DE102014008725A1 - Rundgestricktes textiles Flächengebilde und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents
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Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft ein rundgestricktes textiles Flächengebilde mit wenigstens einer doppellagigen Abstandsstruktur. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines rundgestrickten textilen Flächengebildes, bei dem wenigstens eine doppellagige Abstandsstruktur hergestellt wird.
- Ein derartiges rundgestricktes textiles Flächengebilde mit einer doppellagigen Abstandsstruktur, welches als rundgestricktes Abstandsgestrick ausgebildet ist, sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung auf einer Rundstrickmaschine ist aus der europäischen Patentanmeldung
EP 1 748 097 A1 bekannt. Dadurch, dass bei der Bildung zumindest eines Teils der Maschen des herzustellenden Abstandsgestricks an wenigstens einer Strickstelle der Rundstrickmaschine Fäden gefangen, verstrickt und unverstrickt geführt werden, ist es möglich, ein Jacquard auf einer textilen Fläche des Abstandsgestricks aufzubringen. - Die technische Handhabbarkeit des doppellagigen Abstandsgestricks kann jedoch mitunter problematisch sein. Insbesondere Schneide- und Nähprozesse sind bei Abstandsgestricken nicht so leicht zu handhaben. Darüber hinaus sind die Materialkosten von Abstandsgestricken hoch. Die Musterungsvielfalt ist auf die Anbringung eines Jacquard-Musters auf der oberen Sichtfläche beschränkt.
- Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein rundgestricktes textiles Flächengebilde mit wenigstens einer doppellagigen Abstandsstruktur bereitzustellen, welches leicht technisch handhabbar ist, kostengünstig hergestellt werden kann und zugleich eine große Musterungsvielfalt ermöglicht.
- Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt mit einem rundgestrickten textilen Flächengebilde nach Anspruch 1 und mit einem Verfahren zur Herstellung eines rundgestrickten textilen Flächengebildes nach Anspruch 10.
- Bei einem rundgestrickten textilen Flächengebilde mit wenigstens einer doppellagigen Abstandsstruktur ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass das rundgestrickte textile Flächengebilde wenigstens eine einlagige Struktur und wenigstens einen Strukturwechsel zwischen der doppellagigen Abstandsstruktur und der einlagigen Struktur aufweist. Bei einem Verfahren zur Herstellung eines rundgestrickten textilen Flächengebildes, bei dem wenigstens eine doppellagige Abstandsstruktur hergestellt wird, ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass im laufenden Herstellungsprozess, insbesondere Strickprozess, ein Strukturwechsel von der doppellagigen Abstandsstruktur zu einer einlagigen Struktur vollzogen wird.
- Das rundgestrickte textile Flächengebilde wird mit der doppellagigen Abstandsstruktur und mit der einlagigen Struktur maschinell mittels einer Rundstrickmaschine hergestellt. Das rundgestrickte textile Flächengebilde kann somit auch als Gestrick, insbesondere Rundgestrick, bezeichnet werden. Die doppellagige Abstandsstruktur ist ein doppellagiges Abstandsgestrick. Die einlagige Struktur ist ein einlagiges Gestrick.
- Durch den Strukturwechsel der doppellagigen Abstandsstruktur mit der einlagigen Struktur ist am rundgestrickten textilen Flächengebilde oder wird verfahrensgemäß bevorzugt eine Musterung am rundgestrickten textilen Flächengebilde bereitgestellt. Dadurch sind besondere, ästhetisch ansprechende, Musterungen möglich. Darüber hinaus können gezielt Bereiche, in denen das rundgestrickte textile Flächengebilde zur weiteren Verarbeitung geschnitten oder mit anderen Bereichen vernäht werden soll, mit der einlagigen Struktur versehen werden. Schnitt- und Nähkanten am rundgestrickten textilen Flächengebilde werden bzw. sind somit bevorzugt von der einlagigen Struktur bereitgestellt und damit einlagig hergestellt. Das Schneiden und Nähen in einlagigen Strukturen ist gegenüber dem Schneiden und Nähen von doppellagigen Abstandsstrukturen technisch einfacher und führt auch zu optisch ansprechenderen Ergebnissen.
