DE102018114073A1 - Anzeigevorrichtung und verfahren zum herstellen derselben - Google Patents

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Hyangmyoung GWON
Byonghoo Kim
Sangheun LEE
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Abstract

Eine Anzeigevorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen derselben sind offenbart, die verhindern können, dass ein Riss auf einem anorganischen Film, der einen Verkapselungsfilm bildet, auftritt und verhindern, dass ein Filmrest auftritt. Die Anzeigevorrichtung weist ein Substrat (111) mit einem Anzeigebereich (DA), auf dem ein Pixelbereich angeordnet ist, und einen Nicht-Anzeigebereich (NDA), der den Anzeigebereich (DA) umgibt; einen Verkapselungsfilm (280), der den Anzeigebereich (DA) bedeckt und einen organischen Film (282) enthält; einen ersten Damm (DAM, DAM1), der so angeordnet ist, dass er in Kontakt mit dem Verkapselungsfilm (280) steht, mit einer zweiten Seite, die eine gegenüberliegende Seite einer ersten Seite (S1), die dem organischen Film (282) zugewandt ist, ist und eine Neigung kleiner als 90° aufweist; und eine Metall-Struktur, die strukturiert auf dem ersten Damm (DAM, DAM1) gebildet ist, auf.

Description

  • QUERVERWEIS AUF VERWANDTE ANMELDUNG
  • Diese Anmeldung beansprucht die Priorität der am 14. Juni 2017 eingereichten koreanischen Patentanmeldung Nr. 10-2017-0074614 .
  • HINTERGRUND
  • Gebiet der Offenbarung
  • Die vorliegende Offenbarung betrifft eine Anzeigevorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen derselben.
  • Beschreibung des Hintergrundes
  • Mit dem Fortschreiten des Informationszeitalters hat eine Nachfrage nach einer Anzeigevorrichtung zum Anzeigen eines Bildes in verschiedenen Formen zugenommen. Daher wurden verschiedene Anzeigevorrichtungen, wie z. B. Flüssigkristallanzeige- (LCD) Vorrichtungen, Plasmaanzeigepanel- (PDP) Vorrichtungen und organische lichtemittierende Anzeige (OLED) Vorrichtungen verwendet.
  • Unter den Anzeigevorrichtungen ist die organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung eine selbstlichtemittierende Vorrichtung und hat insofern Vorteile, als ein Betrachtungswinkel und ein Kontrastverhältnis größer als diejenigen der Flüssigkristallanzeige (LCD) -Vorrichtungen sind. Da die organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung kein separates Hintergrundlicht benötigt, ist es auch vorteilhaft, dass die organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung dünn und leicht hergestellt werden kann und einen geringen Energieverbrauch aufweist. Ferner weist die organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung Vorteile dahingehend auf, dass sie bei einer niedrigen Gleichspannung betrieben werden kann, eine schnelle Reaktionsgeschwindigkeit aufweist und insbesondere geringe Herstellungskosten aufweist.
  • Die organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung enthält jedoch Pixel, von denen jedes eine organische Leuchtdiode enthält, und hat einen Nachteil, dass die organische Leuchtdiode durch äußere Faktoren, wie etwa externes Wasser und Sauerstoff, leicht verschlechtert werden kann. Um dies zu verhindern, weist die organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung einen Verkapselungsfilm auf, um zu verhindern, dass externes Wasser und Sauerstoff in die organische Leuchtdiode eindringen.
  • Der Verkapselungsfilm weist mindestens einen anorganischen Film und mindestens einen organischen Film auf, um zu verhindern, dass Sauerstoff oder Wasser in eine organische lichtemittierende Schicht und eine Elektrode eindringen Zu diesem Zeitpunkt weist mindestens ein organischer Film im Allgemeinen eine Polymerschicht auf und wird durch einen Härtungsprozess gebildet, nachdem er auf das Substrat in einem flüssigen Zustand aufgebracht wurde. Da ein solcher organischer Film bis zum Ausführen des Härtungsprozesses flexibel ist, kann das Problem auftreten, dass der organische Film außerhalb eines Bereichs überlaufen kann, in dem der Verkapselungsfilm ausgebildet werden soll. Um dieses Problem zu lösen, ist entlang der Außenseite der organischen Leuchtdiode ein Damm zum Blockieren eines Flusses des organischen Films ausgebildet.
  • Wenn ein Damm wie oben gebildet wird, weist die organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung eine unebene abzuscheidende Oberfläche auf, da durch den Damm eine Stufendifferenz erzeugt wird. Wenn daher eine andere Schicht auf dem Damm abgeschieden wird, können andere Probleme wie folgt auftreten.
  • Zuallererst tritt in dem Fall, dass der anorganische Film, der die Verkapselungsschicht bildet, auf dem Damm abgeschieden wird, ein Problem dahingehend auf, dass es schwierig ist, den anorganischen Film mit einer konstanten Dicke zu bilden. Insbesondere wird der anorganische Film in einem Bereich dünner ausgebildet, in dem das Substrat und der Damm miteinander in Kontakt stehen, wodurch ein Riss auftreten kann. Der Riss kann sich durch einen externen Aufprall in das Innere des anorganischen Films ausbreiten, und Wasser und Sauerstoff, die entlang des ausgebreiteten Risses in das Innere eindringen, können einen dunklen Fleck und einen dunkle Linie-Fleck verursachen.
  • Auch in dem Fall, dass Metall-Struktur(en) auf dem Damm durch einen Prozess unter Verwendung einer Fotoresist-Struktur gebildet werden, kann ein Problem dahingehend auftreten, dass Metall-Struktur(en) nicht vollständig aus dem Bereich entfernt werden, wo Metall entfernt werden sollte und somit als Filmrest verbleibt.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Dementsprechend ist die vorliegende Offenbarung auf eine Anzeigevorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen derselben gerichtet, die im Wesentlichen eines oder mehrere Probleme aufgrund von Einschränkungen und Nachteilen des Stands der Technik vermeiden.
  • Insbesondere soll die vorliegende Offenbarung eine Anzeigevorrichtung bereitstellen, die verhindern kann, dass ein Filmrest auftritt, und ein Verfahren zum Herstellen desselben.
  • Ferner soll die vorliegende Offenbarung eine Anzeigevorrichtung bereitstellen, die verhindern kann, dass ein Riss auf einem anorganischen Film auftritt, der einen Verkapselungsfilm bildet, und ein Verfahren zum Herstellen desselben.
  • Zusätzliche Vorteile und Merkmale der Offenbarung werden zum Teil in der folgenden Beschreibung dargelegt und zum Teil für den Durchschnittsfachmann auf dem Gebiet bei der Untersuchung des Folgenden ersichtlich oder können aus der Praxis der Offenbarung erfahren werden. Die Ziele und andere Vorteile der Offenbarung können durch die Struktur realisiert und erreicht werden, die insbesondere in der schriftlichen Beschreibung und den Ansprüchen sowie den beigefügten Zeichnungen dargelegt ist.
  • Die vorliegende Offenbarung stellt eine Anzeigevorrichtung gemäß Anspruch 1, ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung gemäß Anspruch 11 und eine Anzeigevorrichtung gemäß Anspruch 17 bereit. Weitere Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben. Eine Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung weist auf: ein Substrat mit einem Anzeigebereich, auf dem ein Pixelbereich angeordnet ist, und einem Nicht-Anzeigebereich, der den Anzeigebereich umgibt; einen Verkapselungsfilm, der den Anzeigebereich bedeckt und einen organischen Film enthält; einen ersten Damm, der so angeordnet ist, dass er in Kontakt mit dem Verkapselungsfilm steht und erste und zweite Seiten aufweist, die gegenüberliegende Seiten sind, wobei die erste Seite dem Verkapselungsfilm zugewandt ist und eine Neigung von weniger als 90° aufweist; und eine Metall-Struktur, die auf dem ersten Damm ausgebildet ist.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen umgibt der erste Damm den organischen Film.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen hat die zweite Seitenfläche des ersten Damms in Bezug auf das Substrat eine Neigung, die gleich oder kleiner als 45° ist.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist jede der ersten Seitenfläche und der zweiten Seitenfläche des ersten Damms eine Neigung in Bezug auf das Substrat von gleich oder kleiner als 90° auf, und die zweite Seitenfläche weist eine Neigung auf, die kleiner ist als die der erste Seitenfläche.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist die Anzeigevorrichtung ferner einen zweiten Damm, der außerhalb des ersten Damms angeordnet ist, auf.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist der zweite Damm dritte und vierte Seitenflächen auf, wobei die dritte Seitenfläche dem ersten Damm zugewandt ist und eine gegenüberliegende Seite der vierten Seitenfläche ist, und die zweite Seitenfläche und die dritte Seitenfläche sind voneinander beabstandet und haben eine Neigung in Bezug auf das Substrat von gleich oder kleiner als 45°.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen hat die vierte Seitenfläche eine Neigung, die kleiner ist als jene der ersten bis dritten Seitenfläche.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist die Anzeigevorrichtung ferner erste Berührungselektroden und zweite Berührungselektroden auf, die auf dem Verkapselungsfilm angeordnet sind, wobei sich die Metall-Struktur von zumindest einer der ersten Berührungselektroden und der zweiten Berührungselektroden erstreckt.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist die Anzeigevorrichtung ferner Brückenelektroden auf, die die zweiten Berührungselektroden elektrisch mit den ersten Berührungselektroden verbinden, die von den zweiten Berührungselektroden auf der gleichen Schicht beabstandet sind.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist der Verkapselungsfilm ferner einen anorganischen Film auf, der den organischen Film und den ersten Damm bedeckt.
  • Ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Offenbarung weist die Schritte auf: Bilden eines Substrats mit einem Anzeigebereich, auf dem ein Pixelbereich angeordnet ist, und einem Nicht-Anzeigebereich, der den Anzeigebereich umgibt; Bilden eines Damms, der mindestens eine Seite des Nicht-Anzeigebereichs mit einer Neigung enthält; Bilden eines organischen Films innerhalb des Damms, um den Anzeigebereich zu bedecken; und Bilden einer ersten Berührungselektrode und einer zweiten Berührungselektrode auf dem organischen Film und dem Damm.
  • Ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung mit einem Anzeigebereich und einem Nicht-Anzeigebereich eines Substrats gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Offenbarung weist auf: Bilden von Pixeln auf dem Anzeigebereich des Substrats; Bilden eines ersten Damms auf dem Nicht-Anzeigebereich des Substrats, wobei der erste Damm erste und zweite Seitenflächen aufweist und die erste Seitenfläche den Pixeln zugewandt ist und die zweite Seitenfläche eine Neigung in Bezug auf das Substrat aufweist, die kleiner als 90° ist; Bilden eines Verkapselungsfilms zum Bedecken des Anzeigebereichs; und Bilden von ersten Berührungselektroden und zweiten Berührungselektroden auf dem Verkapselungsfilm und dem ersten Damm.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen hat die zweite Seitenfläche des ersten Damms beim Bilden des ersten Damms durch einen Belichtungsprozess unter Verwendung einer Halbtonmaske oder einer Schlitzmaske eine Neigung in Bezug auf das Substrat von weniger als 90°.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist die zweite Seitenfläche des ersten Damms beim Bilden des ersten Damms eine Neigung in Bezug auf das Substrat auf, die kleiner als oder gleich 45° ist.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist das Bilden des ersten Damms ferner das Bilden eines zweiten Damms außerhalb des ersten Damms auf.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen ist die zweite Seitenfläche des ersten Damms beim Bilden des ersten Damms dem zweiten Damm zugewandt und eine dritte Seitenfläche des zweiten Damms ist dem ersten Damm zugewandt, und die zweite und dritte Seitenfläche sind voneinander beabstandet und haben eine Neigung in Bezug auf das Substrat kleiner oder gleich 45°.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist das Bilden des Verkapselungsfilms auf: Bilden eines organischen Films zum Bedecken des Anzeigebereichs; und Bilden eines anorganischen Films, um den organischen Film und den ersten Damm zu bedecken.
  • Eine Anzeigevorrichtung mit einem Anzeigebereich, in dem eine Vielzahl von Pixeln angeordnet ist, und einem Nicht-Anzeigebereich, der den Anzeigebereich auf einem Substrat umgibt, weist gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Offenbarung auf: einen Verkapselungsfilm, der den Anzeigebereich bedeckt und einen organischen Film und einen anorganischen Film, der den organischen Film bedeckt, aufweist; eine Vielzahl von ersten Berührungselektroden und zweiten Berührungselektroden, die voneinander beabstandet sind und auf dem Verkapselungsfilm angeordnet sind; eine Vielzahl von Brückenelektroden, die die Vielzahl von ersten Berührungselektroden und zweiten Berührungselektroden verbindet; einen ersten Damm, der den Verkapselungsfilm im Nicht-Anzeigebereich kontaktiert und erste und zweite Seitenflächen aufweist, wobei die erste Seitenfläche dem Verkapselungsfilm zugewandt ist und die zweite Seitenfläche eine Neigung in Bezug auf das Substrat aufweist, die kleiner ist als die der ersten Seitenfläche; und eine Metall-Struktur, die auf dem ersten Damm angeordnet ist und sich von mindestens einer der Vielzahl der ersten Berührungselektroden und der zweiten Berührungselektroden erstreckt.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen umgibt der erste Damm den organischen Film.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen hat die zweite Seitenfläche des ersten Damms eine Neigung in Bezug auf das Substrat, die gleich oder kleiner als 45° ist.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen hat sowohl die erste Seitenfläche als auch die zweite Seitenfläche des ersten Damms eine Neigung in Bezug auf das Substrat, die gleich oder kleiner als 90° ist.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist die Anzeigevorrichtung ferner einen zweiten Damm auf, der außerhalb des ersten Damms angeordnet ist.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen weist der zweite Damm dritte und vierte Seitenflächen auf, wobei die dritte Seitenfläche dem ersten Damm zugewandt ist und eine gegenüberliegende Seite der vierten Seitenfläche ist, und die zweite Seitenfläche und die dritte Seitenfläche voneinander beabstandet sind und eine Neigung in Bezug auf das Substrat gleich oder kleiner als 45° haben.
