DE102016109558A1 - Halbleiterpackage mit eingebetteter ausgangsinduktivität - Google Patents
Halbleiterpackage mit eingebetteter ausgangsinduktivität Download PDFInfo
- Publication number
- DE102016109558A1 DE102016109558A1 DE102016109558.3A DE102016109558A DE102016109558A1 DE 102016109558 A1 DE102016109558 A1 DE 102016109558A1 DE 102016109558 A DE102016109558 A DE 102016109558A DE 102016109558 A1 DE102016109558 A1 DE 102016109558A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor package
- sync
- control
- structured
- magnetic material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 77
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 24
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 description 9
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
- H01L21/4853—Connection or disconnection of other leads to or from a metallisation, e.g. pins, wires, bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49517—Additional leads
- H01L23/49524—Additional leads the additional leads being a tape carrier or flat leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49537—Plurality of lead frames mounted in one device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49575—Assemblies of semiconductor devices on lead frames
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/5227—Inductive arrangements or effects of, or between, wiring layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/64—Impedance arrangements
- H01L23/645—Inductive arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L24/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0611—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region
- H01L27/0617—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/16—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic System
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02M—APPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
- H02M3/00—Conversion of dc power input into dc power output
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02M—APPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
- H02M7/00—Conversion of ac power input into dc power output; Conversion of dc power input into ac power output
- H02M7/003—Constructional details, e.g. physical layout, assembly, wiring or busbar connections
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0601—Structure
- H01L2224/0603—Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/83801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/8384—Sintering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/8385—Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/848—Bonding techniques
- H01L2224/84801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/848—Bonding techniques
- H01L2224/8484—Sintering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/848—Bonding techniques
- H01L2224/8485—Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Abstract
In einer Realisierung umfasst ein Halbleiterpackage sowohl einen Steuertransistor und einen Sync-Transistor einer Leistungswandlerschaltstufe, die über einem ersten strukturierten, leitenden Träger angebracht sind, als auch ein magnetisches Material, das über den Leitungen des ersten strukturierten, leitenden Trägers angeordnet ist. Das Halbleiterpackage umfasst außerdem einen zweiten strukturierten, leitenden Träger, der über dem ersten strukturierten, leitenden Träger, dem Steuer- und dem Sync-Transistor und dem magnetischen Material angebracht ist. Leitungen des zweiten strukturierten, leitenden Trägers liegen über dem magnetischen Material und sind mit den Leitungen des ersten strukturierten, leitenden Trägers gekoppelt, so dass sie Windungen einer Ausgangsinduktivität für die Leistungswandlerschaltstufe bilden, wobei die Ausgangsinduktivität in das Halbleiterpackage integriert ist.
Description
- Leistungswandler wie etwa Spannungsregler werden in einer Vielzahl von elektronischen Schaltungen und Systemen verwendet. Viele IC-(integrated circuit – integrierte Schaltung)-Anwendungen erfordern beispielsweise die Wandlung einer DC-(Direct Current – Gleichstrom)-Eingangsspannung in eine niedrigere, oder höhere, DC-Ausgangsspannung. Ein Abwärtswandler kann zum Beispiel realisiert werden, um eine höhere DC-Eingangsspannung in eine niedrigere DC-Ausgangsspannung für die Verwendung in Niederspannungsanwendungen, bei denen relativ große Ausgangsströme benötigt werden, zu wandeln.
- Die Schaltstufe eines Leistungswandlers umfasst üblicherweise einen High-Side-Steuertransistor und einen Low-Side-Synchrontransistor (Sync-Transistor) und kann einen Treiber-IC umfassen, der dazu ausgelegt ist, den Steuer- und/oder Sync-Transistor zu treiben. Zusätzlich umfassen Leistungswandlerschaltungen üblicherweise eine relativ große Ausgangsinduktivität für die Schaltstufe. Folglich benötigen herkömmliche Vorgehensweisen für die Realisierung eines Leistungswandlers auf einer Leiterplatte (PCB, Printed Circuit Board) ausreichend PCB-Fläche, um ein Nebeneinander-(Side-by-Side)-Layout aufzunehmen, das nicht nur ein Package umfasst, das den Steuer- und Sync-Transistor der Leistungswandlerschaltstufe enthält, sondern auch die Ausgangsinduktivität für die Schaltstufe.
- Die vorliegende Offenbarung betrifft ein Halbleiterpackage mit eingebetteter Ausgangsinduktivität, im Wesentlichen wie in Verbindung mit wenigstens einer der Figuren gezeigt und/oder beschrieben und wie durch die Ansprüche dargelegt.
-
1 zeigt eine Darstellung eines beispielhaften Leistungswandlers. -
2 zeigt ein Flussdiagramm, das ein beispielhaftes Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterpackages mit eingebetteter Ausgangsinduktivität gemäß einer Realisierung darstellt. -
3A zeigt eine Draufsicht, die ein Ergebnis aus dem Durchführen einer Anfangshandlung gemäß dem beispielhaften Flussdiagramm aus2 in Übereinstimmung mit einer Realisierung veranschaulicht. -
3B zeigt eine Draufsicht, die ein Ergebnis aus dem Durchführen einer anschließenden Handlung gemäß dem beispielhaften Flussdiagramm aus2 in Übereinstimmung mit einer Realisierung veranschaulicht. -
3C zeigt eine Draufsicht, die ein Ergebnis aus dem Durchführen einer anschließenden Handlung gemäß dem beispielhaften Flussdiagramm aus2 in Übereinstimmung mit einer Realisierung veranschaulicht. -
3D zeigt eine Querschnittsansicht der in3C gezeigten Struktur, die ein Ergebnis aus dem Durchführen einer Endhandlung gemäß dem beispielhaften Flussdiagramm aus2 in Übereinstimmung mit einer Realisierung veranschaulicht. -
4 zeigt eine Querschnittsansicht eines Halbleiterpackages mit eingebetteter Ausgangsinduktivität gemäß einer Realisierung. -
5 zeigt eine Querschnittsansicht eines Halbleiterpackages mit eingebetteter Ausgangsinduktivität gemäß einer weiteren Realisierung. - Die folgende Beschreibung enthält spezielle Informationen, die die Realisierungen in der vorliegenden Offenbarung betreffen. Ein Fachmann erkennt, dass die vorliegende Offenbarung auf eine andere Art als hierin speziell besprochen realisiert werden kann. Die Zeichnungen in der vorliegenden Anmeldung und deren beiliegende ausführliche Beschreibung betreffen lediglich beispielhafte Realisierungen. Ähnliche oder entsprechende Elemente in den Figuren können, soweit nicht anders angegeben, durch ähnliche oder entsprechende Referenznummern gekennzeichnet sein. Zudem sind die Zeichnungen und Veranschaulichungen in der vorliegenden Anmeldung gewöhnlich nicht maßstabsgetreu und sind nicht dafür bestimmt, tatsächlichen relativen Abmessungen zu entsprechen.