- Der bereichsweise Strukturwechsel von der doppellagigen Abstandsstruktur zur einlagigen Struktur führt ferner zu Einsparungen von Garnmaterial und damit zu geringeren Materialkosten des rundgestrickten textilen Flächengebildes. Bereiche des rundgestrickten textilen Flächengebildes, an denen keine Abstandsstruktur benötigt wird, können somit mit weniger Garnmaterial und somit kostengünstig hergestellt werden. Darüber hinaus ist mit dem Strukturwechsel von der doppellagigen Abstandsstruktur zur einlagigen Struktur auch ein Wechsel des Garnmaterials möglich. Insbesondere wird dabei das Garn gewechselt. Dies führt dazu, dass die doppellagige Abstandsstruktur wenigstens ein erstes Garn aufweist und die einlagige Struktur wenigstens ein zweites Garn aufweist, welches sich von dem ersten Garn unterscheidet.
- Es kann sein, dass unterschiedliche Anforderungen an die Reißfestigkeit oder Scheuerbeständigkeit oder Dehnbarkeit oder einer anderen Garneigenschaft an das in der einlagigen Struktur verwendete, zweite Garn gegenüber dem in der doppellagigen Abstandsstruktur verwendeten, ersten Garn gestellt werden. Insbesondere unterscheidet sich das zweite Garn gegenüber dem ersten Garn daher in ein oder mehreren oder allen der nachfolgend genannten Eigenschaften oder Kennwerten: Reißfestigkeit, Scheuerbeständigkeit, Dehnbarkeit, Garntiter, Filamentanzahl und/oder Durchmesser. Vorteilhafterweise kann beim Strukturwechsel von der doppellagigen Abstandsstruktur zur einlagigen Struktur auf ein vergleichsweise günstigeres Garnmaterial zurückgegriffen werden. Die Erfindung ermöglicht somit eine Material- und Kostenreduktion.
- Die Rundstrickmaschine weist bevorzugt einen vollelektronischen Jacquard-Mechanismus auf. Das damit hergestellte Gestrick und somit auch das damit hergestellte rundgestrickte textile Flächengebilde weist damit vorzugsweise eine Jacquard-Musterung auf. In Kombination mit dem Strukturwechsel zwischen dem doppellagigen und dem einlagigen Gestrick ergeben sich daher interessante Musterungen. Die Musterungsvielfalt lässt sich noch erhöhen, wenn gemäß einer Weiterbildung der Erfindung verschiedene farbige Garne verwendet werden. Hierfür kann die Rundstrickmaschine beispielsweise mit einem Ringelapparat ausgerüstet sein.
- Das rundgestrickte textile Flächengebilde wird in einem Arbeitsgang mit der doppellagigen Abstandsstruktur und der einlagigen Struktur hergestellt. Der Strukturwechsel von der doppellagigen Abstandsstruktur zur einlagigen Struktur erfolgt dabei im laufenden Strickprozess. Insbesondere erfolgt der Strukturwechsel unter Nichteinbindung eines Polfadens, der in der doppellagigen Abstandsstruktur für den Abstand zwischen den beiden Lagen, insbesondere der oberen Lage und der unteren Lage, der doppellagigen Abstandsstruktur sorgt. Der Polfaden ist somit bevorzugt in der einlagigen Struktur nicht eingebunden. Insbesondere ist der Polfaden in der einlagigen Struktur als Flottierung weitergeführt. Alternativ wird der Polfaden im einlagigen Bereich abgetrennt bzw. ausgelassen.
- Die obere Lage der doppellagigen Abstandsstruktur ist auf der Sichtseite des rundgestrickten textilen Flächengebildes angeordnet, wohingegen die untere Lage der doppellagigen Abstandsstruktur sowie bevorzugt auch die einlagige Struktur auf der Abseite des textilen Flächengebildes angeordnet sind.
- Bevorzugt bildet eine der Lagen, insbesondere die obere Lage, der doppellagigen Abstandsstruktur die daran anschließende einlagige Struktur, wohingegen die jeweils andere Lage, insbesondere die untere Lage, der doppellagigen Abstandsstruktur im Bereich der einlagigen Struktur nicht weitergeführt wird, der Polfaden aber als Flottierung weiterläuft. Alternativ wird die einlagige Struktur aus den beiden zusammengeführten Lagen der doppellagigen Abstandsstruktur gebildet. Nach dem jeweils letzten Polfaden werden die Lagen der doppellagigen Abstandsstruktur aufeinander zugeführt und miteinander verbunden.