  • In einer oder mehreren Ausführungsformen hat die vierte Seitenfläche eine Neigung in Bezug auf das Substrat, die kleiner ist als jene der ersten bis dritten Seitenfläche.
  • Es versteht sich, dass sowohl die vorangehende allgemeine Beschreibung als auch die folgende detaillierte Beschreibung der vorliegenden Offenbarung beispielhaft und erläuternd sind und eine weitere Erläuterung der beanspruchten Offenbarung bereitstellen sollen.
  • Figurenliste
  • Die beigefügten Zeichnungen sind enthalten, um ein weiteres Verständnis der Offenbarung bereitzustellen, und sind in diese Anmeldung integriert und stellen einen Teil davon dar, veranschaulichen Aspekte der Offenbarung und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu, das Prinzip der Offenbarung zu erläutern.
  • In den Zeichnungen zeigen:
    • 1 eine perspektivische Ansicht, die eine Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung veranschaulicht;
    • 2 eine Blockansicht, die eine Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung knapp veranschaulicht;
    • 3 eine Querschnittsansicht, die eine Seite eines Anzeigepanels in 1 knapp veranschaulicht;
    • 4 eine Draufsicht, die ein erstes Substrat gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung knapp veranschaulicht;
    • 5 eine Draufsicht, die eine Berührungserfassungsschicht veranschaulicht, die in 4 auf dem ersten Substrat angeordnet ist;
    • 6 eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel entlang der Linie I-I' von 5 veranschaulicht;
    • 7 eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel eines Damms zeigt;
    • 8 eine Querschnittsansicht, die ein anderes Beispiel eines Damms zeigt;
    • 9 eine Querschnittsansicht, die ein anderes Beispiel eines Damms veranschaulicht;
    • 10 eine Draufsicht, die ein erstes Substrat gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Offenbarung knapp veranschaulicht;
    • 11 eine Draufsicht, die eine Berührungserfassungsschicht veranschaulicht, die auf dem ersten Substrat in 10 angeordnet ist;
    • 12 eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel entlang der Linie II-II' von 10 veranschaulicht.
    • 13 eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel von ersten und zweiten Dämmen veranschaulicht;
    • 14 eine Querschnittsansicht, die ein anderes Beispiel von ersten und zweiten Dämmen veranschaulicht;
    • 15 eine Querschnittsansicht, die ein anderes Beispiel von ersten und zweiten Dämmen veranschaulicht;
    • 16 ein Flussdiagramm, das ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung veranschaulicht; und
    • 17A bis 17E Querschnittsansichten, die ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung veranschaulichen.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER OFFENBARUNG
  • Vorteile und Merkmale der vorliegenden Offenbarung und Implementierungsverfahren davon werden durch die folgenden Aspekte verdeutlicht, die mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben werden. Die vorliegende Offenbarung kann jedoch in verschiedenen Formen verkörpert sein und sollte nicht so ausgelegt werden, dass sie auf die hierin dargelegten Aspekte beschränkt ist. Vielmehr werden diese Aspekte bereitgestellt, so dass diese Offenbarung gründlich und vollständig ist und den Umfang der vorliegenden Offenbarung dem Fachmann vollständig vermittelt. Ferner ist die vorliegende Offenbarung nur durch den Umfang der Ansprüche definiert.
  • Eine Form, eine Größe, ein Verhältnis, ein Winkel und eine Anzahl, die in den Zeichnungen zum Beschreiben von Aspekten der vorliegenden Offenbarung offenbart sind, sind lediglich ein Beispiel, und daher ist die vorliegende Offenbarung nicht auf die dargestellten Details beschränkt. Gleiche Bezugszeichen beziehen sich auf gleiche Elemente in der gesamten Beschreibung. In der folgenden Beschreibung wird, wenn ersichtlich ist, dass die detaillierte Beschreibung der relevanten bekannten Funktion oder Konfiguration den wichtigen Punkt der vorliegenden Offenbarung unnötigerweise verschleiert, die detaillierte Beschreibung weggelassen.
  • In einem Fall, in dem „aufweisen“, „haben“ und „enthalten“ verwendet werden, die in der vorliegenden Beschreibung beschrieben sind, kann ein anderer Teil hinzugefügt werden, sofern nicht „nur“ verwendet wird. Die Ausdrücke einer Singularform können Pluralformen aufweisen, sofern nicht anders angegeben.
  • Beim Konstruieren eines Elements wird das Element so interpretiert, dass es einen Fehlerbereich enthält, obwohl es keine explizite Beschreibung gibt.
  • Bei der Beschreibung einer Positionsbeziehung, beispielsweise wenn die Positionsbeziehung als „nach-“, „über-“, „unter-“ und „neben-“ beschrieben wird, können ein oder mehrere Teile zwischen zwei anderen Teilen angeordnet sein, es sei denn, „nur“ oder „direkt“ wird verwendet.
  • Bei der Beschreibung einer Zeitbeziehung, beispielsweise wenn die zeitliche Reihenfolge als „nach“, „nachfolgend“, „danach“ und „davor“ beschrieben wird, kann ein Fall, der nicht kontinuierlich ist, eingeschlossen werden, es sei denn „nur“ oder „direkt“ wird verwendet.
  • Es versteht sich, dass, obwohl die Begriffe „erster“, „zweiter“ usw. hierin zur Beschreibung verschiedener Elemente verwendet werden können, dass diese Elemente nicht durch diese Begriffe beschränkt sein sollten. Diese Begriffe werden nur verwendet, um ein Element von einem anderen Element zu unterscheiden. Zum Beispiel könnte ein erstes Element als ein zweites Element bezeichnet werden, und in ähnlicher Weise könnte ein zweites Element als ein erstes Element bezeichnet werden, ohne den Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung zu verlassen.
  • „X-Achsenrichtung“, „Y-Achsenrichtung“ und „Z-Achsenrichtung“ sollten nicht durch eine geometrische Beziehung nur einer gegenseitigen vertikalen Beziehung aufgefasst werden und können eine breitere Direktionalität in dem Bereich aufweisen, sodass Elemente der vorliegenden Offenbarung funktional wirken können.
  • Der Begriff „mindestens einer“ sollte so verstanden werden, dass er jede und alle Kombinationen von einem oder mehreren der zugeordneten aufgelisteten Elemente enthält. Zum Beispiel bezeichnet die Bedeutung „wenigstens eines von einem ersten Element, einem zweiten Element und einem dritten Element“ die Kombination aller Elemente, die von zwei oder mehr von dem ersten Element, dem zweiten Element und dem dritten Element vorgeschlagen werden ebenso wie das erste Element, das zweite Element oder das dritte Element.
  • Merkmale von verschiedenen Aspekten der vorliegenden Offenbarung können teilweise oder insgesamt miteinander gekoppelt oder kombiniert sein und können verschiedenartig miteinander verknüpft sein und technisch betrieben werden, wie der Fachmann auf dem Gebiet ausreichend verstehen kann. Die Aspekte der vorliegenden Offenbarung können unabhängig voneinander ausgeführt werden oder können in einer Co-abhängigen Beziehung zusammen ausgeführt werden.
  • Nachstehend werden die bevorzugten Aspekte der vorliegenden Offenbarung im Detail unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben.
  • 1 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung veranschaulicht. 2 ist eine Blockansicht, die eine Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung veranschaulicht.
  • Bezugnehmend auf 1 und 2 weist die Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung ein Anzeigepanel 110, einen Abtast-Treiber 120, einen Daten-Treiber 130, eine Zeitpunkt-Steuereinheit 160, ein Host-System 170, einen Berührungs-Treiber 180 und einen Berührungskoordinate-Rechner 190 auf.
  • Die Anzeigevorrichtung mit eingebautem Berührungsbildschirm gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann als eine Flachpanel-Anzeigevorrichtung, wie z. B. eine Flüssigkristallanzeige (LCD), eine Feldemissionsanzeige (FED), ein Plasmaanzeigepanel (PDP), ein organisches lichtemittierendes Display (OLED) und ein Elektrophorese-Display (EPD), realisiert sein. Nachstehend wird die Anzeigevorrichtung mit eingebautem Berührungsbildschirm gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung als eine organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung realisiert, ist aber nicht darauf beschränkt.
  • Das Anzeigepanel 110 weist einen Anzeigebereich auf, auf dem Pixel P angeordnet sind, um ein Bild anzuzeigen. Auf dem Anzeigebereich 110 sind Daten-Leitungen D1 bis Dm (m ist eine positive ganze Zahl von 2 oder mehr) und Abtast-Leitungen S1 bis Sn (n ist eine positive ganze Zahl von 2 oder mehr) gebildet. Die Daten-Leitungen D1 bis Dm können so ausgebildet sein, dass sie die Abtast-Leitungen S1 bis Sn kreuzen. Die Pixel P können auf dem Gebiet gebildet sein, das durch eine gekreuzte Struktur der Gate-Leitungen und Daten-Leitungen definiert ist.
  • Jedes der Pixel P der Anzeigepanel 110 kann mit irgendeiner der Daten-Leitungen D1 bis Dm und irgendeiner der Abtast-Leitungen S1 bis Sn verbunden sein. Jedes der Pixel P des Anzeigepanels 110 kann einen Treiber-Transistor zum Steuern eines Drain-Source-Stroms in Übereinstimmung mit einer an eine Gate-Elektrode angelegten Daten-Spannung, einen von einem Abtast-Signal der Abtast-Leitung eingeschalteten Abtast-Transistor, zum Zuführen einer Daten-Spannung der Daten-Leitung an die Gate-Elektrode des Treiber-Transistors, eine organische Leuchtdiode zum Emittieren von Licht entsprechend dem Drain-Source-Strom des Treiber-Transistors und einen Kondensator zum Speichern einer Spannung der Gate-Elektrode des Treiber-Transistors, aufweisen. Daher kann jedes der Pixel P Licht entsprechend dem Strom emittieren, der der organischen Leuchtdiode zugeführt wird.
  • Der Abtast-Treiber 120 empfängt ein Abtast-Steuersignal GCS von die Zeitpunkt-Steuereinheit 160. Der Abtast-Treiber 120 führt Abtast-Signale an die Abtast-Leitungen S1-Sn in Übereinstimmung mit dem Abtast-Steuersignal GCS zu.
  • Der Abtast-Treiber 120 kann in einem Nicht-Anzeigebereich außerhalb einer Seite oder beider Seiten eines Anzeigebereichs des Anzeigepanels 110 in einem GIP (Gate-Treiber im Panel)-Modus ausgebildet sein. Alternativ ist der Abtast-Treiber 120 aus einem Treiberchip hergestellt, der in einem flexiblen Film verpackt ist, und er kann an dem Nicht-Anzeigebereich außerhalb einer Seite oder an beiden Seiten des Anzeigebereichs des Anzeigepanels 110 in einem TAB (bandautomatisches Bonding) Modus angebracht sein.
  • Der Daten-Treiber 130 empfängt digitale Videodaten DATA und ein Daten-Steuersignal DCS von die Zeitpunkt-Steuereinheit 160. Der Daten-Treiber 130 wandelt die digitalen Videodaten DATA in eine analoge Daten-Spannung positiver/negativer Polarität gemäß der Daten-Steuersignal DCS um und führt sie den Daten-Leitungen zu. Das heißt, Pixel, denen die Daten-Spannungen zugeführt werden, werden durch die Abtast-Signale des Abtast-Treibers 120 ausgewählt, und die Daten-Spannungen werden den ausgewählten Pixeln zugeführt.
  • Der Daten-Treiber 130 kann mehrere Source-Treiber-ICs 131 aufweisen, wie in 1 gezeigt ist. Jeder der Vielzahl von Source-Ansteuer-ICs 131 kann in dem flexiblen Film 140 in einem COF- (Chip-on-Film) oder COP-Modus (Chip-auf-Kunststoff)-Modus verpackt sein. Der flexible Film 140 wird auf Pads angebracht, die auf dem Nicht-Anzeigebereich des Anzeigepanels 110 unter Verwendung eines anisotrop leitenden Films vorgesehen sind, wodurch die Source-Treiber-ICs 131 mit den Pads verbunden werden können.
  • Die Leiterplatte 150 kann an den flexiblen Filmen 140 angebracht sein. Eine Vielzahl von Schaltungen, die als Treiber-Chips realisiert sind, können auf die Leiterplatte 150 gepackt werden. Zum Beispiel kann die Zeitpunkt-Steuereinheit 160 auf der Leiterplatte 150 gepackt sein. Die Leiterplatte 150 kann eine gedruckte Leiterplatte oder eine flexible gedruckte Leiterplatte sein.