- Wie oben angegeben, werden Leistungswandler, wie etwa Spannungsregler, in einer Vielzahl von elektronischen Schaltungen und Systemen verwendet. Beispielsweise können IC(integrated circuit – integrierte Schaltung)-Anwendungen die Wandlung einer DC(direct current – Gleichspannung)-Eingangsspannung zu einer niedrigeren, oder höheren, DC-Ausgangspannung benötigen. Als ein spezielles Beispiel kann ein Abwärtswandler als Spannungsregler realisiert werden, um einen DC-Eingang mit höherer Spannung für die Verwendung in Niederspannungsanwendungen, in denen relativ große Ausgangsströme benötigt werden, in einen DC-Ausgang mit niedrigerer Spannung zu wandeln.
-
1 zeigt eine Darstellung eines beispielhaften Leistungswandlers. Der Leistungswandler100 umfasst ein Halbleiterpackage102 und einen Ausgangskondensator108 , der zwischen einen Ausgang106 des Halbleiterpackage102 und Masse gekoppelt ist. Wie in1 gezeigt umfasst das Halbleiterpackage102 eine Leistungswandlerschaltstufe110 und eine Ausgangsinduktivität104 für die Leistungswandlerschaltstufe110 . Wie weiter in1 gezeigt, ist der Leistungswandler100 dafür ausgelegt, um eine Eingangsspannung VIN zu empfangen und eine gewandelte Spannung, d.h. eine gleichgerichtete und/oder herunter transformierte Spannung, als VOUT am Ausgang106 bereitzustellen. - Die Leistungswandlerschaltstufe
110 kann durch die Verwendung von zwei Stromschaltern in Form von MOSFETs (Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistoren), die zum Beispiel als Halbbrücke angeordnet sind, realisiert werden. Das heißt, die Leistungswandlerschaltstufe110 kann sowohl eine High-Side- oder Steuer-FET120 (Q1) mit Drain122 , Source124 und Gate126 als auch einen Low-Side- oder Synchron-(Sync)-FET130 (Q2) mit Drain132 , Source134 und Gate136 umfassen. Der Steuer-FET120 ist, wie in1 gezeigt, mit dem Sync-FET130 an einem Schaltungsknoten128 gekoppelt, der wiederum mit dem Ausgang106 des Halbleiterpackages102 durch die Ausgangsinduktivität104 gekoppelt ist. Wie ebenso in1 gezeigt ist, ist die Ausgangsinduktivität104 für die Leistungswandlerschaltstufe110 im Halbleiterpackage102 integriert, wie etwa durch das Einbetten in das Halbleiterpackage102 , wie unten ausführlicher beschrieben wird. - Gemäß der in der beispielhaften in
1 gezeigten Realisierung umfasst die Leistungswandlerschaltstufe110 einen Treiber-IC140 zum Treiben des Steuer-FET120 und des Sync-FET130 . Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass die Aufnahme des Treiber-IC140 in die Leistungswandlerschaltstufe110 optional ist. Dementsprechend können in anderen Realisierungen sowohl die Leistungswandlerschaltstufe110 als auch das Halbleiterpackage102 für die Leistungswandlerschaltstufe110 und die integrierte Ausgangsinduktivität104 den Treiber-IC140 möglicherweise nicht umfassen. - Die jeweiligen Steuer- und Sync-FETs
110 und120 können als Gruppe-IV-basierte Leistungs-FETs realisiert sein, wie etwa zum als Beispiel Silizium-Leistungs-MOSFETs mit einem vertikalen Design. Der Leistungswandler100 kann in einer Vielzahl von Kraftfahrzeugs-, industriellen, Haushaltsgeräte- und Beleuchtungsanwendungen vorteilhaft genutzt werden, zum Beispiel als Abwärtswandler. Es wird darauf hingewiesen, dass im Interesse der Einfachheit und Kürze der Beschreibung die vorliegenden erfindungsgemäßen Prinzipien in einigen Fällen durch Bezug auf spezielle Realisierungen eines Abwärtswandlers, der einen oder mehrere siliziumbasierte Leistungs-FETs umfasst, beschrieben werden. Es wird jedoch betont, dass solche Realisierungen lediglich beispielhaft sind, und die hier offenbarten erfindungsgemäßen Prinzipien auf ein breites Spektrum von Anwendungen anwendbar sind, einschließlich Ab- und Aufwärtswandler, die durch die Verwendung anderer Leistungstransistoren, die auf anderen Gruppe-IV-Materialien oder Gruppe-III-V-Halbleitern basieren, realisiert werden. - Es wird ferner darauf hingewiesen, dass sich, wie hier verwendet, die Formulierung „Gruppe-III-V“ auf einen Verbindungshalbleiter bezieht, der wenigstens ein Element der Gruppe III und wenigstens ein Element der Gruppe V umfasst. Beispielhaft kann ein Gruppe-III-V-Halbleiter die Form eines III-Nitrid-Halbleiters annehmen, der Stickstoff und wenigstens ein Element der Gruppe III umfasst. Zum Beispiel kann ein III-Nitrid-Leistungs-FET unter Verwendung von Galliumnitrid (GaN) hergestellt werden, in dem das Element oder die Elemente der Gruppe III etwas oder eine beträchtliche Menge Gallium umfassen, können allerdings außerdem weitere Elemente der Gruppe III zusätzlich zu Gallium umfassen. Dementsprechend können in einigen Realisierungen einer oder beide von Steuer-FET
120 und Sync-FET130 die Form eines III-Nitrid-Leistungs-FET, wie etwa eines III-Nitrid-HEMT (high electron mobility transistor – Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit), annehmen. - Weiter zu
2 , die ein Flussdiagramm250 zeigt, das ein beispielhaftes Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterpackages mit eingebetteter Ausgangsinduktivität darstellt. Das durch das Flussdiagramm250 beschriebene beispielhafte Verfahren wird auf einem Teil einer leitenden Trägerstruktur durchgeführt, die ein Halbleiterpackage-Leiterrrahmen (engl.: lead frame) sein kann oder die zum Beispiel die Form eines leitenden Blechs oder einer leitenden Platte annehmen kann. - Gemäß der
3A ,3B ,3C und3D (im Folgenden „3A –3D “) veranschaulichen die jeweils in diesen Figuren gezeigten Strukturen352 ,354 ,356 und358 das Ergebnis des Durchführens des Verfahrens des Flussdiagramms250 gemäß einer Realisierung. Die Struktur352 in3A repräsentiert zum Beispiel einen ersten strukturierten, leitenden Träger360 mit einem Steuer-FET320 und einem darüber angebrachten Sync-FET330 (Handlung252 ). Die Struktur354 in3B zeigt ein magnetisches Material370 , das über den Leitungen368a ,368b ,368c ,368d ,368e ,368f ,368g ,368h ,368i und368j (im Folgenden „Leitungen368a –368j “) des erstens strukturierten, leitenden Trägers360 angeordnet ist (Handlung254 ). Die Struktur356 in3C zeigt einen zweiten strukturierten, leitenden Träger380 , der über dem ersten strukturierten, leitenden Träger360 , dem Steuer- und Sync-FET320 und330 und dem magnetischen Material370 angebracht ist (Handlung256 ), und so weiter. - Bezugnehmend auf das Flussdiagramm
