DE10207732A1 - Glas mit deutlich verbesserter Stabilität gegen Strahlenbeschädigungen, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine Verwendung - Google Patents
Glas mit deutlich verbesserter Stabilität gegen Strahlenbeschädigungen, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine VerwendungInfo
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Abstract
Ein Glas mit einer hohen inneren Transmission, sowie geringer Neigung zu strahlungsbedingter physikalischer Kompaktierung und geringer Neigung zur Solarisation enthält DOLLAR A 48-65 Gew.-% SiO¶2¶, DOLLAR A 3-10 Gew.-% Na¶2¶O¶3¶, DOLLAR A 5-10 Gew.-% K¶2¶O, DOLLAR A 20-40 Gew.-% PbO, DOLLAR A 0,001-1 Gew.-% As¶2¶O¶3¶ + As¶2¶O¶5¶ und zeichnet sich durch einen Gehalt von DOLLAR A 0-5000 ppm Sb¶2¶O¶3¶, DOLLAR A 0-500 ppm TiO¶2¶, DOLLAR A 0-100 ppm CuO, DOLLAR A 0-1000 ppm F aus. DOLLAR A Die SIGMA (As¶2¶O¶3¶, As¶2¶O¶5¶, Sb¶2¶O¶3¶, F) ist >= 20 ppm und das Verhältnis von As III/As V beträgt mindestens 0,5. Ein solches Glas ist zur Verwendung als optische Elemente geeignet.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Glas, insbesondere ein Flintglas mit hoher innerer Transmission und hoher Stabilität gegen Strahlungsschäden, d. h. geringer Neigung zu physikalischer Kompaktierung und Solarisation, sowie dessen Verwendung in Abbildung und Projektion sowie der optischen Nachrichtentechnik und Telekommunikation und Computerherstellung.
- Bei modernen Hochleistungsoptiken werden immer höhere Anforderungen an die Abbildungsgenauigkeit und Auflösung gestellt. Dies bedeutet, dass einerseits immer größere Abbildungs- bzw. Projektionsflächen erreicht werden, andererseits jedoch die abzubildenden Strukturen immer kleiner und immer punkt- und detailgenauer abgebildet werden müssen. Aus diesem Grund ist es notwendig mit immer kleineren Wellenlängen zu belichten, d. h. mit Licht höherer Energie, was die energetische Belastung der Optikelemente erhöht. Darüber hinaus werden bei einer Vielzahl von technischen Anwendungen, wie beispielsweise bei der Mikrolithographie, zur Erhöhung der Produktionsgeschwindigkeit immer kürzere Belichtungszeiten gefordert, wodurch die Strahlungsleistung bzw. Strahlendichte, welche durch die Optik geleitet wird, d. h. Strahlenbelastung pro Zeit, notgedrungen zunehmen muss. Darüber hinaus wird bei optischen Systemen, insbesondere in der Nachrichtentechik und der Telekommunikation eine hohe Lichtausbeute, d. h. eine hohe Transmission angestrebt.
- Dies stellt nicht nur hohe Anforderungen an die Entwicklung der jeweiligen Optiken, sondern auch an das für die Optik verwendete Material, welches üblicherweise ein Glas ist. So ist es z. B. bekannt, dass die Anwendung hoher Energiedichten zu einer als Solarisation bezeichneten Erscheinung führt, durch welche die Transmission, d. h. die Strahlungsdurchlässigkeit eines optischen Elementes drastisch abnimmt. Dadurch wird jedoch nicht nur die gesamte Lichtausbeute eines optischen Elementes verringert, sondern durch die hierbei absorbierte Strahlung vermehrt Energie in die Matrix des optischen Elementes eingetragen. Eine solche Deponierung von Energie in die Matrix führt außerdem zu einer Kompaktierung, d. h. zu einer Verdichtung des optischen Materials. Diese Verdichtung erzeugt ein Schrumpfen der Materialmatrix, die auch zu einer Veränderung der optischen Eigenschaften, insbesondere der Brechwerte führt. Derartige Brechwertveränderungen bewirken aber eine Veränderung des für das optische Element ursprünglich berechneten Strahlenganges, wodurch die abzubildende Struktur unscharf, d. h. die Abbildungsgenauigkeit verringert wird.
