodenschicht und die Kathodenschicht können jeweils mehrere Elektrodenstreifen enthalten, die so angeordnet sind, daß Anodenschichtelektrodenstreifen und die Kathodenschichtelektrodenstreifen in Gebieten zusammentreffen, die Öffnungen in der isolierenden Polysiloxanstruktur entsprechen. Die mindestens eine Elektrodenschicht kann so konfiguriert sein, daß sie jede Öffnung der isolierenden Polysiloxanstruktur unabhängig als ein Displaypixel adressiert, wobei die mindestens eine Elektrodenschicht weiterhin in einer Aktivmatrixkonfiguration angeordnet ist. Die isolierende Polysiloxanstruktur kann eine Bankstruktur bilden, die die mehreren lichtemittierenden Elemente voneinander isoliert. Das lichtemittierende Bauelement kann weiterhin einen oder mehrere isolierende Streifen auf der isolierenden Polysiloxanstruktur enthalten, wobei mindestens ein isolierender Streifen einen überhängenden Teil oder einen Basisteil oder beide enthält, von denen einer oder beide aus Polysiloxanmaterial ausgebildet sein können.
Bei einer anderen Implementierung kann ein Verfahren zum Konstruieren eines lichtemittierenden Bauelements folgendes beinhalten: Ausbilden einer ersten Elektrodenschicht auf einem Substrat, Ausbilden einer Polysiloxanbankstruktur mit Öffnungen auf der ersten Elektrodenschicht, Abscheiden einer oder mehrerer organischer Schichten in den Öffnungen der Polysiloxanbankstruktur, und Ausbilden einer zweiten Elektrodenschicht derart, daß die eine oder die mehreren organischen Schichten, die in den Öffnungen abgeschieden sind, zwischen der ersten und zweiten Elektrodenschicht angeordnet sind. Das Abscheiden einer oder mehrerer organischer Schichten kann das Abscheiden einer elektrolumineszierenden organischen Schicht beinhalten.
Alternativ oder zusätzlich kann das Abscheiden einer oder mehrerer organischer Schichten das Abscheiden mindestens einer weiteren organischen Schicht (z. B. einer leitenden Polymerschicht) enthalten, die neben der elektrolumineszierenden organischen Schicht angeordnet ist. In diesem Fall kann die mindestens eine weitere organische Schicht eine organische Schicht sein, die so konfiguriert ist, daß sie eine oder mehrere der folgenden Funktionen ausführt: Löcherinjektion, Löchertransport, Elektroneninjektion und Elektronentransport. Das Verfahren kann weiterhin das Strukturieren der Polysiloxanbankstruktur beinhalten, um das lichtemittierende Bauelement in mehrere Pixel zu unterteilen. Das Ausbilden der Polysiloxanbankstruktur kann das Ausbilden einer dünnen Folie aus Polysiloxanmaterial mit mehreren Öffnungen beinhalten, wobei jede Öffnung einem einzelnen lichtemittierenden Element entspricht. Die erste Elektrodenschicht und die zweite Elektrodenschicht können jeweils als mehrere Elektrodenstreifen ausgebildet sein, die so angeordnet sind, daß die ersten Elektrodenschichtstreifen mit den zweiten Elektrodenschichtstreifen in Gebieten zusammentreffen, die den Öffnungen in der Polysiloxanbankstruktur entsprechen. Das Ausbilden der ersten Elektrodenschicht kann weiterhin beinhalten, die erste Elektrodenschicht so anzuordnen, daß jede Öffnung in der Polysiloxanbankstruktur unabhängig adressiert wird. Das Anordnen der ersten Elektrodenschicht kann weiterhin beinhalten, daß die erste Elektrodenschicht als eine Aktivmatrix konfiguriert wird. Das Abscheiden der einen oder der mehreren organischen Schichten kann eines oder mehrere der Verfahren Schleuderguß, Tauchbeschichtung, Siebdruck, Flexodruck und Tintenstrahldruck beinhalten. Die Polysiloxanbankstruktur kann vor dem Abscheiden der einen oder der mehreren organischen Schichten ausgebildet werden. Es können aber auch eine oder mehrere organische Schichten vor der Ausbildung der Polysiloxanbankstruktur abgeschieden werden. Das Verfahren kann weiterhin das Ausbilden eines oder mehrerer isolierender Streifen auf der Polysiloxanbankstruktur, beispielsweise zwischen Öffnungen, beinhalten. Mindestens ein isolierender Streifen kann einen überhängenden Teil oder einen Basisteil oder beide enthalten, von denen einer oder beide ganz oder teilweise aus Polysiloxan ausgebildet sein können.
Bei einer anderen Implementierung kann ein organisches lichtemittierendes Bauelement (OLED) mehrere lichtemittierende Elemente enthalten, wobei jedes lichtemittierende Element ein zwischen Elektrodenelementen angeordnetes elektrolumineszierendes Material enthält, und mindestens eine Struktur aus Polysiloxanmaterial, wobei die Struktur so konfiguriert ist, daß sie Elemente des OLED trennt. Die mindestens eine Struktur kann eine Polysiloxanbankstruktur sein, die so konfiguriert ist, daß sie lichtemittierende Elemente voneinander trennt, und kann Öffnungen enthalten, in denen lichtemittierende Elemente angeordnet sind. Die Polysiloxanbankstruktur kann die lichtemittierenden Elemente physisch und elektrisch voneinander isolieren. Das OLED kann weiterhin einen oder mehrere isolierende Streifen enthalten, die so konfiguriert sind, daß sie Elektrodenelemente des OLED trennen. Der mindestens eine isolierende Streifen kann einen überhängenden Teil oder einen Basisteil oder beide enthalten, von denen einer oder beide ganz oder teilweise aus Polysiloxan ausgebildet sein können. Alternativ kann es sich bei der mindestens einen Struktur um einen oder mehrere isolierende Streifen handeln, die so konfiguriert sind, daß sie Elektrodenelemente des OLED trennen. Der mindestens eine isolierende Streifen kann benachbarte Elektrodenelemente voneinander isolieren.
Einer oder mehrere der folgenden Vorteile können bereitgestellt werden. Die Verwendung einer isolierenden Polysiloxanstruktur kann zu geringeren Herstellungskosten führen, da Polysiloxan aus Lösung verarbeitet werden kann. Beim Ausbilden der isolierenden Strukturen kann zudem Polysiloxan unter Verwendung fotolithographischer Techniken direkt strukturiert werden, was die Kosten, die Zeit und die Anzahl der bei der Herstellung eingeführten Fehler im Vergleich zu indirekten Fotostrukturierungsprozessen reduzieren kann. Die resultierenden isolierenden Polysiloxanstrukturen halten möglicherweise weniger schädliche reaktive Chemikalien oder Wasser zurück als die Verarbeitung von aus anderen Materialien hergestellten isolierenden Strukturen, so daß die Zuverlässigkeit und die Lebensdauer des OLED verbessert werden kann. Da Polysiloxan ein nichtbenetzendes Verhalten bezüglich vieler Lösungen aufweist, die zum Abscheiden organischer Materialien in dem OLED verwendet werden, kann der Einsatz von Polysiloxan als strukturdefinierendes Material das Einschließen anderer Fabrikationsmaterialien an ihren gewünschten Orten im OLED unterstützen und somit eine unerwünschte elektrische Brückenbildung und andere Herstellungsfehler verhindern. Zudem kann Polysiloxan bei Temperaturen gehärtet werden, die mit anderen, im OLED verwendeten Materialien kompatibel sind, wodurch Schäden an den OLED-Komponenten vermieden werden.
Einzelheiten von einer oder mehreren Ausführungsformen werden in den beigefügten Zeichnungen und der folgenden Beschreibung dargelegt. Weitere Merkmale, Aufgaben und Vorteile ergeben sich aus der Beschreibung und den Zeichnungen und aus den Ansprüchen.