250 in2 in Kombination mit den1 und3A beginnt das Flussdiagramm250 mit dem Anbringen des Steuer-FET320 und des Sync-FET330 der Leistungswandlerschaltstufe110 über dem ersten strukturierten, leitenden Träger360 (Handlung252 ). Der erste strukturierte, leitende Träger360 kann ein vollständig strukturierter, leitender Träger zur Verwendung als Teil des Halbleiterpackage302 sein, das in3A als Umriss gezeigt ist. Wie außerdem in3A gezeigt, weist der erste strukturierte, leitende Träger360 mehrere Abschnitte auf, einschließlich einem Steuer-Drainsegment362 , einem Sync-Sourcesegment364 , einem Sync-Gatesegment366 und Leitungen368a –368j . Es wird darauf hingewiesen, dass gemäß der in3A gezeigten beispielhaften Realisierung Leitungen368e und368f des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 einen Ausgang306 des Halbleiterpackage302 bereitstellen. der Ausgang306 von Halbleiterpackage302 entspricht im Allgemeinen dem Ausgang106 in1 . - Der erste strukturierte, leitende Träger
360 kann aus einem beliebigen leitenden Material mit angemessen niedrigem elektrischem Widerstand gebildet sein. Beispiele für Materialien, aus denen der erste strukturierte, leitende Träger360 gebildet sein kann, umfassen Kupfer (Cu), Aluminium (Al) oder eine leitende Legierung. In einer Realisierung kann, wie oben angegeben, der erste strukturierte, leitende Träger360 realisiert werden, indem wenigstens ein Teil eines Halbleiterpackage-Leitungsrahmens verwendet wird. - Gemäß der beispielhaften in
3A gezeigten Realisierungen umfasst das Halbleiterpackage302 eine Treiber-IC340 zum Treiben des Steuer-FET320 und des Sync-FET330 . Das Halbleiterpackage302 , der Steuer-FET320 , der Sync-FET330 und der Treiber-IC340 entsprechen im Allgemeinen jeweils dem Halbleiterpackage102 , dem Steuer-FET120 , dem Sync-FET130 und dem Treiber-IC140 in1 und können beliebige der Eigenschaften, die den entsprechenden Merkmalen in der vorliegenden Anmeldung zugeschrieben sind, teilen. Mit anderen Worten und wie oben in Bezug auf1 besprochen, ist die Aufnahme des Treiber-IC340 in das Halbleiterpackage302 optional. Dementsprechend kann das Halbleiterpackage302 für den Steuer-FET320 und den Sync-FET330 in anderen Realisierungen den Treiber-IC340 möglicherweise nicht umfassen. - In Realisierungen, in denen der Steuer-FET
320 und der Sync-FET330 vertikale Leistungs-FETs sind, kann das Drain des Steuer-FET320 an das Steuer-Drainsegment362 des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 (das Drain von Steuer-FET320 ist auf einer unteren Oberfläche von Steuer-FET320 gegenüber Source324 und Gate326 angeordnet und entspricht Drain122 von Steuer-FET120 in1 ) angebracht sein. Entsprechend können das Source und das Gate von Sync-FET330 jeweils an ein Sync-Sourcesegment364 und ein Sync-Gatesegment366 des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 (die Source und das Gate von Sync-FET330 sind auf einer Oberfläche von Sync-FET330 gegenüber Drain332 angeordnet und entsprechen jeweils Source134 und Gate136 von Sync-FET130 in1 ) angebracht sein. - Der Steuer-FET
320 und der Sync-FET330 können an dem ersten strukturierten, leitenden Träger360 angebracht sein, indem ein elektrisch leitendes Die-Befestigungsmaterial verwendet wird (aus der in3A gezeigten Perspektive nicht sichtbar). Wenn er in das Halbleiterpackage302 eingefügt ist, kann der Treiber-IC340 zudem an dem ersten strukturierten, leitenden Träger360 angebracht sein, indem das gleiche elektrisch leitende Die-Befestigungsmaterial verwendet wird, das zum Anbringen des Steuer-FET320 und des Sync-FET330 verwendet wird, oder indem ein elektrisch isolierendes Die-Befestigungsmaterial (Die-Befestigungsmaterial für Treiber-IC340 ebenfalls aus der in3A gezeigten Perspektive nicht sichtbar) verwendet wird. - Wie in
3A gezeigt, kann der Treiber-IC340 , falls vorhanden, mit dem Gate326 des Steuer-FET320 durch einen elektrischen Verbinder342 gekoppelt sein und kann mit dem Gate des Sync-FET330 und dem Sync-Gatesegment366 des ersten strukturierten, leitenden Trägers durch einen elektrischen Verbinder344 gekoppelt sein. Es wird darauf hingewiesen, dass, obwohl die elektrischen Verbinder342 und344 in3A als Drahtverbindung dargestellt sind, diese Darstellung lediglich dem Zweck der konzeptionellen Klarheit dient. Allgemeiner können einer oder beide der elektrischen Verbinder342 und344 als Drahtverbindung, als leitende Klipps, Bänder oder Streifen oder als Vias, wie etwa zum Beispiel Durchsubstrat-Vias, realisiert sein. - Weiter zu der Struktur
354 in3B und weiter unter Bezug auf2 , geht das Flussdiagramm250 weiter mit dem Anordnen magnetischen Materials370 über Leitungen368a –368j des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 (Handlung254 ). Ein magnetisches Material370 kann ein beliebiges Material sein, das für die Verwendung als Induktivitätskern geeignet ist. Zum Beispiel kann ein magnetisches Material370 die Form eines Magnetkerns, wie etwa eines Ferritkerns mit hoher Stabilität der Ausgangsinduktivität104 in1 , haben. - Gemäß der in
3B gezeigten beispielhaften Realisierung ist ein magnetisches Material370 angrenzend an den Sync-FET330 angeordnet. Das heißt, der Sync-FET330 ist zwischen dem magnetischem Material370 und dem Steuer-FET320 angeordnet, und zwischen dem magnetischem Material370 und dem Treiber-IC340 , falls der Treiber-IC in dem Halbleiterpackage302 vorhanden ist. In anderen Realisierungen kann das Halbleiterpackage302 jedoch so angepasst sein, dass das magnetische Material370 an den Sync-FET330 und den Steuer-FET320 angrenzend angeordnet ist. In diesen Realisierungen ist Steuer-FET320 zum Beispiel zwischen magnetischem Material370 und Treiber-IC340 angeordnet, falls der Treiber-IC in Halbleiterpackage302 vorhanden ist. - Weiter zu der Struktur
