CN109088009B - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

公开了一种显示装置及其制造方法，其可以防止在构成封装膜的无机膜上发生开裂并防止出现残留膜。该显示装置包括：基板，包括其上布置有像素的显示区域和围绕显示区域的非显示区域；覆盖显示区域并包括有机膜的封装膜；第一坝部，被布置成与封装膜接触，并具有第二侧，所述第二侧是面对所述有机膜的第一侧的相反侧并且具有小于90°的倾斜角；以及图案化形成在第一坝部上的金属图案。

Description

显示装置及其制造方法
相关申请的交叉引用
本申请要求于2017年6月14日提交的韩国专利申请第10-2017-0074614号的权益，通过引用将其全部内容并入本文以用于所有目的，如同在本文中完全阐述那样。
技术领域
本公开涉及一种显示装置及其制造方法。
背景技术
随着信息时代的进步，对用于显示图像的显示装置的需求已经以各种形式增加。因此，已经使用了各种显示装置，例如液晶显示(LCD)装置，等离子显示面板(PDP)装置和有机发光显示(OLED)装置。
在显示装置中，有机发光显示装置是自发光装置，并且具有视角和对比率大于液晶显示(LCD)装置的视角和对比率的优点。而且，由于有机发光显示装置不需要单独的背光，所以有利的是，有机发光显示装置可以制造得薄且重量轻且具有低功耗。此外，有机发光显示装置的优点在于其可以以低的直流电压驱动，具有快速的响应速度，并且特别地具有低制造成本。
然而，有机发光显示装置包括各自包括有机发光二极管的像素，并且具有如下缺点：有机发光二极管可能容易受诸如外部的水和氧的外部因素的影响而劣化。为了防止这种情况，有机发光显示装置形成封装膜以防止外部的水和氧渗透到有机发光二极管中。
封装膜包括至少一个无机膜和至少一个有机膜以防止氧或水渗透到有机发光层和电极中。此时，至少一个有机膜通常包括聚合物层，并且通过在以液体类型滴在基板上的硬化过程之后形成。由于这种有机膜在进行硬化处理之前具有流动性，因此可能出现有机膜可能溢出到要形成封装膜的区域之外的问题。为了解决这个问题，沿着有机发光二极管的外部形成用于阻挡有机膜的流动的坝部。
同时，当如上所述形成坝部时，由于坝部产生台阶差，所以有机发光显示装置具有不平坦的待沉积的表面。因此，如果另一层沉积在坝部上，则会出现下面的其他问题。
首先，在形成封装层的无机膜沉积在坝部上的情况下，会出现难以以恒定厚度形成无机膜的问题。具体地，无机膜在其中基板和坝部彼此接触的区域中形成得更薄，由此可能出现开裂。开裂可能通过外部冲击沿着无机膜传播到内部，沿着传播开裂进入内部的水和氧可能导致黑斑和黑线。
另外，在通过使用光致抗蚀剂图案的工艺在坝部上形成金属图案的情况下，会出现如下问题：金属图案可能不会从应该已去除金属的区域完全去除，因此保留为残留膜。
发明内容
因此，本公开涉及一种显示装置及其制造方法，其基本上消除了由于相关技术的限制和缺点而导致的一个或复数个问题。
更具体地，本公开提供了一种能够防止残留膜出现的显示装置及其制造方法。
此外，本公开提供了一种能够防止在构成封装膜的无机膜上出现开裂的显示装置及其制造方法。
本公开的另外的优点和特征将部分地在下面的描述中阐述，并且对于本领域普通技术人员而言，在研究以下内容时将部分地变得明显，或者可以从本公开的实践中获知。本公开的一个或更多个目的和优点可以通过书面说明书及其权利要求书以及附图中特别指出的结构来实现和获得。
根据本公开的一个方面的显示装置包括：基板，该基板包括其上布置有像素的显示区域和围绕显示区域的非显示区域；覆盖显示区域并包括有机膜的封装膜；第一坝部，所述第一坝部被布置成与所述封装膜接触，具有第二侧，所述第二侧是与面向所述封装膜的第一侧相反的侧并具有小于90°的倾斜角；以及图案化形成在第一坝部上的金属图案。
根据本公开的另一方面的制造显示装置的方法包括以下步骤：提供基板，该基板包括布置有像素的显示区域和围绕该显示区域的非显示区域；形成包括非显示区域的至少一侧具有倾斜角的坝部；在坝部内侧形成有机膜以覆盖显示区域；以及在有机膜和坝部上形成第一触摸电极和第二触摸电极。
根据本公开的另一方面的在基板上包括布置有复数个像素的显示区域和围绕显示区域的非显示区域的显示装置包括覆盖显示区域并且包括有机膜和覆盖有机膜的无机膜的封装膜；彼此间隔开并设置在所述封装膜上的复数个第一触摸电极和第二触摸电极；复数个桥电极，连接至彼此相邻的第一触摸电极；在非显示区域接触封装膜并且具有第一侧表面和第二侧表面的第一坝部，其中第一侧表面面向封装膜并且第二侧表面具有比第一侧表面的倾斜角小的倾斜角；以及金属图案，设置在第一坝部上并且从复数个第一触摸电极和第二触摸电极中的至少一个延伸。
应当理解，本公开的前述一般描述和以下详细描述都是示例性和解释性的，并且旨在提供对所要求保护的本公开的进一步解释。
附图说明
包括附图以提供对本公开的进一步理解并且附图被并入且构成本申请的一部分，附图示出了本公开的方面并且与说明书一起用于解释本公开的原理。
在附图中：
图1是示出根据本公开的一个方面的显示装置的透视图；
图2是简要示出根据本公开的一个方面的显示装置的框图；
图3是简要示出图1中的显示面板的一个侧面的截面图；
图4是简要示出根据本公开的一个方面的第一基板的平面图；
图5是示出布置在图4中的第一基板上的触摸感测层的平面图；
图6是示出沿着图5的线I-I'截取的一个示例的截面图；
图7是表示坝部的一个示例的截面图；
图8是表示坝部的另一示例的截面图；
图9是表示坝部的其他示例的截面图；
图10是简要示出根据本公开的另一方面的第一基板的平面图；
图11是示出布置在图10中的第一基板上的触摸感测层的平面图；
图12是示出沿图10的线II-II'截取的一个示例的截面图；
图13是示出第一坝部和第二坝部的一个示例的截面图；
图14是示出第一坝部和第二坝部的另一示例的截面图；
图15是示出第一坝部和第二坝部的其他示例的截面图；
图16是示出根据本公开的一个方面的制造显示装置的方法的流程图；以及
图17A至图17E是示出根据本公开的一个方面的用于制造显示装置的方法的截面图。
具体实施方式
通过参照附图描述的以下方面将进一步说明本公开的优点和特征及其实现方法。然而，本公开可以以不同形式来体现，并且不应被解释为限于本文阐述的方面。相反，提供这些方面使得本公开将是彻底和完整的，并且将向本领域技术人员充分传达本公开的范围。此外，本公开仅由权利要求的范围限定。
用于描述本公开的各方面的附图中公开的形状、尺寸、比率、角度和数字仅仅是示例，因此，本公开不限于所示出的细节。在整个说明书中，相同的附图标记指代相同的元件。在以下描述中，当相关的已知功能或配置的详细描述被确定为不必要地模糊本公开的重点时，将省略详细描述。
在使用本说明书中描述的“包括”、“具有”和“包含”的情况下，除非使用“仅～”，否则可以添加另一部分。单数形式的术语可以包括复数形式，除非相反提到。
