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Die
Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Prozessatmosphäre
für die Erzeugung und Bearbeitung von Schichten auf Substraten,
wobei in einer Beschichtungskammer Prozessgas definiert zugeführt
und abgesaugt wird. Die Erfindung betrifft ebenso Vorrichtungen
zur Ausführung des Verfahrens.
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Dieses
Verfahren kommt vorrangig bei CVD-Prozessen (Chemical Vapour Deposition)
zur Abscheidung einer Einzelschicht oder eines Systems von Einzelschichten
unter definierten Prozessatmosphären in solchen Druckbereichen
zur Anwendung, die die Erzeugung von Gasströmen gestatten.
Dabei können die Prozessatmosphären zur Herstellung
der einzelnen Schichten auch voneinander abweichen.
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Zur
Beschichtung werden Substrate in einer Beschichtungskammer oder
in einer Abfolge davon in einer Substratebene an einer oder mehreren
Beschichtungsquellen vorbeibewegt. Sowohl die Erzeugung als auch
die Bearbeitung von Schichten erfolgt je nach anzuwendendem Beschichtungsverfahren und
je nach Ausgestaltung der Beschichtungsanlage entweder kontinuierlich
oder diskontinuierlich. Auch zur Bearbeitung von bereits auf einem
Substrat abgeschiedener Schichten, zum Beispiel einer Modifikation
der Schichtzusammensetzung oder der Schichteigenschaften, ist dieser
grundsätzliche Verfahrensablauf der gleiche bei entsprechender
Ausgestaltung der Beschichtungsquelle bzw. der Beschichtungsquellenumgebung.
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Aus
diesem Grund sollen sich die folgenden auf die Beschichtung bezogenen
Darlegungen auch auf die Bearbeitung von bestehenden Schichten beziehen.
Dieses Verfahren kann bei besonderer Ausgestaltung auch für
PVD-Prozesse (Physical Vapour Deposition) Anwendung finden.
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Es
ist aus verschiedenen Anwendungsgebieten bekannt, sowohl einzelne
Schichten als auch Schichtsysteme auf Substraten herzustellen oder
zu bearbeiten, wobei letztere aus mehreren übereinander
liegenden Schichten bestehen, welche wiederum unter voneinander
abweichenden Beschichtungsbedingungen und/oder von unterschiedlichen
Beschichtungsmaterialien abgeschieden wurden, z. B. von Dünnschichtsolarzellen
oder von optischen Funktionsschichtsystemen. In jedem Fall ist es
erforderlich, für die Abscheidung der einzelnen Schichten
die dafür erforderlichen, gegebenenfalls voneinander abweichenden
Prozessatmosphären separiert in der Beschichtungskammer
herzustellen. Eine Abweichung der Prozessatmosphären kann
verschiedene Parameter betreffen, z. B. das abzuscheidende Material,
den Druck oder die Zusammensetzung des Prozessgases. Ferner ist
es zur Erzeugung homogener und defektarmer Einzelschichten für
jede Prozessatmosphäre wesentlich, Druck und Zusammensetzung
der Atmosphäre quer zur Transportrichtung, d. h. über
die Breite des Substrats hinweg homogen zu halten.
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Zu
diesem Zweck werden in bekannten Beschichtungsanlagen, wie z. B.
in der
DE 10 2004
014 323 A1 beschrieben insbesondere zur Beschichtung breiter
Substrate mit, quer zur Transportrichtung betrachtet, langen Beschichtungsquellen
Gaszuführungen verwendet, mit deren Hilfe Prozessgas in
der Umgebung der Beschichtungsquelle über die Breite des
Substrats verteilt zugeführt werden kann. Auch in der
US 5,096,562 ist beschrieben,
Inert- und Reaktivgas über die gesamte Länge einer
Rohrkathode als Beschichtungsquelle verteilt zuzufüh ren,
für einen homogenen Betrieb der Kathode. Als Prozessgas soll
hier jedes für die Durchführung des jeweiligen Beschichtungsverfahrens
in eine Beschichtungskammer eingeführtes oder abgesaugtes
Gas verstanden sein, z. B. ein inertes Trägergas wie Argon,
oder ein Reaktivgas wie Sauerstoff oder Stickstoff für
eine reaktive Beschichtung und ebenso weitere Gaszusätze oder
eine Mischung von diesen Bestandteilen.
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Darüber
hinaus ist es erforderlich, Substrat und Prozessatmosphäre
von Verunreinigungen, Clustern von Beschichtungsmaterial und Kondensaten
frei zu halten, da derartige Verunreinigungen die Schichtqualität
wesentlich beeinflussen.
