DE102010002207B4

DE102010002207B4 - Temperatursteuerung für Gaslaser

Info

Publication number: DE102010002207B4
Application number: DE102010002207.1A
Authority: DE
Inventors: Yukio Watanabe; Hideyuki Hayashi; Kouji Kakizaki; Michio Shinozaki; Hideo Hoshino
Original assignee: Gigaphoton Inc
Current assignee: Gigaphoton Inc
Priority date: 2009-02-23
Filing date: 2010-02-22
Publication date: 2022-11-17
Anticipated expiration: 2030-02-23
Also published as: DE102010002207A1; US8787413B2; JP2010219516A; US20130294470A1; US20130294469A1; US8498317B2; US20120267343A1; US20100217444A1; US8811438B2; US8238392B2; JP5607383B2

Abstract

Temperatursteuerung für einen Gaslaser, die Temperaturen einer Vielzahl von temperaturgesteuerten Vorrichtungen (11 bis 14) steuert, die zumindest zwei erste temperaturgesteuerte Abschnitte (11a bis 14a), die eine Temperatursteuerung innerhalb eines ersten Bereichs einer ersten Temperatur +/- 0,5 Grad erfordern, und zumindest zwei zweite temperaturgesteuerte Abschnitte (11b bis 14b), die eine Temperatursteuerung innerhalb eines zweiten Bereichs mit einer Obergrenze, die höher ist als die des ersten Bereichs, erfordern, umfasst, wobei die Temperatursteuerung für einen Gaslaser aufweist:einen ersten Temperatursteuerungsabschnitt (32), der ein Kühlmittel oder Heizmittel zum Anpassen einer Temperatur eines jeden ersten temperaturgesteuerten Abschnitts erzeugt;einen zweiten Temperatursteuerungsabschnitt (31), der ein Kühlmittel oder Heizmittel zum Anpassen einer Temperatur eines jeden zweiten temperaturgesteuerten Abschnitts erzeugt;ein erstes Leitungssystem (L2), das den ersten Temperatursteuerungsabschnitt und jeden ersten temperaturgesteuerten Abschnitt parallel verbindet; undein zweites Leitungssystem (L1), das den zweiten Temperatursteuerungsabschnitt und jeden zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt parallel verbindet, wobeider erste Temperatursteuerungsabschnitt und der zweite Temperatursteuerungsabschnitt eine einzelne Temperatursteuerungseinheit (32) sind,eine Ausgangsleitung (L1a), die zu jedem zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt des zweiten Leitungssystems gerichtet ist, mit der einzelnen Temperatursteuerungseinheit verbunden ist, unddie einzelne Temperatursteuerungseinheit das Mittel innerhalb einer Rückführleitung des ersten Leitungssystems zu jedem zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt zuführt.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
1. Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser.
2. Beschreibung des Standes der Technik
In letzten Jahren, zusammen mit einem Fortschritt bei der Miniaturisierung von Halbleitereinrichtungen, hat sich die Miniaturisierung von Transkriptionsmustern, die bei Fotolithographie in einem Halbleiterprozess verwendet werden, schnell entwickelt. In der nächsten Generation werden Mikrofabrikationen im Ausmaß von 70 nm bis 45 nm oder sogar im Ausmaß von 32 nm und weiter erforderlich sein. Deshalb, um den Anforderungen der Mikrofabrikation bis zum Ausmaß von 32 nm und weiter zu entsprechen, wird eine Entwicklung solcher Belichtungsvorrichtungen erwartet, die eine extrem ultraviolette (EUV) Lichtquelle für eine Wellenlänge von ungefähr 13 nm und Optiken mit einer reduzierten Projektionsreflexion kombinieren.
Für die EUV-Lichtquelle gibt es drei mögliche Arten, welche eine LPP-Lichtquelle (LPP: „laser produced plasma“, durch einen Laser erzeugtes Plasma), die ein Plasma verwendet, das durch Bestrahlen eines Ziels mit einem Laserstrahl erzeugt wird, eine DPP-Lichtquelle (DPP: „discharge produced plasma“, ein durch Entladung erzeugtes Plasma), die ein Plasma verwendet, das durch elektrische Entladung erzeugt wird, und eine SR-Lichtquelle (SR: „synchrotron radiation“, Synchrotronstrahlung), die ein kreisförmig strahlendes Licht verwendet, sind. Unter diesen Lichtquellen besitzt die LPP-Lichtquelle solche Vorteile, dass eine extrem hohe Leuchtkraft nahe der Schwarzkörperstrahlung erreicht werden kann, weil im Vergleich mit der DPP-Lichtquelle und der SR-Lichtquelle eine höhere Plasmadichte erreicht werden kann. Des Weiteren besitzt die LPP-Lichtquelle solche Vorteile, dass es keine Konstruktion wie eine Elektrode um eine Lichtquelle gibt, weil die Lichtquelle eine Punktlichtquelle mit nahezu isotropischen Winkelverteilungen ist, und deshalb extrem breite Sammelraumwinkel usw. erhalten werden können. Dementsprechend wird erwartet, dass die LPP-Lichtquelle mit solchen Vorteilen als Lichtquelle für EUV-Lithographie dient, welche mehr als einige Dutzend bis einige Hundert Watt Energie benötigt.