Zeichnungsbeschreibungen

Fig. 1 ist eine Querschnittsansicht eines OLED mit einer Polysiloxanbankstruktur,
Fig. 2A-C sind Draufsichten, die den Aufbau eines OLED mit einer Polysiloxanbankstruktur zeigen,
Fig. 3A-D sind Ansichten, die den Aufbau eines OLED mit überhängenden isolierenden Streifen zeigen,
Fig. 4A-B sind Querschnittsansichten, die überhängende Isolierstreifen zeigen,
Fig. 5 ist eine Querschnittsansicht, die einen alternativen Aufbau eines OLED mit einer Polysiloxanbankstruktur zeigt.

Ausführliche Beschreibung

OLEDs enthalten in der Regel eine oder mehrere isolierende Strukturen zum elektrischen oder physischen Isolieren von Elementen des OLED. In dieser Beschreibung bezieht sich der Ausdruck "Elemente" auf physische Gebiete einer oder mehrerer Schichten, die unabhängig von anderen Gebieten funktionieren können. So können beispielsweise organische Schichten in einem Muster aus Displaypixeln angeordnet sein, die Elemente sind, die elektrisch voneinander isoliert sein müssen. Als weiteres Beispiel können die erste und die zweite Elektrodenschicht so in einem Muster von Elektrodenelementen angeordnet sein, daß jedes Pixel von einem elektrischen Strom unabhängig angeregt wird. Die Elektrodenelemente können als Elektrodenstreifen implementiert sein, die elektrisch voneinander isoliert sind.
Fig. 1 ist eine Querschnittsansicht eines OLED mit einer Polysiloxanbankstruktur 106. Zur Konstruktion des OLED kann ein Substrat 102 wie etwa Glas oder Quarz mit einem leitenden Material wie etwa Indium-dotiertem Zinnoxid (ITO), das als eine erste Elektrodenschicht 104 dient, beschichtet werden. Alternative Konstruktionen eines OLED enthalten Substrate aus Kunststoff wie etwa Polyethylenterephthalat (PET) oder Polyethylennaphthalat (PEN).
Oben auf dieser ersten Elektrodenschicht kann die isolierende Bankstruktur 106 aus Polysiloxanmaterial ausgebildet werden. Bei der Bankstruktur 106 kann es sich um eine dünne Folie aus Polysiloxanmaterial mit Öffnungen 108 handeln, durch die die darunterliegende Schicht freiliegt. Als nächstes können eine erste organische Schicht 110 und eine zweite organische Schicht 112 als Schichten des OLED abgeschieden werden. Dann kann die zweite Elektrodenschicht 114 auf das OLED aufgetragen werden. Zum Schutz des Bauelements vor Sauerstoff und Feuchtigkeit kann außerdem noch eine nicht gezeigte Verkapselung oder Abdichtung aufgebracht werden, die das Bauelement umgibt.
Das OLED kann so betrieben werden, daß es durch Anlegen einer Spannung an die erste und zweite Elektrodenschicht Licht emittiert. In der Regel dient die erste Elektrodenschicht 104 als Anodenschicht und die zweite Elektrodenschicht 114 als Kathodenschicht. Andere Anordnungen sind möglich, wie etwa die Verwendung der ersten Elektrodenschicht als Kathode und der zweiten Elektrodenschicht als Anode.
Beim OLED von Fig. 1 bestehen das Substrat 102 und die erste Elektrodenschicht aus transparenten Materialien wie etwa Glas und ITO, die den Durchtritt von emittiertem Licht durch sie hindurch gestatten. Undurchsichtige Materialien können für das Substrat und/oder die erste Elektrodenschicht bei alternativen OLED-Konstruktionen verwendet werden, die den Durchtritt des emittierten Lichts durch eine transparente zweite Elektrodenschicht gestatten und kein Licht durch das Substratmaterial emittieren.
Mindestens eine der organischen Schichten 110 oder 112 ist elektrolumineszent. Gemäß der für Fig. 1 beschriebenen Konstruktion ist die elektrolumineszierende Schicht zwischen den Elektrodenschichten angeordnet. Somit werden lichtemittierende Elemente als Displaypixel in den Öffnungen 108 in der Polysiloxanbankstruktur 106 erzeugt. Somit kann jede Öffnung 108 in der Bankstruktur 106 einem lichtemittierenden Element entsprechen, und die Bankstruktur 106 kann als eine isolierende Struktur arbeiten, die die elektrolumineszierende organische Schicht in lichtemittierende Elemente unterteilt.
Fig. 1 veranschaulicht eine weitere, neben der elektrolumineszierenden organischen Schicht angeordnete organische Schicht. Es sind alternative Anordnungen möglich, wie etwa eine einzige elektrolumineszierende Schicht oder mehrere organische Schichten. Jede organische Schicht kann so konfiguriert sein, daß sie eine oder mehrere Funktionen ausführt, wie etwa Löcherinjektion, Löchertransport, Elektroneninjektion, Elektronentransport und/oder als elektrolumineszierende (emittierende) oder Zwischenschichten.
Eine Vielfalt von Dickewerten sind für die organischen Schichten, die Elektrodenschichten und die isolierenden Strukturen möglich. Der Dickewert bestimmt, wie dick oder dünn die Schicht oder Struktur hinsichtlich ihrer vertikalen Höhe ist. Der Dickewert jeder Schicht oder isolierenden Struktur kann im Bereich zwischen 10 Nanometern und 20 Mikrometern liegen und liegt üblicherweise im Bereich zwischen 50 Nanometern und 20 Mikrometern.
Fig. 2A-C sind Draufsichten, die Einzelheiten des Aufbaus eines OLED mit einer Polysiloxanbankstruktur zeigen.
Fig. 2A ist eine Draufsicht, die den Aufbau der ersten Elektrodenschicht zeigt. Die erste Elektrodenschicht kann als mehrere Elektrodenelemente strukturiert sein, die erste Elektrodenstreifen 204 auf dem Substrat 102 enthalten können. Die ersten Elektrodenstreifen können beispielsweise unter Verwendung fotolithographischer Techniken strukturiert werden. Alternative Muster für die Elektroden sind möglich. Kontaktleitungen 205 können von der ersten Elektrodenschicht zum späteren Anschluß an die zweite Elektrodenschicht strukturiert sein.
Fig. 2B zeigt die Hinzufügung der isolierenden Polysiloxanbankstruktur 106 mit Öffnungen 108, die die darunterliegende Schicht freilegen. Die Öffnungen sind so positioniert, daß sie auf die ersten Elektrodenstreifen 204 ausgerichtet sind. Die Bankstruktur 106 kann unter Verwendung eines herkömmlichen fotolithographischen Prozesses ausgebildet werden, der den Schleuderguß von Polysiloxanmaterial aus Lösung, das Vorhärten zum Reduzieren der Lösung, das Belichten des reduzierten Polysiloxanmaterials mit UV-Licht, Entwicklung entsprechend der UV-Belichtung unter Verwendung einer kommerziell erhältlichen Entwicklerlösung und schließlich das Härten des Polysiloxanmaterials enthalten kann.