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Als
Beschichtungskammer soll im Folgenden ein solches zusammenhängendes
Volumen einer Beschichtungsanlage zu verstehen sein, das nicht durch
dicht schließbare Ventile voneinander getrennt ist, aber
gleichwohl Trenn- oder Zwischenwände mit Öffnungen
für den Substrattransport durch die Beschichtungskammer
aufweisen kann. Mittels solcher Zwischenwände, welche ein-
oder beidseitig des Substrats bis nahezu an das Substrat in die
Beschichtungskammer hineinragen, kann die Beschichtungskammer in
zumindest zwei in Transportrichtung aufeinander folgende Kompartments
unterteilt sein. Ein Beschichtungskompartment weist ein oder mehrere
Beschichtungsquellen auf. Zur Herstellung einer definierten Prozessatmosphäre
kann das Beschichtungskompartment entweder direkt über
einen in der Kammerwand des Kompartments vorhandenen Vakuumpumpenanschluss
oder indirekt über eine Saugöffnung in einer Zwischenwand
von einem benachbarten Pumpkompartment aus evakuiert werden. Über
einen Gaseinlass kann das Arbeitsgas in das Beschichtungskompartment
eingelassen werden.
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Die
Anzahl und die Aufeinanderfolge der verschiedenen Kompartments innerhalb
der Beschichtungskammer variiert entsprechend der herzustellenden
Schicht oder Schichtsysteme. Bei einem komplexen Schichtsystem,
dessen Einzelschichten unter deutlich voneinander abweichenden Beschichtungsparametern
und Beschichtungsatmosphären aufzutragen sind, ist die
weitestgehend vollständige Trennung der verschiedenen Beschichtungsatmosphären mittels
Gastrennung Voraussetzung für die Gewährleistung
der Schichteigenschaften.
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Dafür
wird in einem Pumpkompartment der Transportraum, in welchem das
Substrat durch die Anlage bewegt wird, von dem Saugraum durch in
der nahen Umgebung des Substrats und ungefähr parallel
zum Substrat angeordnete Trennwände abgeteilt. Im Bereich
des Substrats ist auf diese Weise ein tunnelartiger Raum, der Pumpkanal,
gebildet, der aufgrund seines Querschnitts sowie des geringen und insbesondere
des vergleichbaren Gasdruckes der beiderseitig an den Pumpkanal
angrenzenden Kompartments einen Strömungswiderstand darstellt. Durch
entsprechende Bemessung des Strömungswiderstandes kann
eine maximale passive Gastrennung zwischen diesen beiden angrenzenden
Kompartments gewährleistet werden. Derartige Einbauten
in einer Beschichtungskammer benötigen insbesondere bei
komplexen Schichtsystemen viel Platz und Wartungsaufwand und sind
stets exponierte Stellen von unerwünschten Ablagerungen
sowie Quellen von Verunreinigungen.
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Das
Problem der unerwünschten Ablagerungen und des zum Teil
auch daraus resultierenden erhöhten Wartungsaufwandes verstärkt
sich, wenn das Beschichtungsverfahren bei hohen Temperaturen durchgeführt
wird, in welchen gegebenenfalls auch das Substrat mittels eines
separaten Heizelements erwärmt wird. Aufgrund der hohen
Temperaturen in der Beschichtungskammer lagert sich insbesondere an
den Einbauten, die nicht selbst erwärmt werden oder mit
nicht erwärmten oder gekühlten Bauteilen, z. B.
der Kammerwandung der Beschichtungskammer, mechanisch und thermisch
verbunden sind, Beschichtungsmaterial oder bei Öffnung
der Anlage eingebrachtes Kondensat ab, das zeit- und energieintensiv
wieder entfernt werden muss.
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Es
ist somit Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung
zur Ausführung des Verfahrens zur Verfügung zu
stellen, mit welchen flexibel, zuverlässig und homogen
und mit verringertem Wartungs- und Energieaufwand eine differenzierbare Prozessatmosphäre
innerhalb einer Beschichtungskammer einer Beschichtungsanlage einstellbar
ist und zwar auch bei erwärmtem Substrat.
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Diese
Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen der Ansprüche
1 und 11 sowie durch Vorrichtungen mit den Merkmalen des Anspruchs
13 gelöst. Die davon abhängenden Ansprüche
stellen vorteilhafte Ausgestaltungen dar. Die Vorrichtung gemäß der
Ansprüche 19 bis 25 stellt eine Komponenten der Beschichtungskammer
dar.
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In
dem erfindungsgemäßen Verfahren wird für
eine Beschichtung eines Substrats innerhalb einer Beschichtungskammer
eine definierte Prozessgasatmosphäre hergestellt, indem
eine Strömung erzeugt wird, die alternativ vom Substrat
weg gerichtet ist oder zum Substrat hin läuft. Eine derartige
Strömung kann in Abhängigkeit von der Strömungsgeschwindigkeit
und von den Druckverhältnissen in der Beschichtungskammer
wie ein Gasvorhang oder wie ein Gasmesser wirken. Sie kann sehr
begrenzt innerhalb der Beschichtungskammer mit von der umgebenden
Prozessgasatmosphäre abweichenden Verhältnissen
eingestellt werden und so verschiedenen Funktionen dienen.
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Für
die Realisierung solch besonderer Funktionen wie einem Gasvorhang
oder einem Gasmesser oder lokalen Wirbeln sieht eine Ausgestaltung des
Verfahrens vor, die Prozessgasabsaugung oder die Prozessgaszufuhr
mittels Gaskanal oder beides zusätzlich zu den üblichen
Gaseinlässen und Gasauslässen vorzunehmen, die
regelmäßig durch Stutzen oder ähnliche
geeignete Ein- und Auslässe in der Kammerwandung realisiert
sind.