Bei der EUV-Lichtquellenvorrichtung mit dem LPP-System, wie es in der JP 2007 - 266 234 A offenbart ist, wird zuerst ein Zielmaterial, das innerhalb einer Vakuumkammer zugeführt wird, durch Bestrahlung mit einem Laserlicht erregt und somit in Plasma umgewandelt. Dann wird ein Licht mit verschiedenen Wellenlängenkomponenten inklusive einem EUV-Licht von dem erzeugten Plasma ausgestrahlt. Dann fokussiert die EUV-Lichtquellenvorrichtung das EUV-Licht auf einen vorbestimmten Punkt durch Reflektieren des EUV-Lichts unter Verwendung eines EUV-Sammelspiegels, welcher selektiv ein EUV-Licht mit einer spezifischen Wellenlänge, z.B. eine 13,5 nm Wellenlängenkomponente reflektiert. Das reflektierte EUV-Licht wird in eine Belichtungsvorrichtung eingegeben. Auf einer reflektierenden Oberfläche des EUV-Sammelspiegels wird eine Mehrlagenbeschichtung (Mo/Si-Mehrfachlagenbeschichtung) mit einer Struktur, bei der z.B. eine dünne Beschichtung von Molybdän (Mo) und eine dünne Beschichtung von Silizium (Si) abwechselnd gestapelt werden, gebildet. Die Mehrfachlagenbeschichtung weist mit Bezug auf das EUV-Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 nm ein hohes Reflexionsverhältnis (von ungefähr 60% bis 70%) auf.
In der JP 2006 - 135 298 A ist ein Lasertreiber für eine EUV-Lichtquellenvorrichtung mit dem LPP-System offenbart, das einen CO₂-Gaslaser als einen Grund- bzw. Hauptoszillator (MO) verwendet und in mehreren Stufen ein Laserlicht, das durch das MO unter Verwendung des CO₂-Gaslasers oszilliert wird, verstärkt.
Unterdessen, um ein Laserlicht mit hoher Präzision und hoher Leistung auszugeben, benötigt der vorstehend beschriebene Lasertreiber sowohl eine Hochpräzisionstemperatursteuerung für ein optisches Element, wie etwa einen Spiegel, als auch ein Kühlen einer Stromversorgungseinheit. In dieser Hinsicht besitzt der herkömmliche Lasertreiber ein Kühlungssystem, wie etwa einen Kühler, der für jedes optische Element oder Stromversorgungseinheit einzeln angeordnet ist.
Im Falle eines Mehrfachstufenverstärkungslasertreibers wird jedoch dadurch, dass eine Vielzahl von Laservorrichtungen angeordnet ist, die Anordnung von einzelnen Temperatursteuerungsvorrichtungen mit Bezug auf den temperaturgesteuerten Abschnitt innerhalb jeder Laservorrichtung eine Energieeinsparung verhindert, während es verursacht, dass die Vorrichtung größer wird.
Die Druckschrift US 5 940 420 A offenbart eine Laserkühlvorrichtung mit geteilter Strömung zur Bereitstellung getrennter Kühlumgebungen für das Pumpmedium und das Lasermedium. Die Vorrichtung umfasst einen im Allgemeinen transparenten Monoblock, ein Pumpmedium zur Bereitstellung von Pumplicht und ein auf das Pumplicht reagierendes Lasermedium zur Erzeugung von Laserenergie. Der Monoblock ist im Allgemeinen transparent und hat eine erste offene Bohrung und eine zweite offene Bohrung, deren Achsen parallel zueinander verlaufen. Die erste Bohrung nimmt das Pumpmedium auf, so dass zwischen dem Monoblock und dem Pumpmedium ein Pumpenkühlkanal vorhanden ist. Ebenso nimmt die zweite Bohrung das Lasermedium auf, so dass ein Laserkühlkanal zwischen dem Lasermedium und dem Monoblock vorgesehen ist.
Die Druckschrift US 7 257 136 B2 offenbart eine Laservorrichtung zur Durchführung der Laserbearbeitung durch Verdichtung des von einem Laseroszillator abgegebenen Laserlichts. Eine Laserausgangswert-Berechnungseinheit berechnet einen Laserausgangswert auf der Grundlage eines an einen Laseroszillator ausgegebenen Befehlswertes. Eine TemperaturänderungsSchätzeinheit schätzt die Temperaturänderung oder die Temperatur von bestimmten Komponentenelementen der Laservorrichtung auf der Grundlage der verstrichenen Zeit und des von der Laserausgangswert-Berechnungseinheit berechneten Laserausgangswertes. Eine Justiereinheit passt die Bedingungen für die Steuerung des Lasers oder die Bedingungen für die Laserbearbeitung auf der Grundlage der Temperaturänderung oder der Temperatur des bestimmten Komponentenelements an, die von der Temperaturänderungsschätzeinheit geschätzt wird. Eine stabile Laserbearbeitung wird ohne einen Temperatursensor durchgeführt. Der Laserausgangswert kann mit einem Laserleistungssensor gemessen werden.
Die Druckschrift JP 2005 33 124 A offenbart ein Betriebsverfahren einer gepulsten Hochleistungslaservorrichtung, bei dem die Durchflussrate des Kühlwassers, das von einem Kühlsystem an einen Oszillator und Verstärker zugeführt wird, allmählich erhöht wird, um den Wert des Stroms, der einer Stimulationsenergiequelle des Oszillators zugeführt wird, allmählich zu erhöhen, und zwar in einem Zustand, in dem die Laserstrahlen durch einen Verschluss in einem Sender blockiert werden. Wenn die Leistung der Laserstrahlen die Nennleistung erreicht hat, wird der Drehwinkel einer Halbwellenlängenplatte geändert, während die Blockierung der Laserstrahlen aufgehoben wird, um die Polarisationsrichtung der Laserstrahlen zu ändern. Dann wird der Transmissionsgrad der Laserstrahlen, der durch einen polarisierten Strahlteiler hindurchgeht, allmählich vom Minimum zum Maximum erhöht, um die Laserstrahlen auf die einzelnen Verstärker zu lenken und den Stimulationsstrom, der den einzelnen Verstärkern zugeführt wird, allmählich von dem erforderlichen Wert unterhalb des Nennstromwertes zu erhöhen.
Die Druckschrift JP H01 232 779 A offenbart eine Stabilisierung einer Ausgabe eines Laseroszillators durch ein Verfahren, bei dem eine Heizeinrichtung für Kühlwasser eines Resonatorspiegel-Kühlsystems, ein Magnetventil, das die Zufuhr des Kühlwassers eines Kühlsystems für das Anregungsmedium steuern kann, und eine Temperatursteuereinrichtung für das Kühlwasser des Resonatorspiegel-Kühlsystems vorgesehen sind.
