DE102009025788A1 - Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Scheibe - Google Patents
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Abstract
Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Scheibe (3) wobei: a. die Scheibe geätzt wird, b. die geätzte Scheibe auf eine Temperatur von 500°C bis 800°C erwärmt wird und c. die erwärmte, geätzte Scheibe abgekühlt wird.
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Scheibe, eine mithilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellte Scheibe und deren Verwendung.
- Viele Scheiben zeigen neben der in vielen Fällen gewünschten hohen optischen Transparenz auch starke Lichtreflexionen. Trifft Licht auf eine Grenzfläche von Medien mit unterschiedlichen Brechungsindizes, so wird ein Teil des einfallenden Lichts reflektiert. In Abhängigkeit von der Lichtquelle, Wellenlänge und dem Einstrahlwinkel können diese Reflexionen beträchtlich sein. Beispielsweise können Sonnenlichtreflexionen an Gebäuden oder vorausfahrenden Fahrzeugen andere Verkehrsteilnehmer blenden. Auch in der Photovoltaik sind Lichtreflexionen in der Regel unerwünscht, da diese die Lichtmenge auf der Photozellenoberfläche reduzieren. Mit der reduzierten Lichtmenge vermindert sich in vielen Fällen auch der Wirkungsgrad der Solarzelle.
- Grundsätzlich werden mehrere Verfahren zur Reflexionsverminderung von Scheiben in der Praxis angewandt. Die Reflexionsverminderung von Scheiben basiert in vielen Fällen auf der Erzeugung einer porösen, strukturierten Schicht auf der Glasoberfläche. Diese poröse, strukturierte Schicht kann durch Ätzen mit einer geeigneten Säure oder Base erzeugt werden. Eine andere Möglichkeit ist die Erzeugung einer porösen SiO2-Schicht durch Abscheidung von SiO2 auf der Glasoberfläche, beispielsweise in einem Sol-Gel-Verfahren. Prinzipiell sind auch Kombinationen der beiden Verfahren Ätzen und Abscheiden möglich.
- Aufgrund der mechanischen Stabilität des Glases sind die Verfahren zur Reflexionsverminderung in der Regel erst nach den Vorspann- und Biegeprozessen möglich. Damit können in der Regel nur zugeschnittene Scheibensegmente und damit eine begrenzte Zahl von Scheiben gleichzeitig geätzt werden.
-
US 2,486,431 A offenbart ein Verfahren zur Erzeugung einer schwach reflektierenden Glasoberfläche. Die Glasoberfläche wird mit einer H2SiF6-Lösung geätzt. In Abhängigkeit von der Dauer des Ätzvorgangs wird die Glasoberfläche im unterschiedlichen Maße abgetragen und damit die optischen Eigenschaften der Oberfläche eingestellt und variiert. -
DE 822 714 B offenbart ein Verfahren zur Herstellung eines reflexionsvermindernden Films auf der Oberfläche eines Glasgegenstandes. Dazu wird der Glasgegenstand in eine Lösung aus H2SiF6 und kolloidal-gelösten SiO2 getaucht. In Abhängigkeit von der F– und SiO2 Konzentration wird die Scheibenoberfläche abgetragen (geätzt) und/oder aufgebaut. -
US 4,019,884 A offenbart ein Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Schicht auf einem Glassubstrat. Das Verfahren beinhaltet ein Erwärmen bei einer Temperatur von 630°C bis 660°C. Das Glas wird anschließend in einer wässerigen Flusssäure geätzt. -
DE 196 42 419 A1 offenbart ein Verfahren zur Herstellung einer Antireflexionsbeschichtung. In dem Verfahren wird eine organische Siliciumverbindung in einem Sol-Gel Verfahren auf der Glasoberfläche aufgebracht. Ein hydrophiles, kolloidal-gelöstes Polymer oder ein Lösungsmittel werden bevorzugt als Katalysator zugesetzt. -
DE 199 18 811 A1 offenbart ein vorgespanntes Sicherheitsglas mit einer wischfesten porösen SiO2-Antireflexschicht. Die Herstellung des Sicherheitsglases erfolgt in einem ersten Schritt durch Beschichtung des Glases mit einer kolloid-dispersen Lösung. Das Glas der beschichteten Scheibe wird auf mindestens 600°C erwärmt und anschließend thermisch abgeschreckt. - Die Aufgabe der Erfindung liegt darin, ein Verfahren zum Ätzen und Vorspannen von Scheiben bereitzustellen, das eine zeit- und kosteneffiziente Ätzung von großflächigen Scheiben vor dem Vorspannprozess ermöglicht.
- Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Scheibe, eine durch das Verfahren erhaltene Scheibe und deren Verwendung nach den unabhängigen Ansprüchen 1, 7 und 14 gelöst. Bevorzugte Ausführungen gehen aus den Unteransprüchen hervor.
- Das Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Scheibe umfasst in einem ersten Schritt das Ätzen einer Scheibe. Die Scheibe enthält bevorzugt Glas, besonders bevorzugt Flachglas (Floatglas), Quarzglas, Borosilikatglas und/oder Kalk-Natron-Glas.
- Ätzen umfasst dabei im Sinne der Erfindung sowohl die Behandlung der Scheibenoberfläche mit einer Säure als auch mit einer Lauge. Diese beiden Schritte können in beliebiger Reihenfolge auch hintereinander erfolgen. Nach dem Ätzen oder bei unterschiedlichen Ätzlösungen wird die Scheibe bevorzugt mit entionisierten Wasser gespült und/oder gereinigt. Es können sowohl alle (mehrere) Flächen der Scheibe geätzt werden, als auch nur eine Scheibenfläche.
- Die geätzte Scheibe wird anschließend auf eine Temperatur von 500°C bis 800°C erwärmt. Dem Erwärmen der Scheibe schließt sich ein schnelles Abkühlen (Abschrecken, beispielsweise durch einen kalten Luftstrahl) der erwärmten, geätzten Scheibe an. Dabei erkaltet die Oberfläche der Scheibe schneller als die Kernzone, so dass sich im Glas Spannungen bilden. Diese erhöhen die Stabilität und Festigkeit des Glases. Erwärmen und schnelles Abkühlung bilden zusammen den Vorspannprozess des erfindungsgemäßen Verfahrens.
- Das Ätzen erfolgt bevorzugt durch Aufbringen und/oder Aufsprühen einer Lösung einer Säure und/oder Base auf der Scheibenoberfläche.
- Das Ätzen erfolgt bevorzugt durch Eintauchen der Scheibe in eine Lösung einer Säure und/oder Base.
- Die Scheibe wird bevorzugt mit HF, H2SiF6, (SiO2)m·nH2O (m, n = 0, 1, 2, 3, ...), HCl, H2SO4, H3PO4, HNO3, CF3COOH, CCl3COOH, HCOOH, CH3COOH, NaOH, KOH, Ca(OH)2 und/oder Gemischen davon geätzt.
- Die Scheibe wird bevorzugt in einem ersten Schritt mit einer HF oder NaOH-Lösung behandelt. Die Scheibe wird anschließend ein oder mehrmals mit entionisiertem Wasser gespült. Die eigentliche Ätzung der Scheibe erfolgt bevorzugt mit einer Lösung aus H2SiF6 und (SiO2)m·nH2O. Die Konzentration an kolloidal-gelösten (SiO2)m·nH2O beträgt bevorzugt bis zu 3 mmol über der (SiO2)m·nH2O Sättigungskonzentration. Eine nähere Beschreibung findet sich hierzu in der
DE 822 714 B , deren Inhalt Bestandteil der vorliegenden Anmeldung ist. - Die geätzte Scheibe wird bevorzugt auf 550°C bis 650°C erwärmt.
- Die erwärmte, geätzte Scheibe wird bevorzugt innerhalb von 30 s bis 150 s, besonders bevorzugt innerhalb von 50 s bis 90 s abgekühlt. Die Abkühlung erfolgt bevorzugt mit einem kalten Luftstrahl.
- Die Erfindung beinhaltet des Weiteren eine nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte reflexionsverminderte Scheibe. Die Scheibe umfasst mindestens einen Scheibenkörper und mindestens eine reflexionsverminderte Scheibenoberfläche.
- Die Scheibenoberfläche weist bevorzugt eine Transmission (als Energietransmission nach DIN-EN 410:1998) von > 80%, bevorzugt von > 90% auf.