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Aufgrund
der lateralen Ausdehnung einer oder mehrerer Strömungen über
die Breite des Substrats wird die Homogenität der Schichtabscheidung über
der Substratbreite nicht beeinflusst oder sogar verbessert. In einer
Ausgestaltung können beide Strömungen, d. h. eine
zum Substrat hin laufende, durch Prozessgaszufuhr erzeugte und eine
durch Absaugung vom Substrat weg gerichtete, auch gemeinsam in einer
Beschichtungskammer erzeugt werden. Wenn die Beschichtungskammer
durch Trennwände in Kompartments unterteilt ist, ist solch eine
Kombination selbstverständlich auch in demselben Kompartment
möglich. Diese Kombination von Zufuhr und Absaugung in
einem Volumen ist z. B. für die Herstellung einer besonders
homogenen Prozessgasatmosphäre nutzbar.
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Im
Folgenden soll der besseren Übersicht wegen und sofern
nicht ausdrücklich anders dargelegt das beanspruchte Verfahren
für eine Beschichtungskammer ohne Unterteilung in Kompartments beschrieben
werden. Das Verfahren ist jedoch gleichermaßen auf ein
einzelnes oder mehrere Kompartments innerhalb einer Beschichtungskammer
anwendbar.
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Die
beschriebenen Prozessgasströme werden mit Hilfe zumindest
eines Gaskanals erzeugt, welcher sich über der Seite des
Substrats befindet, über der auch eine Beschichtungsquelle
liegt. Er erstreckt sich über die Breite des Substrats
und weist eine oder mehrere Öffnungen in dieser Ausdehnung auf.
Dieser Gaskanal ist derart konzipiert, dass er wahlweise sowohl
für die Zufuhr als auch für die Absaugung einsetzbar
ist.
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In
der vorliegenden Beschreibung sind die Bezeichnungen „über
dem Substrat" und „vor der Beschichtungsquelle" nicht in
Bezug auf ein äußeres System zu verstehen, sondern
lediglich als beabstandete Position relativ zum Substrat bzw. relativ
zur Beschichtungsquelle. Somit bedeutet „über"
sowohl über als auch unter dem Substrat, bezogen auf die Vertikale
Aus dehnung der Beschichtungskammer. So sind Verfahren sowohl für
oberseitige als auch unterseitige und ebenso beidseitige Beschichtungen von
Substraten von der nachfolgenden Beschreibung eingeschlossen. Gleichermaßen
kann „vor" sowohl vor als auch hinter der Beschichtungsquelle
bedeuten. Bezugsrichtung ist hier die Transportrichtung des Substrats.
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Für
die Anordnung eines oder mehrerer sich lateral erstreckender Gaskanäle
in der Beschichtungskammer für die Prozessgaszufuhr und/oder
die Prozessgasabsaugung, die eng mit der in der Kammer vorgenommenen
Bewegung und Behandlung des Substrats zusammenhängt, ist
selbstverständlich in Abhängigkeit von der Bewegung
und der Behandlung des Substrats eine sehr differenzierte Gestaltung,
Anordnung und Kombination möglich. Somit sind sowohl Absaugung
als auch Zufuhr in unterschiedlichen Gaskanälen gleichzeitig
vor und hinter der Beschichtungsquelle möglich oder eine
gestaffelte Anordnung ein- oder beidseitig der Beschichtungsquelle.
Darüber hinaus ist auch eine ergänzende Anordnung
auf der Seite des Substrats möglich, auf der keine Beschichtungsquelle
angeordnet ist.
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In
einer Ausgestaltung des Verfahrens zur Absaugung des Prozessgases
und der zur Durchführung des Verfahrens verwendbaren Vorrichtung
wird ein Gaskanal erwärmt. Damit wird jene Fläche
der Absaugvorrichtung im Beschichtungsraum, die aufgrund der thermischen
Verbindung eines Gaskanals mit der häufig gekühlten
Kammerwandung kalt ist, und somit die Ablagerung von Beschichtungsmaterial an
dieser kalten Fläche vermindert. Neben der Verringerung
des Verlustes an Beschichtungsmaterial wird auch die Zuverlässigkeit
der Absaugvorrichtung verbessert und deren Wartungsaufwand vermindert, wodurch
der Energieaufwand für einen laufenden Betrieb herabzusetzen
ist. Die Verminderung des sich absetzenden Beschichtungsmaterials
hat insbesondere bei Hochrate-Beschichtungsverfahren Bedeutung,
da sich die abzuscheiden den Schichten in besonderem Maße
an kalten Oberflächen absetzen.
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Da
erfindungsgemäß auch der Gaskanal des zugeführten
Prozessgases und damit auch das zugeführte Prozessgas selbst
erwärmt werden kann, trifft es mit einer Temperatur auf
das Substrat, die im Bereich der Substrattemperatur liegen kann.
Dadurch sind die Abscheidung der Schicht und deren Eigenschaften
positiv beeinflussbar.
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In
einer besonderen Ausgestaltung des als Heizelement ausgeführten
Gaskanals werden zur Vermeidung von störenden Ablagerungen
kalte Flächen geometrisch so angeordnet, dass die Strömungsverhältnisse
vorzugsweise in der Absaugvorrichtung nicht beeinflusst werden.
