DE102007026866A1

DE102007026866A1 - Photokatalytisch aktive Schicht sowie Zusammensetzung und Verfahren zu ihrer Herstellung

Info

Publication number: DE102007026866A1
Application number: DE102007026866A
Authority: DE
Inventors: Gunter Dr. Risse; Horst Prof. Dr. Böttcher
Original assignee: FOERDERUNG VON MEDIZIN BIO und; Gesellschaft zur Foerderung von Medizin Bio und Umwelttechnologien eV
Current assignee: FOERDERUNG VON MEDIZIN BIO und; Gesellschaft zur Foerderung von Medizin Bio und Umwelttechnologien eV
Priority date: 2007-06-11
Filing date: 2007-06-11
Publication date: 2008-12-24

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Schicht mit hoher photokatalytischer Aktivität und guter mechanischer Festigkeit sowie eine Zusammensetzung und ein Verfahrfindungsgemäße Schicht kann auf metallische und nichtmetallische technische Substrate aufgebracht werden. Die Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung der photokatalytisch aktiven Schicht umfasst ein Gemisch von nanokristallinem TiO<SUB>2</SUB>-Material und einem Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids, in dem sich das Metalloxid im amorphen Zustand befindet, wobei der Anteil des nanokristallinen TiO<SUB>2</SUB>-Materials mindestens 20 Masse-% und höchstens 70 Masse-%, bezogen auf den Gesamtgehalt an Feststoff, beträgt.