KURZFASSUNG DER ERFINDUNG
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die vorstehend beschriebenen Probleme zu lösen und eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser bereitzustellen, die bei einer Temperatursteuerung einer Gaslaservorrichtung, wie etwa einem CO₂-Gaslaser, eine Energieersparnis steigern kann, während die Vorrichtung weiterentwickelt wird, um kleiner zu werden.
Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß Patentanspruch 1 bereitgestellt.
Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß Patentanspruch 2 bereitgestellt.
Diese und weitere Aufgaben, Merkmale, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden für den Fachmann aus der folgenden detaillierten Beschreibung ersichtlich, die in Verbindung mit den anhängigen Zeichnungen bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung offenbart.
Figurenliste

1 ist eine Darstellung, die Kleinsignalverstärkungen mit Bezug auf Temperaturen eines CO₂-Gases, das für ein Verstärkungsmittel verwendet wird, einer Gaslaservorrichtung in einem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigt;
2 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
3 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem alternativen Beispiel des ersten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
4 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
5 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem ersten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
6 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem zweiten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
7 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem dritten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
8 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem vierten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
9 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
10 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem alternativen Beispiel des dritten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
11 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem vierten Ausführungsbeispiel auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
12 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem alternativen Beispiel des vierten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
13 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem fünften Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
14 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem ersten alternativen Beispiel des fünften Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
15 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem zweiten alternativen Beispiel des fünften Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;
16 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem dritten alternativen Beispiel des fünften Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird;

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Im Folgenden werden Ausführungsbeispiele einer Temperatursteuerung für einen Gaslaser zum Durchführen der vorliegenden Erfindung detailliert mit Bezug auf die anhängigen Zeichnungen beschrieben.
Erstes Ausführungsbeispiel
Zunächst ist 2 ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird. Wie in 2 gezeigt besitzt der Lasertreiber eine Grund- bzw. Hauptoszillatorlaservorrichtung 11, die ein MO ist, eine Vorverstärkerlaservorrichtung 12, eine erste Hauptverstärkerlaservorrichtung 13 und eine zweite Hauptverstärkerlaservorrichtung 14. Ein Anfangslaser mit einer Wellenlänge von 10,6 µm, der von der Hauptoszillatorlaservorrichtung 11 ausgegeben wurde, wird durch Durchlaufen durch die Vorverstärkerlaservorrichtung 12, die erste Hauptverstärkerlaservorrichtung 13 und die zweite Hauptverstärkerlaservorrichtung 14 in dieser Reihenfolge nacheinander verstärkt. Das verstärkte Hochleistungslaserlicht wird in eine Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung 15 eingegeben, die ein EUV-Licht erzeugt. Die Hauptoszillatorlaservorrichtung 11, der Vorverstärker 12, die erste Hauptverstärkerlaservorrichtung 13 und die zweite Hauptverstärkerlaservorrichtung 14 können innerhalb eines Reinraumes CR oder außerhalb von diesem, aber in der Nähe der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung 15 (z.B. unterhalb) angeordnet sein. Die Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung 15 ist innerhalb des Reinraumes CR angeordnet. Natürlich ist eine (nicht gezeigte) Belichtungsvorrichtung zum Belichten unter Verwendung eines EUV-Lichts, das durch die Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung 15 erzeugt wird, innerhalb des Reinraumes CR angeordnet.
Der Hauptoszillator 11, die Vorverstärkerlaservorrichtung 12, die erste Hauptverstärkerlaservorrichtung 13 und die zweite Hauptverstärkerlaservorrichtung 14 besitzen entsprechend Entladungsabschnitte 11a bis 14a (11a, 12a, 13a, 14a) und Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b (11b, 12b, 13b, 14b). Die Entladungsabschnitte 11a bis 14a besitzen ein oder mehrere Elemente, die eine Hochpräzisionstemperatursteuerung erfordern, wie etwa Ausgabespiegel. Die Ausgabespiegel erfordern z.B., dass eine Temperatursteuerung innerhalb von 26 ± 0,5°C liegt. Andererseits erfordern die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b keinen Hochpräzisionstemperatursteuerungsbereich wie die Ausgabespiegel, und ermöglichen einen Temperaturbereich der höher ist als der Temperatursteuerungsbereich der Ausgabespiegel. Zum Beispiel erfordern die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b derart temperaturgesteuert zu werden, dass die Temperatur unter 35°C liegt.
1 ist eine Darstellung, die Kleinsignalverstärkungen mit Bezug auf Temperaturen eines CO₂-Gases, das als Verstärkungsmittel verwendet wird, einer Gaslaservorrichtung in dem ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigt. In 1 zeigen Linien L1 bis L4 Kleinsignalverstärkungen mit Bezug auf Gastemperaturen in Fällen, in denen eine Anzahl von Molekülen n_e pro Volumeneinheit in den Entladungsabschnitten 0,5 × 10¹⁶m^-3, 1 × 10¹⁶m^-3, 2 × 10¹⁶m^-3, oder 3 × 10¹⁶m^-3 beträgt. Wie aus 1 ersichtlich ist, wird die Kleinsignalverstärkung von jeder der Gaslaservorrichtungen 11 bis 14 größer, je niedriger die Temperatur des CO₂-Gases wird. Das heißt, indem die Gastemperatur durch Verbessern der Kühlkapazitäten der Kühler 1 bis 4 niedrig gemacht wird, ist es möglich, das Laserlicht auf eine gewünschte Energie und/oder Leistung zu verstärken, auch wenn eine elektrische Leistung bzw. Strom, die/der den Entladungsabschnitten 11a bis 14a von den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b zugeführt wird, verringert wird. Dadurch ist es möglich, in jeder der Gaslaservorrichtungen 11 bis 14 und der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung mit diesen Gaslaservorrichtungen 11 bis 14 eine Energieersparnis zu realisieren.