  • Die Zeitpunkt-Steuereinheit 160 empfängt digitale Videodaten DATA und Zeitpunkt-Signale von dem Host-System 170. Die Zeitpunkt-Signale können ein vertikales Synchronisationssignal, ein horizontales Synchronisationssignal, ein Datenfreigabesignal und einen Punkttakt aufweisen. Das vertikale Synchronisationssignal ist ein Signal, das eine Frame-Periode definiert. Das horizontale Synchronisationssignal ist ein Signal, das eine horizontale Periode definiert, die benötigt wird, um die Daten-Spannungen an Pixel einer horizontalen Leitung des Anzeigepanels DIS zu zuführen. Das Datenfreigabesignal ist ein Signal, das eine Periode zum Eingeben verfügbarer Daten definiert. Der Punkttakt ist ein Signal, das mit einer vorbestimmten kurzen Periode wiederholt wird.
  • Um die Betriebszeitpunkte des Abtast-Treibers 120 und des Daten-Treibers 130 zu steuern, erzeugt die Zeitpunkt-Steuereinheit 160 ein Daten-Steuersignal DCS zum Steuern des Betriebszeitpunktes des Daten-Treibers 130 und ein Abtast-Steuersignal GCS zum Steuern des Betriebszeitpunktes des Daten-Treibers 130 basierend auf den Zeitpunkt-Signalen. Die Zeitpunkt-Steuereinheit 160 gibt das Abtast-Steuersignal GCS an den Abtast-Treiber 120 aus und gibt die digitalen Videodaten DATA und das Daten-Steuersignal DCS an den Daten-Treiber 130 aus.
  • Das Host-System 170 kann als ein Navigationssystem, eine Set-Top-Box, ein DVD-Player, ein Blu-ray-Player, ein Personalcomputer (PC), ein Heimkinosystem, ein Rundfunkempfänger und ein Telefonsystem realisiert sein. Das Host-System 170 enthält SoC (System-on-Chip), das mit einem Skalierer ausgestattet ist und die digitalen Videodaten eines eingegebenen Bildes in ein Format umwandelt, das zum Anzeigen des Anzeigepanels 110 geeignet ist. Das Host-System 170 überträgt die digitalen Videodaten DATA und die Zeitpunkt-Signale an die Zeitpunkt-Steuereinheit 160.
  • Auf dem Anzeigepanel 110 können nicht nur die Daten-Leitungen D1 bis Dm und die Abtast-Leitungen S1 bis Sn, sondern auch die ersten und die zweiten Berührungselektroden gebildet sein. Die ersten Berührungselektroden können so ausgebildet sein, dass sie die zweiten Berührungselektroden kreuzen. Die ersten Berührungselektroden können mit einem ersten Berührungs-Treiber 181 durch erste Berührungs-Leitungen T1 bis Tj verbunden sein, wobei j eine ganze Zahl gleich oder größer als 2 ist. Die zweiten Berührungselektroden können durch zweite Berührungs-Leitungen R1 bis Ri mit dem zweiten Berührungs-Treiber 182 verbunden sein, wobei i eine ganze Zahl gleich oder größer als 2 ist. An jedem der Schnittpunkte zwischen den ersten Berührungselektroden und den zweiten Berührungselektroden kann ein Berührungssensor gebildet sein. Der Berührungssensor gemäß dem Aspekt der vorliegenden Offenbarung ist als eine gegenseitige Kapazität realisiert, ist jedoch nicht darauf beschränkt. Die ersten und die zweiten Berührungselektroden werden später unter Bezugnahme auf 5 detaillierter beschrieben.
  • Der Berührungs-Treiber 180 führt den ersten Berührungselektroden durch die ersten Berührungs-Leitungen T1 bis Tj einen Ansteuerpuls zu und tastet die Ladungsänderungen in jedem der Berührungssensoren durch die zweiten Berührungs-Leitungen R1 bis Ri ab. Das heißt, in FIG. In 2 wird eine Beschreibung basierend darauf gegeben, dass die ersten Berührungs-Leitungen T1 bis Tj Tx-Leitungen zum Zuführen eines Ansteuerpulses sind und die zweiten Berührungs-Leitungen R1 bis Ri Rx-Leitungen zum Erfassen der Menge an Ladungsänderungen in jedem der Berührungssensoren sind.
  • Der Berührungs-Treiber 40 weist den ersten Berührungs-Treiber 181, den zweiten Berührungs-Treiber 182 und die Berührungs-Steuereinheit 183 auf. Der erste Berührungs-Treiber 181, der zweite Berührungs-Treiber 182 und die Berührungs-Steuereinheit 183 können in einem ROIC (Auslese-IC) integriert sein.
  • Der erste Berührungs-Treiber 181 wählt die erste Berührungs-Leitung aus, um einen Steuerpuls unter der Steuerung der Berührungs-Steuereinheit 183 auszugeben, und liefert den Steuerpuls an die ausgewählte erste Berührungs-Leitung. Zum Beispiel kann der erste Berührungs-Treiber 181 sequentiell Ansteuerpulse an die ersten Berührungs-Leitungen T1 bis Tj zuführen.
  • Der zweite Berührungs-Treiber 182 wählt die zweiten Berührungs-Leitungen aus, um die Ladungsänderungen in den Berührungssensoren unter der Steuerung der Berührungs-Steuereinheit 183 zu empfangen, und er empfängt die Ladungsänderungen in den Berührungssensoren durch die ausgewählten zweiten Berührungs-Leitungen. Der zweite Berührungs-Treiber 182 wandelt die Menge an Ladungsänderungen in den Berührungssensoren, die durch die zweiten Berührungs-Leitungen R1 bis Ri empfangen werden, um Rohdaten TRD, die digitale Daten sind, durch Abtasten der Ladungsänderungen in den Berührungssensoren um.
  • Die Berührungs-Steuereinheit 183 kann ein Tx-Setup-Signal in dem ersten Berührungs-Treiber 181 erzeugen, um die erste Berührungs-Leitung, auf die der Ansteuerpuls auszugeben ist, einzurichten und ein Rx-Setup-Signal in der zweiten Berührungs-Leitung, um die zweite Berührungs-Leitung, in der eine Berührungssensor-Spannung empfangen werden soll, einzurichten. Außerdem erzeugt der Berührungs-Steuereinheit 183 Zeitpunkt-Steuersignale zum Steuern von Betriebszeitpunkten des ersten Berührungs-Treibers 181 und des zweiten Berührungs-Treibers 182.
  • Der Berührungskoordinate-Rechner 190 empfängt Berührungsrohdaten TRD von dem Berührungs-Treiber 180. Der Berührungskoordinate-Rechner 190 berechnet Berührungskoordinaten gemäß einem Berührungskoordinaten-Berechnungsverfahren und gibt Berührungskoordinaten-Daten HIDxy einschließlich Informationen der Berührungskoordinaten an das Hostsystem 170 aus.
  • Der Berührungskoordinate-Rechner 190 kann als eine Mikro-Steuereinheit-Einheit (MCU) realisiert sein. Das Host-System 170 analysiert Berührungskoordinaten-Daten HIDxy, die von dem Berührungskoordinate-Rechner 190 eingegeben werden, und führt ein Anwendungsprogramm aus, das mit einer Koordinate verbunden ist, wo eine Berührung durch einen Benutzer erzeugt wird. Das Host-System 170 überträgt die digitalen Videodaten DATA und die Zeitsteuersignale an die Zeitpunkt-Steuereinheit 160 in Übereinstimmung mit dem ausgeführten Anwendungsprogramm.
  • Der Berührungs-Treiber 180 kann in den Source-Treiber-ICs 131 enthalten sein oder kann aus einem separaten Treiberchip hergestellt sein und auf die Leiterplatte 150 gepackt sein. Der Berührungskoordinate-Rechner 190 kann auch aus einem Treiberchip hergestellt sein und auf die Leiterplatte 150 gepackt sein.
  • 3 ist eine Querschnittsansicht, die eine Seite eines Anzeigepanels in 1 knapp veranschaulicht.
  • Bezugnehmend auf 3 kann das Anzeigepanel 110 ein erstes Substrat 111, ein zweites Substrat 112, eine zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat 111 und 112 angeordnete Dünnfilmtransistorschicht 10, eine organische Leuchtdiodenschicht 20, eine Verkapselungsschicht 30 und eine Berührungserfassungsschicht 40 aufweisen.
  • Das erste Substrat 111 kann ein Kunststofffilm oder ein Glassubstrat sein.
  • Die Dünnfilmtransistorschicht 10 ist auf dem ersten Substrat 111 ausgebildet. Die Dünnfilmtransistorschicht 10 kann eine Vielzahl von Abtast-Leitungen, Daten-Leitungen und Dünnfilmtransistoren aufweisen. Jeder der Dünnfilmtransistoren enthält eine Gate-Elektrode, eine Halbleiterschicht, Source- und Drain-Elektroden. In dem Fall, dass ein Abtast-Treiber unter Verwendung eines GIP- (Gate-Driver-in-Panel-) Verfahrens gebildet wird, kann der Abtast-Treiber zusammen mit der Dünnfilmtransistorschicht 10 gebildet werden.
  • Die organische Leuchtdiodenschicht 20 ist auf dem Dünnfilmtransistor 10 ausgebildet. Die organische Leuchtdiodenschicht 20 weist erste Elektroden, eine organische lichtemittierende Schicht, eine zweite Elektrode und Bänke auf. Jede der organischen lichtemittierenden Schichten kann eine Lochtransportschicht, eine organische lichtemittierende Schicht und eine Elektronentransportschicht aufweisen. Wenn in diesem Fall eine Spannung an die erste Elektrode und die zweite Elektrode angelegt wird, werden Löcher und Elektronen durch die Lochtransportschicht bzw. die Elektronentransportschicht zur lichtemittierenden Schicht bewegt und in der organischen lichtemittierenden Schicht kombiniert und dadurch Licht abstrahlt. Da Pixel in dem Bereich angeordnet sind, in dem die organische Leuchtdiodenschicht 20 ausgebildet ist, kann der Bereich, in dem die organische Leuchtdiodenschicht 20 ausgebildet ist, als der Anzeigebereich definiert werden. Ein Bereich in der Peripherie des Anzeigebereichs kann als der Nicht-Anzeigebereich definiert werden.
  • Die Verkapselungsschicht 30 ist auf der organischen Leuchtdiodenschicht 20 ausgebildet. Die Verkapselungsschicht 30 dient dazu, zu verhindern, dass Sauerstoff und Wasser in die organische Leuchtdiodenschicht 20 eindringen. Die Verkapselung kann mindestens einen anorganischen Film aufweisen.
  • Die Berührungserfassungsschicht 40 ist auf der Verkapselungsschicht 30 ausgebildet. Die Berührungserfassungsschicht 40 weist erste und die zweiten Berührungselektroden zum Erfassen einer Berührung eines Benutzers auf und kann Brückenelektroden zum elektrischen Verbinden der ersten Berührungselektroden oder der zweiten Berührungselektroden aufweisen.
  • Im Folgenden werden die Verkapselungsschicht 30 und die Berührungserfassungsschicht 40 gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung detaillierter unter Bezugnahme auf die 4 und 9 beschrieben.
  • 4 ist eine Draufsicht, die ein erstes Substrat gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung knapp veranschaulicht; 5 ist eine Draufsicht, die eine Berührungserfassungsschicht veranschaulicht, die in 4 auf dem ersten Substrat angeordnet ist. 6 ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel entlang der Linie I-I' von 5 veranschaulicht. 7 bis 9 sind Querschnittsansichten, die verschiedene Beispiele eines Damms veranschaulichen.
  • Unter Bezugnahme auf 4 bis 6 ist das erste Substrat 111 in einen Anzeigebereich DA und einen Nicht-Anzeigebereich NDA eingeteilt, wobei Pads PAD an einem Pad-Bereich PA und ein Damm DAM auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA ausgebildet sind.
  • Die Dünnfilmtransistorschicht 10 und die organische Leuchtdiodenschicht 20 sind auf dem Anzeigebereich DA des ersten Substrats 11 ausgebildet.
  • Die Dünnfilmtransistorschicht 10 weist Dünnfilmtransistoren 210, einen Gate-Isolierfilm 220, eine dielektrische Zwischenschicht 230, einen Passivierungsfilm 240 und einen Planarisierungsfilm 250 auf.
  • Ein Pufferfilm ist auf einer Oberfläche des ersten Substrats 111 ausgebildet. Der Pufferfilm kann auf einer Oberfläche des ersten Substrats 111 gebildet sein, um die Dünnfilmtransistoren 210 und die Leuchtdioden 260 vor Wasser zu schützen, das durch das für Feuchtigkeitsdurchlässigkeit anfällige erste Substrat 111 hindurchtritt. Eine Oberfläche des ersten Substrats 111 kann eine Oberfläche sein, die dem zweiten Substrat 112 zugewandt ist. Der Pufferfilm kann aus einer Vielzahl von anorganischen Filmen bestehen, die abwechselnd aufgebracht werden. Zum Beispiel kann der Pufferfilm aus einem mehrlagigen Film aus einem oder mehreren anorganischen Filmen eines Siliziumoxidfilms (SiOx), eines Siliziumnitridfilms (SiNx) und von SiON gebildet sein, die abwechselnd abgeschieden werden. Der Pufferfilm kann weggelassen werden.