Bei dieser Offenbarung schließt der Ausdruck Polysiloxan direkt-lichtstrukturierbare Polysiloxane ein. Ein derartiges direkt-lichtstrukturierbares Polysiloxanmaterial ist beispielsweise kommerziell erhältlich von Shin Etsu Chemical Co., Ltd, in ihrer Reihe Shin Etsu Photo-Sensitive Silicone Dielectrics (SINR). Die Produkte in der SINR-Reihe sind siloxanmodifizierte Kohlenwassenstoffstrukturen. Ein Produkt aus dieser Reihe ist SINR-3010.
Als isolierendes Bankstrukturmaterial kann Polysiloxan unter anderem deshalb vorteilhaft sein, weil es aus Lösung verarbeitet werden kann, wohingegen anorganische Materialien, wie etwa SiO₂, in der Regel teure und zeitaufwendige Vakuumabscheidungsprozesse erfordern, wie etwa thermische Verdampfung, Elektronenstrahlverdampfung oder Sputtern.
Zur Herstellung der Öffnungen 108 muß das isolierende Bankmaterial allgemein strukturierbar sein. Ein weiterer Vorteil von Polysiloxanmaterial besteht darin, daß es direkt lichtstrukturierbar sein kann. Herkömmliche isolierende Strukturen werden in der Regel unter Verwendung indirekter fotolithographischer Prozesse strukturiert. Ein derartiger indirekter Prozeß ist ein Photoresist- Abhebeprozeß, bei dem vor der Abscheidung des isolierenden Materials Teile des Substrats, die von dem isolierenden Material nicht bedeckt werden sollen, mit Photoresists abgedeckt werden. Nach der Abscheidung der isolierenden Materialien wird der Photoresist aufgelöst. Ein weiterer herkömmlicher Ansatz besteht darin, das Substrat mit isolierendem Material zu bedecken und dieses dort, wo es nicht erwünscht ist, chemisch wegzuätzen. Diese indirekten Prozesse sind in der Regel technisch schwierig, zeitraubend und können Bauelementfehler einführen. Im Gegensatz werden Teile der isolierenden Polysiloxanstruktur, die mit einer geeigneten Menge an UV-Licht belichtet werden, auf eine Weise direkt gehärtet, die negativen Photoresists ähnlich ist, wodurch sich die Notwendigkeit für Ätz- oder Abhebeprozesse erübrigt. Das Konstruieren von OLED-Bankstrukturen aus Polysiloxan vereinfacht infolgedessen den Strukturierungsprozeß dramatisch.
Nach der Abscheidung der isolierenden Polysiloxanbankstruktur 106 können praktisch beliebig viele organische Schichten (z. B. eine oder mehrere) in den Öffnungen abgeschieden werden, wobei, wie für Fig. 1 beschrieben, Displaypixelelemente ausgebildet werden. Bei dem in Fig. 1 gezeigten OLED sind bei 110 und 112 zwei organische Schichten gezeigt. Bei der ersten organischen Schicht 110 kann es sich beispielsweise um ein leitendes Polymer aus der Klasse der Polyaniline oder Polythiophene handeln. Ein Beispiel für ein derartiges leitendes Polythiophen-Polymer ist mit Polystyrol- Sulfonsäure dotiertes Polyethylendioxythiophen (PEDOT), das kommerziell von der Bayer AG, Deutschland als Polymerlösung (beispielsweise unter dem Warenzeichen Baytron oder Baytron- P) erhältlich ist. Die erste organische Schicht 110 kann aus einer auf Wasser basierenden Lösung oder Dispersion abgeschieden werden. Die zweite organische Schicht 112 kann ein elektrolumineszierendes Polymer sein und kann aus einer Lösung auf der Basis eines unpolaren Lösungsmittels abgeschieden werden. Durch die Verwendung eines unpolaren Lösungsmittels wird verhindert, daß die zweite Lösung die zuvor abgeschiedene Schicht auflöst.
Alternativ kann eine beliebige Anzahl organischer Schichten 110, 112 aus Polymeren oder Oligomeren oder kleinen funktionellen Molekülen bestehen. Die Schichten können durch naßchemische Techniken, zu denen Schleuderguß aus Lösung, Tauchbeschichten und Drucktechniken wie etwa Siebdruck, Flexodruck oder Tintenstrahldruck zählen, aus Lösung abgeschieden werden. Der Druck kann strukturiert werden, um die organischen Materialien in die Öffnungen 108 in der Bankstruktur 106 zu verteilen. Bei Drucktechniken können mehrere Arten organischen Materials gleichzeitig aufgetragen werden, wie etwa Polymere mit verschiedenen Emissionsfarben, wodurch man mehrfarbige Displays erhält. Zu anderen Wegen der Herstellung eines Polymerfilms als organische Schicht können die elektrochemische Polymerisation und die in-situ- Polymerisation von Monomeren zählen, die durch Verdampfungstechniken auf dem Substrat abgeschieden worden sind. Kleine funktionelle Moleküle können entweder in einem Vakuumprozeß (z. B. thermische Verdampfung) oder wie Polymere in einem naßchemischen Prozeß aus Lösung abgeschieden werden.
Nach dem Härten weisen isolierende Polysiloxanstrukturen vorteilhafterweise sowohl gegenüber wäßrigen auf Wasser basierenden Lösungen als auch unpolaren organischen Lösungen ein nicht benetzendes Verhalten auf. Wenn zur Ausbildung der Bankstruktur 106 Polysiloxan verwendet wird, ist somit eine auf Wasser basierende Lösung zum Abscheiden einer organischen Schicht wie etwa 110 oder eine unpolare Lösung zum Abscheiden einer organischen Schicht wie etwa 112 im allgemeinen streng auf die Öffnungen 108 der Bankstruktur 106 beschränkt. Es ist deshalb weniger wahrscheinlich, daß es zwischen einer Öffnung 108 und einer anderen Öffnung zu einer elektrischen Überbrückung kommt, die von dem Benetzen der Bankstruktur 106 mit Schleudergußlösung kommt, wie dies oftmals bei herkömmlichen Bankstrukturmaterialien geschieht. Das nicht benetzende Verhalten von Polysiloxanen und anderen Materialien kann durch den Einsatz naßchemischer Gas- oder Plasmabehandlungen verbessert werden. Polysiloxan kann ohne zusätzliche Oberflächenbehandlung der isolierenden Bankstruktur ein ausreichend vorteilhaftes Nichtbenetzungsverhalten aufweisen.
Der Nichtbenetzungscharakter des Polysiloxans kann auch in Verbindung mit der Tintenstrahldrucktechnik zum Abscheiden organischer Schichten 110, 112 aus Lösung vorteilhaft sein. Der Tintenstrahldruck kann strukturiert werden, um organisches Material abzuscheiden, indem Tröpfchen der Lösung in den Mitten der Öffnungen 108 der Bankstruktur 106 angeordnet werden. Eine schlechte Tröpfchenanordnungsgenauigkeit beim Druckprozeß kann dazu führen, daß Tröpfchen in der Öffnung 108 falsch angeordnet sind oder sich auf die Oberfläche der Bankstruktur 106 ausbreiten. Das Nichtbenetzungsverhalten der Polysiloxanbankstruktur 106 kann ein Tröpfchen in die gewünschte Position in den offenen Fenstern 108 abweisen. Die Polysiloxanbankstruktur 106 unterstützt somit das Verhindern der Ausbreitung von Lösung in benachbarte Öffnungen 108 und das Vermischen verschiedener Arten organischen Materials, die möglicherweise gleichzeitig aufgetragen werden, wie etwa von Polymeren mit verschiedenen Emissionsfarben. Das schlechte Benetzungsverhalten der Polysiloxanbankstruktur 106 kann auch verhindern helfen, daß restliches organisches Material an den Seiten der Öffnung 108 haftet, wodurch die Wahrscheinlichkeit reduziert wird, daß später abgeschiedene Schichten kurzgeschlossen werden oder daß ein Displaypixel eine schlechte Leistung aufweist.