In dem ersten Ausführungsbeispiel sind die Kühler 1 bis 4, die Kühlmittel, z.B. Kühlwasser, erzeugen zur Temperatursteuerung von jedem der Entladungsabschnitte 11a bis 14a derart angeordnet, dass sie den Entladungsabschnitten 11a bis 14a entsprechen. Die Kühler 1 bis 4 kühlen die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b durch Zuführen von temperaturgesteuertem Abflusskühlwasser zu den Entladungsabschnitten 11a bis 14a herunter.
Jeder der Kühler 1 bis 4 nimmt Kühlwasser von einem Kühlwassersystem 10 auf, das in einer Industrieanlage usw. gelegen ist, zum Erzeugen von vorhandenem Kühlwasser und erzeugt Kühlwasser zur Temperatursteuerung von jedem der Entladungsabschnitte 11a bis 14a durch einen Wärmetauscher unter Verwendung dieses Kühlwassers. Zwischen den Kühlern 1 bis 4 und den Entladungsabschnitten 11a bis 14a sind Zuführleitungen L11 bis L41 zum Zuführen des temperaturgesteuerten Kühlwassers an die Entladungsabschnitte 11a bis 14a angeordnet. Zwischen den Entladungsabschnitten 11a bis 14a und den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b sind Verbindungsleitungen L12 bis L42 zum Zuführen des Abflusskühlwassers von den Entladungsabschnitten 11a bis 14a zu den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b angeordnet. Zwischen den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b und den Kühlern 1 bis 4 sind Rückführleitungen L13 bis L43 (L13, L23, L33, L43) zum Rückführen des Abflusskühlwassers, das von den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b ausgestoßen wird, an die Kühler 1 bis 4 angeordnet.
Das heißt, das Kühlwasser, das durch die Kühler 1 bis 4 gekühlt wird, wird über die Leitungen L11 bis L41 an die Entladungsabschnitte 11a bis 14a zugeführt und zur Hochpräzisionstemperatursteuerung verwendet. Das Abflusskühlwasser, nachdem es für die Temperatursteuerung verwendet wurde, weist entsprechend Kapazitäten auf, um die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b auf eine Temperatur von z.B. unter 35°C zu kühlen. In dem ersten Ausführungsbeispiel wird das Abflusskühlwasser, das durch die entsprechenden Entladungsabschnitte 11a bis 14a gelaufen ist, über die Verbindungsleitungen L12 bis L42 in die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b eingegeben. Dadurch werden die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b unter Verwendung des Abflusskühlwassers temperaturgesteuert. Danach kehrt das Abflusskühlwasser, das durch die Stromversorgungsabschnitte 11b bis 14b durchgelaufen ist, nachdem es für die Temperatursteuerung verwendet wurde, über die Rückführleitungen L13 bis L43 zu den Kühlern 1 bis 4 zurück. Die Kühler 1 bis 4 kühlen das zurückgekehrte Abflusskühlwasser wieder entsprechend durch den Wärmetauscher herunter. Dadurch wird das Abflusskühlwasser als Kühlwasser zur Temperatursteuerung der Entladungsabschnitte 11a bis 14a erneut verwendet. Zusätzlich wird das Kühlwasser aus dem Kühlwassersystem 10, nachdem es für die Wärmetauscher in den Kühlern 1 bis 4 verwendet wurde, auf eine Seite des Kühlwassersystems 10 zurückgeführt.
In dem ersten Ausführungsbeispiel wird die Hochpräzisionstemperatursteuerung durch Anordnen einzelner Kühlsysteme, wie etwa Kühler, nur bezüglich der Entladungsabschnitte 11a bis 14a, die eine Hochpräzisionstemperatursteuerung erfordern, ausgeführt, während solche einzelnen Kühlsysteme nicht für die Entladungsabschnitte 11a bis 14a und die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b angeordnet sind. Bei dieser Anordnung werden die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b, die dazu in der Lage sind, mit niedrigerer Präzision unter Verwendung von Kühlwasser und höherer Temperatur im Vergleich mit den Entladungsabschnitten 11a bis 14a gekühlt zu werden, unter Verwendung des Abflusskühlwassers, nachdem dieses für die Temperatursteuerung verwendet wurde, heruntergekühlt. Deshalb ist es möglich, die Kühlkapazitäten der Kühler zu reduzieren, was eine geringere Anzahl von Kühlern und eine geringere Anzahl von Leitungen erfordert, während eine Energieersparnis verbessert werden kann, wodurch es möglich ist, eine Verkleinerung der Vorrichtung weiterzuentwickeln.
Alternatives Beispiel des ersten Ausführungsbeispiels
Wenn es einen Fall gibt, in dem die Entladungsabschnitte 11a bis 14a temperaturgesteuerte Abschnitte aufweisen, von denen jeder eine unterschiedliche Präzision erfordert als der andere Abschnitt, z.B. besitzen die Entladungsabschnitte 11a bis 14a optische Elemente, die jeweils eine Temperatursteuerung innerhalb von 23 ± 1°C erfordern, zusätzlich zu den Ausgabespiegeln, die jeweils eine Temperatursteuerung innerhalb von 26 ± 0,5°C erfordern, sind weiterhin Kühler 21 bis 24 und Leitungen L14 bis L44 entsprechend den Entladungsabschnitten 11a bis 14a angeordnet, wie in 3 gezeigt ist. 3 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung von einem Gaslaser gemäß dem alternativen Beispiel des ersten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird. Die Entladungsabschnitte 11a bis 14a werden einzeln mit hoher Präzision unter Verwendung der Kühler 21 bis 41, welche einzeln für die Kühler 21 bis 24 angeordnet sind, temperaturgesteuert. Zusätzlich ist es möglich, das Abflusskühlwasser, nachdem es für die Hochpräzisionstemperatursteuerung verwendet wurde, zusätzlich zu dem Abflusskühlwasser von den Kühlern 1 bis 4 zu verwenden, um die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b zu kühlen, während es ebenso möglich ist, dieses Kühlwasser, nachdem es für die Hochpräzisionstemperatursteuerung verwendet wurde, alleine zu verwenden, um die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b herunterzukühlen.