- Die Scheibenoberfläche weist bevorzugt einen Brechungsindex von 1,20 bis 1,45, besonders bevorzugt von 1,25 bis 1,40 auf.
- Die Schichtdicke der Scheibenoberfläche beträgt bevorzugt 10 nm bis 1000 nm, besonders bevorzugt 50 nm bis 200 nm.
- Die Scheibenoberfläche enthält bevorzugt HF, H2SiF6, (SiO2)m·nH2O, HCl, H2SO4, H3PO4, HNO3, CF3COOH, CCl3COOH, HCOOH, CH3COOH, NaOH, KOH, Ca(OH)2 und/oder Gemische davon.
- Der Scheibenkörper weist bevorzugt eine Transmission von > 80%, bevorzugt von > 90%, auf.
- Der Scheibenkörper, weist bevorzugt eine Fläche von > 0,5 m2, bevorzugt von > 5 m2 und besonders bevorzugt von > 19 m2 auf.
- Die Erfindung beinhaltet des Weiteren die Verwendung der erfindungsgemäßen Scheibe als reflexionsverminderte Scheibe.
- Die erfindungsgemäße Scheibe wird bevorzugt als Bauglas, Fahrzeugverglasung und/oder Photovoltaikverglasung verwendet.
- Im Folgenden wird die Erfindung anhand von einer Zeichnung und eines Ausführungs- sowie Vergleichsbeispiels näher erläutert. Die Zeichnung ist eine rein schematische Darstellung und nicht maßstabsgetreu. Sie schränkt die Erfindung in keiner Weise ein.
- Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im Folgenden näher beschrieben.
- Es zeigen:
-
1 einen Querschnitt der erfindungsgemäßen, reflexionsverminderten Scheibe (3 ), -
2 ein Flugzeitsekundärionenspektrum (ToF-SIMS) (Cs2F+/Fluor) der Scheibenoberfläche (1 ) einer erfindungsgemäßen Scheibe (3 ), -
3 ein Flugzeitsekundärionenspektrum (ToF-SIMS) (Cs2F+/Fluor) der Scheibenoberfläche (1 ) einer Vergleichsscheibe (3 ). -
1 zeigt einen Querschnitt der erfindungsgemäßen, reflexionsverminderten Scheibe (3 ). Diese Scheibe beinhaltet einen transparenten Scheibenkörper (2 ) und eine reflexionsverminderte Scheibenoberfläche (1 ). -
2 zeigt ein Flugzeitsekundärionenspektrum (ToF-SIMS) der Scheibenoberfläche (1 ) einer erfindungsgemäßen Scheibe (3 ) (Beispiel 1). Detektiert wurde das in der Scheibenoberfläche (1 ) gebundene Fluor als Cs2F+. Das Maximum der relativen Intensität im Bereich der Scheibenoberfläche von 0 nm bis 150 nm, ist bei einer erfindungsgemäßen Scheibe (3 ) bevorzugt mindestens um den Faktor 5 höher als bei einer (sonst gleichen) vorgespannten und anschließend geätzten Scheibe (3 ). Die Scheibenoberfläche (1 ) wird dabei mit der Zeit (Sputter Time in s) abgetragen und die freigesetzten Ionen detektiert. -
3 zeigt ein Flugzeitsekundärionenspektrum (ToF-SIMS) der Scheibenoberfläche (1 ) einer Vergleichsscheibe (Vergleichsbeispiel 2). Detektiert wurde das in der Scheibenoberfläche (1 ) gebundene Fluor als Cs2F+. Die experimentellen Bedingungen entsprechen2 . -
- 1
- Scheibenoberfläche
- 2
- Scheibenkörper
- 3
- Scheibe
- Im Folgenden wird die Erfindung anhand eines Beispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens und eines Vergleichsbeispiels näher erläutert.