Fig. 2C zeigte die Hinzufügung der zweiten Elektrodenschicht, wenn das OLED konstruiert wird. Nach der Abscheidung der einen oder der mehreren organischen Schichten kann die zweite Elektrodenschicht 114 durch Vakuumabscheidungstechniken wie etwa thermische Verdampfung oder Sputtern aufgetragen werden. Die zweite Elektrodenschicht 114 kann Unterschichten aus einem oder mehreren Metallen aufweisen. Die zweite Elektrodenschicht 114 kann als mehrere Elektrodenelemente wie etwa zweite Elektrodenstreifen 214 strukturiert werden, die im wesentlichen senkrecht zu den ersten Elektrodenstreifen 204 verlaufen, die Kontaktleitungen 205 kontaktieren und auf die Öffnungen 108 ausgerichtet sind. Dadurch sind die Elektrodenstreifen so angeordnet, daß die zweiten Elektrodenstreifen 214 mit den ersten Elektrodenstreifen 204 in Gebieten zusammentreffen, die den Öffnungen 108 in der Polysiloxanbankstruktur 106 entsprechen. In der Regel können die ersten Elektrodenstreifen 204 als Anodenschichtelektrodenstreifen und die zweiten Elektrodenstreifen 214 als Kathodenschichtelektrodenstreifen dienen. Gemäß dieser Anordnung wird durch das Betätigen eines ersten Elektrodenstreifens 204 als Anode und eines zweiten Elektrodenstreifens 214 als Kathode eine Öffnung 108 als Displaypixel elektrisch angeregt. Bei den Öffnungen und Elektrodenstreifen sind alternative Muster, Formen und Anordnungen möglich. Alternative Gruppierungen der Elektrodenstreifen zu Anoden und Kathoden sind ebenfalls möglich. Zum Schutz des Bauelements vor Sauerstoff und Feuchtigkeit kann außerdem eine nicht gezeigte Verkapselung oder Abdichtung aufgetragen werden.
Bei dem in Fig. 2 gezeigten OLED können zweite Elektrodenstreifen 214 so angeordnet sein, daß sie mit ersten Elektrodenstreifen 204 an Öffnungen 108 zusammentreffen, wo Displaypixel ausgebildet sein können, so daß jedes Pixel durch einen elektrischen Strom getrennt angeregt werden kann. Alternative Anordnungen können auch gestatten, daß jedes Displaypixel ohne Strukturierung der zweiten Elektrodenschicht zu Streifen getrennt angeregt wird. Dazu kann die erste Elektrodenschicht so konfiguriert sein, daß jede Öffnung der Polysiloxanbankstruktur als Displaypixel unabhängig adressiert wird. So kann beispielsweise die erste Elektrodenschicht mit einer getrennten Stromleitung für jedes Pixel strukturiert werden. Die erste Elektrodenschicht kann aber auch beispielsweise in einer Aktivmatrixkonfiguration strukturiert sein, wobei jedem Displaypixel eine Transistorstruktur zugeordnet ist. Diese Anordnungen können gestatten, daß die Pixel durch elektrische Schaltungen in der ersten Schicht einzeln ausgewählt werden, während sie sich die zweite Elektrodenschicht als gemeinsame Elektrode teilen. Somit kann der Aufwand der Strukturierung der zweiten Elektrodenschicht entfallen. Die isolierende Struktur und Polymerschichten eines derartigen alternativen OLED können wie für Fig. 1 und Fig. 2 beschrieben angeordnet werden, was beispielsweise die Möglichkeit des Tintenstrahldruckens eines organischen Schichtmaterials in die Öffnungen der Polysiloxanbankstruktur einschließt.
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben erkannt, daß, wenn OLEDs konstruiert werden, Polysiloxan wegen einer Vielzahl von Gründen gegenüber anderen, direkt lichtstrukturierbaren isolierenden Materialien wie etwa Polyimiden vorzuziehen ist. Im Gegensatz zu vielen Halbleiterbauelementen behalten OLEDs bei Betrieb die isolierenden Materialien als Teil des Bauelements bei. Folglich können Polyimide enthaltende OLEDs hochreaktive Komponenten zurückhalten, die beim Verarbeiten der Polyimide verwendet werden, wie etwa Lösungsmittel, durch Licht erzeugte Säuren, Vernetzungsmittel, Lichterzeuger und Photoinitiatoren. Ein potentieller Vorteil von Polysiloxanmaterial besteht darin, daß bei der Verarbeitung weniger reaktives Material verwendet wird, so daß im OLED weniger reaktives Material zurückbleibt. Weiterhin enthalten Polysiloxane relativ wenige polare Gruppen, bei denen Wasser implementiert werden kann. Somit ist die Wasseraufnahme einer isolierenden Polysiloxanstruktur relativ gering (etwa 0,2-0,3% im Gegensatz zu etwa 2-3% bei Polyimiden). Folglich setzt eine isolierende Polysiloxanstruktur während des Betriebs sehr wenig Wasser in die aktiven organischen Schichten des OLED frei. Da OLED-Bauelemente gegenüber Feuchtigkeit und reaktiven Chemikalien im allgemeinen sehr empfindlich sind, hat die Verwendung von Polysiloxanen anstelle herkömmlicher Photoresists oder Polyimide für isolierende Strukturen einen positiven Effekt auf die Lebensdauer und Effizienz eines OLED, das Polysiloxan als strukturdefinierendes Material verwendet.
Ein weiterer potentieller Vorteil beim Einsatz von Polysiloxan als einem strukturdefinierenden Material bei der OLED-Konstruktion besteht darin, daß die Härtungstemperatur von isolierenden Polysiloxanstrukturen in der Regel unter 250°C liegt, oft im Bereich 210 +/- 30°C, und im Bereich 210 +/- 15°C liegen kann. Diese relativ mäßigen Härtungstemperaturen für Polysiloxan sind mit den meisten der bei Displaytechnologien verwendeten Substratmaterialien, beispielsweise Glas, kompatibel und beeinträchtigen allgemein nicht die Eigenschaften eines typischen Elektrodenausbildungsmaterials wie etwa ITO.
Die Fig. 3A-D zeigen eine alternative OLED- Konstruktion unter Verwendung isolierender Polysiloxanstreifen. Die ersten Elektrodenstreifen 304, die Elektrodenleitungen 305 und die isolierende Bankstruktur 306 werden wie oben unter Bezugnahme auf Fig. 2B erörtert auf dem Substrat 302 abgeschieden. Unter Bezugnahme auf Fig. 3A können dann aus Polysiloxan ausgebildete isolierende Streifen 310 zwischen den Öffnungen 308 auf der Bankstruktur 306 abgeschieden werden. Die isolierenden Polysiloxanstreifen können unter Einsatz der gleichen Techniken zur Ausbildung der isolierenden Polysiloxanbankstruktur wie oben unter Bezugnahme auf Fig. 2B beschrieben ausgebildet werden.