  • Der Dünnfilmtransistor 210 ist auf dem Pufferfilm ausgebildet. Der Dünnfilmtransistor 210 weist eine aktive Schicht 211, eine Gate-Elektrode 212, eine Source-Elektrode 213 und eine Drain-Elektrode 214 auf. Obwohl der Dünnfilmtransistor 210 in einem Top-Gate-Modus ausgebildet ist, in dem die Gate-Elektrode 212 über der aktiven Schicht 211 angeordnet ist, wie in 6 gezeigt ist, versteht sich, dass der Dünnfilmtransistor der vorliegenden Offenbarung nicht auf den Top-Gate-Modus beschränkt ist. Das heißt, der Dünnfilmtransistor 210 kann in einem Bottom-Gate-Modus ausgebildet sein, in dem die Gate-Elektrode 212 unter der aktiven Schicht 211 angeordnet ist, oder in einem Doppel-Gate-Modus, in dem die Gate-Elektrode 212 über und unter der aktiven Schicht 211 angeordnet ist.
  • Die aktive Schicht 211 ist auf dem Pufferfilm ausgebildet. Die aktive Schicht 211 kann aus einem Silizium-basierten Halbleitermaterial oder einem Oxidbasierten Halbleitermaterial gebildet sein. Eine Lichtabschirmungsschicht zum Abschirmen von externem Licht, das in die aktive Schicht 211 eintritt, kann zwischen dem Pufferfilm und der aktiven Schicht 211 ausgebildet sein.
  • Der Gate-Isolierfilm 220 kann auf der aktiven Schicht 211 ausgebildet sein. Der Gate-Isolierfilm 220 kann aus einem anorganischen Film, beispielsweise einem Siliziumoxidfilm (SiOx), einem Siliziumnitridfilm (SiNx) oder einem mehrlagigen Film des Siliziumoxidfilms und des Siliziumnitridfilms gebildet sein.
  • Die Gate-Elektrode 212 und die Gate-Leitung können auf dem Gate-Isolierfilm 220 gebildet sein. Die Gate-Elektrode 212 und die Gate-Leitung können aus einer einzelnen Schicht oder einer mehrlagige Schicht aus irgendeinem von Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, Nd und Cu oder deren Legierung gebildet sein.
  • Die dielektrische Zwischenschicht 230 kann auf der Gate-Elektrode 212 und der Gate-Leitung ausgebildet sein. Die dielektrische Zwischenschicht 230 kann aus einem anorganischen Film, beispielsweise einem Siliziumoxidfilm (SiOx), einem Siliziumnitridfilm (SiNx) oder einem mehrlagigen Film des Siliziumoxidfilms und des Siliziumnitridfilms gebildet sein.
  • Die Source-Elektrode 213, die Drain-Elektrode 214 und die Daten-Leitung können auf der dielektrischen Zwischenschicht 230 ausgebildet sein. Die Source-Elektrode 213 und die Drain-Elektrode 214 können jeweils durch ein Kontaktloch, das durch den Gate-Isolierfilm 220 und die dielektrische Zwischenschicht 230 verläuft, mit der aktiven Schicht 211 verbunden sein. Die Source-Elektrode 213, die Drain-Elektrode 214 und die Daten-Leitung können aus einer einzelnen Schicht oder einer mehrlagigen Schicht aus irgendeinem von Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, Nd und Cu oder deren Legierung gebildet sein.
  • Die Passivierungsschicht 240 kann auf der Source-Elektrode 213, der Drain-Elektrode 214 und der Daten-Leitung ausgebildet sein, um den Dünnfilmtransistor 210 zu isolieren. Die Passivierungsschicht 240 kann aus einem anorganischen Film, beispielsweise einem Siliziumoxidfilm (SiOx), einem Siliziumnitridfilm (SiNx) oder einem mehrlagiger Film des Siliziumoxidfilms und des Siliziumnitridfilms gebildet sein.
  • Der Planarisierungsfilm 250 zum Planarisieren einer Stufendifferenz aufgrund des Dünnfilmtransistors 210 kann auf der Passivierungsschicht 240 ausgebildet sein. Der Planarisierungsfilm 250 kann aus einem organischen Film wie etwa Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz und Polyimidharz gebildet sein.
  • Die organische Leuchtdiodenschicht 20 ist auf der Dünnfilmtransistorschicht 10 ausgebildet. Die organische Leuchtdiodenschicht 20 weist organische Leuchtdioden 260 und eine Bank 270 auf.
  • Die organische Leuchtdiode 260 und die Bank 270 sind auf dem Planarisierungsfilm 250 ausgebildet. Die organische Leuchtdiode weist die erste Elektrode 261, die organische lichtemittierende Schicht 262 und die zweite Elektrode 263 auf. Die erste Elektrode 261 kann eine Anodenelektrode und die zweite Elektrode 263 kann eine Kathodenelektrode sein.
  • Die erste Elektrode 261 kann auf dem Planarisierungsfilm 250 ausgebildet sein. Die erste Elektrode 261 kann durch ein Kontaktloch, das durch den Passivierungsfilm 240 und den Planarisierungsfilm 250 verläuft, mit der Source-Elektrode 213 des Dünnfilmtransistors 210 verbunden sein. Die erste Elektrode 261 kann aus leitfähigem Material mit hoher Reflektivität gebildet sein, beispielsweise eine Abscheidungsstruktur (Ti/Al/Ti) aus AI und Ti, eine Abscheidungsstruktur (ITO/Al/ITO) aus Al und ITO, eine APC-Legierung oder eine Abscheidungsstruktur (ITO/APC/ITO) von APC-Legierung und ITO. Die APC-Legierung ist eine Legierung aus Ag, Pd und Cu.
  • Um die Pixel P zu separieren, kann die Bank 270 auf dem Planarisierungsfilm 250 ausgebildet sein, um eine Kante der ersten Elektrode 261 zu bedecken. Das heißt, die Bank 270 dient als ein Pixel-definierender Film zum Definieren von Pixeln. Die Bank 270 kann aus einem organischen Film wie Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz und Polyimidharz gebildet sein.
  • Die organische lichtemittierende Schicht 261 kann auf der ersten Elektrode 261 und der Bank 270 gebildet sein. Die organische lichtemittierende Schicht 262 kann eine Lochtransportschicht, mindestens eine lichtemittierende Schicht und eine Elektronentransportschichtaufweisen. Wenn in diesem Fall eine Spannung an die erste Elektrode 261 und die zweite Elektrode 263 angelegt wird, werden Löcher und Elektronen zu der Licht emittierenden Schicht durch die Lochtransportschicht bzw. die Elektronentransportschicht bewegt und werden in der organischen lichtemittierenden Schicht kombiniert, wodurch Licht emittiert wird.
  • Die organische lichtemittierende Schicht 262 kann aus einer weißlichtemittierenden Schicht zum Emittieren von weißem Licht gebildet sein. In diesem Fall kann die organische lichtemittierende Schicht 262 so ausgebildet sein, dass sie die erste Elektrode 261 und die Bank 270 bedeckt. In diesem Fall kann ein Farbfilter (nicht gezeigt) auf dem zweiten Substrat 112 ausgebildet sein.
  • Andererseits kann die organische lichtemittierende Schicht 262 aus einer rotes lichtemittierenden Schicht zum Emittieren von rotem Licht, einer grünes lichtemittierenden Schicht zum Emittieren von grünem Licht und einer blaues lichtemittierenden Schicht zum Emittieren von blauem Licht gebildet sein. In diesem Fall kann die organische lichtemittierende Schicht 262 auf der Fläche gebildet werden, die der ersten Elektrode 261 entspricht, und ein Farbfilter kann nicht auf dem zweiten Substrat 112 gebildet sein.
  • Die zweite Elektrode 263 ist auf der organischen lichtemittierenden Schicht 262 ausgebildet. In dem Fall, dass die organische lichtemittierende Anzeigevorrichtung in einer Top-Emissions-Struktur ausgebildet ist, kann die zweite Elektrode 263 aus einem transparenten leitfähigen Material (TCO) wie ITO und IZO gebildet sein, die Licht durchlassen können, oder aus einem halbdurchlässigen leitfähigen Material wie Mg, Ag und eine Legierung von Mg und Ag gebildet sein. Eine Deckschicht kann auf der zweiten Elektrode 263 ausgebildet sein.
  • Auf der organischen Leuchtdiodenschicht 20 ist die Verkapselungsschicht 20 nicht nur auf dem Anzeigebereich DA, sondern auch auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA ausgebildet. Die Verkapselungsschicht 30 weist einen Verkapselungsfilm 280 und einen Damm DAM auf.
  • Der Verkapselungsfilm 280 dient dazu, zu verhindern, dass Sauerstoff oder Wasser in die organische lichtemittierende Schicht 262 und die zweite Elektrode 263 eindringt. Zu diesem Zweck kann der Verkapselungsfilm 280 mindestens einen anorganischen Film und mindestens einen organischen Film enthalten. Zum Beispiel kann der Verkapselungsfilm 280 einen ersten anorganischen Film 281, einen organischen Film 282 und einen zweiten anorganischen Film 283 aufweisen.
  • Der erste anorganische Film 281 ist auf der zweiten Elektrode 263 angeordnet. Der erste anorganische Film 281 kann so ausgebildet sein, dass er die zweite Elektrode 263 bedeckt. Der organische Film 282 kann auf dem ersten anorganischen Film 281 gebildet sein. Der organische Film 282 kann mit einer ausreichenden Dicke gebildet sein, um zu verhindern, dass Partikel in die organische lichtemittierende Schicht 262 und die zweite Elektrode 263 eindringen, indem sie durch den ersten anorganischen Film 281 hindurchtreten. Der zweite anorganische Film 282 kann gebildet werden, um den organischen Film 282 zu bedecken.
  • Der erste und der zweite anorganische Film 281 und 283 können jeweils aus Siliziumnitrid, Aluminiumnitrid, Zirkoniumnitrid, Titannitrid, Hafniumnitrid, Tantalnitrid, Siliziumoxid, Aluminiumoxid oder Titanoxid gebildet sein. Der organische Film 282 kann aus Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz oder Polyimidharz gebildet sein.
  • Der Damm DAM ist auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA ausgebildet und blockiert einen Fluss des organischen Films 282, der den Verkapselungsfilm 280 bildet. Genauer gesagt, ist der der Damm gebildet, um die Außenseite des Anzeigebereichs DA zu umgeben und blockiert einen Fluss des organischen Films 282, der den Verkapselungsfilm 280 bildet. Der Damm kann auch zwischen dem Anzeigebereich DA und einem Pad-Bereich PA angeordnet sein, um den Fluss des organischen Films zu blockieren 282, um zu ermöglichen, dass der organische Film 282, der den Verkapselungsfilm 280 bildet, nicht in den Pad-Bereich PA eindringt. Daher kann der Damm verhindern, dass der organische Film 282 der Außenseite der Anzeigevorrichtung ausgesetzt wird oder in den Pad-Bereich PA eindringt.
  • Ein derartiger Damm DAM weist eine erste Seite S1, die dem organischen Film 282 zugewandt ist, und eine zweite Seite S2, die der ersten Seite S1 gegenüberliegt, auf, wobei mindestens eine der ersten Seite S1 und der zweiten Seite S2 einen Winkel kleiner als 90° aufweist.
  • Wie in 7 gezeigt ist, können die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des Damms dieselbe Neigung in Bezug auf das Substrat aufweisen, sind aber nicht darauf beschränkt. Die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des Damms können sich in ihrer jeweiligen Neigung voneinander unterscheiden, wie in den 8 und 9 gezeigt ist.
  • Die zweite Seite S2 des Damms kann eine Neigung θ2 kleiner als 90° haben, und die Neigung θ2 kann kleiner als 45° sein. Die zweite Seite S2 des Damms kann so ausgebildet sein, dass sie geneigt ist, um eine Stufendifferenz zu verringern. Daher kann die vorliegende Offenbarung eine planarisiertere Oberfläche bereitstellen, wenn der zweite anorganische Film 283 und Metall-Strukturen auf dem Damm gebildet werden. Daher kann gemäß der vorliegenden Offenbarung der zweite anorganische Film 283 mit einer konstanten Dicke ausgebildet werden und es kann verhindert werden, dass ein Riss in dem Bereich auftritt, in dem der Damm aufgrund einer Stufendifferenz mit dem Passivierungsfilm 240 in Kontakt ist. Gemäß der vorliegenden Offenbarung kann auch verhindert werden, dass das unnötige Metall als Filmrest verbleibt, ohne vollständig aus dem Bereich entfernt zu werden, in dem das unnötige Metall nicht verbleiben sollte, wenn die Metall-Struktur auf dem Damm ausgebildet werden sollte.
  • Die erste Seite S1 des Damms kann die gleiche Neigung θ1 wie die zweite Seite S2 haben, wie in 7 gezeigt ist. In diesem Fall kann die erste Seite S1 des Damms eine Neigung haben, die kleiner als 90° ist, und die Neigung kann kleiner als 45° sein.