356 in3C ; das Flussdiagramm250 geht weiter mit dem Anbringen eines zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 über dem ersten strukturierten, leitenden Träger360 , dem Steuer- und Sync-FETs320 und330 und dem magnetischem Material370 (Handlung256 ). Wie in3C gezeigt ist, kann der zweite strukturierte, leitende Träger380 ein vollständig strukturierter, leitender Träger mit Schaltknotenkontakten328 und einschließlich schräggestellter Leitungen388a ,388b ,388c ,388d ,388e ,388f ,388g und388h (im Folgenden „schräggestellte Kontakte388a –388h “) sein. Außerdem sind in3C perspektivische Linien 3D-3D gezeigt. - Wie der erste strukturierte, leitende Träger
360 kann der zweite strukturierte, leitende Träger380 aus einem beliebigen leitenden Material mit angemessen niedrigem elektrischem Widerstand gebildet sein. Beispielhafte Materialien, aus denen der zweite strukturierte, leitende Träger380 gebildet sein kann, umfassen Cu, Aluminium Al oder eine leitende Legierung. In einer Realisierung kann der zweite strukturierte, leitende Träger380 realisiert sein, indem wenigstens ein Teil eines Halbleiterpackage-Leitungsrahmens verwendet wird. Mit anderen Worten können in verschiedenen Realisierungen einer oder beide des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 und des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 realisiert sein, indem ein Halbleiterpackage-Leitungsrahmens verwendet wird. - Bezugnehmend auf
3D und weiter unter Bezug auf3C zeigt3D entlang der perspektivischen Linien 3D-3D in dieser Figur eine Struktur358 , die der Struktur356 in3C entspricht. Gemäß dem in2 umrissenen beispielhaften Verfahren kann das Flussdiagramm250 mit schräggestellten Leitungen (engl.: oblique leads)388a –388h des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 , die über dem magnetischem Material370 liegen und die mit Leitungen368a –368j des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 gekoppelt sind, so dass Windungen der Ausgangsinduktivität304 bereitgestellt werden, enden. - Wie in
3D gezeigt is, ist das Drain322 des Steuer-FET320 an ein Steuer-Drainsegment362 des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 mit elektrisch leitendem Die-Befestigungsmaterial372 angebracht, während das Source334 des Sync-FET330 an ein Sync-Sourcesegment364 des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 mit elektrisch leitendendem Die-Befestigungsmaterial372 angebracht ist. Das elektrisch leitende Die-Befestigungsmaterial372 wird zusätzlich verwendet, sowohl um das Source324 des Steuer-FET320 und das Drain332 des Sync-FET330 an dem Schaltknotenkontakt328 des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 anzubringen als auch um den Schaltknotenkontakt328 und die schräggestellte Leitung388a des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 an der Leitung368a des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 anzubringen. - Das elektrisch leitende Die-Befestigungsmaterial
372 kann eine beliebige für die Verwendung als elektrisch leitender Klebstoff geeignete Substanz sein. Das elektrisch leitende Die-Befestigungsmaterial372 kann zum Beispiel ein leitendes Epoxid, ein Lot, ein leitendes Sintermaterial oder ein diffusionsgeschweißtes Material, das zu einer beispielhaften Dicke von etwa 10 μm oder mehr geformt wird, sein. - Es wird darauf hingewiesen, dass das Steuer-Drainsegment
362 und das Sync-Sourcesegment364 teilweise geätzte Segmente des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 sein können. In einer Realisierung können zum Beispiel das Steuer-Drainsegment362 und das Sync-Sourcesegment364 im Wesentlichen halbgeätzte Segmente des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 sein. Zusätzlich können Leitungen368a bis368j des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 jeweils einen teilweise geätzten Teil, wie etwa zum Beispiel einen in etwa halb-geätzten Teil, und einen im Wesentlichen nicht-geätzten Teil umfassen. Der teilweise geätzte Teil der Leitung368a , genauso wie der aller Leitungen368a –368j , liegt unter einem magnetischem Material370 und bildet eine Vertiefung für das magnetische Material370 , das durch die im Wesentlichen nicht-geätzten Teile eingefasst wird. - Die schräggestellten Leitungen
388a –388h des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 können außerdem jeweils einen teilweise geätzten Teil, wie etwa einen in etwa halb-geätzten Teil, und einen im Wesentlichen nicht-geätzten Teil umfassen. Die teilweise geätzten Teile der schräggestellten Leitungen388a –388h liegen über dem magnetischem Material370 , während die nicht-geätzten Teile der schräggestellten Leitern388a –388h an den Leitungen368a –368j des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 angebracht sind. - Wie aus
3C und3D offensichtlich ist, kann jede der schräggestellten Leitung388a –388h des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 mit benachbarten Leitungen368a –368j des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 gekoppelt sein und eine elektrisch leitende Brücke zwischen diesen bilden. Das heißt, die schräggestellte Leitung388a des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 verbindet die Leitung368a des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 elektrisch mit der Leitung368b des ersten leitenden Trägers. Gleichermaßen verbindet die schräggestellte Leitung388b des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 die Leitung368b des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 elektrisch mit der Leitung368c des ersten leitenden Trägers und so weiter. - Dementsprechend sind die Leitungen