- Dieser Effekt wird noch dadurch verstärkt, dass solche Kompaktierungen proportional der Strahlung bzw. der deponierten Energie ist, und sowohl jede einzelne Komponente als auch lokale Bereiche in diesen Elementen eines optischen Systems einer unterschiedlichen Strahlungsbelastung ausgesetzt ist. Dadurch findet in einem optischen System eine geometrisch ungleichmäßige Verzerrung statt, welche sich im Gesamtobjektiv addiert. Diese Effekte führen beim Gebrauch somit zu einer starken Abnahme der erzielbaren Punktauflösung sowie der Abbildungsschärfe. Da heute aufgrund verbesserter Techniken solche Systeme längere Standzeiten aufweisen, erfolgt auch eine erhöhte Bestrahlungsdauer der optischen Elemente, wodurch deren energetische Belastung zunimmt und deren Anwendungsdauer, und damit deren Amortisation, bzw. rentabler Einsatz begrenzt wird, was wiederum zu erhöhten Kosten führt.
- Es ist bereits versucht worden, die optische Qualität, d. h. die Strahlungsdurchlässigkeit derartiger Glasmaterialien zu verbessern. So wird beispielsweise in der DE 9 73 350 ein optisches Silikatglas mit einer Brechzahl beschrieben, die bezogen auf die mittlere Streuung, bzw. den ν-Wert niedrig ist. Dabei sollen die Gläser eine hohe Dispersion aufweisen. Solche Gläser die für Negativlinsen gedacht sind, enthalten 5-30 Gew.-% Alkalioxide, 30-70 Gew.-% SiO2 und B2O3, sowie 0,15-35 Gew.-% Fluor, wobei bis zu 5 Gew.-% Erdalkalioxide und wenigstens einer der Stoffe AlO3, TiO2, Sb2O3, As2O3 und PbO enthalten sein müssen. Der Gehalt an Al2O3 und TiO2 darf dabei jeder für sich nicht mehr als 30 Gew.-%, der an PbO nicht mehr als 55 Gew.-%, der an Sb2O3 nicht mehr als 35 Gew.-% und der an As2O3 nicht mehr als 5 Prozent betragen. Soll dabei ein ν-Wert von größer 63.5 erhalten werden, so muss der Gehalt an Al2O3 + Sb2O3 + As2O3 größer als der Gehalt von B2O3 sein. Gemäß der Lehre von DE 973 350 wird der geringe Brechwert im Wesentlichen dadurch erreicht, dass eine hohe Menge an Fluorid zugesetzt wird, welche den Sauerstoff im Glasgefüge ersetzen soll.
- In der DE-A 26 03 450 werden optische Bleisilikatgläser mit einer hohen Durchlässigkeit im sichtbaren Spektralbereich beschrieben. Auch gemäß dieser Druckschrift werden die guten optischen Eigenschaften durch einen hohen Fluoridzusatz erreicht, womit eingeschleppte Verunreinigungen maskiert werden, welche die Lichttransmission vermindern.
- Die Erfindung hat daher zum Ziel die zuvor beschriebenen Nachteile bzw. Probleme des Standes der Technik zu überwinden. Dieses Ziel wird durch die in den Ansprüchen definierten Merkmale erreicht.
- Erfindungsgemäß wurde gefunden, dass sich mit einem Bleiglas, insbesondere einem Bleiflintglas, die erfindungsgemäßen Ziele erreichen lassen, wenn dieses 48-65 Gew.-% SiO2, 3-10 Gew.-% Na2O, 5-10 Gew.-% K2O, 20-40 Gew.-% PbO, sowie 0,001-1 Gew.-% As2O3 enthält und in der Schmelze bzw. im fertigen Glas As III und As V in einem Verhältnis S/E As IV und As V von mindestens 0,5 vorliegt. Dies ist z. B. dadurch erreichbar indem man dem Glas bzw. den Ausgangsmaterialien hierzu vor und/oder ggf. während der Schmelze eine Sb, Ti, Cu und/oder Fluoridquelle und/oder ein Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel zusetzt. Dabei soll der Gehalt an Sb2O3 5000 ppm nicht übersteigen, der Gehalt an TiO2 maximal 500 ppm, an CuO maximal 100 ppm, an Kohlenstoff-haltigen Reduktionsmitteln maximal 5000 ppm und an Fluor maximal 1000 ppm betragen. Erfindungsgemäß müssen darüber hinaus die zuvor genannten Substanzen folgende Bedingung erfüllen:
I Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 20 ppm und vorzugsweise
II Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.CuO + 10.Ti2O) ≥ 50 ppm.