Zweites Ausführungsbeispiel
Als Nächstes wird eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel detailliert mit Bezug auf die anhängigen Zeichnungen beschrieben. In dem vorstehend beschriebenen ersten Ausführungsbeispiel wird das Abflusskühlwasser der Entladungsabschnitte 11a bis 14a in den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b verwendet. Andererseits wird in dem zweiten Ausführungsbeispiel eine Vielzahl der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b unter Verwendung eines gemeinsamen Kühlers 31 temperaturgesteuert, während eine Vielzahl von Entladungsabschnitten 11a bis 14a unter Verwendung eines gemeinsamen Kühlers 32 temperaturgesteuert wird.
4 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird. Wie in 4 gezeigt, sind der Kühler 32 und jeder der Entladungsabschnitte 11a bis 14a gemeinsam durch Leitungen L2 verbunden. Dadurch ist eine Vielzahl der Entladungsabschnitte 11a bis 14a parallel verbunden. Außerdem sind der Kühler 31 und jede der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b gemeinsam durch Leitungen L1 verbunden. Dadurch ist eine Vielzahl der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b parallel verbunden.
Weil die Kühler 31 oder 32 mit Bezug auf jeden Inhalt einer Temperatursteuerung der temperaturgesteuerten Abschnitte angeordnet sind, kann es in dem zweiten Ausführungsbeispiel für jeden der Kühler 31 und 32 ausreichend sein, eine Kühlkapazität aufzuweisen, die nur zum Ausstoßen von Wärme der gemeinsamen temperaturgesteuerten Abschnitte notwendig ist. Durch solch eine Struktur ist es möglich, eine effiziente Temperatursteuerung auszuführen und als ein Ergebnis ist es möglich, die Energieeinsparung und die Verkleinerung der Vorrichtung weiterzuentwickeln.
Erstes alternatives Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels Hier, weil die auszuführende Laserausgabe größer wird, je später die Verstärkerstufe wird, erfordert der Entladungsabschnitt in der letzteren der Verstärkerstufe unter den Entladungsabschnitten 11a bis 14a eine größere Kühlkapazität. Deshalb gibt es einen Fall, in dem die Entladungsabschnitte mit den gleichen Temperatursteuerungsbereichen unterschiedliche Kühlkapazitäten voneinander erfordern. Zum Beispiel erfordert der Entladungsabschnitt 13a eine Kühlkapazität, die größer ist, als eine Kühlkapazität, die von dem Entladungsabschnitt 12a erfordert ist.
In dem ersten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels, wie in 5 gezeigt ist, sind Steuerungsventile 41 bis 44 zum Steuern von Durchflussraten des Kühlwassers, um in die Entladungsabschnitte 11a bis 14a zu fließen, angeordnet. Die Kühlkapazitäten der Entladungsabschnitte 11a bis 14a werden in der Reihenfolge des Entladungsabschnitts 11a, des Entladungsabschnitts 12a, des Entladungsabschnitts 13a und des Entladungsabschnitts 14a groß. Größen von Öffnungen der Steuerungsventile 41 bis 44 werden in der Reihenfolge des Steuerungsventils 41, des Steuerungsventils 42, des Steuerungsventils 43 und des Steuerungsventils 44 groß. Dadurch, auch wenn Kühlkapazitäten der Entladungsabschnitte 11a bis 14a voneinander unterschiedlich sind, ist es möglich, alle Entladungsabschnitte 11a bis 14a unter Verwendung des einzelnen Kühlers 32 effektiv herunterzukühlen. Des Weiteren ist es möglich, die Kühlkapazität des Kühlers 32, die zum Herunterkühlen aller Entladungsabschnitte 11a bis 14a erforderlich ist, zu reduzieren.
Wie in 5 gezeigt, kann ein Öffnungsgrad von jedem der Steuerungsventile 41 bis 44 mit Bezug auf eine Temperaturbedingung von jedem der Entladungsabschnitte 11a bis 14a aktiv angepasst werden. In diesem Fall ist eine derartige Anordnung möglich, dass eine Ventilsteuerung 40 die Temperaturbedingung von jedem der Entladungsabschnitte 11a bis 14a erfasst und eine Flusssteuerung durch Durchführen einer Regelung zum Anpassen des Öffnungsgrades von jedem der Steuerungsventile 11a bis 14a basierend auf dem erfassten Wert ausführt.
Anstelle der Steuerungsventile 41 bis 44 ist es möglich, Leitungen mit den Entladungsabschnitten 11a bis 14a zu verbinden, deren Leitungsdurchmesser voneinander unterschiedlich sind. In diesem Fall werden Leitungsdurchmesser mit Bezug auf die Entladungsabschnitte 11a bis 14a derart eingestellt, dass sie in der Reihenfolge des Entladungsabschnitts 11a, des Entladungsabschnitts 12a, des Entladungsabschnitts 13a und des Entladungsabschnitts 14a groß werden.
Des Weiteren, wie in 5 gezeigt, wie mit den Entladungsabschnitten 11a bis 14a, ist es möglich, die Temperatursteuerung durch gemeinsames Verbinden der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b zu dem einzelnen Kühler 31 auf eine parallel verbundene Weise durchzuführen. Ebenso in diesem Fall, wie bei den vorstehend beschriebenen Entladungsabschnitten 11a bis 14a, weil eine erforderliche Wärmeabzugsfunktion für die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b größer wird, wenn diese in späteren Stufen sind, ist es möglich, Steuerungsventile seitens der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b oder Verbindungsleitungen mit unterschiedlichen Leitungsdurchmessern zu den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b anzuordnen.