在解释元件时，虽然没有明确的描述，但该元件被解释为包括误差范围。
在描述位置关系时，例如，当位置关系被描述为“在……之前”、“在……之上”、“在……之下”和“在……之后”时，在两个其他部分可以布置一个或更多个部分，除非使用‘仅’或‘直接’。
在描述时间关系时，例如，当时间顺序被描述为‘在……之后’、‘随后’、‘接下来’和‘在……之前’时，可以包括不连续的情况，除非使用‘仅’或‘直接’。
应该理解，尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于区分一个元件和另一个元件。例如，在不脱离本公开的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。
“X轴方向”、“Y轴方向”和“Z轴方向”不应该仅由相互垂直关系的几何关系来解释，并且可以在本公开的元件在功能上起作用的范围内具有更广泛的方向性。
术语“至少一个”应理解为包括一个或更多个相关所列项的任何和所有组合。例如，“第一项、第二项和第三项中的至少一个”的含义表示由第一项、第二项和第三项中的两个或更多个提出的所有项的组合以及第一项、第二项或第三项。
如本领域技术人员可以充分理解的，本公开的各个方面的特征可以部分地或整体地彼此结合或彼此组合，并且可以彼此不同地互操作并且在技术上被驱动。本公开的各方面可以彼此独立地执行，或者可以以相互依赖的关系一起执行。
在下文中，将参照附图详细描述本公开的优选方面。
图1是示出根据本公开的一个方面的显示装置的透视图。图2是示出根据本公开的一个方面的显示装置的框图。
参照图1和图2，根据本公开的一个方面的显示装置包括显示面板110、扫描驱动器120、数据驱动器130、定时控制器160、主机系统170、触摸驱动器180以及触摸坐标计算器190。
根据本公开的一个方面的具有内置式触摸屏的显示装置可以实现为诸如液晶显示器(LCD)、场发射显示器(FED)、等离子显示器面板(PDP)、有机发光显示器(OLED)和电泳显示器(EPD)的平板显示装置。在下文中，根据本公开的一个方面的具有内置式触摸屏的显示装置被实现为有机发光显示装置但不限于此。
显示面板110包括其上布置有像素P以显示图像的显示区域。在显示区域上，形成有数据线D1至Dm(m是2或更大的正整数)以及扫描线S1至Sn(n是2或更大的正整数)。数据线D1至Dm可以形成为与扫描线S1至Sn交叉。像素P可以形成在由栅极线和数据线的交叉结构限定的区域上。
显示面板110的像素P中的每个可以连接至数据线D1至Dm中的任意一个以及扫描线S1至Sn中的任意一个。显示面板110的像素P中的每个可以包括：用于根据施加到栅电极的数据电压来控制漏源电流的驱动晶体管；通过扫描线的扫描信号导通的扫描晶体管，其将数据线的数据电压提供至驱动晶体管的栅电极；用于根据驱动晶体管的漏源电流发光的有机发光二极管；以及用于存储驱动晶体管的栅电极的电压的电容器。因此，像素P中的每个可以根据提供至有机发光二极管的电流而发光。
扫描驱动器120接收来自定时控制器160的扫描控制信号GCS。扫描驱动器120根据扫描控制信号GCS将扫描信号提供至扫描线S1至Sn。
扫描驱动器120可以以GIP(板内栅极驱动器)模式形成在显示面板110的显示区域的一侧或两侧之外的非显示区域中。另选地，扫描驱动器120由驱动芯片制成，封装在柔性膜中，并且可以以TAB(带自动化结合)模式附着到显示面板110的显示区域的一侧或两侧之外的非显示区域。
数据驱动器130接收来自定时控制器160的数字视频数据DATA和数据控制信号DCS。数据驱动器130根据数据控制信号DCS将数字视频数据DATA转换为模拟正极性/负极性数据电压并将它们提供至数据线。即，通过扫描驱动器120的扫描信号来选择数据电压要被提供至的像素，并且将数据电压提供至所选择的像素。
如图1所示，数据驱动器130可以包括复数个源驱动器IC 131。复数个源驱动器IC131中的每个可以以COF(膜上芯片)或COP(塑料上芯片)模式封装到柔性膜140中。使用各向异性导电膜将柔性膜140附着到设置在显示面板110的非显示区域上的焊盘上，由此源驱动器IC 131可以连接至焊盘。
电路板150可以附接至柔性膜140。被实现为驱动芯片的复数个电路可以被封装到电路板150上。例如，定时控制器160可以被封装到电路板150上。电路板150可以是印刷电路板或柔性印刷电路板。
定时控制器160接收来自主机系统170的数字视频数据DATA和定时信号。定时信号可以包括垂直同步信号、水平同步信号、数据使能信号和点时钟。垂直同步信号是定义一帧周期的信号。水平同步信号是定义将数据电压提供至显示面板110的一条水平线的像素所需的一个水平周期的信号。数据使能信号是定义输入可用数据的周期的信号。点时钟是以预定的短周期重复的信号。
为了控制扫描驱动器120和数据驱动器130的操作定时，定时控制器160产生数据控制信号DCS以控制数据驱动器130的操作定时和用于基于定时信号控制扫描驱动器120的操作定时的扫描控制信号GCS。定时控制器160将扫描控制信号GCS输出至扫描驱动器120，并将数字视频数据DATA和数据控制信号DCS输出至数据驱动器130。
主机系统170可以实现为导航系统、机顶盒、DVD播放器、蓝光播放器、个人计算机(PC)、家庭影院系统、广播接收器和电话系统。主机系统170包括配备有定标器的SoC(片上系统)，并将输入图像的数字视频数据转换成适合于显示显示面板110的格式。主机系统170将数字视频数据DATA和定时信号转移至定时控制器160。
在显示面板110上，不仅可以形成数据线D1至Dm和扫描线S1至Sn，还可以形成第一触摸电极和第二触摸电极。第一触摸电极可以形成为与第二触摸电极交叉。第一触摸电极可以通过第一触摸线T1至Tj连接至第一触摸驱动器181，其中j是等于或大于2的整数。第二触摸电极可以通过第二触摸线R1至Ri连接至第二触摸驱动器182，其中i是等于或大于2的整数。在第一触摸电极和第二触摸电极之间的每个交叉部上，可以形成触摸传感器。根据本公开的一个方面的触摸传感器被实现为但不限于互电容。将在后面参照图5更详细地描述第一触摸电极和第二触摸电极。
触摸驱动器180通过第一触摸线T1至Tj将驱动脉冲提供至第一触摸电极，并且通过第二触摸线R1至Ri感测触摸传感器中每个的电荷变化量。也就是说，在图2中，将基于第一触摸线T1至Tj是用于提供驱动脉冲的Tx线和第二触摸线R1至Ri是用于感测触摸传感器中每个的电荷变化量的Rx线来给出描述。
触摸驱动器180包括第一触摸驱动器181、第二触摸驱动器182和触摸控制器183。第一触摸驱动器181、第二触摸驱动器182和触摸控制器183可以被集成为一个ROIC(读出IC)。
第一触摸驱动器181在触摸控制器183的控制下选择第一触摸线以输出驱动脉冲，并将驱动脉冲提供至所选择的第一触摸线。例如，第一触摸驱动器181可以将驱动脉冲顺序地提供至第一触摸线T1至Tj。