- Oxidierende Schmelzen zeigen üblicherweise einen erhöhten Anteil an As V, wobei das Verhältnis von As III zu As V bei etwa 0,4 liegt. Bei üblichen nicht oxidierenden Schmelzen, d. h. ohne Sauerstoffzufuhr, beträgt das Verhältnis dagegen 0,45. Durch die Zugabe von Reduktionsmitteln läßt sich in der erfindungsgemäßen Glaszusammensetzung das Verhältnis problemlos auf 0,5 verschieben, wobei die Verschiebung direkt von der Menge bzw. Wirksamkeit des jeweiligen Reduktionsmittels abhängt, wie dies z. B. in der Summenformel II berücksichtigt ist. Bevorzugte Verhältnisse betragen mindestens 0,55, insbesondere mindestens 0,60, wobei mindestens 0,65 und insbesondere mindestens 0,70 besonders bevorzugt sind. Zweckmäßige Werte betragen etwa 0,75.
- Erfindungsgemäß wurde nämlich gefunden, dass unter Beachtung obiger Einstellungsregeln optische Gläser erhalten werden können, welche nicht nur hervorragende Eigenschaften bzgl. optischer und physikalischer Stabilität aufweisen, insbesondere gegenüber Solarisation und Kompaktierung, sondern die auch eine hervorragende innere Transmission aufweisen.
- Die zweite Summenformel II berücksichtigt, dass im erfindungsgemäßen Gemisch die einzelnen Komponenten unterschiedliche Wirkungsfaktoren bzgl. der Erreichung der Ziele zeigen. Danach ist beispielsweise Kupferoxid 50mal stärker wirksam als Zucker und/oder Antimonoxid. Fluor ist 5mal und Titanoxid 10mal wirksamer. Bei der obigen Formel ist außerdem zu beachten, dass die Fluorkonzentration sich auf das reine Fluoridion bezieht. Gemäß obiger Summenformel bedeutet dies, dass z. B. 10 Gramm Sb2O3 durch 2 Gramm Fluorid in einer Schmelze ersetzt werden können. Entsprechend ersetzen 10 Gramm Titanoxid ein Gramm Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel oder Sb2O3. Erfindungsgemäß ist es somit möglich auf hohe Fluoridanteile zu verzichten und fluoridarme oder auch fluoridfreie Gläser bereitzustellen.
- Erfindungsgemäß besonders bevorzugt ist ein SiO2-Gehalt von 50-63 Gew.-%. Ein bevorzugter Bereich für Natriumoxid beträgt 3,5-8 Gew.-% und ein bevorzugter Bereich für K2O beträgt 6-9,5 Gew.-%. Bevorzugte Bereiche für PbO betragen 23-26 Gew.-%. Der Gehalt an Sb2O3 beträgt vorzugsweise 0-3000 ppm, TiO2 0-200 ppm und CuO 0-100 ppm.
- Dabei beträgt der Mindestgehalt der läuteraktiven Mittel der ersten Summenformel I, d. h. Σ (As2O3, Sb2O3, F) vorzugsweise mindestens 50 ppm. Der maximale Gehalt beträgt vorzugsweise nicht mehr als 25 000 ppm, wobei 20 000 und insbesondere 15 000 bevorzugt sind. Besonders bevorzugt ist eine Obergrenze der Elemente der Summenformel I von 7000 ppm. Eine besonders bevorzugte Minimalkonzentration beträgt 100 ppm, wobei mindestens 200 ppm ganz besonders bevorzugt ist.
- Die Elemente der Summenformel II sind vorzugsweise in einer Konzentration von mindestens 100 ppm, insbesondere 200 ppm vorhanden, wobei 300 ppm besonders bevorzugt sind. Bevorzugte Obergrenzen hierfür betragen 20 000 ppm, wobei maximal 15 000 ppm und maximal 10 000 ppm besonders bevorzugt sind.
- Erfindungsgemäß hat sich ein Zusatz von mindestens 10 ppm Arsenoxid als besonders zweckmäßig erwiesen. Es hat sich nämlich gezeigt, dass sich so noch bessere Transmissionswerte erreichen lassen. Dabei wird Arsenoxid vorzugsweise als As2O3 in Gegenwart eines Arsen-oxidierenden Additivs, wie z. B. Natriumnitrit, welches beim Aufschmelzen Arsen III in das läuteraktive Arsen V-Oxid überführt. Eine bevorzugte Obergrenze für Sb2O3 beträgt 1200 ppm, insbesondere 1000 ppm. In vielen Fällen ist eine Obergrenze von 500 ppm zweckmäßig, wobei maximal 400 ppm und insbesondere 300 ppm Sb2O3 besonders bevorzugt sind. In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform ist das erfindungsgemäße Glas frei von Sb2O3.