Description

Die Erfindung betrifft eine Schicht mit hoher photokatalytischer Aktivität und guter mechanischer Festigkeit sowie eine Zusammensetzung und ein Verfahren zum Herstellen einer derartigen Schicht. Die erfindungsgemäße Schicht kann auf metallische und nichtmetallische technische Substrate aufgebracht werden.
Einsatzgebiete der Schicht sind selbstreinigende Oberflächen durch photokatalytische Oxidation von organischen Verbindungen, zum Beispiel zur Reinigung von Luft, Wasser, zur Verhinderung von organischen und biologischen Ablagerungen auf Materialoberflächen oder zur Vernichtung von Krankheitserregern.
Für die Nutzung der photokatalytischen Aktivität des TiO₂ in technischen Prozessen, zum Beispiel zur Reinigung von Luft oder Wasser durch photokatalytische Oxidation, ist es vorteilhaft, TiO₂-Schichten mit großer katalytisch wirksamer Oberfläche einzusetzen. Ein Weg dazu ist die Einstellung einer möglicht großen Porosität bzw. Rauheit der Schichten. Um auf technisch einsetzbaren Substraten möglichst raue TiO₂-Schichten zu erhalten, ist es wünschenswert, große Schichtdicken zu erreichen. Eine Möglichkeit zur Realisierung von großen Schichtdicken bietet die Abscheidung von Schichten aus Dispersionen von nanokristallinen TiO₂-Pulvern auf der zu beschichtenden Oberfläche. Schwierigkeiten bereitet es, auf diese Weise Schichten mit ausreichender mechanischer Festigkeit herzustellen, die gleichzeitig sehr gute photokatalytische Eigenschaften haben.
Bekannt ist die Herstellung mechanisch stabiler TiO₂-Schichten aus TiO₂-Pulver auf thermisch belastbaren Substraten durch die Anwendung von Sintertechniken mit und ohne Zumischung von Bindemitteln, die eine hohe Sinteraktivität besitzen.
Die Verfestigung von TiO₂-Schichten mittels Sintern ohne Binder wird in DE 10324519 A1 zur Beschichtung keramische Formkörper vorgeschlagen. In DE 10118763 A1 wird das Aufsintern einer TiO₂-Schicht auf ein Substrat mit metallischer Zwischenschicht und in DE 69826369 T2 bzw. EP0888814 B1 das Aufsintern von TiO₂ auf Kieselerde beschrieben.
Der Einsatz von verschiedenen Bindermaterialien (Silikate, Aluminate und Borate) für gesinterte TiO₂-Schichten wird in EP 0725679 B1 vorgeschlagen. US 6,607,702 beschreibt Glasschmelzen als Binder für TiO₂-Schichten.
Weiterhin wird der Zusatz von organischen oder anorganischen Bindemitteln zu TiO₂-Pulver vorgeschlagen, die bereits ohne Temperatureinwirkung eine Verfestigung der damit hergestellten Schichten bewirken. In DE 20306431 U1 werden TiO₂-Spachtelmassen und Anstrichstoffe mit anorganischen hydraulischen Bindern beschrieben. DE 10 2005 013 259 A1 und DE 10 2005 057 770 A1 beinhalten einen TiO₂-haltiger Anstrichstoff mit Wasserglasbinder. In EP 1016458 B1 wird eine TiO₂-Schicht mit Polycarbonat-Bindemittel vorgeschlagen.
Nachteilig an den genannten Verfahren ist, dass die so hergestellten Schichten eine für viele Anwendungen nicht ausreichende photokatalytische Wirksamkeit aufweisen. Die Ursache dafür ist die Verringerung der photokatalytisch wirksamen Oberfläche bei Zusatz eines bedeutenden Anteils von nicht photokatalytisch aktiven Bindemitteln. Für die Herstellung mechanisch stabiler Schichten aus nanokristallinen TiO₂-Pulvern ohne Bindemittelzusatz ist eine Wärmebehandlung bei hohen Temperaturen notwendig, um die Schicht mittels Sintern zu verfestigen. Die dazu notwendigen hohen Sintertemperaturen oberhalb 700°C führen aber zur zunehmenden Umwandlung von TiO₂-Anatas in die weniger photoaktive TiO₂-Rutil-Modifikation und damit ebenfalls zur Verringerung der photokatalytischen Aktivität.
Bekannt ist auch ein Kompositmaterial aus TiO₂-Sol und nanokristallinem TiO₂-Pulver (Degussa P25) mit einem Anteil von 5% P25, das zur TiO₂-Beschichtung von Glassubstraten mittels Sintern erprobt wurde (M. Keshmiri, et al., Applied Catalysis B: Environmental 53 (2004) 209–219 [1]). Damit wurde versucht, das TiO₂-Sol als photoaktives Bindemittel mit großer Sinteraktivität zur Verfestigung des nanokristallinen TiO₂-Pulvers zu nutzen. Nachteil dieser Schichten ist jedoch ebenfalls eine nicht ausreichende photokatalytische Aktivität und nicht ausreichende Haftung der Schichten auf metallischen technischen Substraten.
Aufgabe der Erfindung ist deshalb die Bereitstellung einer Schicht, die bei hoher mechanischer Beständigkeit und guter Haftung auf technisch nutzbaren Oberflächen eine hohe photokatalytischer Aktivität aufweist.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die Beschichtungszusammensetzung mit den Merkmalen des Anspruchs 1, die photokatalytische Schicht nach Anspruch 14 und durch das Verfahren zur Herstellung einer derartigen Schicht mit den Merkmalen des Anspruchs 8 gelöst. Weitere spezielle oder bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