- In zwei Versuchsreihen wurde die relative Fluorkonzentration der Scheibenoberfläche (
1 ) einer erfindungsgemäßen Scheibe (Beispiel 1) und einer Vergleichsscheibe (Vergleichsbeispiel 2) aus Kalk-Natron-Glas verglichen. In Sinne der Erfindung bezieht sich der Ausdruck „relative Fluorkonzentration” auf die Intensität des Cs2F+-Signals im ToF-SIMS Experiment. Über die Signalintensitäten lässt sich eine Aussage über das relative Konzentrationsverhältnis von Fluor in der Scheibenoberfläche (1 ) der erfindungsgemäßen Scheibe (3 ) (Beispiel 1) und der Vergleichsscheibe (3 ) (Vergleichsbeispiel 2) treffen. - a) Beispiel 1 (erfindungsgemäß)
- Die Scheibe wurde mit einer HF-Lösung (2 Gew.%) vorgeätzt, mit entionisiertem Wasser gespült und mit H2SiF6 (1,2 mol/l) für 30 min bis 120 min in einem Tauchbad geätzt. Die Scheibe wurde anschließend mit entionisiertem Wasser gespült und getrocknet. In einem zweiten Schritt wurde die Scheibe auf 600°C erwärmt und innerhalb von 70 s im kalten Luftstrahl abgekühlt (Vorspannen).
- Zur anschließenden Analyse und Detektion des Cs2F+ Signals wurde ein IONTOF „TOF.SIMS 5” der ION-TOF (Tascon) GmbH (48149 Münster, Deutschland) eingesetzt. Zum Sputtern wurde ein Ionenstrahl aus Cs+ mit 1 keV, einem Strom von 100 nA auf einer Probenfläche von 300 × 300 μm2 verwendet. Die Analyse erfolgte mit einem Ionenstrahl aus Bi3 + mit 25 keV und einem Strom von 0,5 pA auf einer Fläche von 100 × 100 μm2. Die Polarität war positiv. Das resultierende Spektrum ist in
2 gezeigt. - b) Vergleichsbeispiel 2
- Die Vergleichsscheibe (
3 ) unterscheidet sich vom erfindungsgemäßen Beispiel 1 dadurch, dass die Vergleichsscheibe vor dem Ätzen bei ca. 600°C vorgespannt wurde und innerhalb von ca. 70 s im kalten Luftstrahl abgekühlt wurde. Das Ätzen erfolgte anschließend unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel 1. - Zur anschließenden Analyse und Detektion des Cs2F+ Signals wurde ein IONTOF „TOF.SIMS 5” der ION-TOF (Tascon) GmbH (48149 Münster, Deutschland) eingesetzt. Zum Sputtern wurde ein Ionenstrahl aus Cs+ mit 1 keV, einem Strom von 100 nA auf einer Probenfläche von 300 × 300 μm2 verwendet. Die Analyse erfolgte mit einem Ionenstrahl aus Bi3 + mit 25 keV und einem Strom von 0,5 pA auf einer Fläche von 100 × 100 μm2. Die Polarität war positiv: Das resultierende Spektrum ist in
3 zu sehen. - Einen Vergleich der Maxima der relativen Intensitäten des erfindungsgemäßen Beispiels 1 und des Vergleichbeispiels 2 finden sich in Tabelle 1. Tabelle 1: Vergleich der relativen Intensitätsmaxima von Fluor als Cs2F+ des erfindungsgemäßen Beispiels 1 und des Vergleichbeispiels 2
Beispiel Relative Intensität(Maxima) Beispiel 1 105 Vergleichsbeispiel 2 104 - Aus Tabelle 1 ergibt sich eine um den Faktor 10 höhere Signalintensität für Fluor im erfindungsgemäßen Beispiel 1 als im Vergleichsbeispiel 2. Somit ist auf der Scheibenoberfläche (
1 ) einer nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Scheibe (3 ) (Beispiel 1) durch den Ätzvorgang ein höherer Anteil Fluor gebunden, als bei einer nach dem Stand der Technik gefertigten Vergleichsscheibe (3 ) (Vergleichsbeispiel 2) aus dem gleichen Grundmaterial. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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- Zitierte Patentliteratur
-
- - US 2486431 A [0005]
- - DE 822714 B [0006, 0018]
- - US 4019884 A [0007]
- - DE 19642419 A1 [0008]
- - DE 19918811 A1 [0009]
- Zitierte Nicht-Patentliteratur
-
- - DIN-EN 410:1998 [0022]
Claims (15)
- Verfahren zur Herstellung einer reflexionsverminderten Scheibe (
3 ) wobei: a. die Scheibe geätzt wird, b. die geätzten Scheibe auf eine Temperatur von 500°C bis 800°C erwärmt wird und c. die erwärmte, geätzte Scheibe abgekühlt wird. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Scheibenoberfläche (
1 ) durch Aufbringen und/oder Aufsprühen einer Lösung einer Säure und/oder Base geätzt wird. - Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Scheibe (
3 ) durch Eintauchen in eine Lösung einer Säure und/oder Base geätzt wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Scheibe mit HF, H2SiF6, (SiO2)m·nH2O, HCl, H2SO4, H3PO4, HNO3, CF3COOH, CCl3COOH, HCOOH, CH3COOH, NaOH, KOH, Ca(OH)2 und/oder Gemische davon geätzt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die geätzte Scheibe auf 550°C bis 650°C erwärmt wird.
- Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die erwärmte, geätzte Scheibe innerhalb von 30 s bis 150 s, bevorzugt innerhalb von 50 s bis 90 s abgekühlt wird.
- Scheibe (
3 ) umfassend einen Scheibenkörper (2 ) mit mindestens einer Scheibenoberfläche (1 ), erhältlich durch ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6. - Scheibe (
3 ) nach Anspruch 7, wobei die Scheibenoberfläche (1 ) eine Transmission von > 80%, bevorzugt von > 90% aufweist. - Scheibe (
3 ) nach Anspruch 7 oder 8, wobei die Scheibenoberfläche (1 ) einen Brechungsindex von 1,20 bis 1,45, bevorzugt 1,25 bis 1,40 aufweist. - Scheibe (
3 ) nach einem der Ansprüche 7 bis 9, wobei die Schichtdicke der Scheibenoberfläche (1 ) 10 nm bis 1000 nm, bevorzugt von 50 nm bis 200 nm beträgt. - Scheibe (
3 ) nach einem der Ansprüche 7 bis 10, wobei die Scheibenoberfläche (1 ) HF, H2SiF6, (SiO2)m·nH2O, HCl, H2SO4, H3PO4, HNO3, CF3COOH, CCl3COOH, HCOOH, CH3COOH, NaOH, KOH, Ca(OH)2 und/oder Gemische davon enthält. - Scheibe (
3 ) nach einem der Ansprüche 7 bis 11, wobei der Scheibenkörper (2 ) eine Transmission von > 80%, bevorzugt von > 90%, aufweist. - Scheibe (
3 ) nach einem der Ansprüche 7 bis 12, wobei der Scheibenkörper (2 ) eine Fläche von > 0,5 m2, bevorzugt von > 5 m2 und besonders bevorzugt von > 19 m2 aufweist. - Verwendung einer Scheibe (
3 ) nach einem der Ansprüche 7 bis 13 als reflexionsverminderte Scheibe. - Verwendung einer Scheibe (
3 ) nach Anspruch 14 als Bauglas, Fahrzeugverglasung und/oder Photovoltaikverglasung.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011006829A1 (de) | 2009-07-17 | 2011-01-20 | Saint-Gobain Glass France | Verfahren zur herstellung einer beschichteten und reflexionsverminderten scheibe |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT13179U1 (de) * | 2011-09-22 | 2013-08-15 | Inova Lisec Technologiezentrum | Photovoltaik-Modul |
KR101372798B1 (ko) | 2013-01-04 | 2014-03-11 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 방오성이 우수한 반사 방지층을 갖는 글라스 기판 및 이의 제조방법 |
KR101561477B1 (ko) * | 2014-02-14 | 2015-10-19 | 코닝정밀소재 주식회사 | 강화유리 제조방법 |
US9670088B2 (en) | 2014-05-20 | 2017-06-06 | Corning Incorporated | Scratch resistant glass and method of making |
CN104761151B (zh) * | 2015-03-19 | 2017-03-15 | 胡宇杰 | 3d玻璃板材的制作方法 |
US9963381B2 (en) * | 2015-07-24 | 2018-05-08 | Infineon Technologies Ag | Method for finishing a glass product and glass product |
KR101717259B1 (ko) * | 2016-01-19 | 2017-03-17 | 주식회사 가인공영 | 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물 및 그 제조방법 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2486431A (en) | 1944-08-18 | 1949-11-01 | Rca Corp | Method of producing low-glare coatings |
DE822714C (de) | 1946-09-21 | 1951-11-26 | Rca Corp | Verfahren zur Herstellung eines die Reflexion vermindernden Films auf der Oberflaeche eines Glasgegenstandes |
US2601123A (en) * | 1947-04-05 | 1952-06-17 | American Optical Corp | Composition for reducing the reflection of light |
US4019884A (en) | 1976-01-22 | 1977-04-26 | Corning Glass Works | Method for providing porous broad-band antireflective surface layers on chemically-durable borosilicate glasses |
US4830879A (en) * | 1986-09-25 | 1989-05-16 | Battelle Memorial Institute | Broadband antireflective coating composition and method |