Zweites alternatives Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels
6 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem zweiten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird. Wie in 6 gezeigt, wenn es in den Entladungsabschnitten 11a bis 14a Abschnitte gibt, die unterschiedliche Hochpräzisionstemperatursteuerungen erfordern, wird ein einzelner Kühler 33 und Leitungen L3, die gemeinsam mit den hochpräzise temperaturgesteuerten Abschnitten verbunden sind, neu angeordnet. Durch die Leitungen L3 sind die Entladungsabschnitte 11a bis 14a parallel verbunden. Dadurch ist es möglich, Temperatursteuerungen mit Bezug auf die Hochpräzisionstemperatursteuerungsabschnitte in dem Entladungsabschnitt 11a bis 14a in einem Stück bzw. auf einmal auszuführen.
Drittes alternatives Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels.
Unterdessen gilt, dass aufgrund dessen, dass die Temperatursteuerungsbereiche der vorstehend beschriebenen Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b breit sind und obere Grenzen von erlaubten Temperaturen im Vergleich mit den Entladungsabschnitten 11a bis 14a hoch sind, das Kühlwasser von dem Kühlwassersystem 10 direkt zum Herunterkühlen der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b verwendet werden kann, ohne den Kühler 31 anzuordnen, wie in 7 gezeigt ist. Auch in diesem Fall sind die Leitungen gemeinsam mit einer Vielzahl der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b verbunden. Dadurch kann eine Struktur der Leitungen verkleinert werden. 7 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß dem dritten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird.
Viertes alternatives Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels
Die vorstehend beschriebene Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß dem dritten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels besitzt die Struktur, dass der Kühler 31 aus der Struktur der in 5 gezeigten Temperatursteuerung für einen Gaslaser entfernt wird. Andererseits, wie in 8 gezeigt, besitzt ein viertes alternatives Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels eine Struktur, dass der Kühler 33 von der in 6 gezeigten Temperatursteuerung für einen Gaslaser entfernt wird. Auch bei dieser Struktur ist es möglich, die Energieeinsparung und Verkleinerung der Temperatursteuerung für einen Gaslaser weiter zu verbessern. 8 ist ein schematisches Diagramm, das die Struktur zeigt, bei der die Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß dem vierten alternativen Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird.
Drittes Ausführungsbeispiel
Als Nächstes wird eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung detailliert mit Bezug auf die anhängigen Zeichnungen beschrieben. In dem vorstehend beschriebenen ersten Ausführungsbeispiel wird das Abflusskühlwasser von den Entladungsabschnitten 11a bis 14a für die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b verwendet. Andererseits wird in dem dritten Ausführungsbeispiel das Abflusskühlwasser verwendet, wenn die gemeinsame Verbindung wie in dem zweiten Ausführungsbeispiel angewendet wird. Mit dieser Anordnung ist es möglich, eine weitere Energieeinsparung zu realisieren.
9 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird. Wie in 9 gezeigt, sind der Kühler 32 und jeder der Entladungsabschnitte 11a und 14a gemeinsam parallel verbunden. Das Abflusskühlwasser von den entsprechenden Entladungsabschnitten 11a bis 14a wird zu dem Kühler 32 zurückgeführt. Wenn eine Temperatur des Kühlwassers, das von dem Kühlsystem 10 zugeführt wird, ausreichend niedrig ist, wird auch das Abflusskühlwasser, nachdem es für den Austausch von Wärme in dem Kühler 32 verwendet wurde, eine ausreichende Kühlkapazität zum Herunterkühlen der Entladungsabschnitte 11b bis 14b aufweisen. Insofern sind in dem dritten Ausführungsbeispiel Zuführleitungen L1a, die gemeinsam parallel mit den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b von dem Kühler 32 verbunden sind, angeordnet. Jede der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b wird durch Abflusskühlwasser von dem Kühler 32, das über die Zuführleitungen L1a zugeführt wird, heruntergekühlt. Das Abflusskühlwasser, das durch die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b läuft, wird auf eine Seite des Kühlwassersystems 10 durch die Rückführleitungen, die gemeinsam zwischen jedem der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b und dem Kühlwassersystem 10 verbunden sind, zurückgeführt.
In dem dritten Ausführungsbeispiel, weil die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b durch erneutes Verwenden des Abflusskühlwassers von dem Kühler 32 heruntergekühlt werden, ist es möglich, die Energieeinsparung weiter zu verbessern. Zusätzlich, da es nicht notwendig ist, einen Kühler zum Herunterkühlen der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b anzuordnen, ist es ebenso möglich, die Verkleinerung der Vorrichtung zu verbessern. Speziell, während das zweite alternative Beispiel des zweiten Ausführungsbeispiels, wie in 7 gezeigt, in dem Fall, in dem eine Wassermenge, die von dem Kühlwassersystem 10 zuzuführen ist, eine Summe einer Wassermenge, die zum Herunterkühlen des Kühlers 32 erforderlich ist, und einer Wassermenge, die zum Herunterkühlen eines jeden der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b erforderlich ist, ist das in 9 gezeigte dritte Ausführungsbeispiel ein Fall, in dem nur eine Wassermenge, die zum Herunterkühlen des Kühlers 32 erforderlich ist, notwendig ist. Deshalb ist es möglich, die Energieeinsparung zu verbessern.
Alternatives Beispiel des dritten Ausführungsbeispiels
10 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem alternativen Beispiel des dritten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird. Wie in 10 gezeigt, kann ebenso bei der Struktur entsprechend 8, das Abflusskühlwasser von dem Kühler 32 effektiv unter Verwendung der Zuführleitung L1a verwendet werden.
Viertes Ausführungsbeispiel
Als Nächstes wird eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem vierten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung detailliert mit Bezug auf die anhängigen Zeichnungen beschrieben. In dem vierten Ausführungsbeispiel, bei einer Struktur, bei der ein einzelner Kühler mit einer Vielzahl von Entladungsabschnitten parallel verbunden ist, wie in dem ersten Ausführungsbeispiel, wird das Abflusskühlwasser von den Entladungsabschnitten 11a bis 14a direkt für die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b in der Laservorrichtung verwendet.