第二触摸驱动器182在触摸控制器183的控制下选择第二触摸线以接收触摸传感器中的电荷变化量，并通过所选择的第二触摸线接收触摸传感器中的电荷变化量。第二触摸驱动器182通过对触摸传感器中的电荷变化量进行采样，将通过第二触摸线R1至Ri接收的触摸传感器中的电荷变化量转换为作为数字数据的触摸原始数据TRD。
触摸控制器183可以生成在第一触摸驱动器181中的Tx建立信号以设置将要输出驱动脉冲的第一触摸线，以及在第二触摸驱动器182中的Rx建立信号以设置其中将接收触摸传感器电压的第二触摸线。另外，触摸控制器183生成定时控制信号以控制第一触摸驱动器181和第二触摸驱动器182的操作定时。
触摸坐标计算器190接收来自触摸驱动器180的触摸原始数据TRD。触摸坐标计算器190根据触摸坐标计算方法来计算触摸坐标，并将包括触摸坐标的信息的触摸坐标数据HIDxy输出至主机系统170。
触摸坐标计算器190可以被实现为微控制器单元(MCU)。主机系统170分析从触摸坐标计算器190输入的触摸坐标数据HIDxy并执行与用户产生触摸的坐标相连接的应用程序。主机系统170根据执行的应用程序将数字视频数据DATA和定时信号传输至定时控制器160。
触摸驱动器180可以被包括在源驱动器IC 131中，或者可以由单独的驱动芯片制造并且被封装到电路板150上。另外，触摸坐标计算器190可以由驱动芯片制造并且封装到电路板150。
图3是简要示出图1中的显示面板的一个侧面的截面图。
参照图3，显示面板110可以包括第一基板111、第二基板112、布置在第一基板111和第二基板112之间的薄膜晶体管层10、有机发光二极管层20、封装层30和触摸感测层40。
第一基板111可以是塑料膜或玻璃基板。
薄膜晶体管层10形成在第一基板111上。薄膜晶体管层10可以包括复数条扫描线、数据线和复数个薄膜晶体管。薄膜晶体管中的每个包括栅电极、半导体层、源电极和漏电极。在使用GIP(板内栅极驱动器)方法形成扫描驱动器的情况下，扫描驱动器可以与薄膜晶体管层10一起形成。
有机发光二极管层20形成在薄膜晶体管10上。有机发光二极管层20包括第一电极、有机发光层、第二电极和堤部。有机发光层中每个可以包括空穴传输层、有机发光层和电子传输层。在这种情况下，当电压施加到第一电极和第二电极时，空穴和电子分别通过空穴传输层和电子传输层移动到发光层并且在有机发光层中结合，从而发光。由于像素布置在形成有机发光二极管层20的区域上，因此可以将形成有机发光二极管层20的区域定义为显示区域。显示区域周边的区域可以被定义为非显示区域。
封装层30形成在有机发光二极管层20上。封装层30用于防止氧和水渗透到有机发光二极管层20中。封装层30可以包括至少一个无机膜。
触摸感测层40形成在封装层30上。触摸感测层40包括用于感测用户的触摸的第一触摸电极和第二触摸电极，并且可以包括用于电连接第一触摸电极或第二触摸电极的桥电极。
在下文中，将参照图4至图9更详细地描述根据本公开的一个方面的封装层30和触摸感测层40。
图4是简要示出根据本公开的一个方面的第一基板的平面图，图5是示出布置在图4中的第一基板上的触摸感测层的平面图，图6是示出沿着图5的线I-I’截取的一个示例的截面图，以及图7至图9是示出坝部的各种示例的截面图。
参照图4至图6，第一基板111被分为显示区域DA和非显示区域NDA，其中焊盘PAD形成在焊盘区域PA处并且坝部DAM可以形成在非显示区域NDA上。
薄膜晶体管层10和有机发光二极管层20形成在第一基板11的显示区域DA上。
薄膜晶体管层10包括薄膜晶体管210、栅极绝缘膜220、层间电介质膜230、钝化膜240和平坦化膜250。
在第一基板111的一个表面上形成有缓冲膜。缓冲膜可以形成在第一基板111的一个表面上以保护薄膜晶体管210和发光二极管260免受水渗透通过易受水分渗透的第一基板111。第一基板111的一个表面可以是面向第二基板112的表面。缓冲膜可以由交替沉积的复数个无机膜制成。例如，缓冲膜可以由交替沉积的硅氧化物膜(SiOx)、硅氮化物膜(SiNx)和SiON中的一个或更多个无机膜的多层膜形成。缓冲膜可以被省略。
在缓冲膜上形成有薄膜晶体管210。薄膜晶体管210包括有源层211、栅电极212、源电极213和漏电极214。虽然薄膜晶体管210形成为其中如图6所示栅电极212布置在有源层211之上的顶部栅极模式，可以理解，本公开的薄膜晶体管不限于顶部栅极模式。即，薄膜晶体管210可以形成为其中栅电极212布置在有源层211之下的底部栅极模式或者其中栅电极212布置在有源层211之上和之下的双栅极模式。
有源层211形成在缓冲膜上。有源层211可以由硅基半导体材料或基于氧化物的半导体材料形成。可以在缓冲膜和有源层211之间形成用于屏蔽外部光进入有源层211的遮光层。
在有源层211上可以形成有栅极绝缘膜220。栅极绝缘膜220可以由无机膜(例如硅氧化物膜(SiOx)、硅氮化物膜(SiNx)、或者硅氧化物膜和硅氮化物膜的多层膜)形成。
栅电极212和栅极线可以形成在栅极绝缘膜220上。栅电极212和栅极线可以由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或它们的合金中的任意一种的单层或多层形成。
在栅电极212和栅极线上可以形成有层间电介质膜230。层间电介质膜230可以由无机膜(例如硅氧化物膜(SiOx)、硅氮化物膜(SiNx)、或硅氧化物膜和硅氮化物膜的多层膜)形成。
在层间电介质膜230上可以形成有源电极213、漏电极214和数据线。源电极213和漏电极214中的每个可以通过穿过栅极绝缘膜220和层间电介质膜230的接触孔连接至有源层211。源电极213、漏电极214和数据线可以由包含Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或它们的合金的单层或多层形成。
在源电极213、漏电极214和数据线上可以形成有钝化膜240以使薄膜晶体管210绝缘。钝化膜240可以由无机膜(例如硅氧化物膜(SiOx)、硅氮化物膜(SiNx)、或硅氧化物膜和硅氮化物膜的多层膜)形成。
在钝化膜240上可以形成有用于使由薄膜晶体管210引起的台阶差平坦化的平坦化膜250。平坦化膜250可以由诸如丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂的有机膜形成。
在薄膜晶体管层10上形成有有机发光二极管层20。有机发光二极管层20包括有机发光二极管260和堤部270。
有机发光二极管260和堤部270形成在平坦化膜250上。有机发光二极管包括第一电极261、有机发光层262和第二电极263。第一电极261可以是阳极，并且第二电极263可以是阴极。