- Die Obergrenze für TiO2 beträgt erfindungsgemäß 500 ppm, wobei 400 ppm und insbesondere 300 ppm bevorzugt sind. Ganz besonders bevorzugt sind maximal 200 ppm, insbesondere maximal 100 ppm TiO2 enthalten.
- CuO ist im erfindungsgemäßen Glas maximal zu 100 ppm enthalten, wobei maximal 80 ppm und maximal 50 ppm bevorzugt sind. Ganz besonders bevorzugt sind Obergrenzen von maximal 20 ppm und insbesondere maximal 10 ppm.
- Es wurde nämlich erfindungsgemäß gefunden, dass sich die Solarisationsneigung durch den additiven Zusatz der erwähnten Dotierungsmittel, die in der Summenformel II zusammengefasst sind, hervorragend absenken lässt, wobei die vorangestellten Zahlen Faktoren für die Wirksamkeit der erfindungsgemäß eingesetzten Dotierungsmittel sind.
- Erfindungsgemäß wird Fluor zweckmäßigerweise als Fluorid zugesetzt, wobei als Kation üblicherweise (aber nicht notwendigerweise) ein ohnehin in der Schmelze vorliegendes Kation verwendet wird. Bevorzugte Fluoride sind NaF, LiF, KF, CaF2, MgF2 sowie ggf. auch Na2SiF6.
- Erfindungsgemäß bevorzugte Leichtflintgläser enthalten SiO2 in einer Menge von 50-56 insbesondere 51-54 Gew.-%, Na2O von 3,5-8, insbesondere 5-7,5 Gew.-%, K2O 6-9,5, insbesondere 5-8 Gew.-%, PbO 23-36 Gew.-%, insbesondere 30-36 Gew.-%, sowie 0-3 000 ppm Sb2O3, 0-200 ppm TiO2, 0-100 ppm CuO, wobei die Summe der Läutermittel ≥ 50 ppm und die Summe der Dotierungsmittel ≥ 100 ppm betragen soll.
- Werden erfindungsgemäß Doppel-Leichtflintgläser hergestellt, so beträgt die Menge 57-63 Gew.-%, insbesondere 59-63 Gew.-% SiO2, 3,5-8 Gew.-%, vorzugsweise 3,5-6 Gew.-% Na2O, 6-9,5 Gew.-%, insbesondere 6,5-9 Gew.-% K2O, 23-36 Gew.-%, insbesondere 23-30 Gew.-% PbO, sowie 0-3 000 ppm Sb2O3, 0-200 ppm TiO2, 0-100 ppm CuO, 0-500 ppm Zucker und 0-1 000 ppm F. Die Menge an läuteraktiven Mitteln gemäß Formel I beträgt hier ≥ 50 ppm und die Menge der Dotierungsmittel gemäß Formel II mindestens 1000 ppm.
- Im erfindungsgemäßen Glas können als Kohlenstoff-haltige Reduktionsmittel Graphit bzw. Kohle (auch in Form von Wannen, Wanneneinbauten, Tiegeln, Stäben, Elektroden, Rührern oder Teilen davon), Kohlenwasserstoffe, Fettsäuren, Dicarbonsäuren wie z. B. Oxalsäure, sowie insbesondere Zucker verwendet werden.
- Für das erfindungsgemäße Glas können sämtliche Zucker verwendet werden, sowie andere organische Substanzen, insbesondere Stickstoff und schwefelfreie organische Substanzen, insbesondere Polyhydroxy-Verbindungen. Besonders bevorzugte Zucker sind Mono-, Di- und/oder Polysaccharide, insbesondere solche mit der Summenformel C6H12O6. In einer besonderen Ausführungsform wird das erfindungsgemäße Glas unter einer Schutzgasatmosphäre, vorzugsweise unter Stickstoff, hergestellt.
- Die erfindungsgemäßen Gläser können ggf. noch geringe Mengen an Oxiden von Fe, Cr, Co, Ni, Mn, Ag und/oder V, einzeln oder in beliebiger Kombination und zwar vorzugsweise und unabhängig voneinander jeweils in einer Menge von ≤ 1000 ppm enthalten.