11 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß dem vierten Ausführungsbeispiel auf einen Lasertreiber einer Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird. Wie in 11 gezeigt, sind Zuführleitungen L5a von einem Kühler 51 zu den Entladungsabschnitten 11a bis 14a gemeinsam parallel verbunden. Das Abflusskühlwasser von den Entladungsabschnitten 11a bis 14a wird über Verbindungsleitungen L51 bis L54, die zwischen den Entladungsabschnitten 11a bis 14a und den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b verbunden sind, auf Seiten der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b zugeführt. Des Weiteren sind Rückführleitungen L5b von den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b zu dem Kühler 51 gemeinsam mit den Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b parallel verbunden.
Als Ergebnis, wie in dem ersten Ausführungsbeispiel, wird in jeder Laservorrichtung das Abflusskühlwasser von den Entladungsabschnitten 11a bis 14a für die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b verwendet. Des Weiteren, weil der Kühler 51 und jeder der Entladungsabschnitte 11a bis 14a und der Kühler 51 und jede der Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b parallel verbunden sind, ist es möglich, die Struktur nur unter Verwendung des einzelnen Kühlers 51 zu realisieren. Dementsprechend ist es in dem vierten Ausführungsbeispiel möglich, die Energieeinsparung und Verkleinerung der Vorrichtung zu verbessern.
Alternatives Beispiel des vierten Ausführungsbeispiels
12 ist ein schematisches Diagramm, das eine Struktur zeigt, bei der eine Temperatursteuerung für einen Gaslaser gemäß einem alternativen Beispiel des vierten Ausführungsbeispiels auf den Lasertreiber der Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung angewendet wird. Wie in 12 gezeigt, wenn die Entladungsabschnitte 11a bis 14a unterschiedliche hochpräzise temperaturgesteuerte Abschnitte aufweisen, ist es möglich, eine effektive Temperatursteuerung mit Bezug auf eine Vielzahl der hochpräzise temperaturgesteuerten Abschnitte durch Anordnen von Leitungen L6a und L6b, die gemeinsam die temperaturgesteuerten Abschnitte verbinden, und einem einzelnen Kühler 61 auszuführen.
Fünftes Ausführungsbeispiel
In den vorstehend beschriebenen ersten bis vierten Ausführungsbeispielen sind andere Kühler als das Kühlwassersystem 10 angeordnet. Hier kann der Kühler in dem Kühlwassersystem 10 eingebaut sein. Zum Beispiel ist in einem in 13 gezeigten Beispiel der in 7 gezeigte Kühler 32 in dem Kühlwassersystem 10 eingebaut. Deshalb wird die Funktion des Kühlers 32 als eine Hochpräzisionskühlvorrichtung 10a realisiert. Außerdem sind in einem in 14 gezeigten Beispiel die in 8 gezeigten Kühler 31 und 32 in dem Kühlwassersystem 10 eingebaut. Dadurch werden die Funktionen des Kühlers 31 und 32 als Hochpräzisionskühlvorrichtungen 10b und 10a realisiert. Des Weiteren ist in einem in 15 gezeigten Beispiel der in 11 gezeigte Kühler 51 in dem Kühlsystem 10 eingebaut. Dadurch wird die Funktion des Kühlers 51 als die Hochpräzisionskühlvorrichtung realisiert. Des Weiteren sind in einem in 16 gezeigten Beispiel die in 12 gezeigten Kühler 51 und 61 in dem Kühlwassersystem 10 eingebaut. Deshalb sind die Funktionen der Kühler 51 und 61 als die Hochpräzisionskühlvorrichtungen 10a und 10b realisiert. Zusätzlich, mit Bezug auf die Stromversorgungseinheiten 11b bis 14b, die keine großen Kühlkapazitäten erfordern, ist es vorzuziehen, dass kein Kühler angeordnet ist und das Kühlwasser des Kühlwassersystems 10 direkt verwendet wird, ohne einen Kühler anzuordnen, wie in 13 oder 14 gezeigt ist.
In dem fünften Ausführungsbeispiel, weil der/die Kühler in dem Kühlwassersystem 10 eingebaut sind, ohne einzeln angeordnet zu sein, ist es möglich, die Kühlstruktur als eine Kühlvorrichtung sicher und einfach zu realisieren, während die gesamte Vorrichtung verkleinert wird.
In jedem des vorstehend beschriebenen ersten bis fünften Ausführungsbeispiels wird das Kühlsystem, wie etwa der Kühler, als die Temperatursteuerung für einen Gaslaser beschrieben. Solche Anordnungen sind jedoch nicht endgültig, da eine Struktur, die eine Temperatursteuerung unter Verwendung eines Heizers ausführt, auf die Temperatursteuerung für einen Gaslaser angewendet werden kann.
Des Weiteren, obwohl das Kühlwasser als ein Beispiel beschrieben wurde, ist das Kühlmittel nicht auf das Kühlwasser beschränkt. Außerdem kann es ein Heizmittel sein. Außerdem kann das Mittel flüssig sein, ist aber nicht auf flüssig begrenzt, da gasförmige Körper akzeptiert werden können.
Des Weiteren, obwohl in dem vorstehend beschriebenen ersten bis fünften Ausführungsbeispiel, die Lasertreiber, die für die Extremultraviolettlichtquellenvorrichtung verwendet werden, als Beispiele erklärt werden, sind solche Anordnungen nicht endgültig. Ein Lasertreiber zur Verarbeitung kann angewendet werden, und des Weiteren kann eine Vorrichtung mit einer Struktur verwendet werden, bei der temperaturgesteuerte Ziele mit unterschiedlichen Graden an Präzision in einer Vielzahl von temperaturgesteuerten Vorrichtungen enthalten sind.