第一电极261可以形成在平坦化膜250上。第一电极261可以通过穿过钝化膜240和平坦化膜250的接触孔连接至薄膜晶体管210的源电极213。第一电极261可以由具有高反射率的导电材料形成，诸如Al和Ti的沉积结构(Ti/Al/Ti)、Al和ITO的沉积结构(ITO/Al/ITO)、APC合金、或APC合金和ITO的沉积结构(ITO/APC/ITO)。APC合金是Ag、Pd和Cu的合金。
为了使像素P分开，可以在平坦化膜250上形成堤部270以覆盖第一电极261的边缘。也就是说，堤部270用作限定像素的像素限定膜。堤部270可以由诸如丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂的有机膜形成。
有机发光层262可以形成在第一电极261和堤部270上。有机发光层262可以包括空穴传输层、至少一个发光层和电子传输层。在这种情况下，当电压施加到第一电极261和第二电极263时，空穴和电子分别通过空穴传输层和电子传输层移动到发光层，并且在有机发光层中复合，从而发光。
有机发光层262可以由用于发射白光的白光发射层形成。在这种情况下，可以形成有机发光层262以覆盖第一电极261和堤部270。在这种情况下，在第二基板112上可以形成滤色器(未示出)。
另外，有机发光层262可以由用于发射红光的红光发射层、用于发射绿光的绿光发射层以及用于发射蓝光的蓝光发射层形成。在这种情况下，有机发光层262可以形成在与第一电极261相对应的区域上，并且在第二基板112上可以不形成滤色器。
第二电极263形成在有机发光层262上。在有机发光显示装置形成为顶部发射结构的情况下，第二电极263可以由可以透光的诸如ITO和IZO的透明导电材料(TCO)或诸如Mg、Ag和Mg和Ag的合金的半透射导电材料形成。在第二电极263上可以形成有盖层。
在有机发光二极管层20上，封装层30不仅形成在显示区域DA上而且形成在非显示区域NDA上。封装层30包括封装膜280和坝部DAM。
封装膜280用于防止氧气或水渗透到有机发光层262和第二电极263.为此，封装膜280可以包括至少一个无机膜和至少一个有机膜。例如，封装膜280可以包括第一无机膜281、有机膜282和第二无机膜283。
第一无机膜281位于第二电极263上。第一无机膜281可以形成为覆盖第二电极263。有机膜282可以形成在第一无机膜281上。有机膜282可以形成为足够的厚度以防止粒子通过穿过第一无机膜281而渗透到有机发光层262和第二电极263中。第二无机膜283可以形成为覆盖有机膜282。
第一无机膜281和第二无机膜283中的每个可以由硅氮化物、铝氮化物、锆氮化物、钛氮化物、铪氮化物、钽氮化物、硅氧化物、铝氧化物或钛氧化物形成。有机膜282可以由丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂或聚酰亚胺树脂形成。
坝部DAM形成在非显示区域NDA上并且阻挡构成封装膜280的有机膜282的流动。更具体地，坝部形成为围绕显示区域DA的外侧并且阻挡构成封装膜280的有机膜282流动。坝部也可以布置在显示区域DA和焊盘区域PA之间以阻挡有机膜282的流动以使得构成封装膜280的有机膜282不渗透到焊盘区域PA中。因此，坝部可以防止有机膜282暴露于显示装置的外部或渗透到焊盘区域PA中。
这种坝部DAM包括面向有机膜282的第一侧S1和与第一侧S1相反的第二侧S2，其中第一侧S1和第二侧S2中的至少一个具有小于90°的角度。
如图7所示，坝部的第一侧S1和第二侧S2可以具有但不限于相同的倾斜角。如图8和图9所示，坝部的第一侧S1和第二侧S2可以具有彼此不同的倾斜角。
坝部的第二侧S2可以具有小于90°的倾斜角θ2，并且倾斜角θ2可以小于45°。坝部的第二侧S2可以形成为倾斜的以减小台阶差。因此，当在坝部上形成第二无机膜283和金属图案时，本公开可以提供更平坦的表面。因此，根据本公开，第二无机膜283可以形成为具有恒定的厚度，并且可以防止由于台阶差而在坝部与钝化膜240接触的区域发生开裂。另外，根据本公开，当应当在坝部上形成金属图案时，可以防止不期望的金属作为残留膜保留而无需从不期望的金属不应该保留的区域完全去除该不期望的金属。
如图7所示，坝部的第一侧S1可以具有与第二侧S2相同的倾斜角θ1。在这种情况下，坝的第一侧S1可以具有小于90°的倾斜角，并且倾斜角可以小于45°。
同时，坝部的第一侧S1可以具有与第二侧S2不同的倾斜角θ1，如图9所示。在这种情况下，坝部的第一侧S1可以具有比第二侧S2的倾斜角大的倾斜角θ1，并且其倾斜角可以是90°或更小。由于坝部的第一侧S1被构成封装膜280的有机膜282覆盖，所以沿坝部的第一侧S1没有形成第二无机膜283和金属图案。也就是说，有机膜282形成在坝部的第一侧S1和钝化膜240彼此接触的区域上，由此可以减小台阶差。因此，坝部的第一侧S1可以具有90°或更小的倾斜角。然而，为了通过最小化坝部与显示区域DA之间的距离来使边框最小化，坝部的第一侧S1可以具有大于第二侧S2的倾斜角，例如90°的倾斜角。
这种坝部可以与像素P的平坦化膜250或堤部270同时形成并且由与平坦化膜250或堤部270的材料相同的材料形成。在这种情况下，坝部可以由诸如丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂的有机膜形成。
同时，虽然图6示出了坝部不被第一无机膜281覆盖，但本公开不限于该示例。如果第一无机膜281覆盖显示区域DA，则第一无机膜281可以形成为覆盖坝部。
触摸感测层40形成在封装层30上。触摸感测层40包括第一触摸电极TE、第二触摸电极RE、桥电极BE、绝缘膜310和钝化膜320。
在封装层30上形成有缓冲层290。缓冲层290形成为从显示区域DA和非显示区域NDA露出焊盘。这种缓冲层290形成为覆盖坝部。缓冲层290可以被省略。
在缓冲层290上，第一触摸电极TE和第二触摸电极RE形成在显示区域DA中。第一触摸电极TE沿第一方向(y轴方向)布置并且彼此连接，并且第二触摸电极RE沿第二方向(x轴方向)布置并且彼此连接。第一方向(y轴方向)可以平行于扫描线S1至Sn，并且第二方向(x轴方向)可以平行于数据线D1至Dm。或者，第一方向(y轴方向)可以平行于数据线D1至Dm，并且第二方向(x轴方向)可以平行于扫描线S1至Sn。
沿第一方向(y轴方向)连接的第一触摸电极TE中的每个相对沿第二方向(x轴方向)与其相邻的第二触摸电极RE电绝缘。沿第二方向(x轴方向)连接的第二触摸电极RE中每个相对沿第一方向(y轴方向)与其相邻的第一触摸电极电绝缘。
为此，在第一触摸电极TE和第二触摸电极RE的交叉区域上可以形成对应于触摸传感器的互电容。
在沿第一方向(y轴方向)彼此连接的第一触摸电极中，布置在一端的第一触摸电极TE可以连接至非显示区域NDA上的第一触摸线TL。第一触摸线TL可以从第一触摸电极TE延伸，然后被图案化以到达焊盘区域PA。第一触摸线TL可以连接至焊盘区域PA中的焊盘PAD，然后通过焊盘PAD连接至第一触摸驱动器181。因此，在第一方向(y轴方向)上彼此连接的第一触摸电极TE可以通过第一触摸线TL从第一触摸驱动器181接收驱动脉冲。