  • Unterdessen kann die erste Seite S1 des Damms eine Neigung θ1 aufweisen, die sich von der der zweiten Seite S2 unterscheidet, wie in 9 gezeigt ist. In diesem Fall kann die erste Seite S1 des Damms eine Neigung θ1 aufweisen, die größer als die der zweiten Seite S2 ist, und ihre Neigung kann 90° oder weniger betragen. Da die erste Seite S1 des Damms durch den organischen Film 282 bedeckt ist, der den Verkapselungsfilm 280 bildet, werden der zweite anorganische Film 283 und die Metall-Strukturen nicht entlang auf der ersten Seite S1 des Damms gebildet. Das heißt, der organische Film 282 ist in dem Bereich ausgebildet, in dem die erste Seite S1 des Damms und der Passivierungsfilm 240 miteinander in Kontakt stehen, wodurch eine Stufendifferenz verringert werden kann. Daher kann die erste Seite S1 des Damms eine Neigung von 90° oder weniger aufweisen. Um jedoch eine Einfassung durch Minimieren eines Abstands zwischen dem Damm und dem Anzeigebereich DA zu minimieren, kann die erste Seite S1 des Damms eine Neigung aufweisen, die größer als die der zweiten Seite S2 ist, beispielsweise eine Neigung von 90°.
  • Ein solcher Damm kann gleichzeitig mit dem Planarisierungsfilm 250 oder der Bank 270 des Pixels P gebildet werden und kann aus dem gleichen Material wie der Planarisierungsfilm 250 oder die Bank 270 gebildet werden. In diesem Fall kann der Damm aus einem organischen Film gebildet werden, beispielsweise Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz und Polyimidharz.
  • Unterdessen ist, obwohl 6 zeigt, dass der Damm nicht durch den ersten anorganischen Film 281 bedeckt werden soll, die vorliegende Offenbarung nicht auf dieses Beispiel beschränkt. Wenn der erste anorganische Film 281 den Anzeigebereich DA bedeckt, kann der erste anorganische Film 281 so ausgebildet werden, dass er den Damm bedeckt.
  • Die Berührungserfassungsschicht 40 ist auf der Verkapselungsschicht 30 ausgebildet. Die Berührungserfassungsschicht 40 weist erste Berührungselektroden TE, zweite Berührungselektroden RE, Brückenelektroden BE, einen Isolierfilm 310 und einen Passivierungsfilm 320 auf.
  • Eine Pufferschicht 290 ist auf der Verkapselungsschicht 30 ausgebildet. Die Pufferschicht 290 ist ausgebildet, um ein Pad von dem Anzeigebereich DA und dem Nicht-Anzeigebereich NDA freizulegen. Eine solche Pufferschicht 290 ist so ausgebildet, dass sie den Damm bedeckt. Die Pufferschicht 290 kann weggelassen werden.
  • Auf der Pufferschicht 290 sind die ersten Berührungselektroden TE und die zweiten Berührungselektroden RE in dem Anzeigebereich DA ausgebildet. Die ersten Berührungselektroden TE sind in einer ersten Richtung (y-Achsenrichtung) angeordnet und miteinander verbunden, und die zweiten Berührungselektroden RE sind in einer zweiten Richtung (x-Achsenrichtung) angeordnet und miteinander verbunden. Die erste Richtung (y-Achsenrichtung) kann parallel zu den Abtast-Leitungen S1 bis Sn sein, und die zweite Richtung (x-Achsenrichtung) kann parallel zu den Daten-Leitungen D1 bis Dm sein. Alternativ kann die erste Richtung (y-Achsenrichtung) parallel zu den Daten-Leitungen D1 bis Dm sein, und die zweite Richtung (x-Achsenrichtung) kann parallel zu den Abtast-Leitungen S1 bis Sn sein.
  • Jede der ersten Berührungselektroden TE, die in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) verbunden sind, ist von den ersten Berührungselektroden TE, die dazu benachbart sind, in der zweiten Richtung (x-Achsenrichtung) elektrisch isoliert. Jede der zweiten Berührungselektroden RE, die in der zweiten Richtung (x-Achsenrichtung) verbunden sind, ist von den ersten Berührungselektroden, die dazu benachbart sind, in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) elektrisch isoliert.
  • Aus diesem Grund kann die dem Berührungssensor entsprechende Gegenkapazität auf dem gekreuzten Bereich der ersten Berührungselektrode TE und der zweiten Berührungselektrode RE gebildet werden.
  • Von den ersten Berührungselektroden, die in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) miteinander verbunden sind, kann die erste Berührungselektrode TE, die an einem Ende angeordnet ist, mit der ersten Berührungs-Leitung TL auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA verbunden sein. Die erste Berührungs-Leitung TL kann sich von der ersten Berührungselektrode TE erstrecken und dann strukturiert sein, um den Pad-Bereich PA zu erreichen. Die erste Berührungs-Leitung TL kann mit dem Pad PAD in dem Pad-Bereich PA verbunden sein und dann mit dem ersten Berührungs-Treiber 181 durch das Pad PAD verbunden sein. Daher können die ersten Berührungselektroden TE, die miteinander in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) verbunden sind, einen Ansteuerpuls von dem ersten Berührungs-Treiber 181 durch die erste Berührungs-Leitung TL empfangen.
  • Von den zweiten Berührungselektroden RE, die miteinander in der zweiten Richtung (x-Achsenrichtung) verbunden sind, kann die zweite Berührungselektrode RE, die an einem Ende angeordnet ist, mit der zweiten Berührungs-Leitung RL auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA verbunden sein. Die zweite Berührungs-Leitung RL kann sich von der zweiten Berührungselektrode RE erstrecken und dann strukturiert sein, um den Pad-Bereich PA zu erreichen. Die zweite Berührungs-Leitung RL kann mit dem Pad PAD auf dem Pad-Bereich PA verbunden sein und dann durch den Pad PAD mit dem zweiten Berührungs-Treiber 182 verbunden sein. Daher kann der zweite Berührungs-Treiber 182 Ladungsänderungen in den Berührungssensoren der zweiten Berührungselektroden RE empfangen, die miteinander in der zweiten Richtung (x-Achsenrichtung) verbunden sind.
  • Der Isolierfilm 310 ist auf den ersten Berührungselektroden TE und den zweiten Berührungselektroden RE gebildet. Die ersten Berührungselektroden TE, die zweiten Berührungselektroden RE, die ersten Berührungs-Leitungen RL und die zweiten Berührungs-Leitungen RL können auf der gleichen Schicht angeordnet sein. Der Isolierfilm 310 kann nicht nur auf den ersten Berührungselektroden TE und den zweiten Berührungselektroden RE gebildet werden, sondern auch zwischen den ersten Berührungselektroden TE und den zweiten Berührungselektroden RE. Jede der ersten Berührungselektroden TE kann von jeder der zweiten Berührungselektroden RE durch den Isolierfilm 310 isoliert sein.
  • Eine Brückenelektrode BE ist auf dem Isolierfilm 310 ausgebildet. Um die ersten Berührungselektroden TE und die zweiten Berührungselektroden TE an ihren Kreuzungsbereichen am Kurzschließen zu hindern, werden die ersten Berührungselektrode RE, die zueinander benachbart sind, in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) elektrischen durch die Brückenelektrode verbunden. Die Brückenelektrode BE ist auf einer anderen Schicht als die erste und zweite Berührungselektrode TE und RE ausgebildet und kann durch Kontaktlöcher CT mit den ersten Berührungselektroden TE, die zueinander benachbart sind, verbunden sein. Die Brückenelektrode BE kann die zweite Berührungselektrode RE kreuzen.
  • In diesem Fall können die Kontaktlöcher CT so ausgebildet sein, dass sie durch den Isolierfilm 310 verlaufen. Die Brückenelektrode BE ist mit zwei benachbarten ersten Berührungselektroden TE durch zwei Kontaktlöcher CT verbunden, die auf dem Isolierfilm 310 ausgebildet sind, wodurch die beiden benachbarten ersten Berührungselektroden TE freigelegt werden, und verbindet die zwei Kontaktlöcher CT. Daher ist die Brückenelektrode BE auf dem Isolierfilm 310 ausgebildet.
  • Der Passivierungsfilm 320 ist auf dem Isolierfilm 310 und der Brückenelektrode BE ausgebildet. Der Passivierungsfilm 320 behält die charakteristische Stabilisierung der Anzeigevorrichtung bei, indem er schädliche Zustände von außen blockiert.
  • Da gemäß dem Aspekt der vorliegenden Offenbarung die Berührungserfassungsschicht direkt auf der Verkapselungsschicht 30 ausgebildet ist, ist es nicht erforderlich, das erste Substrat 111 und das zweite Substrat 112 auszurichten, wenn das erste Substrat 111 und das zweite Substrat 112 miteinander verbunden werden.
  • Wie oben beschrieben, wird gemäß der vorliegenden Offenbarung der Damm DAM mit mindestens einer Seite mit einer Neigung gebildet, wodurch eine Stufendifferenz aufgrund des Damms DAM reduziert wird. Daher wird in der vorliegenden Offenbarung der zweite anorganische Film 283 auf dem Damm DAM gebildet, um eine konstante Dicke aufzuweisen, und es kann verhindert werden, dass ein Riss auftritt. Außerdem kann in der vorliegenden Offenbarung verhindert werden, dass ein Filmrest verbleibt, wenn Metall-Strukturen, beispielsweise die ersten Berührungs-Leitungen TL oder die zweiten Berührungs-Leitungen RL, auf dem Damm DAM gebildet werden.
  • Gemäß der vorliegenden Offenbarung können auch unterschiedliche Neigungen für die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 ausgebildet sein. Da die erste Seite S1 des Damms DAM durch den organischen Film 282 eine verringerte Stufendifferenz aufweist, kann ein Abstand zwischen dem Damm und dem Anzeigebereich DA minimiert werden, indem eine steile Neigung gebildet wird. Unterdessen ist die zweite Seite S1 des Damms DAM so ausgebildet, dass sie eine sanfte Neigung aufweist, wodurch die Stufendifferenz des Damms DAM so weit wie möglich reduziert werden kann. Daher kann eine optimale Struktur realisiert werden, um eine Stufendifferenz des DAM zu reduzieren und eine Einfassung gleichzeitig zu minimieren.
  • 10 ist eine Draufsicht, die das erste Substrat gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Offenbarung knapp veranschaulicht; 11 ist eine Draufsicht, die eine Berührungserfassungsschicht veranschaulicht, die auf dem ersten Substrat in 10 angeordnet ist. 12 ist eine Querschnittsansicht, die ein Beispiel entlang der Linie II-II' von 10 veranschaulicht, und 13 bis 15 sind Querschnittsansichten, die verschiedene Beispiele eines Damms veranschaulichen.
  • Bezugnehmend auf 10 bis 15 ist das erste Substrat 111 in einen Anzeigebereich DA und einen Nicht-Anzeigebereich NDA eingeteilt, wobei Pads PAD in einem Pad-Bereich PA gebildet sind, ein erster Damm DAM1 und ein zweiter Damm DAM2 auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA gebildet sind.
  • Die Dünnfilmtransistorschicht 10 und die organische Leuchtdiodenschicht 20 sind auf dem Anzeigebereich DA des ersten Substrats 11 ausgebildet. Da die Dünnfilmtransistorschicht 10 und die organische Leuchtdiodenschicht 20 die gleichen sind wie die, des ersten Substrats gemäß dem zuvor beschriebenen Aspekt der vorliegenden Offenbarung, wird ihre detaillierte Beschreibung weggelassen.
  • Auf der organischen Leuchtdiodenschicht 20 ist die Verkapselungsschicht 30 nicht nur auf dem Anzeigebereich DA, sondern auch auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA ausgebildet. Die Verkapselungsschicht 30 weist einen Verkapselungsfilm 280, den ersten Damm DAM1 und den zweiten Damm DAM2 auf.
  • Der Verkapselungsfilm 280 dient dazu, zu verhindern, dass Sauerstoff oder Wasser in die organische lichtemittierende Schicht 262 und die zweite Elektrode 263 eindringt. Zu diesem Zweck kann der Verkapselungsfilm 280 mindestens einen anorganischen Film und mindestens einen organischen Film aufweisen. Zum Beispiel kann der Verkapselungsfilm 280 einen ersten anorganischen Film 281, einen organischen Film 282 und einen zweiten anorganischen Film 283 aufweisen.
  • Der erste anorganische Film 281 kann auf der zweiten Elektrode 263 angeordnet sein. Der erste anorganische Film 281 kann so ausgebildet sein, dass er die zweite Elektrode 263 bedeckt. Der organische Film 282 kann auf dem ersten anorganischen Film 281 angeordnet sein. Der organische Film 282 kann mit einer ausreichenden Dicke gebildet werden, um zu verhindern, dass Partikel in die organische lichtemittierende Schicht 262 und die zweite Elektrode 263 eindringen, indem sie durch den ersten anorganischen Film 281 hindurchtreten. Der zweite anorganische Film 282 kann gebildet werden, um den organischen Film 282 zu bedecken.
  • Der erste und zweite anorganische Film 281 und 283 können jeweils aus einem Siliziumnitrid, einem Aluminiumnitrid, einem Zirkoniumnitrid, einem Titannitrid, einem Hafniumnitrid, einem Tantalnitrid, Siliziumoxid, einem Aluminiumoxid oder einem Titanoxid gebildet sein. Der organische Film 282 kann aus Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz oder Polyimidharz gebildet sein.