368a –368j des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 und die schräggestellten Leitungen388a –388h des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 elektrisch gekoppelt, um eine kontinuierliche Windung der Ausgangsinduktivität304 zu bilden, die das magnetische Material370 von der Leitung368a bis zu der Leitung368j umgibt. Folglich ist die Ausgangsinduktivität304 in dem Halbleiterpackage302 integriert, indem das magnetische Material370 den Magnetkern der Ausgangsinduktivität304 bereitstellt, der in die durch die Leitungen368a –368j und die schräggestellten Leitungen388a –388h jeweils des ersten und zweiten strukturierten, leitenden Trägers360 und380 bereitgestellten Induktivitätswindungen eingebettet ist. Die Ausgangsinduktivität304 entspricht im Allgemeinen der Ausgangsinduktivität104 für die Leistungswandlerschaltstufe110 in1 und kann beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechenden Merkmal in der vorliegenden Anmeldung zugeschrieben sind, haben. - Wie in den
3C und3D gezeigt ist, ist der Schaltknotenkontakt328 des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 an das Source324 des Steuer-FET320 und an das Drain332 des Sync-FET330 durch das elektrisch leitende Die-Befestigungsmaterial372 angebracht. Demzufolge ist der Schaltknotenkontakt328 des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 ausgelegt, um sowohl das Steuer-Source324 des Steuer-FET320 mit dem Drain332 des Sync-FET330 elektrisch zu koppeln als auch um das Source324 des Steuer-FET320 und das Drain332 des Sync-FET330 mit der Ausgangsinduktivität304 zu koppeln. Mit anderen Worten entspricht der Schaltknotenkontakt328 im Allgemeinen dem Schaltknoten128 in1 und kann beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechenden Merkmal in der vorliegenden Anmeldung zugeschrieben sind, teilen. - Gemäß der durch die
3A –3D gezeigten beispielhaften Realisierung ist der Schaltknotenkontakt328 des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 mit dem ersten strukturierten, leitenden Träger360 an der Leitung368a und an der Leitung368j gekoppelt, während der Ausgang306 des Halbleiterpackage302 durch die Leitungen368e und368f bereitgestellt ist. Es wird jedoch betont, dass die in den3A –3D dargestellte spezielle Realisierung lediglich beispielhaft ist. In anderen Realisierungen kann der Schaltknotenkontakt328 des zweiten strukturierten, leitenden Trägers380 mit nur einer der Leitungen368a oder368j des ersten strukturierten, leitenden Trägers360 gekoppelt sein, während der Ausgang306 des Halbleiterpackage302 durch die andere der Leitungen368a oder368j , die nicht mit dem Schaltknotenkontakt328 gekoppelt ist, bereitgestellt sein kann. - Weiter zu
4 , die eine Querschnittsansicht eines Halbleiterpackage402 mit eingebetteter Ausgangsinduktivität404 gemäß einer Realisierung zeigt. Es wird darauf hingewiesen, dass das Halbleiterpackage402 im Allgemeinen dem Halbleiterpackage302 in den3A –3D entspricht und in einer Perspektive gezeigt ist, die den perspektivischen Linien 3D-3D in3C entspricht. - Das Halbleiterpackage
402 umfasst einen Steuer-FET420 mit einem Drain422 und einem Source424 und einen Sync-FET430 mit einem Drain432 und einem Source434 . Wie in4 gezeigt, umfasst das Halbleiterpackage402 einen ersten strukturierten, leitenden Träger460 mit einem Steuer-Drainsegment462 , Sync-Sourcesegment464 und einer Leitung468a . Wie weiter in4 gezeigt, umfasst das Halbleiterpackage402 einen zweiten strukturierten, leitenden Träger480 mit einem Schaltknotenkontakt428 und einer schräggestellten Leitung488a . Außerdem sind in4 eine Ausgangsinduktivität404 mit magnetischem Material470 , elektrisch leitendem Die-Befestigungsmaterial472 und Packaging-Verkapselungsstoff490 gezeigt. - Das Halbleiterpackage
402 , mit dem Steuer-FET420 , dem Sync-FET430 und der integrierten Ausgangsinduktivität404 , entspricht im Allgemeinen dem Halbleiterpackage102 /302 in den1 und3A –3D mit dem Steuer-FET120 /320 , dem Sync-FET130 /330 und der integrierten Ausgangsinduktivität104 /304 , und kann beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechenden Merkmal oben zugeschrieben sind, haben. Zudem entspricht der erste strukturierte, leitende Träger460 mit dem Steuer-Drainsegment462 , dem Sync-Sourcesegment464 und der Leitung468a im Allgemeinen dem ersten strukturierten, leitenden Träger360 mit dem Steuer-Drainsegment362 , dem Sync-Sourcesegment364 und den Leitungen368a –368j und kann beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechenden Merkmal oben zugeschrieben sind, teilen. - Zusätzlich entspricht der zweite strukturierte, leitende Träger
480 mit dem Schaltknotenkontakt428 und der schräggestellten Leitung488a im Allgemeinen dem zweiten strukturierten, leitenden Träger380 mit dem Schaltknotenkontakt328 und den schräggestellten Leitungen388a –388h und kann beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechenden Merkmal oben zugeschrieben sind, teilen. Weiterhin entsprechen das magnetische Material470 bzw. das elektrisch leitende Die-Befestigungsmaterial472 im Allgemeinen jeweils dem magnetischen Material370 und dem elektrisch leitenden Die-Befestigungsmaterial372 in den3C und3D und können beliebige der Eigenschaften, die den entsprechenden Merkmalen oben zugeschrieben sind, teilen. Es wird darauf hingewiesen, dass der Packaging-Verkapselungsstoff490 eine beliebige, geeignete dielektrische Spritzmasse oder ein dielektrisches Verkapselungsmaterial sein kann, die/das üblicherweise für Halbleiter-Packaging verwendet wird. - Wie in
4 angedeutet ist, ist die schräggestellte Leitung488a des zweiten strukturierten, leitenden Trägers480 mit der Leitung468a und deren benachbarter Leitung468b des ersten strukturierten, leitenden Trägers460 gekoppelt und bildet eine elektrisch leitende Brücke zwischen diesen. Das heißt, die schräggestellte Leitung488a des zweiten strukturierten, leitenden Trägers480 verbindet die Leitung468a des ersten strukturierten, leitenden Trägers460 elektrisch mit der Leitung468b des ersten strukturierten, leitenden Trägers460 . - Dementsprechend sind die Leitung