Fig. 3B ist eine Perspektivansicht entsprechend Fig. 3A und zeigt die isolierenden Streifen 310, die zwischen den Öffnungen 308 und benachbarten Kontaktleitungen 305 entlang der Länge der Bankstruktur 306 verlaufen. Die organischen Schichten können vor oder nach dem Abscheiden der isolierenden Streifen, beispielsweise unter Verwendung von Schleuderguß- oder Drucktechniken, in den Öffnungen 308 abgeschieden werden.
Als nächstes wird die zweite Elektrodenschicht 316 wie in Fig. 3C gezeigt abgeschieden. Die zweite Elektrodenschicht kann aus Elektrodenstreifen 314 und Abfallmaterial 318 zwischen den zweiten Elektrodenstreifen 314 bestehen. Während die zweite Elektrodenschicht 316 abgeschieden wird, kommt das Abfallmaterial 318 möglicherweise auf einer größeren Höhe auf den isolierenden Streifen 310 zur Ruhe, wohingegen die zweiten Elektrodenstreifen 314 aus einem Material ausgebildet sein können, das bei einer geringeren Höhe zwischen den isolierenden Streifen 310 zur Ruhe kommt. Die zweiten Elektrodenstreifen 314 können deshalb vom Abfallmaterial 318 und voneinander elektrisch isoliert sein. Die zweite Elektrodenschicht 316 kann somit bei ihrer Abscheidung wegen der Anordnung der isolierenden Streifen 310 zu Elektrodenstreifen 314 strukturiert werden. Infolgedessen können die zweiten Elektrodenstreifen 314 ausgebildet werden, ohne daß teure lithographische oder Drucktechniken verwendet werden müssen. Die isolierenden Streifen 310 können aber auch die Trennung anderer Schichten in getrennte Elemente des OLED unterstützen. Beispielsweise können die isolierenden Streifen 310 die Trennung organischer Schichten unterstützen, die nach der Konstruktion der isolierenden Streifen 310 abgeschieden werden.
Fig. 3D zeigt, daß das OLED mit einer Verkapselung oder Abdichtung 320 bedeckt sein kann. Die Verkapselung kann unter Verwendung einer Reihe von Techniken aufgetragen werden, zu denen beispielsweise die Schleuderbeschichtung aus Lösung, das Tauchbeschichten oder der Auftrag einer vorgeformten Materialfolie zählen. Die Verkapselung kann dazu dienen, dem OLED physische Steifheit zu verleihen und das Bauelement vor Umwelteinflüssen wie beispielsweise Luft oder Feuchtigkeit zu schützen. Ein transparentes Verkapselungsmaterial kann verwendet werden, falls das Verkapselungsmaterial ein Gebiet des Bauelements bedeckt, in dem Lichtemission erwünscht ist. Da Polysiloxan sehr gut lichtdurchlässig ist und im allgemeinen die Lichtemission nicht stört, kann sich Polysiloxan als Material zur Verkapselung des OLED und zum Ausbilden von isolierenden Strukturen wie etwa der Bankstruktur 306 und den isolierenden Streifen 310 eignen.
Die Fig. 4A-B sind Querschnittsansichten, die Einzelheiten der isolierenden Polysiloxanstreifen 310 zeigen. Der Querschnitt verläuft über einen ersten Elektrodenstreifen, wie durch die Pfeile 4a in Fig. 3D angezeigt. Unter Bezugnahme auf Fig. 4A können die isolierenden Streifen 310 auf der Bankstruktur 306 zwischen den Öffnungen 308 sitzen, die die erste Elektrodenschicht 304 freilegen. Die isolierenden Streifen 310 können einen Basisteil 406 und einen überhängenden Teil 408 aufweisen. Die vertikale Abscheidung einer Schicht, wie etwa der zweiten Elektrodenschicht, ist durch die Pfeile 404 gezeigt. Die überhängenden Teile 408 der isolierenden Streifen 310 unterstützen die Ausbildung einer Unterbrechung im vertikal abgeschiedenen Material an den Stellen 407 unter dem überhängenden Teil 408. So wird eine elektrische und physische Isolation der zweiten Elektrodenstreifen ermöglicht oder verbessert. Alternative Formen für die isolierenden Streifen sind möglich, beispielsweise eine allmählich überhängende Schräge, wobei der Überhang von unten nach oben ohne einen ausgeprägten Basisteil zunimmt. Die Verwendung und die Konstruktion alternativer Formen für isolierende Streifen mit überhängenden Teilen ist aus der europäischen Patentanmeldung Nr. EP 0910128A2 bekannt.
Isolierende Polysiloxanstreifen liefern allgemein die gleichen Vorteile, die zuvor für isolierende Polysiloxanstrukturen erörtert wurden, einschließlich beispielsweise des Nichtbenetzungsverhaltens, der Fähigkeit, direkt lichtstrukturiert zu werden und des geringen Zurückhaltens von reaktiven Chemikalien und Wasser. Ein weiterer potentieller Vorteil bei der Ausbildung der isolierenden Streifen aus Polysiloxan beim Konstruieren eines OLED besteht darin, daß durch Einstellen der Verarbeitungsparameter (Intensität des UV-Belichtungslichts, Belichtungszeit, Entwicklungsbedingungen) des Polysiloxans sowohl eine positive als auch negative Verarbeitung der isolierenden Strukturen erzielt werden kann, wodurch man einen hohen Grad an Kontrolle über die Ausbildung der isolierenden Struktur erhält. Somit können der überhängende Teil 408 und der Basisteil 406 der isolierenden Streifen leicht ausgebildet werden. Es kann zudem vorteilhaft sein, an den isolierenden Streifen 310 relativ scharfe Kanten 409 zu haben, um das Aufbrechen des vertikal abgeschiedenen Materials in Streifen zu unterstützen. Für andere Teile von isolierenden Strukturen, wie etwa für die Seiten der bei 106 in Fig. 1 gezeigten Bankstruktur, können glatte Schrägen wünschenswert sein. Derartige glatte Schrägen unterstützen beispielsweise das Eingrenzen der aus Lösung abgeschiedenen organischen Schichten 110, 112 auf die Öffnungen 108. Der hohe Grad an Kontrolle bei der Ausbildung von isolierenden Polysiloxanstrukturen unterstützt das Ausbilden derartiger scharfer Kanten und glatt ansteigender Schrägen.
Fig. 4B veranschaulicht die gewünschte Abscheidung der organischen Schichten 410, 412 und der zweiten Elektrodenschicht 316. Die Bankstruktur 306 und die isolierenden Streifen 310 können vor den organischen Schichten 410 und 412 abgeschieden werden. Es ist erwünscht, daß die organischen Schichten 410, 412 in den Öffnungen der Bankstruktur 306 abgeschieden werden. Als nächstes kann die zweite Elektrodenschicht 316 abgeschieden werden, und zwar erwünschterweise so, daß die zweiten Elektrodenstreifen 314zwischen benachbarten isolierenden Streifen 310 ausgebildet werden und Abfallmaterial 318 auf den isolierenden Streifen abgeschieden wird, so daß zwischen dem Abfallmaterial 318 und den zweiten Elektrodenstreifen 314 Unterbrechungen 320 ausgebildet werden.