  • Der erste Damm DAM1 und der zweite Damm DAM2 sind auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA angeordnet und blockieren einen Fluss des organischen Films 282, der den Verkapselungsfilm 280 bildet. Insbesondere kann der erste Damm DAM1 so ausgebildet sein, dass er die Außenseite des Anzeigebereichs DA umgibt, um primär einen Fluss des organischen Films 282, der den Verkapselungsfilm 280 bildet, zu blockieren. Auch kann der erste Damm DAM1 zwischen dem Anzeigebereich DA und einem Pad-Bereich PA angeordnet sein und primär den Fluss des organischen Films 282 blockieren damit der organische Film 282, der den Verkapselungsfilm 280 bildet, nicht in den Pad-Bereich PA eindringt.
  • Auch kann der zweite Damm DAM2 so ausgebildet sein, dass er die Außenseite des ersten Damms DAM1 umgibt und sekundär den organischen Film 282 blockiert, der zur Außenseite des ersten Damms DAM1 überläuft. Daher können der erste Damm DAM1 und der zweite Damm DAM2 effektiv verhindern, dass der organische Film 282 der Außenseite der Anzeigevorrichtung ausgesetzt wird oder in den Pad-Bereich PA eindringt.
  • Der erste Damm DAM1 weist eine erste Seite S1, die dem organischen Film 282 zugewandt ist, und eine zweite Seite S2, die dem zweiten Damm D2 zugewandt ist, auf, wobei mindestens eine der ersten Seite S1 und der zweiten Seite S2 eine Neigung kleiner als 90° aufweist. Der zweite Damm DAM2 weist eine dritte Seite S3, die dem ersten Damm DAM1 zugewandt ist, und eine vierte Seite S4, die der dritten Seite S3 gegenüberliegt, auf, wobei mindestens eine der dritten Seite S3 und der vierten Seite S4 eine Neigung kleiner als 90° aufweist.
  • Die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 können die gleiche Neigung aufweisen, sind jedoch nicht darauf beschränkt, wie in 13 und 14 gezeigt ist. Die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 können sich in ihrer jeweiligen Neigungen voneinander unterscheiden, wie in 15 gezeigt ist.
  • Die dritte Seite S3 und die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 können die gleiche Neigung aufweisen, sind aber nicht darauf beschränkt, wie in 13 und 15 gezeigt ist. Die dritte Seite S3 und die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 können sich in ihrer jeweiligen Neigungen voneinander unterscheiden, wie in 14 gezeigt ist.
  • Die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 und die dritte Seite S3 und die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 können die gleichen Neigungen aufweisen, wie in 13 gezeigt ist. In diesem Fall ist es vorzuziehen, dass eine Neigung in dem Bereich von 45° oder weniger liegt, um eine Stufendifferenz des ersten Damms DAM1 und des zweiten Damms DAM2 effektiv zu reduzieren. Währenddessen sind der erste Damm DAM1 und der zweite Damm DAM2 nicht in Kontakt miteinander. Dies soll verhindern, dass Wasser und Sauerstoff durch einen Riss in den ersten Damm DAM1 eindringen sind, falls ein Riss in dem zweiten Damm DAM2 auftritt. In dem Fall, dass die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 und die dritte Seite S3 und die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 alle die gleichen Neigungen haben, erfüllt die Neigung der nachfolgenden Gleichung 1.
    [Gleichung 1] 1 ≥ tan Θ > 2 a b ,   b > 2 c
    Figure DE102018114073A1_0001
  • Das „a“ bezeichnet eine Dicke des ersten Damms DAM1 oder eine Dicke des zweiten Damms DAM2, das „b“ bezeichnet einen horizontalen Abstand von einem Punkt, an dem eine obere Oberfläche des ersten Damms DAM1 im Kontakt mit der zweiten Seite S2 ist, bis zu einem Punkt, an dem eine obere Oberfläche des zweiten Damms DAM2 im Kontakt mit der dritten Seite S3 ist, und „c“ bezeichnet einen horizontalen Abstand von einem Punkt, an dem die obere Oberfläche des ersten Damms DAM1 im Kontakt mit der zweiten Seite S2 ist, bis zu einem Punkt, an dem eine untere Oberfläche im Kontakt mit der zweiten Seite S2 ist.
  • Obwohl 13 zeigt, dass die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 und die dritte Seite S3 und die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 alle die gleichen Neigungen haben, ist die vorliegende Offenbarung nicht auf dieses Beispiel beschränkt. Wie in 14 gezeigt ist, kann die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 so ausgebildet sein, dass sie eine Neigung θ4 kleiner als die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 und die dritte Seite S3 des zweiten Damms DAM2 aufweist.
  • Da die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 nicht in Kontakt mit der dritten Seite S3 des zweiten Damms DAM2 stehen sollte, ist ein minimaler Neigungswert begrenzt. Andererseits hat die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 keine solche Begrenzung, anders als die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 und die dritte Seite S3 des zweiten Damms DAM2 und ein relativ großer Raum von dem zweiten Damm DAM2 zum PAD kann erhalten werden. Daher kann die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 eine Neigung aufweisen, die kleiner als jene der zweiten Seite S2 des ersten Damms DAM1 und der dritten Seite S3 des zweiten Damms DAM2 ist, und kann eine Stufendifferenz so weit wie möglich reduzieren.
  • Obwohl 13 zeigt, dass die erste Seite S1 und die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 und die dritte Seite S3 und die vierte Seite S4 des zweiten Damms DAM2 alle die gleichen Neigungen haben, ist die vorliegende Offenbarung nicht auf dieses Beispiel beschränkt. Wie in 15 gezeigt ist, kann die erste Seite S1 des ersten Damms DAM1 so ausgebildet sein, dass sie eine Neigung θ1 größer als diejenigen der zweiten Seite S2 des ersten Damms DAM1 und der dritten Seite S3 und der vierten Seite S4 des zweiten Damms DAM2 aufweist.
  • Da die erste Seite S1 des ersten Damms DAM1 durch den organischen Film 282 bedeckt ist, der den Verkapselungsfilm 280 bildet, werden der zweite anorganische Film 283 und die Metall-Strukturen nicht entlang der ersten Seite S1 des ersten Damms DAM1 gebildet. Das heißt, der organische Film 282 wird auf dem Bereich gebildet, in dem erste Seite S1 des ersten Damms DAM1 und der Passivierungsfilm 240 miteinander in Kontakt stehen, wodurch eine Stufendifferenz mittels des organischen Film 282 verringert wird. Daher kann die erste Seite S1 des ersten Damms DAM1 eine Neigung von 90° haben und kann eine Neigung von weniger als 90° haben. Um eine Einfassung zu minimieren, indem ein Abstand zwischen dem ersten Damm DAM1 und dem Anzeigebereich DA minimiert wird, kann die erste Seite S1 des ersten Damms DAM1 eine Neigung aufweisen, die größer als die der zweiten Seite S2 ist, beispielsweise eine Neigung von 90°.
  • Obwohl die 13 und 15 zeigen, dass die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 und die dritte Seite S3 des zweiten Damms DAM2 die gleiche Neigung aufweisen, ist die vorliegende Offenbarung nicht auf dieses Beispiel beschränkt. Wenn die zweite Seite S2 des ersten Damms DAM1 und die dritte Seite S3 des zweiten Damms DAM2 nicht in Kontakt miteinander sind, können sich ihre jeweiligen Neigungen voneinander unterscheiden.
  • Der erste Damm DAM1 und der zweite Damm DAM2 können gleichzeitig mit dem Planarisierungsfilm 250 oder der Bank 270 des Pixels P gebildet werden und können aus dem gleichen Material wie der Planarisierungsfilm 250 oder die Bank 270 gebildet werden. In diesem Fall kann der Damm-DAM aus einem organischen Material wie Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz und Polyimidharz gebildet werden.
  • Obwohl 12 zeigt, dass der erste Damm DAM1 und der zweite Damm DAM2 nicht durch den ersten anorganischen Film 281 bedeckt werden sollen, ist die vorliegende Offenbarung nicht auf dieses Beispiel beschränkt. Wenn der erste anorganische Film 281 den Anzeigebereich DA bedeckt, kann der erste anorganische Film 281 so ausgebildet sein, dass er den ersten Damm DAM1 und den zweiten Damm DAM2 bedeckt.
  • Die Berührungserfassungsschicht 40 ist auf der Verkapselungsschicht 30 ausgebildet. Die Berührungserfassungsschicht 40 weist eine Pufferschicht 290, erste Berührungselektroden TE, zweite Berührungselektroden RE, einen Isolierfilm 310 und einen Passivierungsfilm 320 auf.
  • Die Pufferschicht 290 ist auf der Verkapselungsschicht 30 ausgebildet. Die Pufferschicht 290 ist ausgebildet, um ein Pad PAD von dem Anzeigebereich DA und dem Nicht-Anzeigebereich NDA freizulegen. Eine solche Pufferschicht 290 ist ausgebildet, um den ersten Damm DAM1 und den zweiten Damm DAM2 zu bedecken. Die Pufferschicht 290 kann weggelassen werden.
  • Auf der Pufferschicht 290 sind die ersten Berührungselektroden TE und die zweiten Berührungselektroden RE in dem Anzeigebereich DA ausgebildet. Die ersten Berührungselektroden TE sind in einer ersten Richtung (x-Achsenrichtung) verlängert, um eine Leitungsform aufzuweisen, und die zweiten Berührungselektroden RE sind in einer zweiten Richtung (y-Achsenrichtung) verlängert, um eine Leitungsform zu haben. Die erste Richtung (x-Achsenrichtung) kann parallel zu den Abtast-Leitungen S1 bis Sn sein, und die zweite Richtung (y-Achsenrichtung) kann parallel zu den Daten-Leitungen D1 bis Dm sein. Alternativ kann die erste Richtung (x-Achsenrichtung) parallel zu den Daten-Leitungen D1 bis Dm sein, und die zweite Richtung (y-Achsenrichtung) kann parallel zu den Abtast-Leitungen S1 bis Sn sein.
  • Unterdessen ist der Isolierfilm 310 zwischen den ersten Berührungselektroden TE und den zweiten Berührungselektroden RE angeordnet, um die ersten Berührungselektroden TE von den zweiten Berührungselektroden RE elektrisch zu isolieren. Auch ist jede der ersten Berührungselektroden TE, die sich in der ersten Richtung erstrecken, elektrisch von den ersten Berührungselektroden TE, die in der zweiten Richtung dazu benachbart sind, isoliert. Jede der zweiten Berührungselektroden RE, die sich in der zweiten Richtung erstrecken, ist elektrisch von den zweiten Berührungselektroden, die in der ersten Richtung dazu benachbart sind, isoliert.
  • Aus diesem Grund kann die Gegenkapazität, die dem Berührungssensor entspricht, auf dem gekreuzten Bereich der ersten Berührungselektrode TE und der zweiten Berührungselektrode RE gebildet sein.
  • Von den ersten Berührungselektroden TE, die in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) miteinander verbunden sind, kann die an einem Ende angeordnete erste Berührungselektrode TE mit der ersten Berührungs-Leitung TL auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA verbunden sein. Die erste Berührungs-Leitung TL kann sich von der ersten Berührungselektrode TE erstrecken und dann strukturiert sein, um den Pad-Bereich PA zu erreichen. Die erste Berührungs-Leitung TL kann mit dem Pad PAD in dem Pad-Bereich PA verbunden sein und dann mit dem ersten Berührungs-Treiber 181 durch das Pad PAD verbunden sein. Daher können die ersten Berührungselektroden TE, die miteinander in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) verbunden sind, einen Ansteuerpuls von dem ersten Berührungs-Treiber 181 durch die erste Berührungs-Leitung TL empfangen.
  • Von den zweiten Berührungselektroden RE, die in der zweiten Richtung (x-Achsenrichtung) miteinander verbunden sind, kann die an einem Ende angeordnete zweite Berührungselektrode RE mit der zweiten Berührungs-Leitung RL auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA verbunden sein. Die zweite Berührungs-Leitung RL kann sich von der zweiten Berührungselektrode RE erstrecken und dann strukturiert werden, um den Pad-Bereich PA zu erreichen. Die zweite Berührungs-Leitung RL kann mit dem Pad PAD auf dem Pad-Bereich PA verbunden sein und dann durch den Pad PAD mit dem zweiten Berührungs-Treiber 182 verbunden sein. Daher kann der zweite Berührungs-Treiber 182 Ladungsänderungen in den Berührungssensoren der zweiten Berührungselektroden RE empfangen, die miteinander in der zweiten Richtung (x-Achsenrichtung) verbunden sind.
  • Der Passivierungsfilm 320 ist auf dem Isolierfilm 310 und der zweiten Berührungselektrode RE gebildet. Der Passivierungsfilm 320 behält die charakteristische Stabilisierung der Anzeigevorrichtung bei, indem schädliche Bedingungen von außen blockiert werden.
  • In einem anderen Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird beschrieben, dass die Berührungserfassungsschicht 40 eine Struktur aufweist, bei der die erste Berührungselektrode TE und die zweite Berührungselektrode RE auf ihren jeweiligen Schichten voneinander verschieden gebildet sind, wie in 11 gezeigt ist, ist aber nicht auf diese Struktur beschränkt. In dem zweiten Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann die Berührungserfassungsschicht 40 eine Struktur aufweisen, bei der die erste Berührungselektrode TE und die zweite Berührungselektrode RE auf der gleichen Schicht ausgebildet sind, wie in 5 gezeigt ist.