在沿第二方向(x轴方向)彼此连接的第二触摸电极RE中，布置在一端的第二触摸电极RE可以连接至非显示区域NDA上的第二触摸线RL。第二触摸线RL可以从第二触摸电极RE延伸并且然后被图案化以到达焊盘区域PA。第二触摸线RL可以连接至焊盘区PA中的焊盘PAD，然后通过焊盘PAD连接至第二触摸驱动器182。因此，第二触摸驱动器182可以接收在第二方向(x轴方向)上彼此连接的第二触摸电极RE的触摸传感器中的电荷变化量。
绝缘膜310形成在第一触摸电极TE和第二触摸电极RE上。第一触摸电极TE、第二触摸电极RE、第一触摸线TL和第二触摸线RL可以布置在相同层上。绝缘膜310不仅可以形成在第一触摸电极TE和第二触摸电极RE上，而且可以形成在第一触摸电极TE和第二触摸电极RE之间。第一触摸电极TE中的每个可以通过绝缘膜310与第二触摸电极RE中的每个绝缘。
桥电极BE形成在绝缘膜310上。为了防止第一触摸电极TE和第二触摸电极RE在其交叉区域短路，沿第一方向(y方向)彼此相邻的第一触摸电极可以通过桥电极BE电连接。桥电极BE形成在与第一触摸电极TE和第二触摸电极RE不同的层上，并且可以通过接触孔CT连接至彼此相邻的第一触摸电极TE。桥电极BE可以跨过(cross)第二触摸电极RE。
在这种情况下，接触孔CT可以形成为穿过绝缘膜310。桥电极BE通过形成在绝缘膜310上露出两个相邻的第一触摸电极TE的两个接触孔CT连接至两个相邻的第一触摸电极TE，并连接两个接触孔CT。因此，桥电极BE形成在绝缘膜310上。
在绝缘膜310和桥电极BE上形成有钝化膜320。钝化膜320通过阻挡来自外部的有害条件来保持显示装置的性质稳定。
根据本公开的一个方面，由于触摸感测层直接形成在封装层30上，因此当第一基板111和第二基板112彼此接合时不需要对准第一基板111和第二基板112。
如上所述，根据本公开，形成了具有倾斜角的至少一侧的坝部DAM，由此减小了由坝部DAM产生的台阶差。因此，在本公开中，第二无机膜283形成在坝部DAM上从而具有恒定的厚度，并且可以防止发生开裂。另外，在本公开中，当在坝部DAM上形成金属图案(例如，第一触摸线TL或第二触摸线RL)时，可以防止残留层保留。
另外，根据本公开，可以针对第一侧S1和第二侧S2形成不同的倾斜角。由于坝部DAM的第一侧S1具有通过有机膜282而减小的台阶差，所以通过形成陡峭倾斜角，坝部与显示区域DA之间的距离可以最小化。同时，坝部DAM的第二侧S2形成为具有平缓的倾斜角，从而可以尽可能地减小坝部DAM的台阶。因此，可以实现最佳结构以减小DAM的台阶差并同时使边框最小化。
图10是简要示出根据本公开的另一方面的第一基板的平面图，图11是示出布置在图10中的第一基板上的触摸感测层的平面图，图12是示出沿图11的线II-II’截取的一个示例的截面图，以及图13至图15是示出坝部的各种示例的截面图。
参照图10至图15，第一基板111分为显示区域DA和非显示区域NDA，其中焊盘PAD形成在焊盘区域PA处，第一坝部DAM1和第二坝部DAM2可以形成在非显示区域NDA上。
薄膜晶体管层10和有机发光二极管层20形成在第一基板11的显示区域DA上。由于薄膜晶体管层10和有机发光二极管层20与根据本公开的前述方面的第一基板的那些相同，因此将省略它们的详细描述。
在有机发光二极管层20上，封装层30不仅形成在显示区域DA上而且形成在非显示区域NDA上。封装层30包括封装膜280、第一坝部DAM1和第二坝部DAM2。
封装膜280用于防止氧气或水渗透到有机发光层262和第二电极263。为此，封装膜280可以包括至少一个无机膜和至少一个有机膜。例如，封装膜280可以包括第一无机膜281、有机膜282和第二无机膜283。
第一无机膜281可以布置在第二电极263上。第一无机膜281可以形成为覆盖第二电极263。有机膜282可以布置在第一无机膜281上。有机膜282可以形成有足够的厚度以防止粒子通过穿过第一无机膜281而渗透到有机发光层262和第二电极263中。第二无机膜283可以形成为覆盖有机膜282。
第一无机膜281和第二无机膜283中的每个可以由硅氮化物、铝氮化物、锆氮化物、钛氮化物、铪氮化物、钽氮化物、硅氧化物、铝氧化物或钛氧化物形成。有机膜282可以由丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂或聚酰亚胺树脂形成。
第一坝部DAM1和第二坝部DAM2布置在非显示区域NDA上并且阻挡构成封装膜280的有机膜282的流动。更具体地，第一坝部DAM1可以形成为围绕显示区域DA的外侧以主要阻挡构成封装膜280的有机膜282的流动。另外，第一坝部DAM1可以布置在显示区域DA和焊盘区域PA之间并且主要阻挡有机膜282的流动以使得构成封装膜280的有机膜282不渗透到焊盘区域PA中。
此外，第二坝部DAM2可以形成为围绕第一坝部DAM1的外侧并且二次阻挡有机膜282溢出到第一坝部DAM1的外侧。因此，第一坝部DAM1和第二坝部DAM2可以有效地防止有机膜282暴露于显示装置的外部或渗透到焊盘区域PA中。
第一坝部DAM1包括面向有机膜282的第一侧S1和面向第二坝部DAM2的第二侧S2，其中第一侧S1和第二侧S2中的至少一个具有小于90°的倾斜角。第二坝部DAM2包括面向第一坝部DAM1的第三侧S3和与第三侧S3相反的第四侧S4，其中第三侧S3和第四侧S4中的至少一个具有小于90°的倾斜角。
如图13和图14所示，第一坝部DAM1的第一侧S1和第二侧S2可以具有相同的倾斜角，但不限于此。如图15所示，第一坝部DAM1的第一侧S1和第二侧S2可以具有彼此不同的倾斜角。
如图13和图15所示，第二坝部DAM2的第三侧S3和第四侧S4可以具有相同的倾斜角，但不限于此。如图14所示，第二坝部DAM2的第三侧S3和第四侧S4可以具有彼此不同的倾斜角。
如图13所示，第一坝部DAM1的第一侧S1和第二侧S2以及第二坝部DAM2的第三侧S3和第四侧S4可以具有相同的倾斜角。在这种情况下，优选的是倾斜角在45°或更小的范围内，以有效地减小第一坝部DAM1和第二坝部DAM2的台阶差。同时，第一坝部DAM1和第二坝部DAM2彼此不接触。这是为了防止在第二坝部DAM2中出现开裂的情况下水和氧通过开裂渗透到第一坝部DAM1。因此，在第一坝部DAM1的第一侧S1和第二侧S2以及第二坝部DAM2的第三侧S3和第四侧S4具有完全相同的倾斜角的情况下，该倾斜角满足下面的式1。
[式1]
Figure GDA0002408880230000161
‘a’表示第一坝部DAM1的厚度或第二坝部DAM2的厚度，‘b’表示从第一坝部DAM1的上表面与第二侧S2接触的点到第二坝部DAM2的上表面与第三侧S3接触的点的水平距离，并且‘c’表示从第二坝部DAM2的上表面与第三侧S3接触的点到其下表面与第三侧S3接触的点的水平距离，或者从第一坝部DAM1的上表面与第二侧S2接触的点到其下表面与第二侧S2接触的点的水平距离。