Die erfindungsgemäße Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung der photokatalytischen Schicht umfasst ein oder besteht aus einem Gemisch von nanokristallinem TiO₂-Material, vorzugsweise mit einer Partikelgröße von größer oder gleich 20 nm, und einem Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids, in dem das Metalloxid im amorphen Zustand vorliegt, vorzugsweise mit einer Partikelgröße kleiner oder gleich 10 nm, wobei der Anteil des nanokristallinen TiO₂-Materials mindestens 20 Masse% und höchstens 70 Masse%, bezogen auf den Gesamtgehalt an Feststoff, beträgt.
Bei dem nanokristallinen TiO₂ handelt es sich um hochdisperse anatas-haltige Materialien, wie z. B. die kommerziell erhältlichen Produkte P25 (Degussa AG) und Hombikat UV 100 (Sachtleben Chemie GmbH), die sich durch eine sehr hohe photokatalytische Aktivität auszeichnen.
Das Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids kann mittels bekannter Verfahren durch Hydrolyse und partielle Kondensation aus metallorganischen Verbindungen hergestellt werden.
Als photokatalytisch aktive Metalloxid-Sole können zum Beispiel TiO₂-, ZnO-, ZrO₂- oder SnO₂-Nanosole eingesetzt werden, die z. B. durch saure Hydrolyse der entsprechenden Metallalkoxide in einem wässrig-alkoholischen Lösungsmittel leicht herstellbar sind.
Aus einem solchen TiO₂-Sol kann auch durch eine Wärmebehandlung bei erhöhtem Druck im Autoklaven (Solvo- bzw. Hydrothermal-Verfahren) ein nanokristallines Material hergestellt werden, welches dann in Form eines Anatas-Sols vorliegt. Dazu sind Temperaturen von mindestens 140°C gebräuchlich.
Für einige Anwendungen ist es vorteilhaft, ein solches Anatas-Sol als nanokristallines Material bei der Herstellung der erfindungsgemäßen Schicht einzusetzen.
Es wurde auch versucht, das Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids, in dem sich das Metalloxid im amorphen Zustand befindet, vollständig oder teilweise durch ein mittels Solvothermalverfahren hergestelltes Anatas-Sol zu ersetzen. Die damit hergestellten Schichten weisen zwar eine besonders hohe photokatalytische Aktivität auf, zeigen jedoch auch eine deutlich verringerte mechanische Stabilität. Diese Schichten kommen daher nur für spezielle Anwendungen mit geringen Anforderungen an die mechanischen Eigenschaften in Frage.
Die Schicht kann auch einen kleineren Anteil, vorzugsweise unter 10%, eines nicht photokatalytisch aktiven Materials enthalten, wenn durch diesen die mechanischen Eigenschaften der Schicht deutlich verbessert werden und die photokatalytische Aktivität der Schicht nicht wesentlich verschlechtert wird. Ein solcher Zusatz kann zum Beispiel ein Sinterhilfsmittel wie B₂O₃ sein, vorzugsweise mit einem Anteil von weniger als 5%. Es zeigte sich auch, dass sich geringe Zusätze, typischerweise wenige Zehntel %, von Metallen, wie Ce, Zn, Ir, Pt, Ag, Pd oder Zr, positiv auf die photokatalytische Aktivität der Schicht auswirken können.
Für die gleichzeitige Realisierung einer hohen mechanischen Festigkeit und einer hohen photokatalytischen Aktivität erwies sich ein Anteil des nanokristallinen TiO₂-Materials zwischen 20 und 70 Masse% als optimal, da eine gute photokatalytische Aktivität der Schichten erst bei Anteilen des nanokristallinen TiO₂-Materials von größer als 20% gefunden wurde. Mit einem weiter zunehmenden Anteil des nanokristallinen TiO₂-Materials steigt die photokatalytische Aktivität der Schichten weiter an. Bei Erhöhung des Anteils des nanokristallinen TiO₂-Materials auf mehr als 70% verringert sich jedoch drastisch die mechanische Stabilität der Schichten.
Überraschend hat sich gezeigt, dass die erfindungsgemäße Schicht bei Erhöhung des Anteil des nanokristallinen TiO₂-Materials über 20% eine deutliche Zunahme der Rauheit und Porosität aufweist. Die damit verbundene Vergrößerung der katalytisch wirksamen Oberfläche der Schichten kann als Ursache für die deutlich höhere photokatalytische Aktivität von Schichten mit über 20% nanokristallinem TiO₂-Material im Vergleich zu Schichten mit einem Anteil von 5% P25, die von Keshmiri et al. [1] vorgeschlagen wurden, betrachtet werden. Die vorteilhafte Zunahme der Rauheit und Porosität der Schicht vergrößert sich noch mit weiter steigendem Anteil des nanokristallinen TiO₂.
Schichten mit hoher photokatalytischer Aktivität sollten eine mittlere Rauheit von mehr als 0,3 μm und eine Schichtdicke von mehr als 3 μm aufweisen.
Figurenbeschreibung
1 zeigt die Abnahme des Wasserrandwinkels der erfindungsgemäßen TiO2-Schicht mit 33% und 50% P25 und von bereits bekannten TiO2-Schichten mit 5% P25 und 100% P25 bei UV-Bestrahlung nach Hydrophobierung mit Dodecyltriethoxysilan.
Das Verfahren zum Herstellen einer photokatalytisch aktiven Schicht umfasst die folgenden Schritte:

– aus einem nanokristallinen TiO₂-Pulver und einem Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids wird, z. B. unter Verwendung eines Rührwerks oder Dispergators oder durch Ultraschallbehandlung, eine homogene flüssige Mischung hergestellt,
– die flüssige Mischung wird auf die zu beschichtende Oberfläche, z. B. aus Metall, Keramik, Glas, durch übliche Beschichtungstechniken wie Tauchen, Schleudern, Fluten, Streichen, Walzen, Begießen oder Sprühen aufgetragen,
– die entstehende Schicht wird an der Luft getrocknet,
– anschließend wird die lufttrockene beschichtete Oberfläche einer Temperaturbehandlung unterzogen. Die Temperaturbehandlung sollte bei einer Temperatur erfolgen, die mindestens 20%, vorzugsweise mindestens 30%, der Schmelztemperatur des photoaktiven Metalloxids beträgt.

Typischerweise beträgt die Wärmebehandlungstemperatur mehr als 450°C und weniger als 650°C. Die Temperaturbehandlung kann z. B. für eine Dauer von etwa 10 bis 20 Minuten in einem Ofen erfolgen. Das Ziel der Temperaturbehandlung ist eine Verfestigung der Schicht durch einen Sinterprozess.
Alternativ kann die Temperaturbehandlung zur Sinterung auch durch kurzzeitiges Erhitzen, gewöhnlich als Folge einer Bestrahlung mit Licht, erfolgen. Das ist insbesondere dann von Vorteil, wenn die Eigenschaften des zu beschichtenden Materials durch eine längere Temperaturbehandlung negativ beeinflusst werden können. Das kurzzeitige Erhitzen kann zum Beispiel mittels einer Blitzlampe, z. B. bei einer Energiedichte von 10–100 J/cm², vorzugsweise 45–80 J/cm², oder durch Laserbestrahlung, z. B. mit einem CO₂-Laser mit einem Poweroutput von 700 W, durchgeführt werden. Dabei werden auf der Schichtoberfläche z. B. für Millisekunden bis zu 2000°C erreicht.
Bei beiden Alternativen zur Temperaturbehandlung kann der Fachmann geeignete Bedingungen zur Erzielung der gewünschten Sinterung ohne Beeinträchtigung der photokatalytischen Eigenschaften der Schicht unschwer durch Routineversuche einstellen.
Es besteht auch die Möglichkeit für eine weitere Verstärkung der TiO₂-Schicht durch ein- oder mehrmalige Wiederholung der Beschichtung und Wärmebehandlung. Auf diese Weise können mechanisch stabile Schichten mit mehr als 10 μm Dicke hergestellt werden. Mit wachsender Schichtdicke kommt es zum weiteren Anstieg der Rauheit bzw. der spezifischen Oberfläche der Schicht. Aufgrund der damit verbundenen Steigerung der photokatalytischen Aktivität der TiO₂-Schicht, die bereits bei Bestrahlung mittels UV-Schwarzlicht-Strahler stark wirksam ist, kann die Schicht besonders vorteilhaft zur photokatalytischen Oxidation von organischen Schadstoffen in Luft und Wasser eingesetzt werden.
Die Vorteile der erfindungsgemäßen photokatalytischen Beschichtungen bestehen gegenüber dem Stand der Technik

– in einer hohen Photoaktivität
– in einer hohen mechanischen Stabilität auf metallischen Trägern
– in einem einfachen Herstellungsverfahren
– in einer einfachen Variation der Schichtparameter (Schichtdicke, Rauheit), die eine problemlose Adaption an den späteren Verwendungszweck ermöglicht.