Dazu werden beispielsweise Rohrleitungsquerschnitte an der Stelle erweitert,
wo Temperaturen unterhalb des Kondensationspunktes auftreten. Damit
wird ein möglichst großer geometrischer Raum geschaffen,
der bei Ablagerungen des austretenden Beschichtungsmaterials keine
Verengung im Strömungsquerschnitt darstellt. Eine solche
Erweiterung kann z. B. an dem Bereich erfolgen, in dem der Gaskanal
durch die Kammerwandung hindurch tritt und dabei mit dieser in thermischem
Kontakt steht. Die Ermittlung der relevanten Temperaturbereiche
des Gaskanals ist z. B. bei Kenntnis der Temperatur, unter der der
Beschichtungsprozess durchgeführt wird, und der Temperatur und
Materialien angrenzender Bauteile durch Simulation zu ermitteln.
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Eine
weitere vorteilhafte Ausgestaltung des Verfahrens verbindet die
Erwärmung des Substrats mit der Erwärmung der
Absaugvorrichtung, indem Substrat und Absaugvorrichtung gemeinsam
durch einen oder auch mehrere Flächenheizer erwärmt werden.
Auf diese Weise sind die Temperaturen der Gaskanäle und
des zugeführten Prozessgases der Substrattemperatur gut
anzunähern und gleichzeitig der dafür erforderliche
Platz- und Energiebedarf zu optimieren.
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Neben
der Anordnung von lateral ausgedehnter Prozessgaszufuhr und Prozessgasabsaugung
sind auch die Öffnungen im Gaskanal selbst sehr variabel
zu gestalten, um verschiedene Effekte zu erzielen. Während
die Öffnungen für die Prozessgasabsaugung regelmäßig
so groß sein sollten, dass über ihnen kein schädlicher
Druckabfall erfolgt, d. h. dass die Leistung der Vakuumpumpe nicht
durch einen zu geringen Querschnitt der Öffnung oder Öffnungen
vermindert wird, ist über die Größe der Öffnung
oder Öffnungen für die Prozessgaszufuhr und über
den Prozessgasdurchsatz die Strömungsgeschwindigkeit einstellbar.
Als schädlicher Druckabfall ist in diesem Fall nicht jedweder
Druckabfall zu verstehen, da dieser stets sowohl über den Öffnungen als
auch über die Länge des Gaskanals auftritt. Vielmehr
ist ein solcher Druckabfall als schädlich anzusehen, wenn
die beabsichtigte spezielle Funktion der Strömung nicht
mehr gewährleistet ist. Ein schädlicher Druckabfall
ist zu vermeiden, indem z. B. der Durchmesser des Kanals groß ist
im Verhältnis zu den Durchmessern der Öffnungen.
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In
Abhängigkeit von den Druckverhältnissen in der
Beschichtungskammer und von der Strömungsgeschwindigkeit
sind mit der Strömung des Prozessgases verschiedene Funktionen
realisierbar. So ist die Strömung von einem Gasvorhang,
der benachbart zur Beschichtungsquelle oder zu einer Spaltblende
in der Kammerwandung erzeugt wird, bis zu einem so genannten Gasmesser
variierbar, mit welchem aufgrund sehr hoher Strömungsgeschwindigkeit
die Atmosphäre an definierter Stelle, z. B. in der Nähe
des Substrats, gezielt beeinflussbar ist oder Verunreinigungen oder
loses Kondensat vom Substrat zu entfernen oder fernzuhalten sind.
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Da
ein Gaskanal sowohl für die Prozessgaszufuhr als auch für
die Prozessgasabsaugung einsetzbar ist, sind einstellbare Öffnungen
im Gaskanal von Vorteil. Die Funktion des Gaskanals, ob er zur Prozessgaszuführung
oder zur Prozessgasab saugung genutzt wird, wird dadurch hergestellt,
in dem an diesen Gaskanal atmosphärenseitig eine Gaszuführungsquelle
oder eine Absaugeinrichtung angeschlossen wird.
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Ergänzend
oder alternativ zur Einstellung der lateralen Strömung
des zugeführten Prozessgases ist in einer weiteren Ausgestaltung
der Vorrichtung der Gaskanal um seine Längsachse drehbar. Damit
ist es möglich, die Strömung mit einem variablen
Winkel, bezogen auf die Substratebene, und die beschriebenen Effekte örtlich
differenziert zu erzeugen.
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Die
Erzeugung einer lateral ausgedehnten Strömung des Prozessgases
durch dessen Absaugung und/oder Zufuhr über der Breite
des Substrats und die örtlich differenzierbare Absaugung
ermöglichen auch die Beschichtung unter beispielsweise zwei,
auch im Druck voneinander abweichenden Prozessgasatmosphären
innerhalb einer Beschichtungskammer. Zu diesem Zweck wird in diesem
Fall die Beschichtungskammer mit einer Zwischenwand in zwei Beschichtungskompartments
getrennt, die in der Substratebene eine schlitzförmige
Durchgangsöffnung zum Transport des Substrats durch die
Kammer aufweist. Beide Beschichtungskompartments weisen jeweils
zumindest eine Beschichtungsquelle und eine der oben beschriebenen
Vorrichtungen zur Prozessgaszufuhr und Prozessgasabsaugung mit einem
oder mehreren Gaskanälen auf. Damit sind die oben beschriebenen
Möglichkeiten zur Einstellung der Prozessatmosphäre
für jedes Kompartment getrennt einstellbar.