  • Im Gegensatz dazu kann in dem zuvor beschriebenen Aspekt der vorliegenden Offenbarung die Berührungserfassungsschicht 40 nicht nur die in 5 gezeigte Struktur aufweisen, sondern auch die in 11 gezeigte Struktur.
  • 16 ist ein Flussdiagramm, das ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung veranschaulicht, und 17A bis 17E sind Querschnittsansichten, die ein Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung veranschaulichen.
  • Zuerst werden Pixel P auf dem Anzeigebereich DA gebildet, und ein Damm DAM wird auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA gebildet (S1601).
  • Ausführlicher werden Dünnfilmtransistoren 210 auf dem ersten Substrat 111 gebildet, wie in 17A gezeigt ist. Ein Pufferfilm kann auf dem ersten Substrat 111 ausgebildet sein. Der Pufferfilm soll die Dünnfilmtransistoren 210 und die organische Leuchtdiode 260 vor Wasser schützen, das durch das erste Substrat 111 dringt, das für Feuchtigkeitspermeabilität anfällig ist und aus einer Vielzahl dünner Film, die abwechselnd abgeschieden sind, gebildet sein kann. Zum Beispiel kann der Pufferfilm aus einem mehrlagigen Film aus einem oder mehreren anorganischen Filmen eines Siliziumoxidfilms (SiOx), eines Siliziumnitridfilms (SiNx) und von SiON gebildet sein, die abwechselnd abgeschieden sind. Der Pufferfilm kann unter Verwendung eines CVD (chemische Gasphasenabscheidung) - Verfahrens gebildet sein.
  • Danach wird die aktive Schicht 211 des Dünnfilmtransistors auf dem Pufferfilm gebildet. Insbesondere wird eine aktive Metallschicht auf der gesamten Oberfläche des Pufferfilms unter Verwendung eines Sputter-Verfahrens oder eines MOCVD (metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung) -Verfahrens gebildet. Dann wird die aktive Metallschicht durch einen Maskenprozess unter Verwendung einer Fotoresist-Struktur strukturiert, um die aktive Schicht 211 zu bilden. Die aktive Schicht 211 kann aus einem Halbleitermaterial auf Siliziumbasis oder einem Halbleitermaterial auf Oxidbasis gebildet sein.
  • Dann wird der Gate-Isolierfilm 220 auf der aktiven Schicht 211 ausgebildet. Der Gate-Isolierfilm 220 kann aus einem anorganischen Film gebildet sein, zum Beispiel einem Siliziumoxidfilm (SiOx), einem Siliziumnitridfilm (SiNx) oder einem mehrlagigen Film des Siliziumoxidfilms und des Siliziumnitridfilms.
  • Dann wird die Gate-Elektrode 212 des Dünnfilmtransistors 210 auf dem Gate-Isolierfilm 220 gebildet. Insbesondere wird eine erste Metallschicht auf der gesamten Oberfläche des Gate-Isolierfilms 220 unter Verwendung eines Sputter-Verfahrens oder eines MOVCD (metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung)-Verfahrens gebildet. Dann wird die erste Metallschicht durch ein Maskenverfahren unter Verwendung einer Fotoresist-Struktur strukturiert, um die Gate-Elektrode 212 zu bilden. Die Gate-Elektrode 212 kann aus einer einzelnen Schicht oder einer mehrlagigen Schicht aus irgendeinem von Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, Nd und Cu oder deren Legierung gebildet werden.
  • Dann wird eine dielektrische Zwischenschicht 230 auf der Gate-Elektrode 212 gebildet. Die dielektrische Zwischenschicht 230 kann aus einem anorganischen Film, beispielsweise einem Siliziumoxidfilm (SiOx), einem Siliziumnitridfilm, (SiNx) oder einem mehrlagiger Film des Siliziumoxidfilms und des Siliziumnitridfilms gebildet werden.
  • Dann werden Kontaktlöcher zum Freilegen der aktiven Schicht 211 gebildet, indem diese durch den Gate-Isolierfilm 220 und die dielektrischen Zwischenschicht 230 hindurch verlaufen.
  • Dann werden die Source- und Drain-Elektroden 213 und 214 des Dünnfilmtransistors 210 auf der dielektrischen Zwischenschicht 230 gebildet. Insbesondere wird eine zweite Metallschicht auf der gesamten Oberfläche der dielektrischen Zwischenschicht 230 unter Verwendung von eines Sputter-Verfahrens oder eines MOCVD (metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung)-Verfahrens gebildet. Dann wird die zweite Metallschicht durch einen Maskenprozess unter Verwendung einer Fotoresist-Struktur strukturiert, um die Source- und Drain-Elektroden 213 und 214 zu bilden. Jede der Source- und Drain-Elektroden 213 und 214 kann durch Kontaktlöcher, die durch den Gate-Isolierfilm 220 und die dielektrische Zwischenschicht 230 hindurch verlaufen, mit der aktiven Schicht 211 verbunden sein. Die Source- und die Drain-Elektrode 213 und 214 können aus einer einzelnen Schicht oder mehrlagigen Schichten gebildet sein, die aus einem von Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, Nd und Cu oder deren Legierung bestehen.
  • Dann wird der Passivierungsfilm 240 auf den Source- und Drain-Elektroden 213 und 214 des Dünnfilmtransistors 210 gebildet. Der Passivierungsfilm 240 kann aus einem anorganischen Film, beispielsweise einem Siliziumoxidfilm (SiOx), einem Siliziumnitridfilm (SiNx) oder einem mehrlagigen Film des Siliziumoxidfilms und des Siliziumnitridfilms gebildet sein. Der Passivierungsfilm 240 kann unter Verwendung eines CVD-Verfahrens gebildet werden.
  • Dann wird der Planarisierungsfilm 250 zum Planarisieren einer Stufendifferenz aufgrund des Dünnfilmtransistors 210 auf der Passivierungsschicht 240 gebildet. Der Planarisierungsfilm 250 kann aus einem organischen Film wie etwa Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz und Polyimidharz gebildet sein.
  • Dann wird die organische Leuchtdiode 260 auf dem Planarisierungsfilm 250 ausgebildet, wie in 17B gezeigt ist. Genauer gesagt ist die erste Elektrode 261 der organischen Leuchtdiode 260 auf dem Planarisierungsfilm 250 ausgebildet. Eine dritte Metallschicht ist auf der gesamten Oberfläche des Planarisierungsfilms 250 unter Verwendung eines Sputter-Verfahrens oder eines MOCVD (Metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung) -Verfahrens ausgebildet. Dann wird die dritte Metallschicht durch einen Maskenprozess unter Verwendung einer Fotoresist-Struktur strukturiert, um die Source- und Drain-Elektroden 213 und 214 zu bilden. Die erste Elektrode 261 kann mit der Source-Elektrode 223 durch ein Kontaktloch verbunden sein, das durch den Passivierungsfilm 240 und den Planarisierungsfilm 250 hindurch verläuft. Die erste Elektrode 261 kann aus einem leitenden Material mit hoher Reflektivität gebildet sein, beispielsweise einer Abscheidungsstruktur (Ti/Al/Ti) aus Al und Ti, einer Abscheidungsstruktur (ITO/Al/ITO) aus AI und ITO, einer APC-Legierung oder einer Abscheidungs-Struktur (ITO/APC/ITO) aus APC-Legierung und ITO.
  • Um die Pixel P einzuteilen, wird dann die Bank 270 auf dem Planarisierungsfilm 250 gebildet, um eine Kante der ersten Elektrode 261 zu bedecken, und ein Damm DAM wird auch zusammen mit der Bank 270 gebildet. In diesem Fall wird der Damm DAM auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA gebildet. Sowohl der Damm DAM als auch die Bank 270 können aus einem organischen Film wie Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz und Polyimidharz gebildet sein.
  • Insbesondere kann der Damm DAM so ausgebildet werden, dass er durch einen Belichtungsprozess unter Verwendung einer Halbtonmaske oder einer Schlitzmaske eine Neigung von weniger als 90° aufweist. Genauer kann eine Volltonmaske in einem Bereich angeordnet sein, in dem eine obere Oberfläche des DAM gebildet werden soll, und eine Halbtonmaske oder eine Schlitzmaske kann in einem Bereich angeordnet sein, in dem eine geneigte Seite des Damms DAM gebildet werden soll, wobei der Belichtungsprozess durchgeführt werden kann, um den Damm DAM an mindestens einer Seite mit einer Neigung kleiner als 90° zu bilden.
  • Unterdessen wird der Damm DAM gleichzeitig mit der Bank 270 gebildet, ist jedoch nicht auf dieses Beispiel beschränkt. In einem anderen Aspekt kann der Damm DAM gleichzeitig mit dem Planarisierungsfilm 250 gebildet werden.
  • Dann wird die organische lichtemittierende Schicht 261 auf der ersten Elektrode 261 und der Bank 270 durch einen Abscheidungsprozess oder einen Lösungsprozess gebildet. Dann wird die zweite Elektrode 263 auf der organischen lichtemittierenden Schicht 262 gebildet. Die zweite Elektrode 263 kann eine gemeinsame Schicht sein, die üblicherweise auf den Pixeln P gebildet wird. Die zweite Elektrode 263 kann aus einem transparenten leitenden Material (TCO) gebildet werden beispielsweise ITO und IZO, die Licht durchlassen können. Die zweite Elektrode 263 kann durch physikalische Gasphasenabscheidung wie etwa ein Sputter-Verfahren gebildet werden. Eine Abdeckschicht kann auf der zweiten Elektrode 263 gebildet werden.
  • Als Nächstes wird der Verkapselungsfilm 280 so ausgebildet, dass er den Anzeigebereich DA bedeckt (S1602).
  • Wie in 17C gezeigt ist, ist der Verkapselungsfilm 280 auf der zweiten Elektrode 263 ausgebildet. Der Verkapselungsfilm 280 dient dazu, zu verhindern, dass Sauerstoff oder Wasser in die organische lichtemittierende Schicht 262 und die zweite Elektrode 263 eindringt. Zu diesem Zweck kann der Verkapselungsfilm 280 mindestens einen anorganischen Film und mindestens einen organischen Film aufweisen.
  • Zum Beispiel kann der Verkapselungsfilm 280 einen ersten anorganischen Film 281, einen organischen Film 282 und einen zweiten anorganischen Film 283 aufweisen. In diesem Fall ist der erste anorganische Film 281 so ausgebildet, dass er die zweite Elektrode 263 bedeckt. Der organische Film 282 ist so ausgebildet, dass er den ersten anorganischen Film 281 bedeckt. Der organische Film 282 ist vorzugsweise mit einer ausreichenden Dicke ausgebildet, um zu verhindern, dass Partikel in die organische lichtemittierende Schicht 262 und die zweite Elektrode 263 eindringen, indem sie durch den ersten anorganischen Film 281 hindurchtreten. Der zweite anorganische Film 281 ist so ausgebildet, dass er den organischen Film 282 bedeckt.
  • Der erste und zweite anorganische Film 281 und 283 kann jeweils aus einem Siliziumoxid, einem Siliziumnitrid, einem Siliziumnitrid, einem Aluminiumoxid, einem Aluminiumnitrid, einem Zirkoniumnitrid, einem Titannitrid, einem Hafniumnitrid, einem Tantalnitrid oder einem Titanoxid gebildet sein. Der organische Film 282 kann aus Acrylharz, Epoxidharz, Phenolharz, Polyamidharz oder Polyimidharz gebildet sein.
  • Als Nächstes werden Metall-Strukturen, beispielsweise erste Berührungselektroden TE und zweite Berührungselektroden RE, auf dem Verkapselungsfilm 280 und dem Damm DAM (S1603) gebildet.
  • Wie in 17D gezeigt ist, wird die Pufferschicht 290 auf dem Verkapselungsfilm 280 gebildet. Danach werden die ersten Berührungselektroden TE, die zweiten Berührungselektroden RE, die ersten Berührungs-Leitungen TL und die zweiten Berührungs-Leitungen RL auf der Pufferschicht 290 gebildet. Genauer gesagt sind die ersten Berührungselektroden TE in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) so angeordnet, dass sie in einem konstanten Raum voneinander beabstandet sind, und die zweiten Berührungselektroden RE sind in der zweiten Richtung (x -Achsenrichtung) so angeordnet, dass sie miteinander verbunden sind. In diesem Fall können jede der ersten Berührungselektroden TE und der zweiten Berührungselektroden RE Formen eines Rechtecks, eines Achtecks, eines Kreises oder eines Rhombus aufweisen.
  • Von den ersten Berührungselektroden, die in der ersten Richtung (y-Achsenrichtung) miteinander verbunden sind, kann die an einem Ende angeordnete erste Berührungselektrode TE mit der ersten Berührungs-Leitung TL auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA verbunden sein. Die erste Berührungs-Leitung TL kann sich von der ersten Berührungselektrode TE erstrecken und dann strukturiert werden, um den Pad-Bereich PA zu erreichen. Die erste Berührungselektrode TE und die erste Berührungs-Leitung TL können auf der gleichen Schicht ausgebildet werden und können aus dem gleichen Material gebildet werden.