Einsatzgebiete der Schicht sind selbstreinigende Oberflächen durch photokatalytische Oxidation von organischen Verbindungen, zum Beispiel zur Reinigung von Luft, Wasser, zur Verhinderung von organischen und biologischen Ablagerungen auf Materialoberflächen oder zur Vernichtung von Krankheitserregern.
Die erfindungsgemäße Herstellung der Schichten wird an folgendem Ausführungsbeispiel demonstriert.
BEISPIEL 1
Zur Herstellung eines TiO₂-Sols werden zunächst 15,8 g Titanisopropoxid mit 23,9 g Propanol verrührt und anschließend 1,1 g HCl (37%ig) eingemischt (Lösung 1). Zu 69,1 g Propanol werden 1,2 g Wasser gegeben und verrührt (Lösung 2). Anschließend wird Lösung 2 tropfenweise unter Rühren in Lösung 1 gegeben und die Mischung 12 Stunden gerührt. Zu dem TiO₂-Sol werden 4,44 g Degussa-P25 gegeben und die Mischung wird mittels Ultraschall homogenisiert.
Alternativ kann das TiO₂-Sol vor dem Vermischen mit Degussa P25 zunächst einer Wärmebehandlung bei erhöhtem Druck im Autoklaven (Hydrothermalverfahren) für 4 Stunden bei 17 atm und 180°C unterzogen werden. Durch die dabei erfolgende partielle Kristallisation des TiO₂ im Sol kann eine erhöhte photokatalytische Aktivität der erfindungsgemäßen Schicht erzielt werden.
Die mittels Ultraschall erzeugte Dispersion von P25 in TiO₂-Sol wird auf ein Stahlblech aufgebracht. Das Aufbringen der Dispersion auf das Stahlblech kann durch Sprühen oder Dip-Coating erfolgen. Die Schicht wird bei Raumtemperatur getrocknet und anschließend für 10 Minuten bei 600°C in einem elektrisch beheizten Ofen wärmebehandelt.
Alternativ kann zum Zweck der Wärmebehandlung auch eine kurzzeitige Erhitzung der TiO₂-Schicht mittels Blitzlampen bei einer Energiedichte von 50 J/cm² durchgeführt werden.
Die Bestimmung der photokatalytischen Aktivität erfolgt nach einem bekannten Verfahren durch die Messung der Geschwindigkeit, mit der bei UV-Bestrahlung die photokatalytische Oxidation einer organischen Verbindung erfolgt, die sich auf der Oberfläche der photoaktiven Schicht befindet. Auf diese Weise kann auch ein Vergleich zwischen der erfindungsgemäßen TiO₂-Schicht und bereits bekannten photoaktiven Schichten hinsichtlich der photokatalytischen Aktivität vorgenommen werden. Als organische Verbindung für die Bestimmung der photokatalytischen Aktivität wurde Dodecyltriethoxysilan verwendet. Dabei handelt es sich um eine organische Verbindung mit hydrophobierender Wirkung.
Die erfindungsgemäße TiO₂-Schicht ist nach der Wärmebehandlung stark hydrophil. Der Wasserrandwinkel dieser Schicht beträgt 0°. Durch Aufbringen von Dodecyltriethoxysilan auf die Oberfläche der erfindungsgemäßen Schicht erhöht sich deren Wasserrandwinkel auf über 160°. Anschließend wird der Verlauf der photokatalytischen Oxidation des Dodecyltriethoxysilans durch die Messung der Abnahme des Wasserrandwinkels der TiO₂-Oberfläche verfolgt.
Die Abnahme des Wasserrandwinkels der erfindungsgemäßen TiO₂-Schicht bei P25-Anteilen von 33%, und 50% nach Hydrophobierung mit Dodecyltriethoxysilan ist in 1 dargestellt. In 1 wird ebenfalls die Abnahme des Wasserrandwinkels einer bereits bekannten TiO₂-Schicht mit 5% P25 in TiO2-Sol nach Keshmiri et al. [1] und einer TiO₂-Schicht mit 100% P25 bei UV-Bestrahlung gezeigt, die beide auf gleiche Weise wie die erfindungsgemäße Schicht mittels Dodecyltriethoxysilan hydrophobiert wurden.
Wie aus 1 ersichtlich ist, erfolgt der Abbau des Dodecyltriethoxysilans bei der erfindungsgemäßen Schicht 3 bis 15mal schneller als bei der Schicht mit 5% P25. Überraschend zeigt sich, das die Abbaugeschwindigkeit des Dodecyltriethoxysilans bei der erfindungsgemäßen Schicht mit 50% P25 und einer unter gleichen Bedingungen wärmebehandelten reinen P25-Schicht annähernd gleich ist. Das bedeutet, dass die erfindungsgemäße TiO2-Schicht die bekannten sehr guten photokatalytischen Eigenschaften des reinen P25 bei beträchtlich höherer mechanischer Schichtstabilität erreicht.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