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Die
Absaugung ist in beiden Kompartments über die Breite des
Substrats und damit die Breite der Durchgangsöffnung der
Kammerwand realisiert und gegebenenfalls durch einen Gasvorhang
in der Nähe der Durchgangsöffnung ergänzt,
so dass ein Druckausgleich zwischen beiden Kompartments aufgrund der
gerichteten Strömung des Prozessgases in der Nähe
des Schlitzes nicht erfolgt. Für die Beschichtung ist aufgrund
des Zusammenwirkens der schlitzförmigen Durchgangsöffnung
in der Zwischenwand und der gerichteten, sich parallel zur Durchgangsöffnung
ausdehnenden Prozessgasströmung, die Ausbildung eines tunnelartigen,
sich über eine längere Distanz parallel zum Substrat
erstreckenden Strömungswiderstandes, wie aus dem Stand
der Technik bekannt, nicht erforderlich, so dass die erfindungsgemäße
Vorrichtung in diesem Fall eine deutliche Platzersparnis bringt.
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Zur
Gastrennung benachbarter Kompartments sind die beschriebenen Maßnahmen
zur Herstellung einer Prozessgasatmosphäre und die dazu verwendeten
Gaskanäle und Heizelemente auch mit den bekannten Methoden
zur Gasseparation zu kombinieren. So wird zur Gasseparation häufig
zwischen zwei Beschichtungskompartments ein Kompartment eingefügt,
in das nur Inertgas eingelassen wird, z. B. über der Substratbreite
verteilt. Mittels der beschriebenen Gaskanäle zur Prozessgasabsaugung
wird so in den benachbarten Beschichtungskompartments das aus der
Zwischenkammer kommende Gas abgesaugt und ein Überströmen
von Prozessgas von der einen Beschichtungkammer zu der nächsten
und umgekehrt unterbunden oder zumindest wesentlich reduziert.
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Die
Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles
näher erläutert werden. In der zugehörigen
Zeichnung zeigt
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1 einen
räumlichen Ausschnitt einer Beschichtungskammer in geschnittener
Darstellung parallel zur Transportrichtung
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2 einen
räumlichen Ausschnitt einer Beschichtungskammer in geschnittener
Darstellung quer zur Transportrichtung,
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3 die
Schnittdarstellung eines Heizelementes mit einem Gaskanal zur Gaszufuhr
und
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4 eine
vergrößerte Darstellung eines Abschnitts eines
Gaskanals mit Kondensationskammer in geschnittener Darstellung.
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1 zeigt
einen Ausschnitt des Innenraumes einer Beschichtungskammer, durch
welche ein Substrat 1 zur Beschichtung mittels einer Vielzahl von
Transportrollen 2 oder anderen geeigneten Transportelementen
eines Transportsystems transportiert wird. Das Verfahren soll nachfolgend
anhand einer Vakuumbeschichtung beschrieben werden, ist aber ebenso
auch auf Schichtherstellungsverfahren anwendbar, die unter atmosphärischen
Drücken stattfinden, wie z. B. bei thermischen Gasphasenreaktionen
in so genannten Diffusionsöfen.
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Die
Beschichtungskammer ist mittels einer Zwischenwand 4, die
an die obere und die untere Kammerwandung 5 der Beschichtungskammer
oder alternativ an eine horizontale Trennwand anschließt, in
zwei Beschichtungskompartments 7 unterteilt. Beide Beschichtungskompartments 7 weisen
jeweils eine Beschichtungsquelle 6, zum Beispiel einen
Gasphasenreaktor auf.
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Die
Zwischenwand 4 besteht im Ausführungsbeispiel
aufgrund ihrer Größe und thermischer Belastung
aus einem Kohlefaser-Verbundwerkstoff, kann aber ebenso aus Edelstahl,
Keramik oder einem anderen gegenüber den Prozessmedien
inerten Werkstoff bestehen. In der Substratebene 8 weist
die Zwischenwand 4 eine schlitzförmige Durchgangsöffnung 10 auf.
Die Durchgangsöffnung 10 ist so groß gewählt,
dass die Zwischenwand 4 umlaufend nah genug an das Substrat 1 heranreicht,
um die dampfförmigen Beschichtungsmaterialien weitestgehend voneinander
zu trennen und um einen ungehinderten Transport des Substrats 1 zu
gewährleisten.
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Beidseitig
der Zwischenwand 4 und damit benachbart zur jeweiligen
Beschichtungsquelle 6 sowie beidseitig der Beschichtungsquelle 6 sind
in jedem Beschichtungskompartment zwei Heizelemente 12 angeordnet.