同时，尽管图13示出第一坝部DAM1的第一侧S1和第二侧S2以及第二坝部DAM2的第三侧S3和第四侧S4具有完全相同的倾斜角，但是本公开不限于该示例。如图14所示，第二坝部DAM2的第四侧S4可以形成为具有比第一坝部DAM1的第一侧S1和第二侧S2以及第二坝部DAM2的第三侧S3的倾斜角小的倾斜角θ4。
由于第一坝部DAM1的第二侧S2不应与第二坝部DAM2的第三侧S3接触，所以倾斜角的最小值受到限制。另一方面，与第一坝部DAM1的第二侧S2和第二坝部DAM2的第三侧S3不同，第二坝部DAM2的第四侧S4不具有这样的限制，并且可以获得从第二坝部DAM2到PAD的相对宽的空间。因此，第二坝部DAM2的第四侧S4可以具有比第一坝部DAM1的第二侧S2和第二坝部DAM2的第三侧S3的倾斜角小的倾斜角，并且可以尽可能地减小台阶。
同时，尽管图13示出第一坝部DAM1的第一侧S1和第二侧S2以及第二坝部DAM2的第三侧S3和第四侧S4具有完全相同的倾斜角，但是本公开不限于该示例。如图15所示，第一坝部DAM1的第一侧S1可以形成为具有大于第一坝部DAM1的第二侧S2和第二坝部DAM2的第三侧S3和第四侧S4的倾斜角θ1。
因为第一坝部DAM1的第一侧S1被构成封装膜280的有机膜282覆盖，所以第二无机膜283和金属图案不沿第一坝部DAM1的第一侧S1上形成。也就是说，有机膜282形成在其中第一坝部DAM1的第一侧S1和钝化膜240彼此接触的区域上，由此台阶差通过有机膜282降低。因此，第一坝部DAM1的第一侧S1可以具有90°的倾斜角，并且可以具有小于90°的倾斜角。为了通过最小化第一坝部DAM1与显示区域DA之间的距离来使边框最小化，第一坝部DAM1的第一侧S1可具有大于第二侧S2的倾斜角的倾斜角，例如90°的倾斜角。
同时，图13和15示出第一坝部DAM1的第二侧S2和第二坝部DAM2的第三侧S3具有相同的倾斜角，但是本公开不限于该示例。只要第一坝部DAM1的第二侧S2和第二坝部DAM2的第三侧S3彼此不接触，则它们可以具有彼此不同的倾斜角。
第一坝部DAM1和第二坝部DAM2可以与像素P的平坦化膜250或堤部270同时形成，并且可以由与平坦化膜250或堤部270相同的材料形成。在这种情况下，坝部DAM可以由诸如丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂的有机材料形成。
同时，尽管图12示出了第一坝部DAM1和第二坝部DAM2不被第一无机膜281覆盖，但是本公开不限于该示例。如果第一无机膜281覆盖显示区域DA，则第一无机膜281可以形成为覆盖第一坝部DAM1和第二坝部DAM2。
触摸感测层40形成在封装层30上。触摸感测层40包括缓冲层290、第一触摸电极TE、第二触摸电极RE、绝缘膜310和钝化膜320。
缓冲层290形成在封装层30上。缓冲层290形成为从显示区域DA和非显示区域NDA露出焊盘PAD。这样的缓冲层290形成为覆盖第一坝部DAM1和第二坝部DAM2。缓冲层290可以被省略。
在缓冲层290上，第一触摸电极TE和第二触摸电极RE形成在显示区域DA中。第一触摸电极TE沿第一方向(x轴方向)延伸以具有线形状，并且第二触摸电极RE沿第二方向(y轴方向)延伸以具有线形状。第一方向(x轴方向)可以平行于扫描线S1至Sn，并且第二方向(y轴方向)可以平行于数据线D1至Dm。替选地，第一方向(x轴方向)可以平行于数据线D1至Dm，并且第二方向(y轴方向)可以平行于扫描线S1至Sn。
同时，绝缘膜310被布置在第一触摸电极TE与第二触摸电极RE之间，以使第一触摸电极TE与第二触摸电极RE电绝缘。另外，沿第一方向延伸的第一触摸电极TE中的每个相对沿第二方向与其相邻的第一触摸电极TE电绝缘。沿第二方向延伸的第二触摸电极RE中的每个相对沿第一方向与其相邻的第二触摸电极RE电绝缘。
为此，可以在第一触摸电极TE和第二触摸电极RE的交叉区域上形成与触摸传感器对应的互电容。
沿第一方向(y轴方向)彼此连接的第一触摸电极TE中，布置在一端的第一触摸电极TE可以连接到非显示区域NDA上的第一触摸线TL。第一触摸线TL可以从第一触摸电极TE延伸，然后被图案化以到达焊盘区域PA。第一触摸线TL可以连接到焊盘区域PA中的焊盘PAD，然后通过焊盘PAD连接到第一触摸驱动器181。因此，沿第一方向(y轴方向)彼此连接的第一触摸电极TE可以通过第一触摸线TL从第一触摸驱动器181接收驱动脉冲。
沿第二方向(x轴方向)彼此连接的第二触摸电极RE中，布置在一端的第二触摸电极RE可以连接到非显示区域NDA上的第二触摸线RL。第二触摸线RL可以从第二触摸电极RE延伸，然后被图案化以到达焊盘区域PA。第二触摸线RL可以连接到焊盘区PA上的焊盘PAD，然后通过焊盘PAD连接到第二触摸驱动器182。因此，第二触摸驱动器182可以接收沿第二方向(x轴方向)彼此连接的第二触摸电极RE的触摸传感器中的电荷变化的量。
钝化膜320形成在绝缘膜310和第二触摸电极RE上。钝化膜320通过阻挡来自外部的有害条件来保持显示装置的性质稳定。
在本公开的另一方面中，描述了触摸感测层40具有如图11所示第一触摸电极TE和第二触摸电极RE形成在彼此不同的相应的层上的结构，但不限于这种结构。在本公开的第二方面中，触摸感测层40可以具有如图5所示的第一触摸电极TE和第二触摸电极RE形成在相同层上的结构。
相对地，在本公开的先前描述的方面中，触摸感测层40可以不仅具有图5中所示的结构，而且还具有图11中所示的结构。
图16是示出根据本公开的一个方面的用于制造显示装置的方法的流程图，图17A至图17E是示出根据本公开的一个方面的用于制造显示装置的方法的截面图。
首先，在显示区域DA上形成像素P，并且在非显示区域NDA上形成坝部DAM(S1601)。
更详细地，如图17A所示，在第一基板111上形成薄膜晶体管210。可以在第一基板111上形成缓冲膜。缓冲膜用于保护薄膜晶体管210和有机发光二极管260免受透过第一基板111的水的影响，第一基板111易于被水分渗透并且可以由交替沉积的复数个无机膜制成。例如，缓冲膜可以由交替沉积的硅氧化物膜(SiOx)、硅氮化物膜(SiNx)和SiON的一个或更多个无机膜的多层膜形成。缓冲膜可以使用CVD(化学气相沉积)法形成。
之后，在缓冲膜上形成薄膜晶体管的有源层211。具体地，使用溅射法或MOCVD(金属有机化学气相沉积)法在缓冲膜的整个表面上形成有源膜。然后，通过使用光致抗蚀剂图案的掩模工艺将有源膜图案化以形成有源层211、有源层211可以由硅基半导体材料或基于氧化物的半导体材料形成。
然后，在有源层211上形成栅极绝缘膜220。栅极绝缘膜220可以由无机膜(例如硅氧化物膜(SiOx)、硅氮化物膜(SiNx)、或硅氧化物膜和硅氮化物膜的多层膜)形成。