- DE 10324519 A1 [0005]
- DE 10118763 A1 [0005]
- DE 69826369 T2 [0005]
- EP 0888814 B1 [0005]
- EP 0725679 B1 [0006]
- US 6607702 [0006]
- DE 20306431 U1 [0007]
- DE 102005013259 A1 [0007]
- DE 102005057770 A1 [0007]
- EP 1016458 B1 [0007]

Zitierte Nicht-Patentliteratur

- M. Keshmiri, et al., Applied Catalysis B: Environmental 53 (2004) 209–219 [0009]

Claims

Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung einer photokatalytisch aktiven Schicht, umfassend ein Gemisch von nanokristallinem TiO₂-Material und einem Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids, in dem sich das Metalloxid im amorphen Zustand befindet, wobei der Anteil des nanokristallinen TiO₂-Materials mindestens 20 Masse% und höchstens 70 Masse%, bezogen auf den Gesamtgehalt an Feststoff, beträgt.
Beschichtungszusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das nanokristalline TiO₂-Material eine Partikelgröße von größer oder gleich 20 nm aufweist.
Beschichtungszusammensetzung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids eine Partikelgröße von kleiner oder gleich 10 nm aufweist.
Beschichtungszusammensetzung nach einem der Ansprüche 1–3, dadurch gekennzeichnet, dass das nanokristalline TiO₂-Material aus hochdispersen anatas-haltigen Produkten besteht.
Beschichtungszusammensetzung nach einem der Ansprüche 1–4, dadurch gekennzeichnet, dass das Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids mindestens eines der folgenden photoaktiven Oxide enthält: TiO₂, ZnO, ZrO₂, SnO₂.
Beschichtungszusammensetzung nach einem der Ansprüche 1–5, dadurch gekennzeichnet, dass das nanokristalline Material teilweise oder vollständig durch solvothermale Verfahren hergestellt wurde.
Beschichtungszusammensetzung nach einem der Ansprüche 1–6, dadurch gekennzeichnet, dass sie einen Zusatz eines nicht photokatalytisch aktiven Materials, z. B. Pt, Pd, Ag, oder B₂O₃, enthält.
Verfahren zur Herstellung einer photokatalytisch aktiven Schicht, dadurch gekennzeichnet, dass – aus einem nanokristallinen TiO₂-Pulver und einem Sol eines photokatalytisch aktiven Metalloxids eine homogene flüssige Mischung hergestellt wird, – die flüssige Mischung auf eine zu beschichtende Oberfläche aufgetragen wird, – die entstehende Schicht getrocknet wird und – die beschichtete Oberfläche einer Temperaturbehandlung unterzogen wird.
Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperatur bei der Temperaturbehandlung mindestens 30% der Schmelztemperatur des photoaktiven Metalloxids, gewöhnlich mehr als 450°C, beträgt.
Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass die zu beschichtende Oberfläche aus Metall, Glas oder Keramik besteht.
Verfahren zur Herstellung einer photokatalytisch aktiven Schicht nach einem der Ansprüche 8–10, dadurch gekenn zeichnet, dass die flüssige Mischung einen Zusatz von weniger als 5% eines Sinterhilfsmittels wie B₂O₃ enthält.
Verfahren zur Herstellung einer photokatalytisch aktiven Schicht nach einem der Ansprüche 8–11, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperaturbehandlung durch kurzzeitiges Erhitzen als Folge einer Bestrahlung mit Licht erfolgt.
Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass das kurzzeitige Erhitzen durch Bestrahlung mittels einer Blitzlampe oder durch optische Laserimpulse erfolgt.
Photokatalytisch aktive Schicht, hergestellt unter Verwendung der Beschichtungszusammensetzung nach einem der Ansprüche 1–7.
Photokatalytisch aktive Schicht nach Anspruch 14, hergestellt mit dem Verfahren nach einem der Ansprüche 8–13.
Photokatalytisch aktive Schicht nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht eine mittlere Rauheit von mehr als 0,3 μm und eine Schichtdicke von mehr als 3 μm aufweist.