- Gemäß einer besonderen Ausführungsform wird in der einlagigen Struktur wenigstens ein anderes Garn als in der doppellagigen Abstandsstruktur verwendet. Im Herstellungsprozess erfolgt hierfür ein automatischer Austausch von Garnmaterialien beim Strukturwechsel zwischen der doppellagigen Abstandsstruktur und der einlagigen Struktur.
- Das erfindungsgemäße rundgestrickte textile Flächengebilde ist für die Herstellung von Sitzbezügen, Matratzenbezügen sowie von Verkleidungen im Innenraum eines Kraftfahrzeuges geeignet und vorgesehen. Die Erfindung betrifft daher auch einen Sitzbezug, einen Matratzenbezug sowie eine Kraftfahrzeug-Innenverkleidung, die mit dem erfindungsgemäßen rundgestrickten textilen Flächengebilde hergestellt ist, sowie die Verwendung des rundgestrickten textilen Flächengebildes für einen Sitzbezug und/oder für einen Matratzenbezug und/oder für eine Kraftfahrzeug-Innenverkleidung.
- Weitere Ausführungsformen ergeben sich aus den Ansprüchen und aus einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung, welches in drei Figuren dargestellt und nachfolgend beschrieben ist.
-
1 zeigt einen Ausschnitt eines rundgestrickten textilen Flächengebildes1 in einer Seitendarstellung. Das rundgestrickte textile Flächengebilde1 weist eine doppellagige Abstandsstruktur2 in Form eines Abstandsgestricks auf. - Die doppellagige Abstandsstruktur
2 umfasst eine untere Lage4 , eine davon beabstandete obere Lage5 und eine zwischen der unteren Lage4 und der oberen Lage5 angeordnete Zwischenlage6 mit Polfäden7 , welche die untere Lage4 und die obere Lage5 voneinander beabstandet halten. Dank der doppellagigen Abstandsstruktur2 können Wärme und Feuchtigkeit in vorteilhafter Weise von der oberen Lage5 durch die Zwischenlage6 abgeführt werden und somit beispielsweise den Sitzkomfort einer auf einem Fahrzeugsitz sitzenden Person verbessern, wenn der Fahrzeugsitz mit dem rundgestrickten textilen Flächengebilde1 bezogen ist. -
2 zeigt eine vereinfachte stilisierte Darstellung eines gegenüber1 vergrößerten Ausschnittes des rundgestrickten textilen Flächengebildes1 . Der hier dargestellte Ausschnitt zeigt zusätzlich zur doppellagigen Abstandsstruktur2 eine entsprechend ausgebildete weitere doppellagige Abstandsstruktur2' , die auch ein weiterer Abschnitt der doppellagigen Abstandsstruktur2 sein kann. Zwischen den doppellagigen Abstandsstrukturen2 und2' ist eine einlagige Struktur8 angeordnet. Im Bereich der einlagigen Struktur8 ist der Polfaden7 nicht eingebunden. Ferner entfällt hier die untere Lage4 . Die obere Lage5 wird von der Sichtseite zur Abseite des rundgestrickten textilen Flächengebildes1 und damit zur unteren Lage4 heruntergeführt und geht nahtlos in die auf der Abseite angeordnete einlagige Struktur8 über. Insbesondere wird die einlagige Struktur8 von der oberen Lage5 gebildet. Alternativ kann die untere Lage4 in die einlagige Struktur8 übergehen oder kann in anderen Worten die einlagige Struktur8 von der unteren Lage4 gebildet sein. -
3 zeigt ein Anwendungsbeispiel für die Verwendung des rundgestrickten textilen Flächengebildes1 , nämlich eine als Dachhimmel ausgebildete Kraftfahrzeug-Innenverkleidung9 . Das rundgestrickte textile Flächengebilde1 ist hier in allen äußeren Bereichen als doppellagige Abstandsstruktur2 ausgeführt. Im mittleren Bereich ist hingegen eine einlagige Struktur8 angeordnet, die jedoch in drei schmalen Streifen doppellagig unterbrochen ist. Dadurch wird die Stabilität des rundgestrickten textilen Flächengebildes1 im mittleren Bereich gegenüber einer großflächigen einlagigen Ausführung erhöht. - Alle in der vorstehenden Beschreibung genannten Merkmale sind in einer beliebigen Auswahl mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche kombinierbar. Die Offenbarung der Erfindung ist somit nicht auf die beschriebenen bzw. beanspruchten Merkmalskombinationen beschränkt, vielmehr sind alle im Rahmen der Erfindung sinnvollen Merkmalskombinationen als offenbart zu betrachten.