Jedes Heizelement 12 dient neben anderen nicht dargestellten
Heizeinrichtungen der Erwärmung des Substrats oder zumindest
der Aufrechterhaltung einer zuvor eingestellten Substrattemperatur
und ist quer zur Transportrichtung 3 des Substrats 1 und
somit ungefähr parallel zur Beschichtungsquelle 6 angeordnet,
die sich über die gesamte Substratbreite (senkrecht zur
Zeichnungsebene) erstreckt.
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Ein
Haizelement 12 ist im Detail in 3 geschnitten
dargestellt. Es umfasst eine Wärmestrahlungsquelle 14,
die eine beliebige geeignete Ausführung aufweisen kann,
um das Substrat mittels Wärmestrahlung zu erwärmen.
Im dargestellten Ausführungsbeispiel ist es die Mantelfläche
eines Zylinders, der einen in seinem Inneren angeordneten Gaskanal 16 umgibt.
Die Wärmestrahlungsquelle 14 ist mittels einer
geeigneten Halterung (nicht dargestellt) an dem Gaskanal 16 befestigt.
Aufgrund dieser Anordnung des Gaskanals 18 zur Wärmestrahlungsquelle 14 erwärmt
die Wärmestrahlungsquelle 14 gleichzeitig das
Substrat 1 und den Gaskanal 16.
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Der
Gaskanal 16 ist im dargestellten Ausführungsbeispiel
rohrförmig und besteht aus einem Außenrohr 17 und
konzentrisch dazu angeordnetem Innenrohr 18, kann aber
auch einen anderen Querschnitt oder eine andere für die
oben beschriebenen Zwecke geeignete Gestalt aufweisen. Das zuzuführende
Gas strömt durch das Innenrohr 18 und tritt durch
eine oder mehrere Öffnungen 21 in einen Ringspalt 19,
der zwischen dem Außenrohr 17 und dem Innenrohr 18 besteht,
und von dort durch eine oder mehrere Öffnungen 20 im
Außenrohr aus dem Gaskanal 16. Der Ringspalt 19 ist
auf eine gleichmäßige Dicke eingestellt z. B.
mittels Abstandshalter (nicht dargestellt). Die Öffnungen 21, 22 im
Innen- und im Außenrohr sind so gegeneinander versetzt, dass
das Gas einen möglichst langen Weg im Ringspalt 19 zurücklegen
muss. Da das Außenrohr 17 nahezu vollständig
von der zylindrischen Wärmestrah lungsquelle 14 umgeben
ist, ist so das im Ringspalt 19 strömende Gas
auf die erforderliche Temperatur zu erwärmen. In der zylinderförmigen
Wärmestrahlungsquelle 14 ist ein Abschnitt der
Mantelfläche, welcher der Öffnung im Außenrohr,
d. h. der Öffnung im Gaskanal 20 gegenüber
liegt, ausgeschnitten, so dass das aus dem Gaskanal ausströmende
Gas ungehindert auf das Substrat zu richten ist.
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Durch
eine Bemessung der Geometrie der Rohrdurchmesser und der Öffnungen
in den Rohren ist die Gasströmung entsprechend der oben
beschriebenen möglichen Funktionen einzustellen. Zur Regulierung
der Gasströmung kann die Größe zumindest
der Öffnungen 20 im Außenrohr einstellbar sein.
Als Öffnungen sind Verschiedene Formen geeignet. Für
eine sich lateral, d. h. über die Substratbreite erstreckende
Gasströmung ist entweder eine Vielzahl von kleinen Öffnungen
auf einer Mantellinie des Rohres angeordnet oder eine oder mehrere schlitzförmige Öffnungen
befinden sich auf der Mantellinie des Gaskanals, gemäß 3 des
Außenrohres.
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Sofern
bei einer anderen Ausgestaltung der Wärmestrahlungsquelle
die Erwärmung des Gases auf andere Weise gewährleistet
ist oder die einzustellende Strömung es erfordert und ebenso
bei der Verwendung des Gaskanals 16 zur Gasabsaugung, kann
der Gaskanal 16 alternativ aus einem einfachen, einschaligen
Hohlkörper bestehen. Bei der Verwendung des Gaskanals 16 zur
Gasabsaugung sind die in 3 durch Pfeile dargestellten
Strömungsrichtungen entsprechend umzukehren.
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Gemäß 1 sind
Gaskanäle 16 gemäß 3 Bestandteile
sowohl einer Vorrichtung zur Zuführung als auch einer Vorrichtung
zur Absaugung des Prozessgases des Beschichtungsprozesses. An den
Gaskanal 16 schließen sich die weiteren, nicht näher
dargestellte Komponenten beider Vorrichtungen an, mit denen das
Prozessgas der Beschichtungskammer zu- oder abgeleitet wird. In
beiden Beschichtungskompartments 7 dient einer der dargestellten
Gaskanäle 16 der Prozessgaszufuhr und der zweite
der Prozessgasabsaugung.
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Wie
oben bereits dargelegt, ist eine solche Anordnung nur eine der zahlreichen
Kombinationsmöglichkeiten von Gaskanälen und Heizelementen. Ebenso
ist es möglich, dass ein- oder beidseitig der Beschichtungsquelle
jeweils ein Gaskanal zur Zuführung und ein Gaskanal zur
Absaugung des Prozessgases installiert sind. Auf diese Weise ist
es möglich wirbelartige Gasströmungen benachbart
zur Beschichtungsquelle zu erzeugen. In einer weiteren Ausgestaltung
können z. B. auch links und rechts von der Beschichtungsquelle
jeweils ein Gaskanal und ein Absaugkanal installiert sein.