- Mit den erfindungsgemäßen Einstellungsregeln ist es möglich, klassische Bleisilikatgläser herzustellen, die leicht schmelzbar sind. Die Gläser sind außerdem leicht bearbeitbar und zeigen insbesondere Brechwerte von weniger als 1,6 speziell im bevorzugten Bereich von 1,5-1,6. Außerdem zeigen sie Abbé-Zahlen zwischen 40 und 50.
- Die Erfindung betrifft außerdem ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Glases. Dabei werden die entsprechenden Ausgangsmaterialien als Oxide und/oder Salze wie sie üblicherweise zur Glaserzeugung verwendet werden zusammen mit den anderen Glaszusätzen, insbesondere denjenigen der Summenformeln I und II, auf an sich bekannte Weise geschmolzen, geläutert und unter Abkühlung das gewünschte Glas erhalten, welches zu den optischen Elementen weiter verarbeitet wird. Dabei werden die Zusätze der Summenformeln üblicherweise bereits dem Ausgangsmaterial vor der Schmelze zugesetzt.
- Die erfindungsgemäßen optischen Gläser eignen sich besonders zur Herstellung von optischen Vorrichtungen, insbesondere Objektiven, Licht- und Bildleitern sowie zur Abbildung und Projektion, zur Mikrolithographie und auch für die Telekommunikation und optische Nachrichtentechnik.
- Sie sind daher besonders zur Herstellung von Linsen, Prismen, Lichtleitstäben, Glasfaserkabeln, optischen Fenstern, sowie optischen Komponenten für die Photolithographie, Steppern, Excimerlasern, Wafern, Computerchips, sowie integrierten Schaltungen und elektronischen Geräten, die solche Schaltungen und Chips enthalten, geeignet.
- Die Erfindung soll an dem folgenden Beispiel näher erläutert werden.
- Dazu wurden entsprechend die enthaltenen Substanzen als Karbonate und/oder Nitrate abgewogen, die Dotiermittel und das Basisläutermittel zugegeben und das Gemenge anschließend gut gemischt. Danach wurde das Glasgemenge bei ca. 1 350°C in einem kontinuierlichen Schmelzaggregat eingeschmolzen und danach bei 1 420°C geläutert und homogenisiert. Anschließend wurde das Glas bei einer Gusstemperatur von 1400°C durch Pressen oder Walzen verarbeitet, definiert abgekühlt und zu den gewünschten Dimensionen weiter verarbeitet. Die folgende Tabelle stellt ein Schmelzbeispiel für 100 kg berechnetes Glas dar, welches die Basis für die Tabellen 2 und 3 darstellt. Tabelle 1 Schmelzbeispiel für 100 kg berechnetes Glas
Tabelle 2 Ausführungsbeispiele siliziumdioixidarmer Gläser (in Gew.-%)
Tabelle 3 Ausführung siliziumdioxidreicher Gläser (in Gew.-%)
Claims (11)
1. Glas mit einer hohen inneren Transmission, sowie geringer
Neigung zu strahlungsbedingter physikalischer Kompaktierung
und geringer Neigung zur Solarisation enthaltend
48-65 Gew.-% SiO2,
3-10 Gew.-% Na2O3,
5-10 Gew.-% K2O,
20-40 Gew.-% PbO,
0,001-1 Gew.-% As2O3 + As2O5,
gekennzeichnet durcheinen Gehalt von
0-5000 ppm Sb2O3
0-500 ppm TiO2
0-100 ppm CuO
0-1000 ppm F, wobei
Σ (As2O3, As2O5, Sb2O3, F) ≥ 20 ppm und das Verhältnis von As III/As V mindestens 0,5 beträgt.
48-65 Gew.-% SiO2,
3-10 Gew.-% Na2O3,
5-10 Gew.-% K2O,
20-40 Gew.-% PbO,
0,001-1 Gew.-% As2O3 + As2O5,
gekennzeichnet durcheinen Gehalt von
0-5000 ppm Sb2O3
0-500 ppm TiO2
0-100 ppm CuO
0-1000 ppm F, wobei
Σ (As2O3, As2O5, Sb2O3, F) ≥ 20 ppm und das Verhältnis von As III/As V mindestens 0,5 beträgt.