- Bezugszeichenliste
-
- 1
- rundgestricktes textiles Flächengebilde
- 2, 2'
- doppellagige Abstandsstruktur
- 4
- untere Lage
- 5
- obere Lage
- 6
- Zwischenlage
- 7
- Polfaden
- 8
- einlagige Struktur
- 9
- Kraftfahrzeug-Innenverkleidung
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- EP 1748097 A1 [0002]
Claims (20)
- Rundgestricktes textiles Flächengebilde mit wenigstens einer doppellagigen Abstandsstruktur (
2 ,2' ), dadurch gekennzeichnet, dass das rundgestrickte textile Flächengebilde (1 ) wenigstens eine einlagige Struktur (8 ) und wenigstens einen Strukturwechsel zwischen der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) und der einlagigen Struktur (8 ) aufweist. - Rundgestricktes textiles Flächengebilde nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass durch den Strukturwechsel der doppellagigen Abstandsstruktur (
2 ,2' ) mit der einlagigen Struktur (8 ) eine Musterung am rundgestrickten textilen Flächengebilde (1 ) bereitgestellt ist. - Rundgestricktes textiles Flächengebilde nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das rundgestrickte textile Flächengebilde (
1 ) Schnitt- und/oder Nähkanten aufweist, die von der einlagigen Struktur (8 ) bereitgestellt sind. - Rundgestricktes textiles Flächengebilde nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, die doppellagige Abstandsstruktur (
2 ,2' ) wenigstens ein erstes Garn aufweist und die einlagige Struktur wenigstens ein zweites Garn aufweist, welches sich von dem ersten Garn unterscheidet. - Rundgestricktes textiles Flächengebilde nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass sich das zweite Garn gegenüber dem ersten Garn in ein oder mehreren oder allen der nachfolgend genannten Eigenschaften oder Kennwerten unterscheidet: – Reißfestigkeit; – Scheuerbeständigkeit; – Dehnbarkeit; – Garntiter; – Filamentanzahl; – Durchmesser.
- Rundgestricktes textiles Flächengebilde nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das rundgestrickte textile Flächengebilde (
1 ) eine Jacquard-Musterung aufweist. - Rundgestricktes textiles Flächengebilde nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein Polfaden (
7 ) in der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) für den Abstand zwischen den beiden Lagen (4 ,5 ) der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) sorgt und dieser Polfaden (7 ) in der einlagigen Struktur (8 ) nicht eingebunden ist. - Rundgestricktes textiles Flächengebilde nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Polfaden (
7 ) in der einlagigen Struktur (8 ) als Flottierung weitergeführt ist. - Rundgestricktes textiles Flächengebilde nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die einlagige Struktur (
8 ), welche an die doppellagige Abstandsstruktur (2 ,2' ) anschließt, durch eine der Lagen (4 ,5 ) der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) ausgebildet ist, wohingegen die jeweils andere Lage (4 ,5 ) der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) im Bereich der einlagigen Struktur (8 ) nicht weitergeführt ist. - Sitzbezug, Matratzenbezug oder Kraftfahrzeug-Innenverkleidung, aufweisend ein rundgestricktes textiles Flächengebilde (
1 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 9. - Verfahren zur Herstellung eines rundgestrickten textilen Flächengebildes (
1 ), bei dem wenigstens eine doppellagige Abstandsstruktur (2 ,2' ) hergestellt wird, dadurch gekennzeichnet, dass im laufenden Herstellungsprozess, insbesondere Strickprozess, ein Strukturwechsel von der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) zu einer einlagigen Struktur (8 ) vollzogen wird. - Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass durch den Wechsel der doppellagigen Abstandsstruktur (
2 ,2' ) mit der einlagigen Struktur (8 ) eine Musterung am rundgestrickten textilen Flächengebilde (1 ) hergestellt wird. - Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass am rundgestrickten textilen Flächengebilde (