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Jeder
Gaskanal 16 erstreckt sich gemeinsam mit der Wärmestrahlungsquelle 14 über
die gesamte Breite des Substrats 1 und weist zumindest
in dem Bereich, in welchem es dem Substrat 1 gegenüber
liegt, eine oder mehrere der oben zu 3 beschriebenen,
für die Prozessgaszufuhr und die Prozessgasabsaugung nutzbare Öffnungen 20 derart auf,
dass eine Strömung des Prozessgases entsteht, die sich
quer zum Substrat 1 und über dessen gesamte Breite
erstreckt.
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Zur
Beschichtung wird das Substrat 1 über die Transportrollen 2 in
Transportrichtung 3 zunächst unter ein erstes
Heizelement 12 bewegt und dort erwärmt. Von dem
Gaskanal 16 in dem ersten Heizelement 12 ist eine
Gasströmung 22 auf das Substrat gerichtet, mit
der Prozessgas zugeführt wird. Das Substrat wird kontinuierlich
weiter durch die Beschichtungskammer bewegt. Unterhalb der ersten Beschichtungsquelle 6 erfolgt
die Beschichtung mit einem ersten Beschichtungsmaterial, bei einem
ersten Druck p1 des Prozessgases. Mit der
weiteren Bewegung des Substrats 1 passiert das Substrat 1 das zweite
Heizelement 12 dieses Beschichtungskompartments und damit
die Prozessgasabsaugung, die mittels des in der Wärmestrahlungsquelle 14 angeordneten
zweiten Gaskanals 18 realisiert ist.
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Nachfolgend
durchläuft das Substrat 1 die schlitzförmige
Durchgangsöffnung 10 der Zwischenwand 4 und
darauf das zweite Beschichtungskompartment 7 mit zwei weiteren
Heizelementen 12 und einer zwischen den Heizelementen 12 angeordneten zweiten
Beschichtungsquelle 6 für eine andere Materialabscheidung.
Die Beschichtung des Substrats 1 mit der zweiten Schicht
erfolgt bei einem zweiten Druck p2 des Prozessgases,
der von dem ersten Druck p1 abweicht. Auch
in dem zweiten Beschichtungskompartment 7 wird mittels
der beiden mit den Heizelementen 12 verbundenen Gaskanäle 18 beidseitig
der Beschichtungsquelle 6 jeweils eine sich über
die gesamte Breite des Substrats 1 erstreckende, vom Substrat 1 hin-
und wegführende Gasströmung 22 erzeugt.
Die gerichtete Gasströmungen 22 der Prozessgase
in beiden Beschichtungskompartments 7 in der Nähe
der Zwischenwand 4 verhindert weitestgehend einen Gasaustausch
durch die Durchgangsöffnung 10 der Zwischenwand 4.
Eine solche Unterteilung der Beschichtungskammer in Beschichtungskompartments 7 mit
voneinander abweichenden Prozessatmosphären kann auch mehr
als zwei Beschichtungskompartments 7 umfassen.
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In 2 ist
ein Heizelement 12 mit einem Gaskanal 16 innerhalb
eines Beschichtungskompartments quer zur Transportrichtung des Substrats
dargestellt. Der Gaskanal 16, welcher im Inneren der Wärmestrahlungsquelle 14 verläuft,
ist über die Wärmestrahlungsquelle 14 hinaus
verlängert, um eine Montage der Vorrichtung an den seitlichen
Kammerwandungen 5 der Beschichtungskammer zu realisieren
sowie um die Strom- und Spannungsversorgung sowie einen Anschluss 24 an
eine Vakuumpumpe oder alternativ an eine Gasversorgung zur Zuführung des
Prozessgases über diese Kammerwandung 5 auszuführen.
Der Gaskanal 16 besteht in diesem Fall aus einem gut wärmeleitendem
Material, so dass es auch in dem Bereich außerhalb der
Wärmestrahlungsquelle 14 warm genug ist, um Ablagerungen des
Beschichtungsmaterials zu verhindern. An seinem zweiten, dem Anschluss 24 gegenüber
liegenden Ende ist der Gaskanal 16 geschlossen.
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Zur
Aufrechterhaltung definierter thermischer Verhältnisse
im Beschichtungsbereich und zum Schutz der Bereiche der Kammerwandung 5 mit dort
angeordneten Durchführungen, Versorgungseinheiten oder
Antriebe sind beidseitig des Substrats zwischen Substrat und Kammerwandung 5 Wärmeschutzvorrichtungen 26,
meist wärmeisolierende Wände, angeordnet. In Abhängigkeit
von der für die Beschichtung einzustellenden Temperatur
und Ausführung der Kammerwandung 5 sowie deren
oben beschriebenen Komponenten, können die Wärmeschutzvorrichtungen 26 alternativ
auch entfallen.