468a des ersten strukturierten, leitenden Trägers460 und die schräggestellte Leitung488a des zweiten strukturierten, leitenden Trägers480 elektrisch gekoppelt, um einen Teil einer kontinuierlichen Windung der Ausgangsinduktivität404 zu bilden, die das magnetisches Material470 der Leitung468a bis zu der Leitung368j in3C entsprechenden Leitung umgibt. Folglich ist die Ausgangsinduktivität404 in das Halbleiterpackage402 integriert, indem das magnetische Material470 den Magnetkern der Ausgangsinduktivität404 bereitstellt, der in die zum Teil durch die Leitung468a und die schräggestellte Leitung488a jeweils des ersten und zweiten strukturierten, leitenden Trägers460 und480 bereitgestellten Windungen eingebettet ist. - Weiter mit
5 , die eine Querschnittsansicht des Halbleiterpackage502 mit eingebetteter Ausgangsinduktivität504 gemäß einer weiteren Realisierung zeigt. Es wird darauf hingewiesen, dass das Halbleiterpackage502 im Allgemeinen dem Halbleiterpackage302 in den3A –3D entspricht und aus einer Perspektive gezeigt ist, die den perspektivischen Linien 3D-3D in3C entspricht. - Das Halbleiterpackage
502 umfasst einen Steuer-FET520 mit Drain522 und Source524 und einen Sync-FET530 mit Drain532 und Source534 . Wie in5 gezeigt ist, umfasst das Halbleiterpackage502 einen ersten strukturierten, leitenden Träger560 mit einem Steuer-Drainsegment562 , einem Sync-Sourcesegment564 und einer Leitung568a . Wie weiter in5 gezeigt ist, enthält das Halbleiterpackage502 einen zweiten strukturierten, leitenden Träger580 mit einem Schaltknotenkontakt528 und einer schräggestellten Leitung588a . Außerdem sind in5 eine Ausgangsinduktivität504 magnetischem Material574 , elektrisch leitendem Die-Befestigungsmaterial572 und Packaging-Verkapselungsstoff590 gezeigt. - Das Halbleiterpackage
502 mit dem Steuer-FET520 , dem Sync-FET530 und der integrierten Ausgangsinduktivität504 entspricht im Allgemeinen dem Halbleiterpackage102 /302 , mit dem Steuer-FET120 /320 , dem Sync-FET130 /330 und der integrierten Ausgangsinduktivität104 /304 in den1 und3A –3D und kann beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechenden Merkmal oben zugeschrieben sind, teilen. Zudem entspricht der erste strukturierte, leitende Träger560 mit dem Steuer-Drainsegment562 , dem Sync-Sourcesegment564 und der Leitung568a im Allgemeinen dem ersten strukturierten, leitenden Träger360 mit dem Steuer-Drainsegment362 , dem Sync-Sourcesegment364 und den Leitungen368a –368j und kann beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechenden Merkmal oben zugeschrieben sind, teilen. - Zusätzlich entspricht der zweite strukturierte, leitende Träger
580 mit dem Schaltknotenkontakt528 und dem schräggestellten Leiter588a im Allgemeinen dem zweiten strukturierten, leitenden Träger380 mit dem Schaltknotenkontakt328 und den schräggestellten Leitungen388a –388h und kann beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechendem Merkmal oben zugeschrieben sind, teilen. Es wird darauf hingewiesen, dass das elektrisch leitende Die-Befestigungsmaterial572 im Allgemeinen dem elektrisch leitendem Die-Befestigungsmaterial372 in3D entspricht und beliebige der Eigenschaften, die dem entsprechenden Merkmal oben zugeschrieben sind, teilen kann. Es wird weiter darauf hingewiesen, dass der Packaging-Verkapselungsstoff590 eine beliebige, geeignete dielektrische Spritzmasse oder Verkapselungsmaterial sein kann, die oder das üblicherweise für Halbleiter-Packaging verwendet wird. - Das Halbleiterpackage
502 unterscheidet sich jedoch vom Halbleiterpackage302 dadurch, dass gemäß der vorliegenden Realisierung ein magnetisches Material574 der Ausgangsinduktivität504 durch den Packaging-Verkapselungsstoff590 bereitgestellt wird, der zum Beispiel eine mit magnetischen Partikeln576 durchdrungene Spritzmasse sein kann. Magnetische Partikel576 können beispielsweise Ferritpartikel sein, die in dem Packaging-Verkapselungsstoff590 zwischen der Leitung568a und der schräggestellten Leitung588a sowie zwischen allen anderen Leitungen des ersten struk-turierten, leitenden Trägers560 und schräggestellten Leitungen des zweiten strukturierten, leitenden Trägers580 , die Windungen der Ausgangsinduktivität504 bereitstellen, verteilt sein können. - In Bezug auf die Windungen von Ausgangsspule
504 wird darauf hingewiesen, dass die schräggestellte Leitung588a des zweiten strukturierten, leitenden Trägers580 mit der Leitung568a und deren benachbarter Leitung568b des ersten strukturierten, leitenden Trägers560 gekoppelt ist und eine elektrisch leitende Brücke zwischen diesen bildet. Das heißt, die Leitung568a des ersten strukturierten, leitenden Trägers560 und die schräggestellte Leitung588a des zweiten strukturierten, leitenden Trägers580 sind elektrisch gekoppelt, um einen Teil einer kontinuierlichen Windung von Ausgangsinduktivität504 zu bilden, die magnetisches Material574 mit magnetischen Partikeln576 von der Leitung568a bis zu einer der Leitung368j in3C entsprechenden Leitung umgibt. Folglich ist die Ausgangsinduktivität504 in das Halbleiterpackage502 integriert, indem das magnetische Material574 der Ausgangsinduktivität504 in die zum Teil durch die Leitung568a und die schräggestellte Leitung588a jeweils des ersten und zweiten strukturierten, leitenden Trägers560 und580 bereitgestellten Induktivitätswindungen eingebettet ist. - Dementsprechend offenbart die vorliegende Anmeldung ein Halbleiterpackage mit eingebetteter Ausgangsinduktivität, das eine äußerst kompakte Gestaltung für das Packaging einer Leistungswandlerschaltstufe, die für die Verwendung als Spannungsregler geeignet ist, bereitstellt. Indem Leitungen eines ersten strukturierten, leitenden Trägers mit schräggestellten Leitungen eines zweiten strukturierten, leitenden Trägers gekoppelt werden, ermöglichen die hier veröffentlichten Realisierungen die Verwendung der Leitungen und der schräggestellten Leitungen als Windungen einer Ausgangsinduktivität, deren Magnetkern zwischen dem ersten und zweiten strukturierten, leitendem Träger angeordnet ist. Demzufolge resultieren die hier offenbarten Packaging-Lösungen vorteilhaft in einer wesentlichen Reduzierung des PCB(printed circuit board – Leiterplatte)-Oberflächenbereichs, der benötigt wird, um einen Leistungswandler zu realisieren.