Wie vorstehend beschrieben, erzeugt gemäß den Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung ein erster Temperatursteuerungsabschnitt ein Kühlmittel oder ein Heizmittel zum Anpassen einer Temperatur eines jeden ersten temperaturgesteuerten Abschnitts, wird eine Temperatursteuerung durch Fließen des Kühlmittels oder des Heizmittels in den ersten temperaturgesteuerten Abschnitt über eine erste Leitung, die den ersten Temperatursteuerungsabschnitt und jeden ersten temperaturgesteuerten Abschnitt parallel verbindet, ausgeführt, erzeugt ein zweiter Temperatursteuerungsabschnitt ein Kühlmittel oder ein Heizmittel zum Anpassen einer Temperatur von jedem zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt und wird eine Temperatursteuerung durch Fließen des Kühlmittels oder Heizmittels in jeden zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt über eine zweite Leitung, die den zweiten Temperatursteuerungsabschnitt und jeden zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt verbindet, ausgeführt. Mit solch einer Struktur ist es möglich, eine Temperatursteuerung nur unter Verwendung einer minimalen Kühlkapazität auszuführen und deshalb ist es möglich, die Verkleinerung der Vorrichtung zu verbessern, während die Energieeinsparung verbessert wird.
Zusätzliche Vorteile und Modifikationen sind für den Fachmann leicht ersichtlich. Deshalb ist die Erfindung gemäß ihrer breiteren Aspekte nicht auf die spezifischen Details, repräsentativen Ausführungsbeispiele und alternativen Ausführungsbeispiele, die hierin gezeigt und beschrieben sind, beschränkt. Dementsprechend können verschiedene Modifikationen durchgeführt werden, ohne sich von dem Geist oder Umfang des allgemeinen erfinderischen Konzepts, das durch die anhängigen Ansprüche und deren Äquivalente definiert ist, zu entfernen. Außerdem können die vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele und die alternativen Beispiele beliebig miteinander kombiniert werden.

Claims

Temperatursteuerung für einen Gaslaser, die Temperaturen einer Vielzahl von temperaturgesteuerten Vorrichtungen (11 bis 14) steuert, die zumindest zwei erste temperaturgesteuerte Abschnitte (11a bis 14a), die eine Temperatursteuerung innerhalb eines ersten Bereichs einer ersten Temperatur +/- 0,5 Grad erfordern, und zumindest zwei zweite temperaturgesteuerte Abschnitte (11b bis 14b), die eine Temperatursteuerung innerhalb eines zweiten Bereichs mit einer Obergrenze, die höher ist als die des ersten Bereichs, erfordern, umfasst, wobei die Temperatursteuerung für einen Gaslaser aufweist: einen ersten Temperatursteuerungsabschnitt (32), der ein Kühlmittel oder Heizmittel zum Anpassen einer Temperatur eines jeden ersten temperaturgesteuerten Abschnitts erzeugt; einen zweiten Temperatursteuerungsabschnitt (31), der ein Kühlmittel oder Heizmittel zum Anpassen einer Temperatur eines jeden zweiten temperaturgesteuerten Abschnitts erzeugt; ein erstes Leitungssystem (L2), das den ersten Temperatursteuerungsabschnitt und jeden ersten temperaturgesteuerten Abschnitt parallel verbindet; und ein zweites Leitungssystem (L1), das den zweiten Temperatursteuerungsabschnitt und jeden zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt parallel verbindet, wobei der erste Temperatursteuerungsabschnitt und der zweite Temperatursteuerungsabschnitt eine einzelne Temperatursteuerungseinheit (32) sind, eine Ausgangsleitung (L1a), die zu jedem zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt des zweiten Leitungssystems gerichtet ist, mit der einzelnen Temperatursteuerungseinheit verbunden ist, und die einzelne Temperatursteuerungseinheit das Mittel innerhalb einer Rückführleitung des ersten Leitungssystems zu jedem zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt zuführt.
Temperatursteuerung für einen Gaslaser, die Temperaturen einer Vielzahl von temperaturgesteuerten Vorrichtungen (11 bis 14) steuert, die zumindest zwei erste temperaturgesteuerte Abschnitte (11a bis 14a), die eine Temperatursteuerung innerhalb eines ersten Bereichs einer ersten Temperatur +/- 0,5 Grad erfordern, und zumindest zwei zweite temperaturgesteuerte Abschnitte (11b bis 14b), die eine Temperatursteuerung innerhalb eines zweiten Bereichs mit einer Obergrenze, die höher ist als die des ersten Bereichs, erfordern, umfasst, wobei die Temperatursteuerung für einen Gaslaser aufweist: eine Vielzahl von ersten Temperatursteuerungsabschnitten (1 bis 4), von denen jeder derart angeordnet ist, dass er jedem ersten temperaturgesteuerten Abschnitt entspricht, und ein Kühlmittel oder Heizmittel zum Anpassen einer Temperatur von zumindest jedem ersten temperaturgesteuerten Abschnitt erzeugt; eine Vielzahl von Zuführleitungssystemen (L11 bis L41), die jeden ersten Temperatursteuerungsabschnitt und jeden ersten temperaturgesteuerten Abschnitt verbinden und das Kühlmittel oder Heizmittel von dem ersten Temperatursteuerungsabschnitt zuführen; eine Vielzahl von Rückführleitungssystemen (L13 bis L43), die jeden ersten Temperatursteuerungsabschnitt und jeden zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt verbinden und das Kühlmittel oder Heizmittel von jedem zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt zurückführen; und eine Vielzahl von Verbindungsleitungssystemen (L12 bis L42), die jeden ersten temperaturgesteuerten Abschnitt und jeden zweiten temperaturgesteuerten Abschnitt verbinden und das Kühlmittel und das Heizmittel von jedem ersten temperaturgesteuerten Abschnitt zu jedem zweiten Temperatursteuerungsabschnitt zuführen.