Ein Problem kann auftreten, falls organisches Material 410, 412 die Stelle 407 unter dem überhängenden Teil 408 des isolierenden Streifens 316 füllt. Eine derartige Füllung kann die Größe des Überhangs eliminieren oder erheblich reduzieren. Wenn die zweite Elektrodenschicht 316 abgeschieden wird, kann somit der Effekt des überhängenden Teils 408 beim Sicherstellen einer Unterbrechung zwischen den zweiten Elektrodenstreifen 314 und dem Abfallmaterial 318 reduziert sein. Durch die zweite Elektrodenschicht 316 kann dort eine unerwünschte elektrische Brücke ausgebildet werden, wo Unterbrechungen 320 erwünscht sind, und zwar zwischen Elektrodenstreifen 314 und dem Abfallmaterial 318. Eine derartige Überbrückung würde die elektrische Isolierung der zweiten Elektrodenstreifen 314 und ein ordnungsgemäßes Funktionieren des OLED verhindern. Andere Kombinationen von Schichten können eine ähnlich unerwünschte elektrische Brücke ausbilden.
Der Einsatz von Polysiloxanmaterial kann das Eliminieren elektrischer Fehler wie etwa die Ausbildung von Brücken, wo Unterbrechungen 320 existieren sollten, unterstützen. Falls beispielsweise die erste organische Schicht 410 aus einer wäßrigen Lösung abgeschieden wird und die zweite organische Schicht 412 aus einer unpolaren Lösung abgeschieden wird, dann unterstützt der Nichtbenetzungscharakter von Polysiloxan bezüglich wäßriger und unpolarer Lösungen die Begrenzung der organischen Schichten 410, 412 auf die Öffnungen oder weg von den isolierenden Streifen 310. Dadurch wird das Auffüllen der Stelle 407 unter dem überhängenden Teil 408 durch organisches Material und die sich daraus ergebende elektrische Überbrückung allgemein weniger wahrscheinlich. Die Blockierung der Ausbildung von elektrischen Brücken ist somit ein weiterer potentieller Vorteil beim Einsatz von Polysiloxan für die Bankstruktur 306 oder die isolierenden Streifen 310 im OLED.
Mit dem Ausdruck "isolierende Komponenten" werden die drei Komponenten bezeichnet, die die Bankstruktur 306, der Basisteil 406 der isolierenden Streifen 310 und der überhängende Teil 408 der isolierenden Streifen 310 sind. Jede Kombination der isolierenden Komponenten kann aus Polysiloxan ausgebildet werden. So können beispielsweise die Bankstruktur 306 und der Basisteil 406 der isolierenden Streifen aus Polysiloxan ausgebildet werden, während der überhängende Teil 408 aus einem anderen Material ausgebildet werden kann.
Wenn mehrere isolierende Komponenten aus ähnlichen Materialien ausgebildet werden, kann es im Hinblick auf die Zeit und die Kosten vorteilhaft sein, ihre Strukturen während des gleichen Prozesses im wesentlichen zusammen zu strukturieren. Anstatt den Basisteil 406 und den überhängenden Teil 408 der isolierenden Streifen 310 getrennt auszubilden, können sie beispielsweise im wesentlichen zusammen als ein einzelnes Stück während des gleichen Fotostrukturierungsprozesses ausgebildet werden. Bei Ausbildung als ein einzelnes Stück können die isolierenden Streifen eine allmählich überhängende Schräge aufweisen, wobei der Überhang von unten nach oben ohne einen ausgeprägten Basisteil zunimmt. Als weitere Alternative können die Bankstruktur 306 und der Basisteil 406 während des gleichen Strukturierungsprozesses zusammen ausgebildet werden.
Fig. 5 ist eine Querschnittsansicht eines OLED mit einer aus Polysiloxan ausgebildeten Bankstruktur. Bei dieser alternativen Konstruktion wird die erste organische Schicht 510 vor der Ausbildung der Bankstruktur 506 abgeschieden. Insbesondere kann die erste Elektrodenschicht 504 auf dem Substrat 502 abgeschieden werden, und eine erste organische Schicht 510 kann auf der ersten Elektrodenschicht abgeschieden werden. Dann kann eine aus Polysiloxanmaterial 506 ausgebildete Bankstruktur abgeschieden werden. Als nächstes kann eine zweite organische Schicht 512 in den Öffnungen 508 der Bankstruktur 506 abgeschieden werden. Dann wird die zweite Elektrodenschicht 514 abgeschieden. Alternativ kann vor oder nach der Abscheidung der Bankstruktur 506 eine beliebige Anzahl organischer Schichten abgeschieden werden. Das Abscheiden einer oder mehrerer der organischen Schichten vor dem Abscheiden der Bankstruktur 506 kann mit dem Vorteil verbunden sein, daß Kurzschlüsse verhindert werden, die durch mit den organischen Schichten abgeschiedenes organisches Restmaterial verursacht werden. Falls beispielsweise die erste organische Schicht 510 nach der Ausbildung der Bankstruktur 506 abgeschieden würde, kann ein Teil des die erste organische Schicht bildenden Materials an der Seite der Bankstrukturöffnung haften. Das Material kann beispielsweise allgemein in dem durch die Pfeile 516 angezeigten Gebiet haften und somit über die zweite organische Schicht 512 vorstehen und die zweite Elektrodenschicht 514 kontaktieren. Folglich könnte die zweite organische Schicht 512 kurzgeschlossen werden und nicht funktionieren. Das Ausbilden der Bankstruktur 506 nach dem Abscheiden einer oder mehrerer der organischen Schichten kann somit das Verhindern derartiger Herstellungsfehler bei den resultierenden OLEDs unterstützen.
Wenn isolierende Strukturen nach einigen der organischen Schichten abgeschieden werden, können isolierende Polysiloxanstrukturen deshalb vorteilhaft sein, weil unpolare Lösungsmittel zum Lösen von Polysiloxan während des fotolithographischen Strukturierungsprozesses verwendet werden können. Dadurch bleiben viele organische Materialien, z. B. wasserlösliche leitende Polymere wie etwa PEDOT, durch die zum Strukturieren von isolierenden Polysiloxanstrukturen verwendeten Lösungsmittel möglicherweise unbeeinträchtigt. Die Härtungstemperaturen von Polysiloxanen sind ebenfalls mit vielen organischen Materialien kompatibel, so daß Beschädigungen an den organischen Schichten während des Härtens der isolierenden Strukturen durch die Verwendung von Polysiloxan verhindert werden.
Alternative Konstruktionen für OLEDs können verwendet werden. So können beispielsweise ein nichttransparentes Substrat, eine nichttransparente erste Elektrodenschicht und eine transparente zweite Elektrodenschicht verwendet werden, damit Photonen als sichtbares emittiertes Licht durch die transparente zweite Elektrodenschicht hindurchtreten können. Der Einsatz von isolierenden Polysiloxanstrukturen, wie etwa Bankstrukturen und isolierenden Streifenstrukturen, ist mit derartigen alternativen OLED-Konstruktionen kompatibel.
Weitere Ausführungsformen liegen im Schutzbereich der folgenden Ansprüche.