- Aus der obigen Beschreibung wird offensichtlich, dass verschiedene Methoden zur Realisierung des in der vorliegenden Anmeldung beschriebenen Konzepts verwendet werden können, ohne den Schutzumfang dieser Konzepte zu verlassen. Obwohl die Konzepte mit speziellem Bezug auf bestimmte Realisierungen beschrieben wurden, erkennt ein Durchschnittsfachmann, dass zudem Änderungen an Form und Einzelheit vorgenommen werden können, ohne den Schutzumfang dieser Konzepte zu verlassen. Von daher sind die beschriebenen Realisierungen in jeglicher Hinsicht als veranschaulichend und nicht als einschränkend zu verstehen. Es versteht sich auch, dass die vorliegende Anmeldung nicht auf die hier beschriebenen bestimmten Realisierungen beschränkt ist, sondern dass viele Umgestaltungen, Veränderungen und Substitutionen möglich sind, ohne den Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung zu verlassen.
Claims (20)
- Halbleiterpackage, das aufweist: einen Steuertransistor und einen Sync-Transistor einer Leistungswandlerschaltstufe, die über einem ersten strukturierten, leitenden Träger angebracht ist; ein magnetisches Material, das über einer Vielzahl von Leitungen des ersten strukturierten, leitenden Trägers angeordnet ist; einen zweiten strukturierten, leitenden Träger, der über dem ersten strukturierten, leitenden Träger, dem Steuer- und Sync-Transistor und dem magnetischen Material angebracht ist; wobei eine zweite Vielzahl von Leitungen des zweiten strukturierten, leitenden Trägers über dem magnetischen Material liegt und mit der ersten Vielzahl von Leitungen gekoppelt ist, so dass sie Windungen einer Ausgangsinduktivität für die Leistungswandlerschaltstufe bilden, wobei die Ausgangsinduktivität in das Halbleiterpackage integriert ist.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem das magnetische Material einen Magnetkern aufweist.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem das magnetische Material eine mit magnetischen Partikeln durchdrungene Spritzmasse aufweist.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem ein Drain des Steuertransistors mit einem Steuer-Drainsegment des ersten strukturierten, leitenden Trägers verbunden ist.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem ein Source des Sync-Transistors mit einem Sync-Sourcesegment des ersten strukturierten, leitenden Trägers verbunden ist.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem der zweite strukturierte, leitende Träger ein Source des Steuertransistors mit einem Drain des Sync-Transistors koppelt, um einen Schaltknoten der Leistungswandlerschaltstufe bereitzustellen.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem der Steuer- und der Sync-Transistor Silizium-Transistoren aufweisen.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem der Steuer- und der Sync-Transistor Gruppe-III-V-Transistoren aufweisen.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem der erste strukturierte, leitende Träger ein Teil eines Leitungsrahmens aufweist.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, bei dem der zweite strukturierte, leitende Träger einen Teil eines Leiterrahmens aufweist.
- Halbleiterpackage nach Anspruch 1, das außerdem eine integrierte Treiberschaltung (Treiber-IC) aufweist, die über dem ersten strukturierten, leitenden Träger angebracht ist, wobei der Treiber-IC ausgelegt ist, den Steuer- und Sync-Transistor zu treiben.
- Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterpackages, das aufweist: Anbringen eines Steuertransistors und eines Sync-Transistors einer Leistungswandlerschaltstufe über einem ersten strukturierten, leitenden Träger; Anordnen eines magnetischen Materials über einer ersten Vielzahl von Leitungen des ersten strukturierten, leitenden Trägers; Anbringen eines zweiten strukturierten, leitenden Trägers über dem ersten strukturierten, leitenden Träger, dem Steuer- und dem Sync-Transistor und dem magnetischen Material; wobei eine zweite Vielzahl von Leitungen des zweiten strukturierten, leitenden Trägers über dem magnetischen Material liegt und mit der ersten Vielzahl von Leitungen gekoppelt ist, so dass sie Windungen einer Ausgangsinduktivität für die Leistungswandlerschaltstufe bilden, wobei die Ausgangsinduktivität in das Halbleiterpackage integriert ist.
- Verfahren nach Anspruch 12, bei dem das magnetische Material einen Magnetkern aufweist.
- Verfahren nach Anspruch 12, bei dem das magnetische Material eine mit magnetischen Partikeln durchdrungene Spritzmasse aufweist.
- Verfahren nach Anspruch 12, bei dem ein Drain des Steuertransistors mit einem Steuer-Drainsegment des ersten strukturierten, leitenden Trägers verbunden ist.
- Verfahren nach Anspruch 12, bei dem ein Source des Sync-Transistors mit einem Sync-Sourcesegment des ersten strukturierten, leitenden Trägers verbunden ist.
- Verfahren nach Anspruch 12, bei dem der zweite strukturierte, leitende Träger ein Source des Steuertransistors mit einem Drain des Sync-Transistors koppelt, um einen Schaltknoten der Leistungswandlerschaltstufe bereitzustellen.
- Verfahren nach Anspruch 12, bei dem der Steuer- und Sync-Transistor Silizium-Transistoren aufweisen.
- Verfahren nach Anspruch 12, bei dem der Steuer- und Sync-Transistor Gruppe-III-V-Transistoren aufweisen.