然后，在栅极绝缘膜220上形成薄膜晶体管210的栅电极212。具体地，使用溅射法或MOVCD(金属有机化学气相沉积)法在栅极绝缘膜220的整个表面上形成第一金属层。然后，通过使用光致抗蚀剂图案的掩模工艺来对第一金属层进行图案化以形成栅电极212。栅电极212可以由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或其合金中任一者的单层或多层组成。
然后，在栅电极212上形成层间电介质膜230。层间电介质膜230可以由无机膜(例如，硅氧化物膜(SiOx)，硅氮化物膜(SiN x)或硅氧化物膜和硅氮化物膜的多层膜)形成。
然后，形成用于通过穿过栅极绝缘膜220和层间电介质膜230来露出有源层211的接触孔。
然后，在层间电介质膜230上形成薄膜晶体管210的源电极213和漏电极214。具体地，使用溅射法或MOCVD(金属有机化学气相沉积)法在层间电介质膜上230的整个表面上形成第二金属层。然后，通过使用光致抗蚀剂图案的掩模工艺来对第二金属层进行图案化，以形成源电极213和漏电极214。源电极213和漏电极214中的每个可以通过穿过栅极绝缘膜220和层间电介质膜230的接触孔连接到有源层211。源电极213和漏电极214可以由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、镍、钕和铜或其合金的单层或多层形成。
然后，在薄膜晶体管210的源电极213和漏电极214上形成钝化膜240。钝化膜240可以由无机膜(例如硅氧化物膜(SiOx)、硅氮化物膜(SiNx)、或硅氧化物膜和硅氮化物膜的多层膜)形成。钝化膜240可以使用CVD法形成。
然后，在钝化膜240上形成用于平坦化由薄膜晶体管210引起的台阶差的平坦化膜250。平坦化膜250可以由有机膜形成，例如丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂。
然后，如图17B所示，在平坦化膜250上形成有机发光二极管260。更详细地，有机发光二极管260的第一电极261形成在平坦化膜250上。使用溅射法或MOCVD(金属有机化学气相沉积)法在平坦化膜250的整个表面上形成第三金属层。然后，通过使用光致抗蚀剂图案的掩模工艺来对第三金属层进行图案化，以形成源电极213和漏电极214。第一电极261可以通过穿过钝化膜240和平坦化膜250的接触孔连接到源电极213。第一电极261可以由具有高反射率的导电材料形成，例如Al和Ti的沉积结构(Ti/Al/Ti)、Al和ITO的沉积结构(ITO/Al/ITO)、APC合金或APC合金和ITO的沉积结构(ITO/APC/ITO)。
然后，为了使像素P分开，在平坦化膜250上形成堤部270以覆盖第一电极261的边缘，还与堤部270一起形坝部DAM。在这种情况下，坝部DAM形成在非显示区域NDA上。坝部DAM和堤部270中的每个可以由有机膜形成，诸如丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂。
特别地，通过使用半色调掩模或狭缝掩模的曝光工艺，可以将坝部DAM形成为具有小于90°的倾斜角。更详细地，可以在将要形成DAM的上表面的区域中布置全色调掩模，并且可以在要形成坝部DAM的倾斜侧的区域中布置半色调掩模或狭缝掩模，由此可以执行曝光工艺以在至少一侧上形成具有小于90°的倾斜角的坝部。
同时，坝部DAM与堤部270同时形成，但不限于该示例。在另一方面中，坝部DAM可与平坦化膜250同时形成。
然后，通过沉积工艺或溶液工艺在第一电极261和堤部270上形成有机发光层262。然后，在有机发光层262上形成第二电极263。第二电极263可以是共同形成在像素P上的公共层。第二电极263可以由可以透射光的透明导电材料(TCO)例如ITO和IZO形成。第二电极263可以通过诸如溅射法的物理气相沉积来形成。可以在第二电极263上形成盖层。
接下来，形成封装膜280以覆盖显示区域DA(S1602)。
如图17C所示，封装膜280形成在第二电极263上。封装膜280用于防止氧或水渗透到有机发光层262和第二电极263中。为此，封装膜280可以包括至少一个无机膜和至少一个有机膜。
例如，封装膜280可以包括第一无机膜281、有机膜282和第二无机膜283。在这种情况下，第一无机膜281形成为覆盖第二电极263。有机膜282形成为覆盖第一无机膜281。有机膜282优选形成为具有足够的厚度以防止粒子通过第一无机膜281渗透到有机发光层262和第二电极263中。第二无机膜282被形成为覆盖有机膜282。
第一无机膜281和第二无机膜283中的每个可以由硅氧化物、硅氮化物、铝氧化物、铝氮化物、锆氮化物、钛氮化物、铪氮化物、钽氮化物或钛氧化物。有机膜282可以由丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂或聚酰亚胺树脂形成。
接下来，在封装膜280和坝部DAM上形成金属图案，例如第一触摸电极TE和第二触摸电极RE(S1603)。
如图17D所示，在封装膜280上形成缓冲层290。之后，在缓冲层290上形成第一触摸电极TE、第二触摸电极RE、第一触摸线TL和第二触摸线RL。更详细地，第一触摸电极TE沿第一方向(y轴方向)以恒定的间隔彼此间隔开地布置，并且第二触摸电极RE沿第二方向方向(x轴方向)布置以彼此连接。在这种情况下，第一触摸电极TE和第二触摸电极RE中的每个可以具有矩形、八角形、圆形或菱形的形状。
在沿第一方向(y轴方向)彼此连接的第一触摸电极TE中，布置在一端的第一触摸电极TE可以连接到非显示区域NDA上的第一触摸线TL。第一触摸线TL可以从第一触摸电极TE延伸，然后被图案化以到达焊盘区域PA。第一触摸电极TE和第一触摸线TL可以形成在相同层上，并且可以由相同的材料形成。
在沿第二方向(x轴方向)彼此连接的第二触摸电极RE中，布置在一端的第二触摸电极RE可以连接到非显示区域NDA上的第二触摸线RL。第二触摸线RL可以从第二触摸电极RE延伸，然后被图案化以到达焊盘区域PA。第二触摸电极RE和第二触摸线RL可以形成在相同层上，并且可以由相同的材料形成。
第一触摸电极TE、第二触摸电极RE、第一触摸线TL和第二触摸线RL可以由可以透射光的透明导电材料(TCO)例如ITO和IZO形成。
使用溅射法或MOCVD(金属有机化学气相沉积)法在缓冲膜290的整个表面上形成第四金属层。然后，通过使用光致抗蚀剂图案的掩模工艺来对第四金属层进行图案化，以形成第一触摸电极TE、第二触摸电极RE、第一触摸线TL和第二触摸线RL。
然后，如图17E所示，形成绝缘膜310、桥电极BE和钝化膜320。更详细地，在第一触摸电极TE和第二触摸电极RE上形成绝缘膜310。