Claims

1. Lichtemittierendes Bauelement, das folgendes umfaßt:
mehrere Elektrodenschichten einschließlich einer Anodenschicht und einer Kathodenschicht;
eine zwischen der Anoden- und Kathodenschicht angeordnete elektrolumineszierende organische Schicht; und
eine isolierende Polysiloxanstruktur, die die elektrolumineszierende organische Schicht in mehrere lichtemittierende Elemente unterteilt.

2. Bauelement nach Anspruch 1, weiterhin mit mindestens einer weiteren organischen Schicht, die neben der elektrolumineszierenden organischen Schicht angeordnet ist, wobei die mindestens eine weitere organische Schicht so konfiguriert ist, daß sie eine oder mehrere der folgenden Funktionen ausführt: Löcherinjektion, Löchertransport, Elektroneninjektion und Elektronentransport.

3. Bauelement nach Anspruch 1, wobei die isolierende Polysiloxanstruktur die elektrolumineszierende Schicht in mehrere Pixel unterteilt.

4. Bauelement nach Anspruch 1, wobei die isolierende Polysiloxanstruktur eine dünne Folie aus Polysiloxanmaterial mit mehreren Öffnungen umfaßt und wobei die Anodenschicht und die Kathodenschicht jeweils mehrere Elektrodenstreifen umfassen, die so angeordnet sind, daß die Anodenschichtelektrodenstreifen und die Kathodenschichtelektrodenstreifen in Gebieten zusammentreffen, die Öffnungen in der isolierenden Polysiloxanstruktur entsprechen.

5. Bauelement nach Anspruch 4, wobei mindestens eine Elektrodenschicht so konfiguriert ist, daß sie mindestens eine Öffnung in der isolierenden Polysiloxanstruktur unabhängig als ein Displaypixel adressiert und wobei die mindestens eine Elektrodenschicht weiterhin in einer Aktivmatrixkonfiguration angeordnet ist.