- Verfahren nach Anspruch 12, das weiter das Anbringen einer integrierte Treiberschaltung (Treiber-IC) über dem ersten strukturierten, leitenden Träger umfasst, wobei der Treiber-IC ausgelegt ist, den Steuer- und Sync-Transistor zu treiben.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562172947P | 2015-06-09 | 2015-06-09 | |
US62/172,947 | 2015-06-09 | ||
US15/132,943 US9831159B2 (en) | 2015-06-09 | 2016-04-19 | Semiconductor package with embedded output inductor |
US15/132,943 | 2016-04-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102016109558A1 true DE102016109558A1 (de) | 2016-12-15 |
DE102016109558B4 DE102016109558B4 (de) | 2020-09-24 |
Family
ID=57395245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102016109558.3A Active DE102016109558B4 (de) | 2015-06-09 | 2016-05-24 | Halbleiterpackage mit eingebetteter ausgangsinduktivität |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9831159B2 (de) |
CN (1) | CN106252334B (de) |
DE (1) | DE102016109558B4 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10050025B2 (en) * | 2016-02-09 | 2018-08-14 | Texas Instruments Incorporated | Power converter monolithically integrating transistors, carrier, and components |
JP6729474B2 (ja) * | 2017-04-24 | 2020-07-22 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
US10373951B1 (en) | 2018-06-25 | 2019-08-06 | Intel Corporation | Package-embedded thin-film capacitors, package-integral magnetic inductors, and methods of assembling same |
US20210082790A1 (en) * | 2019-09-18 | 2021-03-18 | Alpha And Omega Semiconductor (Cayman) Ltd. | Power semiconductor package having integrated inductor and method of making the same |
US11309233B2 (en) * | 2019-09-18 | 2022-04-19 | Alpha And Omega Semiconductor (Cayman), Ltd. | Power semiconductor package having integrated inductor, resistor and capacitor |
US11183934B2 (en) * | 2019-10-17 | 2021-11-23 | Infineon Technologies Americas Corp. | Embedded substrate voltage regulators |
US11147165B2 (en) | 2019-10-17 | 2021-10-12 | Infineon Technologies Austria Ag | Electronic system and interposer having an embedded power device module |
US11071206B2 (en) | 2019-10-17 | 2021-07-20 | Infineon Technologies Austria Ag | Electronic system and processor substrate having an embedded power device module |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7227240B2 (en) * | 2002-09-10 | 2007-06-05 | Semiconductor Components Industries, L.L.C. | Semiconductor device with wire bond inductor and method |
CN2662448Y (zh) * | 2003-10-21 | 2004-12-08 | 相互股份有限公司 | 具有混合线路的电路模块 |
JP4821452B2 (ja) * | 2006-06-20 | 2011-11-24 | 富士電機株式会社 | 超小型電力変換装置およびその製造方法 |
DE102006058068B4 (de) * | 2006-12-07 | 2018-04-05 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauelement mit Halbleiterchip und passivem Spulen-Bauelement sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
US7884452B2 (en) * | 2007-11-23 | 2011-02-08 | Alpha And Omega Semiconductor Incorporated | Semiconductor power device package having a lead frame-based integrated inductor |
CN101764128A (zh) * | 2009-12-31 | 2010-06-30 | 锐迪科科技有限公司 | 半导体器件封装结构中的电感 |
US8436707B2 (en) * | 2010-01-12 | 2013-05-07 | Infineon Technologies Ag | System and method for integrated inductor |
US9111921B2 (en) * | 2012-10-18 | 2015-08-18 | International Rectifier Corporation | Semiconductor package with conductive carrier integrated heat spreader |
-
2016
- 2016-04-19 US US15/132,943 patent/US9831159B2/en active Active
- 2016-05-24 DE DE102016109558.3A patent/DE102016109558B4/de active Active
- 2016-05-26 CN CN201610362277.8A patent/CN106252334B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106252334A (zh) | 2016-12-21 |
US20160365304A1 (en) | 2016-12-15 |
CN106252334B (zh) | 2019-04-19 |
DE102016109558B4 (de) | 2020-09-24 |
US9831159B2 (en) | 2017-11-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102016109558B4 (de) | Halbleiterpackage mit eingebetteter ausgangsinduktivität | |
DE102017110962B4 (de) | Halbleiter-package mit flip-chip-montiertem ic und vertikal integriertem induktor und herstellungsverfahren dafür | |
DE102007013186B4 (de) | Halbleitermodul mit Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE112005003614B4 (de) | Halbleiterbaugruppe für ein Schaltnetzteil und Verfahren zu dessen Montage | |
DE102017214248B4 (de) | Vorrichtung mit einer an ein induktives Element angebrachten Leistungsstufe und Herstellungsverfahren dafür | |
DE102017213872B4 (de) | Einseitige Leistungsvorrichtungsbaugruppe und Verfahren zur Herstellung | |
DE102016105096B4 (de) | Halbleitervorrichtung mit einer in einer umverteilungsschicht ausgebildeten passiven komponente | |
DE102015104990B4 (de) | Verbindungshalbleitervorrichtung mit einem Abtastlead | |
DE102017217593B4 (de) | Mehrphasenleistungsvorrichtung, Verfahren zum Konstruieren eines Leistungselektronikvorrichtung-Packages und derartige Vorrichtung | |
DE102015121524A1 (de) | Integrierte Leistungsanordnung mit verringertem Formfaktor und verbesserter thermischer Dissipation | |
DE102013207507B3 (de) | Leistungsmodul, Stromrichter und Antriebsanordnung mit einem Leistungsmodul | |
DE102015104996B4 (de) | Halbleitervorrichtungen mit Steuer- und Lastleitungen von entgegengesetzter Richtung | |
DE102017219394A1 (de) | Eingang/Ausgang-Stifte für Substrat mit eingebettetem Chip | |
DE102017206603A1 (de) | Anpassbare geformte Leiterrahmenbaugruppe und entsprechendes Verfahren | |
DE102017100947A1 (de) | Elektronische Komponente und Schaltkreis | |
DE102017214236A1 (de) | Leistungswandler mit wenigstens fünf elektrischen Verbindungen auf einer Seite | |
DE102014104497B4 (de) | Halbleitergehäuse mit mehreren ebenen und verfahren zu deren herstellung | |
DE102017120747B4 (de) | SMD-Gehäuse mit Oberseitenkühlung und Verfahren zu seiner Bereitstellung | |
DE112020003012T5 (de) | Halbleiterbauteil | |
DE102015104995B4 (de) | Verbindungshalbleitervorrichtung mit einem mehrstufigen Träger | |
DE112021006079T5 (de) | Halbleiteranordnung | |
DE102017203030A1 (de) | Leistungshalbleitergehäuse mit leistungshalbleiternacktchip in einem trägersubstrat mit stabförmigen durchkontaktierungen | |
DE102017108172A1 (de) | SMD-Package | |
DE102018129689B4 (de) | Halbleiterpackage und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterpackage | |
DE102017109717B4 (de) | Ic-gehäuse mit integrierter induktivität und verfahren zur herstellung dafür |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R082 | Change of representative |