EP0798272A1 (de) * | 1996-03-27 | 1997-10-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Schichtstoff und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE19642419A1 (de) | 1996-10-14 | 1998-04-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung einer Antireflexionsbeschichtung |
DE19918811A1 (de) | 1999-04-26 | 2000-11-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorgespanntes, mit einer wischfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflex-Schicht versehenes Sicherheitsglas u. Verfahren z. d. Herstellung |
DE10209949A1 (de) * | 2002-03-06 | 2003-09-25 | Schott Glas | Glaskörper mit poröser Beschichtung |
DE102005020168A1 (de) * | 2005-04-28 | 2006-11-02 | Schott Ag | Entspiegelungsschicht und Verfahren zu deren Aufbringung |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB927848A (en) * | 1960-04-20 | 1963-06-06 | Triplex Safety Glass Co | Improvements in and relating to methods of producing toughened glass |
JP3455039B2 (ja) * | 1996-03-07 | 2003-10-06 | 日本板硝子株式会社 | 自動車用窓ガラスおよびこのガラスを用いた自動車窓構造 |
US6929861B2 (en) * | 2002-03-05 | 2005-08-16 | Zuel Company, Inc. | Anti-reflective glass surface with improved cleanability |
FR2845683B1 (fr) * | 2002-10-10 | 2005-02-25 | Saint Gobain | Procede et machine d'obtention de feuilles de verre bombees |
-
2009
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-
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2486431A (en) | 1944-08-18 | 1949-11-01 | Rca Corp | Method of producing low-glare coatings |
DE822714C (de) | 1946-09-21 | 1951-11-26 | Rca Corp | Verfahren zur Herstellung eines die Reflexion vermindernden Films auf der Oberflaeche eines Glasgegenstandes |
US2601123A (en) * | 1947-04-05 | 1952-06-17 | American Optical Corp | Composition for reducing the reflection of light |
US4019884A (en) | 1976-01-22 | 1977-04-26 | Corning Glass Works | Method for providing porous broad-band antireflective surface layers on chemically-durable borosilicate glasses |
US4830879A (en) * | 1986-09-25 | 1989-05-16 | Battelle Memorial Institute | Broadband antireflective coating composition and method |
EP0798272A1 (de) * | 1996-03-27 | 1997-10-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Schichtstoff und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE19642419A1 (de) | 1996-10-14 | 1998-04-16 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung einer Antireflexionsbeschichtung |
DE19918811A1 (de) | 1999-04-26 | 2000-11-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorgespanntes, mit einer wischfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflex-Schicht versehenes Sicherheitsglas u. Verfahren z. d. Herstellung |
DE10209949A1 (de) * | 2002-03-06 | 2003-09-25 | Schott Glas | Glaskörper mit poröser Beschichtung |
DE102005020168A1 (de) * | 2005-04-28 | 2006-11-02 | Schott Ag | Entspiegelungsschicht und Verfahren zu deren Aufbringung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
DIN-EN 410:1998 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011006829A1 (de) | 2009-07-17 | 2011-01-20 | Saint-Gobain Glass France | Verfahren zur herstellung einer beschichteten und reflexionsverminderten scheibe |
DE102009026197A1 (de) | 2009-07-17 | 2011-01-27 | Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung einer beschichteten und reflexionsverminderten Scheibe |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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