6. Bauelement nach Anspruch 1, wobei die isolierende Polysiloxanstruktur eine Bankstruktur bildet, die die mehreren lichtemittierenden Elemente voneinander isoliert.

7. Bauelement nach Anspruch 1, weiterhin mit einem oder mehreren isolierenden Streifen auf der isolierenden Polysiloxanstruktur und wobei mindestens ein isolierender Streifen einen überhängenden Teil oder einen Basisteil oder beide enthält.

8. Bauelement nach Anspruch 7, wobei der mindestens eine isolierende Streifen in dem überhängenden Teil und/oder dem Basisteil Polysiloxanmaterial umfaßt.

9. Verfahren zum Konstruieren eines lichtemittierenden Bauelements, wobei das Verfahren folgendes umfaßt:
Ausbilden einer ersten Elektrodenschicht auf einem Substrat;
Ausbilden einer Polysiloxanbankstruktur mit Öffnungen auf der ersten Elektrodenschicht;
Abscheiden einer oder mehrerer organischer Schichten in den Öffnungen in der Polysiloxanbankstruktur und
Ausbilden einer zweiten Elektrodenschicht derart, daß die eine oder die mehreren organischen Schichten, die in den Öffnungen abgeschieden sind, zwischen der ersten und zweiten Elektrodenschicht angeordnet sind.

10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei das Abscheiden einer oder mehrerer organischer Schichten das Abscheiden einer elektrolumineszierenden organischen Schicht umfaßt.

11. Verfahren nach Anspruch 10, wobei das Abscheiden einer oder mehrerer organischer Schichten das Abscheiden mindestens einer weiteren organischen Schicht umfaßt, die neben der elektrolumineszierenden Schicht angeordnet ist, wobei die mindestens eine weitere organische Schicht eine organische Schicht umfaßt, die so konfiguriert ist, daß sie eine oder mehrere der folgenden Funktionen ausführt:
Löcherinjektion, Löchertransport, Elektroneninjektion und Elektronentransport.

12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die mindestens eine weitere organische Schicht ein leitendes Polymer umfaßt.

13. Verfahren nach Anspruch 9, weiterhin mit dem Strukturieren der Polysiloxanbankstruktur, um das lichtemittierende Bauelement in mehrere Pixel zu unterteilen.

14. Verfahren nach Anspruch 9, wobei das Ausbilden der Polysiloxanbankstruktur das Ausbilden einer dünnen Folie aus Polysiloxanmaterial mit mehreren Öffnungen umfaßt, wobei jede Öffnung einem einzelnen lichtemittierenden Element entspricht.

15. Verfahren nach Anspruch 9, wobei die erste Elektrodenschicht und die zweite Elektrodenschicht jeweils als mehrere Elektrodenstreifen ausgebildet sind, die so angeordnet sind, daß die ersten Elektrodenschichtstreifen mit den zweiten Elektrodenschichtstreifen in Gebieten zusammentreffen, die den Öffnungen der Polysiloxanbankstruktur entsprechen.

16. Verfahren nach Anspruch 9, wobei das Ausbilden der ersten Elektrodenschicht weiterhin umfaßt, die erste Elektrodenschicht so anzuordnen, daß mindestens eine Öffnung in der Polysiloxanbankstruktur unabhängig adressiert wird.

17. Verfahren nach Anspruch 16, wobei das Anordnen der ersten Elektrodenschicht weiterhin umfaßt, die erste Elektrodenschicht als eine Aktivmatrix zu konfigurieren.

18. Verfahren nach Anspruch 9, wobei das Abscheiden der einen oder der mehreren organischen Schichten eines oder mehrere der Verfahren Schleuderguß, Tauchbeschichten, Siebdruck, Flexodruck und Tintenstrahldruck umfaßt.

19. Verfahren nach Anspruch 9, wobei die Polysiloxanbankstruktur vor dem Abscheiden der einen oder mehreren organischen Schichten ausgebildet wird.

20. Verfahren nach Anspruch 9, wobei eine oder mehrere organische Schichten vor dem Ausbilden der Polysiloxanbankstruktur abgeschieden werden.

21. Verfahren nach Anspruch 9, weiterhin mit dem Ausbilden eines oder mehrerer isolierender Streifen auf der Polysiloxanbankstruktur.

22. Verfahren nach Anspruch 21, wobei der eine oder die mehreren isolierenden Streifen auf der Polysiloxanbankstruktur zwischen den Öffnungen ausgebildet werden.

23. Verfahren nach Anspruch 22, wobei mindestens ein isolierender Streifen einen überhängenden Teil oder einen Basisteil oder beide umfaßt.

24. Verfahren nach Anspruch 23, wobei der mindestens eine isolierende Streifen in dem überhängenden Teil und/oder dem Basisteil Polysiloxan umfaßt.

25. Organisches lichtemittierendes Bauelement (OLED), das folgendes umfaßt:
mehrere lichtemittierende Bauelemente, die ein zwischen Elektrodenelementen angeordnetes elektrolumineszierendes Material umfassen; und
mindestens eine Struktur aus Polysiloxanmaterial, wobei die Struktur so konfiguriert ist, daß sie Elemente des OLED trennt.

26. OLED nach Anspruch 25, wobei die mindestens eine Struktur eine Polysiloxanbankstruktur umfaßt, die so konfiguriert ist, daß sie lichtemittierende Elemente voneinander trennt.

27. OLED nach Anspruch 26, wobei die Polysiloxanbankstruktur Öffnungen enthält, in denen lichtemittierende Elemente angeordnet sind.

28. OLED nach Anspruch 26, wobei die Polysiloxanbankstruktur die lichtemittierenden Elemente physisch und elektrisch voneinander isoliert.

29. OLED nach Anspruch 26, weiterhin mit einem oder mehreren isolierenden Streifen, die so konfiguriert sind, daß sie Elektrodenelemente des OLED trennen.

30. OLED nach Anspruch 29, wobei mindestens ein isolierender Streifen einen überhängenden Teil oder einen Basisteil oder beide umfaßt.

31. OLED nach Anspruch 29, wobei der mindestens eine isolierende Streifen in dem überhängenden Teil und/oder dem Basisteil Polysiloxanmaterial umfaßt.

32. OLED nach Anspruch 25, wobei die mindestens eine Struktur einen oder mehrere isolierende Streifen umfaßt, die so konfiguriert sind, daß sie Elektrodenelemente des OLED trennen.

33. OLED nach Anspruch 32, wobei mindestens ein isolierender Streifen benachbarte Elektrodenelemente voneinander isoliert.