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Um
eventuell transportierte Reste von Beschichtungsmaterial gezielt
abscheiden zu können, werden in einer besonderen Ausgestaltung
zur Vermeidung von störenden Ablagerungen kalte Flächen geometrisch
so angeordnet, dass die Strömungsverhältnisse
im Gaskanal und besonders in der Absaugvorrichtung nicht beeinflusst
werden. Dazu werden beispielsweise Rohrleitungsquerschnitte an einer Stelle
erweitert, wo Temperaturen unterhalb des Kondensationspunktes auftreten.
Damit wird ein möglichst großer geometrischer
Raum geschaffen, der bei Ablagerungen des austretenden Beschichtungsmaterials
keine Verengung im Strömungsquerschnitt darstellt.
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Gemäß 2 weist
der Gaskanal 16 zu diesem Zweck in seinem Verlauf zwischen
einer Wärmeschutzvorrichtung 26 und der Kammerwandung 5 und
somit in dem unbeheizten und kühleren Bereich des Beschichtungskompartments
eine Kondensationskammer 28 auf, die aufgrund ihrer tieferen
Temperatur der Mantelfläche des Gaskanals als Kondensatfalle
wirkt. Diese ist durch einen erweiterten Querschnitt des Gaskanals 16 gebildet,
so dass Ablagerungen von kondensiertem Beschichtungsmaterial die
Gasströmung vernachlässigbar beeinflussen. Dar über
hinaus ist die Kondensationskammer 28 von dem Gaskanal 16 trennbar
ausgeführt (schematisch durch einen Schlitz zwischen beiden
dargestellt). Dies bewirkt eine bessere thermische Trennung zum beheizten
Teil des Gaskanals 16 innerhalb der Wärmestrahlungsquelle 14 und
somit eine verbesserte Funktion als Kondensatfalle. Darüber
hinaus ist die Kondensationskammer 28 mit geringerem Aufwand zu
warten und von Kondensat zu befreien.
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Eine
Ausgestaltung des als Kondensationskammer 28 dienenden
Abschnitts des Gaskanals 16 ist in vergrößerter
Darstellung in 4 dargestellt. Diese Ausgestaltung
dient einer solchen thermischen Trennung zwischen dem warmen Abschnitt
des Gaskanals 16, in welchem keine Kondensation erfolgen soll
und der Kondensationskammer, deren Temperatur unterhalb der Kondensationstemperatur
des Beschichtungsmaterials zu halten ist.
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Zu
diesem Zweck wird in dem Bereich ab Innenfläche und außerhalb
der Wärmeschutzvorrichtung auf das warme Innenrohr 18 des
Gaskanals 16 eine hoch wärmeleitende Buchse 32 geschoben,
die bis in die Wäremstrahlungsquelle 14 ragt und
so mit beheizt wird. Über diese Buchse 32 wird
das gesamte Innenrohr 18 auf einer Temperatur oberhalb
des Kondensationspunktes gehalten. Alternativ kann dies auch mittels
einer separaten Heizung erfolgen, die so bemessen ist, dass sie
die Funktion der sich anschließenden Kondensationskammer 28 nicht
beeinflusst.
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Die
Kondensationskammer 28 ist thermisch entkoppelt von dem
Innenrohr 18 und der Buchse 32 oder der separaten
Heizung und befindet sich außerhalb der Wärmeschutzvorrichtung 26.
Zur Unterstützung der thermischen Entkopplung ist die Buchse 32 oder
die alternative separate Heizung durch eine Wärmeisolierung 34 umhüllt.
Sollte allein durch diese Maßnahmen die Temperatur der
Wandung der Kondensationskammer 28 nicht gewährleistet
sein, ist dies über eine thermische Kopplung mit der kühlen Kammerwandung 5 oder
eine aktive Kühlung möglich.
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Es
ist selbstverständlich, dass die in den schematischen Darstellungen
der 2 und 5 mit einem unterbrochen dargestellten
Durchgänge des Gaskanals 16 oder eines Flansches
durch die Kammerwandung 5 real dicht ausgeführt
sind. Die gewählte Darstellung dient lediglich der Verdeutlichung
der einzelnen Bestandteile der Beschichtungsvorrichtung.
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- 1
- Substrat
- 2
- Transportrollen
- 3
- Transportrichtung
des Substrats
- 4
- Zwischenwand
- 5
- Kammerwandung
- 6
- Beschichtungsquelle
- 7
- Beschichtungskompartment
- 8
- Substratebene
- 10
- Durchgangsöffnung
- 12
- Heizelement
- 14
- Wärmestrahlungsquelle
- 16
- Gaskanal,
Hohlkörper
- 17
- Außenrohr
- 18
- Innenrohr
- 19
- Ringspalt
- 20
- Öffnung
im Gaskanal, Öffnung im Außenrohr
- 21
- Öffnung
im Innenrohr
- 22
- Gasströmung
- 24
- Anschluss
einer Vakuumpumpe oder einer Gasversorgung
- 26
- Wärmeschutzvorrichtung
- 28
- Kondensationskammer
- 30
- Innenfläche
der Wärmeschutzvorrichtung
- 32
- Buchse
- 34
- Wärmeisolierung
der Buchse
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 102004014323
A1 [0006]
- - US 5096562 [0006]