  • Von den zweiten Berührungselektroden RE, die in der zweiten Richtung (x-Achsenrichtung) miteinander verbunden sind, kann die an einem Ende angeordnete zweite Berührungselektrode RE mit der zweiten Berührungs-Leitung RL auf dem Nicht-Anzeigebereich NDA verbunden sein. Die zweite Berührungs-Leitung RL kann sich von der zweiten Berührungselektrode RE erstrecken und dann strukturiert werden, um den Pad-Bereich PA zu erreichen. Die zweite Berührungselektrode RE und die zweite Berührungs-Leitung RL können auf derselben Schicht angeordnet werden und können aus dem gleichen Material gebildet werden.
  • Die ersten Berührungselektroden TE, die zweiten Berührungselektroden RE, die ersten Berührungs-Leitungen TL und die zweiten Berührungs-Leitungen RL können aus einem transparenten leitfähigen Material (TCO) gebildet werden beispielsweise ITO und IZO, die Licht durchlassen können.
  • Eine vierte Metallschicht wird auf der gesamten Oberfläche des Pufferfilms 290 unter Verwendung eines Sputter-Verfahrens oder eines MOCVD (Metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung Deposition) -Verfahrens gebildet. Dann wird die vierte Metallschicht durch einen Maskenprozess unter Verwendung einer Fotoresist-Struktur strukturiert, um die ersten Berührungselektroden TE, die zweiten Berührungselektroden RE, die ersten Berührungs-Leitungen TL und die zweiten Berührungs-Leitungen RL zu bilden.
  • Dann werden, wie in 17E gezeigt ist, der Isolierfilm 310, die Brückenelektroden BE und der Passivierungsfilm 320 gebildet. Genauer gesagt wird der Isolierfilm 310 auf den ersten Berührungselektroden TE und den zweiten Berührungselektroden RE gebildet.
  • Dann werden die Brückenelektroden BE auf dem Isolierfilm 310 ausgebildet. Kontaktlöcher CT zum teilweisen Freilegen der ersten Berührungselektroden TE werden auf dem Isolierfilm 310 gebildet, und die Brückenelektroden BE werden auf dem Isolierfilm 310 durch ein Maskenprozess unter Verwendung einer Fotoresist-Struktur gebildet. Die Brückenelektroden BE können elektrisch mit ihren benachbarten ersten Berührungselektroden TE durch die Kontaktlöcher CT, die durch den Isolierfilm 310 verlaufen, verbunden sein.
  • Dann wird der Passivierungsfilm 320 auf der gesamten Oberfläche des ersten Substrats 111 ausgebildet.
  • Obwohl nicht im Detail gezeigt, ist das erste Substrat 111, auf dem der Passivierungsfilm 320 gebildet wird, mit dem zweiten Substrat 112 verbunden. Das erste Substrat 111 und das zweite Substrat 112 können derart miteinander verbunden sein, dass der Passivierungsfilm 320 des ersten Substrats 111 und das zweite Substrat unter Verwendung einer (nicht gezeigten) Klebeschicht miteinander verbunden sind. Die Klebeschicht (nicht gezeigt) kann ein optisch klares Harz (OCR) oder ein optisch klarer Klebefilm (OCA) sein.
  • Wie oben beschrieben, können gemäß der vorliegenden Offenbarung die folgenden Vorteile erhalten werden.
  • Gemäß den Aspekten der vorliegenden Offenbarung wird die Berührungserfassungsschicht direkt auf der Verkapselungsschicht ausgebildet und daher müssen das erste Substrat und das zweite Substrat nicht ausgerichtet werden, wenn sie miteinander verbunden werden.
  • Da gemäß den Aspekten der vorliegenden Offenbarung der Damm so ausgebildet ist, dass er mindestens eine Seite mit einer Neigung aufweist, kann die Stufendifferenz aufgrund des Damms verringert werden. Daher können die auf dem Damm gebildeten Elemente auf einer planarisierten Oberfläche gebildet werden.
  • Da gemäß den Aspekten der vorliegenden Offenbarung der anorganische Film auf dem Damm mit einer konstanten Dicke gebildet werden kann, kann verhindert werden, dass ein Riss auftritt.
  • Wenn gemäß den Aspekten der vorliegenden Offenbarung die Metall-Strukturen, beispielsweise die erste Berührungs-Leitung und die zweite Berührungs-Leitung, auf dem Damm gebildet sind, kann verhindert werden, dass der Filmrest verbleibt.
  • Gemäß den Aspekten der vorliegenden Offenbarung weisen die erste Seite und die zweite Seite des Damms ihre jeweilig zueinander unterschiedlichen Neigungen auf, wodurch gleichzeitig die optimale Struktur zum Reduzieren der Stufendifferenz und Minimieren der Einfassung realisiert werden kann.
  • Es ist für den Fachmann offensichtlich, dass verschiedene Modifikationen und Variationen in der vorliegenden Offenbarung vorgenommen werden können, ohne vom Geist oder Umfang der Offenbarungen abzuweichen. Somit ist beabsichtigt, dass die vorliegende Offenbarung die Modifikationen und Variationen dieser Offenbarung abdeckt, vorausgesetzt, dass sie in den Umfang der beigefügten Ansprüche fallen.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • KR 1020170074614 [0001]

Claims (24)

  1. Was beansprucht ist:
  2. Anzeigevorrichtung mit: einem Substrat (111) mit einem Anzeigebereich (DA), auf dem Pixel (P) angeordnet sind, und einem Nichtanzeigebereich (NDA), der den Anzeigebereich (DA) umgibt; einen Verkapselungsfilm (280), der den Anzeigebereich (DA) bedeckt und einen organischen Film (282) enthält; einen ersten Damm (DAM, DAM1) in Kontakt mit dem Verkapselungsfilm (280) mit ersten und zweiten Seitenflächen (S1, S2), wobei die erste Seitenfläche (S1) dem Verkapselungsfilm (280) zugewandt ist und in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung kleiner als aufweist 90°; und eine Metall-Struktur, die auf dem ersten Damm (DAM, DAM1) ausgebildet ist.
  3. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, wobei der erste Damm (DAM, DAM1) den organischen Film (282) umgibt.
  4. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die zweite Seitenfläche (S2) des ersten Damms (DAM, DAM1) in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung gleich oder kleiner als 45° aufweist.
  5. Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei jede der ersten Seitenfläche (S1) und der zweiten Seitenfläche (S2) des ersten Damms (DAM, DAM1) in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung gleich oder kleiner als 90° aufweist, und die zweite Seitenfläche (S2) hat eine geringere Neigung aufweist als die der ersten Seitenfläche (S1).
  6. Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner aufweisend: einen zweiten Damm (DAM2), der außerhalb des ersten Damms (DAM1) angeordnet ist.
  7. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 5, wobei der zweite Damm (DAM2) dritte und vierte Seitenflächen (S3, S4) aufweist, wobei die dritte Seitenfläche (S3) dem ersten Damm (DAM1) zugewandt ist und eine gegenüberliegende Seite der vierten Seitenflächen (S4) ist, und die zweite Seitenfläche (S2) und die dritte Seitenfläche (S3) voneinander beabstandet sind und in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung gleich oder kleiner als 45° aufweisen.
  8. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 6, wobei die vierte Seitenfläche (S4) eine Neigung aufweist, die kleiner als jene der ersten bis dritten Seitenfläche (S1, S2, S3) ist.
  9. Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, ferner aufweisend: erste Berührungselektroden (TE) und zweite Berührungselektroden (RE), die auf dem Verkapselungsfilm (280) ausgebildet sind, wobei sich die Metall-Struktur von mindestens einer der ersten Berührungselektroden (TE) und der zweiten Berührungselektroden (RE) erstreckt.
  10. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 8, ferner aufweisend: Brückenelektroden (BE), die die zweiten Berührungselektroden (RE) elektrisch mit den ersten Berührungselektroden (TE) verbinden, die von den zweiten Berührungselektroden (RE) auf derselben Schicht beabstandet sind.
  11. Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei der Verkapselungsfilm (280) ferner einen anorganischen Film (283) aufweist, der den organischen Film (282) und den ersten Damm (DAM, DAM1) bedeckt.
  12. Verfahren zum Herstellen einer Anzeigevorrichtung mit einem Anzeigebereich (DA) und einem Nichtanzeigebereich (NDA) eines Substrats (111), aufweisend: Bilden von Pixeln (P) auf dem Anzeigebereich (DA) des Substrats (111); Bilden eines ersten Damms (DAM, DAM1) auf dem Nicht-Anzeigebereich (NDA) des Substrats (111), wobei der erste Damm (DAM, DAM1) erste und zweite Seitenflächen (S1, S2) hat und die erste Seitenflächen (S1) den Pixeln (P) zugewandt ist und die zweite Seitenflächen (S2) in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung kleiner als 90° aufweist; Bilden eines Verkapselungsfilms (280) zum Abdecken des Anzeigebereichs (DA); und Bilden von ersten Berührungselektroden (TE) und zweiten Berührungselektroden (RE) auf dem Verkapselungsfilm (280) und dem ersten Damm (DAM, DAM1).
  13. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die zweite Seitenfläche (S2) des ersten Damms (DAM, DAM1) beim Bilden des erstens Damm (DAM, DAM1) durch einen Belichtungsprozess unter Verwendung einer Halbtonmaske oder einer Schlitzmaske in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung kleiner als 90° aufweist.
  14. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, wobei die zweite Seitenfläche (S2) des ersten Damms (DAM, DAM1) beim Bilden des ersten Damms (DAM, DAM1) in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung kleiner oder gleich 45° aufweist.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei das Bilden des ersten Damms (DAM1) ferner das Bilden eines zweiten Damms (DAM2) außerhalb des ersten Damms (DAM1) aufweist.
  16. Verfahren nach Anspruch 14, wobei die zweite Seitenfläche (S2) des ersten Damms (DAM1) beim Bilden des ersten Damms (DAM1) dem zweiten Damm (DAM2) zugewandet ist und eine dritte Seitenfläche (S3) des zweiten Damms (DAM2) dem ersten Damm (DAM1) zugewandt ist, und die zweite und die dritte Seitenfläche (S2, S3), die voneinander beabstandet sind, haben in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung kleiner oder gleich 45°.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 15, wobei das Bilden des Verkapselungsfilms (280) aufweist: Bilden eines organischen Films (282), um den Anzeigebereich (DA) zu bedecken; und Bilden eines anorganischen Films (283), um den organischen Film (282) und den ersten Damm (DAM, DAM1) zu bedecken.
  18. Anzeigevorrichtung mit einem Anzeigebereich (DA), auf dem eine Vielzahl von Pixeln angeordnet ist, und einem Nicht-Anzeigebereich (NDA), der den Anzeigebereich (DA) umgibt, auf einem Substrat (111), aufweisend: einen Verkapselungsfilm (280), der den Anzeigebereich (DA) bedeckt und einen organischen Film (282) und einen anorganischen Film (283), der den organischen Film (282) bedeckt, aufweist; eine Vielzahl von ersten Berührungselektroden (TE) und zweiten Berührungselektroden (RE), die voneinander beabstandet sind und auf dem Verkapselungsfilm (280) angeordnet sind; eine Vielzahl von Brückenelektroden (BE), die die Vielzahl von ersten Berührungselektroden (TE) und zweiten Berührungselektroden (RE) verbindet; einen ersten Damm (DAM, DAM1), der den Verkapselungsfilm (280) im Nicht-Anzeigebereich (NDA) kontaktiert und erste und zweite Seitenflächen (S1, S2) aufweist, wobei die erste Seitenfläche (S1) dem Verkapselungsfilm (280) zugewandt ist und die zweite Seitenfläche (S2) eine Neigung aufweist, die kleiner ist als die der ersten Seitenfläche (S1); und eine Metall-Struktur, die auf dem ersten Damm (DAM, DAM1) angeordnet ist und sich von mindestens einem der Vielzahl von ersten Berührungselektroden (TE) und den zweiten Berührungselektroden (RE) erstreckt.
  19. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 17, wobei der erste Damm (DAM, DAM1) den organischen Film (282) umgibt.
  20. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 17 oder 18, wobei die zweite Seitenfläche (S2) des ersten Damms (DAM, DAM1) in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung gleich oder kleiner als 45° aufweist.
  21. Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 17 bis 19, wobei sowohl die erste Seitenfläche (S1) als auch die zweite Seitenfläche (S2) des ersten Damms (DAM, DAM1) in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung gleich oder kleiner als 90° aufweist.
  22. Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 17 bis 20, ferner aufweisend: einem zweiten Damm (DAM2), der außerhalb des ersten Damms (DAM1) angeordnet ist.
  23. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 21, wobei der zweite Damm (DAM2) dritte und vierte Seitenflächen (S3, S4) aufweist, wobei die dritte Seitenfläche (S3) dem ersten Damm (DAM1) zugewandt ist und eine gegenüberliegende Seite der vierten Seitenfläche (S4) ist, und die zweite Seitenfläche (S2) und die dritte Seitenfläche (S3) voneinander beabstandet sind und in Bezug auf das Substrat (111) eine Neigung gleich oder kleiner als 45° aufweisen.
  24. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 22, wobei die vierte Seitenfläche (S4) eine Neigung aufweist, die kleiner ist als jene der ersten bis dritten Seitenfläche (S1, S2, S3).
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