2. Glas nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es
durch Einstellung des As III/As V-Verhältnisses mittels
0-5000 ppm Kohlenstoff-haltigen Reduktionsmitteln
erhältlich ist, wobei Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges
Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 50 ppm beträgt.
3. Glas nach Anspruch 1 oder 2 dadurch gekennzeichnet, dass
der Gehalt an
SiO2 50-63 Gew.-%
Na2O 3,5-8 Gew.-%
K2O 6-9,5 Gew.-%
PbO 23-36 Gew.-%
Sb2O3 0-3 000 ppm
TiO2 0-200 ppm beträgt,
wobei
Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 50 ppm und
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 100 ppm beträgt.
Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 50 ppm und
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 100 ppm beträgt.
4. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass
Σ (As2O3, Sb2O3, F) 50-7000 ppm beträgt.
Σ (As2O3, Sb2O3, F) 50-7000 ppm beträgt.
5. Glas nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) 50-10000 ppm beträgt.
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) 50-10000 ppm beträgt.
6. Glas nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Menge an Sb2O3 ≤ 1000 ppm, an Titanoxid
≤ 400 ppm und/oder an Kupferoxid ≤ 80 ppm beträgt.
7. Glas nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass es ein Leichtflintglas ist und der Gehalt an
SiO2 50-56 Gew.-%,
Na2O 3,5-8 Gew.-%
K2O 6-9,5 Gew.-%
PbO 23-36 Gew.-%
Sb2O3 30-3000 ppm
TiO2 0-200 ppm beträgt,
wobei
Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 50 ppm und
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 100 ppm beträgt.
Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 50 ppm und
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 100 ppm beträgt.
8. Glas nach einem der Ansprüche 1-6, dadurch
gekennzeichnet, dass es ein Doppel-Leichtflintglas ist mit der
Zusammensetzung
SiO2 57-63 Gew.-%
Na2O 3,5-8 Gew.-%
K2O 6-9,5 Gew.-%
PbO 23-36 Gew.-%
Sb2O3 0-3000 ppm
TiO2 0-200 ppm,
wobei
Σ (As2O3, Sb2O3, f) ≥ 50 ppm und
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 100 ppm beträgt.
Σ (As2O3, Sb2O3, f) ≥ 50 ppm und
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 100 ppm beträgt.
9. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass es Oxide von Fe, Cr, Co, Ni, Mn, Ag
und/oder V in einer Menge von jeweils ≤ 1 000 ppm enthält.
10. Verfahren zur Herstellung von Glas mit einer hohen
inneren Transmission, sowie geringer Neigung zu
strahlungsbedingter physikalischer Kompaktierung und geringer Neigung
zur Solarisation durch Ausbilden einer Schmelze von 48-65 Gew.-%
SiO2, 3-10 Gew.-% Na2O3, 5-10 Gew.-% K2O, 20-40 Gew.-%
PbO, 0,001-1 Gew.-% As2O3, dadurch gekennzeichnet,
dass der Gehalt von Sb2O3 0-5000 ppm, TiO2 0-500 ppm, CuO
0-100 ppm, F 0-1000 ppm beträgt und 0-5000 ppm
Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel zugesetzt wird, wobei
Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 20 ppm und
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 50 ppm und
das Verhältnis von As III/As V mindestens 0,5 beträgt.
Σ (As2O3, Sb2O3, F) ≥ 20 ppm und
Σ (Sb2O3 + 5.F + Kohlenstoff-haltiges Reduktionsmittel + 50.Cu + 10.TiO2) ≥ 50 ppm und
das Verhältnis von As III/As V mindestens 0,5 beträgt.
11. Verwendung von Gläsern nach einem der Ansprüche 1-8
zur Herstellung von Linsen, Prismen, Lichtleitstäben,
optischen Fenstern, sowie optischen Komponenten für die
Photolithographie, Steppern, Excimerlasern, Wafern, Computerchips,
sowie integrierten Schaltungen und elektronischen Geräten,
die solche Schaltungen und Chips enthalten, sowie für die
Telekommunikation und Informationsübertragung.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2002107732 DE10207732B4 (de) | 2002-02-22 | 2002-02-22 | Glas mit deutlich verbesserter Stabilität gegen Strahlenbeschädigungen, ein Verfahren zu seiner Herstellung sowie seine Verwendung |
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- 2002-02-22 DE DE2002107732 patent/DE10207732B4/de not_active Expired - Lifetime
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