然后，在绝缘膜310上形成桥电极BE。在绝缘膜310上形成用于部分露出第一触摸电极TE的接触孔CT，并且通过使用光致抗蚀剂图案的掩模工艺在绝缘膜310上形成桥电极BE。桥电极BE可以通过穿过绝缘膜310的接触孔CT电连接至其相邻的第一触摸电极TE。
然后，在第一基板111的整个表面上形成钝化膜320。
虽然没有详细示出，但是形成钝化膜320的第一基板111接合到第二基板112。第一基板111和第二基板112可以以如下方式彼此接合：第一基板111的钝化膜320和第二基板112使用粘合剂层(未示出)彼此粘合。粘合剂层(未示出)可以是光学透明树脂(OCR)或光学透明粘合剂膜(OCA)。
如上所述，根据本公开，可以获得以下优点。
根据本公开的一个方面，触摸感测层直接形成在封装层上，因此第一基板和第二基板在彼此接合时不需要对准。
另外，根据本公开的一个方面，由于坝部形成为具有至少一个具有倾斜角的侧面，所以可以减小由于坝部引起的台阶差。因此，形成在坝部上的元件可以形成在更平坦化的表面上。
另外，根据本公开的一个方面，由于无机膜可以以恒定厚度形成在坝部上，所以可以防止发生开裂。
另外，根据本公开的一个方面，当在坝部上形成金属图案例如第一触摸线和第二触摸线时，可以防止残留膜保留。
另外，根据本公开的一个方面，坝部的第一侧和第二侧各自具有彼此不同的倾斜角，由此可以实现用于减小台阶差并且同时最小化边框的最佳结构。
对于本领域技术人员明显的是，在不脱离本公开的精神或范围的情况下，可以在本公开中进行各种修改和变化。因此，意指的是，本公开覆盖本公开的修改和变化，只要它们落入所附权利要求及其等同物的范围内。

Claims (19)

1.一种显示装置，包括：
基板，包括其上布置有像素的显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域；
覆盖所述显示区域并包括有机膜的封装膜；
接触所述封装膜的具有第一侧表面和第二侧表面的第一坝部，其中所述第一侧表面面对所述有机膜且具有相对于所述基板小于90°的倾斜角；以及
布置在所述第一坝部上的金属图案；
还包括所述封装膜上的触摸感测层，其中所述金属图案从所述触摸感测层延伸；
其中所述第二侧表面具有相对于所述基板等于或小于45°的倾斜角，所述第二侧表面具有比所述第一侧表面的倾斜角小的倾斜角，
其中所述封装膜还包括与所述第一坝部的所述第二侧表面接触的无机膜。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述第一坝部围绕所述有机膜。
3.根据权利要求1所述的显示装置，还包括设置在所述第一坝部的外侧的第二坝部。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述第二坝部包括第三侧表面和第四侧表面，其中所述第三侧表面面对所述第一坝部并且是所述第四侧表面的相反侧，所述第二侧表面和所述第三侧表面以相对于基板等于或小于45°的倾斜角彼此间隔开。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其中所述第四侧表面具有比所述第一侧表面至所述第三侧表面的倾斜角小的倾斜角。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述触摸感测层包括设置在所述封装膜上的第一触摸电极和第二触摸电极，其中所述金属图案从所述第一触摸电极和所述第二触摸电极中至少之一延伸。
7.根据权利要求6所述的显示装置，还包括桥电极，所述桥电极连接至彼此相邻的所述第一触摸电极。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中所述无机膜覆盖所述有机膜和所述第一坝部。
9.一种用于制造具有基板的显示区域和非显示区域的显示装置的方法，包括：
在所述基板的所述显示区域上形成像素；
在所述基板的所述非显示区域上形成第一坝部，其中所述第一坝部具有第一侧表面和第二侧表面，所述第一侧表面面对所述像素且所述第二侧表面具有相对于所述基板小于或等于45°的倾斜角；
形成封装膜以覆盖所述显示区域；以及
在所述封装膜和所述第一坝部上形成第一触摸电极，从所述第一触摸电极延伸的第一触摸线，第二触摸电极，以及从所述第二触摸电极延伸的第二触摸线，
其中，所述第二侧表面具有比所述第一侧表面的倾斜角小的倾斜角；
其中所述封装膜包括有机膜和与所述第一坝部的所述第二侧表面接触的无机膜。
10.根据权利要求9所述的方法，其中在形成所述第一坝部时所述第一坝部的所述第二侧表面通过使用半色调掩模或狭缝掩模的曝光工艺具有相对于所述基板小于90°的倾斜角。
11.根据权利要求9所述的方法，其中形成所述第一坝部还包括在所述第一坝部外侧形成第二坝部。
12.根据权利要求11所述的方法，其中在形成所述第一坝部时所述第一坝部的所述第二侧表面面向所述第二坝部，所述第二坝部的第三侧表面面向所述第一坝部，所述第二侧表面和所述第三侧表面以相对于基板小于或等于45°的倾斜角彼此间隔开。
13.根据权利要求9所述的方法，其中形成所述封装膜包括：
形成有机膜以覆盖所述显示区域；以及
形成无机膜以覆盖所述有机膜和所述第一坝部。
14.一种显示装置，包括在基板上的布置有复数个像素的显示区域和围绕所述显示区域的非显示区域，所述显示装置包括：
覆盖所述显示区域并且包括有机膜和覆盖所述有机膜的无机膜的封装膜；
彼此间隔开并设置在所述封装膜上的复数个第一触摸电极和第二触摸电极；
复数个桥电极，所述复数个桥电极连接至彼此相邻的所述第一触摸电极；
在所述非显示区域处接触所述封装膜并且具有第一侧表面和第二侧表面的第一坝部，其中所述第一侧表面面向所述有机膜，所述第二侧表面具有小于所述第一侧表面的倾斜角的倾斜角；以及
金属图案，设置在所述第一坝部上并且从所述复数个第一触摸电极和第二触摸电极中至少之一延伸，
其中所述第一坝部的所述第二侧表面具有相对于所述基板等于或小于45°的倾斜角；
其中所述无机膜与所述第一坝部的所述第二侧表面接触。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其中所述第一坝部围绕所述有机膜。
16.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述第一坝部的所述第一侧表面具有相对于所述基板等于或小于90°的倾斜角。
17.根据权利要求14所述的显示装置，还包括布置在所述第一坝部外侧的第二坝部。
18.根据权利要求17所述的显示装置，其中，所述第二坝部包括第三侧表面和第四侧表面，其中所述第三侧表面面对所述第一坝部并且是所述第四侧表面的相反侧，所述第二侧表面和所述第三侧表面以相对于基板等于或小于45°的倾斜角彼此间隔开。
19.根据权利要求18所述的显示装置，其中所述第四侧表面具有比所述第一侧表面至所述第三侧表面的倾斜角小的倾斜角。
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