1 ) Schnitt- und Nähkanten einlagig hergestellt werden. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass mit dem Strukturwechsel von der doppellagigen Abstandsstruktur (
2 ,2' ) zur einlagigen Struktur (8 ) auch das Garn gewechselt wird, so dass die doppellagige Abstandsstruktur (2 ,2' ) wenigstens ein erstes Garn aufweist und die einlagige Struktur (8 ) wenigstens ein zweites Garn aufweist, welches sich von dem ersten Garn unterscheidet. - Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass sich das zweite Garn gegenüber dem ersten Garn in ein oder mehreren oder allen der nachfolgend genannten Eigenschaften oder Kennwerten unterscheidet: – Reißfestigkeit; – Scheuerbeständigkeit; – Dehnbarkeit; – Garntiter; – Filamentanzahl; – Durchmesser.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass das rundgestrickte textile Flächengebilde (
1 ) mittels einer Rundstrickmaschine mit Jacquard-Mechanismus eine Jacquard-Musterung erhält. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Strukturwechsel von der doppellagigen Abstandsstruktur (
2 ,2' ) zur einlagigen Struktur (8 ) unter Nichteinbindung eines Polfadens (7 ), der in der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) für den Abstand zwischen den beiden Lagen (4 ,5 ) der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) sorgt, erfolgt. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass der Polfaden (
7 ) in der einlagigen Struktur (8 ) als Flottierung weitergeführt wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die einlagige Struktur (
8 ), welche an die doppellagige Abstandsstruktur (2 ,2' ) anschließt, durch eine der Lagen (4 ,5 ) der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) ausgebildet wird, wohingegen die jeweils andere Lage (4 ,5 ) der doppellagigen Abstandsstruktur (2 ,2' ) im Bereich der einlagigen Struktur (8 ) nicht weitergeführt wird. - Verwendung eines rundgestrickten textilen Flächengebildes (
1 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 8 oder eines rundgestrickten textilen Flächengebildes (1 ), welches mittels eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 11 bis 19 hergestellt ist, für einen Sitzbezug oder für einen Matratzenbezug oder für eine Kraftfahrzeug-Innenverkleidung (9 ).
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: SAGE AUTOMOTIVE INTERIORS, INC., GREENVILLE, US Free format text: FORMER OWNER: JOHNSON CONTROLS GMBH, 51399 BURSCHEID, DE Owner name: ADIENT LUXEMBOURG HOLDING S.A R.L., LU Free format text: FORMER OWNER: JOHNSON CONTROLS GMBH, 51399 BURSCHEID, DE Owner name: ADIENT LUXEMBOURG HOLDING S.A.R.L., LU Free format text: FORMER OWNER: JOHNSON CONTROLS GMBH, 51399 BURSCHEID, DE |
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R082 | Change of representative |
Representative=s name: PATENTANWAELTE JABBUSCH SIEKMANN & WASILJEFF, DE |
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R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: SAGE AUTOMOTIVE INTERIORS, INC., GREENVILLE, US Free format text: FORMER OWNER: ADIENT LUXEMBOURG HOLDING S.A.R.L., LUXEMBOURG, LU Owner name: ADIENT LUXEMBOURG HOLDING S.A R.L., LU Free format text: FORMER OWNER: ADIENT LUXEMBOURG HOLDING S.A.R.L., LUXEMBOURG, LU |
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R082 | Change of representative |
Representative=s name: PATENTANWAELTE JABBUSCH SIEKMANN & WASILJEFF, DE |
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R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: SAGE AUTOMOTIVE INTERIORS, INC., GREENVILLE, US Free format text: FORMER OWNER: ADIENT LUXEMBOURG HOLDING S.A R.L., LUXEMBOURG, LU |
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R082 | Change of representative |
Representative=s name: HOFFMANN - EITLE PATENT- UND RECHTSANWAELTE PA, DE |