DE102007020033A1

DE102007020033A1 - Verfahren zur Qualitätsbestimmung einer Lichtquelle

Info

Publication number: DE102007020033A1
Application number: DE102007020033A
Authority: DE
Inventors: Nan-Jung Chen; Jui-Chung Peng; Kevin Hung; An-Kuo Yang
Original assignee: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Current assignee: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Priority date: 2006-07-20
Filing date: 2007-04-27
Publication date: 2008-01-31
Anticipated expiration: 2027-04-28
Also published as: US7738692B2; TW200808033A; KR100859186B1; US20080019586A1; CN101109906A; JP2008028356A; TWI327024B; US8184896B2; USRE47197E1; NL2000410A1; CN101109906B; US20100214547A1; KR20080008936A; DE102007020033B4; NL2000410C2; USRE47272E1

Abstract

Es werden Verfahren zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle angegeben, die in einen photolithographischen Prozess verwendet wird. Ein Bildsensor-Array wird mit einem Licht von einer Lichtquelle belichtet (300). Es werden Adressen und entsprechende Intensitäten gesammelt, die einer Vielzahl von Stellen auf der Pupillenabbildung (400) entsprechen, die die Intensität des Lichts auf dem Bildsensor-Array repräsentiert. Es wird wenigsten eine innere Kurve (C1) oder eine äußere Kurve (C2) der Pupillenabbildung (400), basierend auf den gesammelten Adressen und entsprechenden Intensitäten, gebildet. Die Lichtquelle wird in einem photolithographischen Prozess verwendet, wenn die Adressen ein vorherbestimmtes Muster in Bezug wenigstens auf die innere Kurve (C1) oder die äußere Kurve (C2) aufweisen.

Description

Hintergrund der Erfindung
Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Verfahren zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle und insbesondere auf Verfahren zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle, die in einem photolithographischen Prozess angewendet wird.
Beschreibung des Stands der Technik
Mit der breiten Anwendung von elektronischen Produkten wird auch die Halbleitertechnologie bei der Herstellung von Speichern, Zentralverarbeitungseinheiten (CPU), Anzeigevorrichtungen, Licht-emittierenden Dioden (LEDs), Laserdioden und anderen Vorrichtung oder Chipsätzen weit verbreitet eingesetzt. Um eine hohe Integration und hohe Anforderungen zu erreichen, sind die Abmessungen der integrierten Halbleiterschaltkreise reduziert worden, wobei verschiedene Materialien und Techniken vorgeschlagen wurden, um diese Ziele zu erreichen und die Hindernisse während der Herstellung zu überwinden. Um die Abmessungen in integrierten Vorrichtungen und Schaltungen zu reduzieren, spielt die photolithographische Technik, z. B. der Belichtungsprozess, eine wichtige Rolle.
Der Belichtungsprozess erfordert eine Lichtquelle, die die Auflösung der Merkmals- oder Featureabmessungen von integrierten Schaltkreisen bestimmt. Durch ein Vergrößern der Tiefenschärfe (DOF) der Lichtquelle, der Qualität der Lichtquelle oder anderen Bedingungen des Belichtungsschritts kann die gewünschte Auflösung erhalten werden. Demzufolge wurden Verfahren zur Bestimmung der Qualität der Lichtquelle vorgeschlagen.
Die 1A und 1B zeigen Bilder von Pupillenabbildungen. Eine Pupillenabbildung ist ein Bild des Lichts einer Lichtquelle, das auf einem Bildsensor-Array auftrifft, wobei die Pupillenabbildung verwendet wird, um zu bestimmen, ob die Lichtquelle zur Anwendung in einem photolithographischem Prozess akzeptabel ist. Um die Pupillenabbildungen zu erzeugen, wird ein Licht von einem Lichtquellenmodul bereitgestellt. Das Licht passiert eine Blende und wird auf ein Ladungskopplervorrichtungs(CCD)-Array projiziert. Das CCD-Array enthält eine Vielzahl von CCDs. Jede dieser CCDs tastet eine entsprechende Intensität (Graustufenwert) ab und re präsentiert eine Adresse in dem CCD-Array. Somit erzeugt das CCD-Array das Bild der entsprechenden Pupillenabbildung.
Üblicherweise bestimmt ein Ingenieur oder ein Anwender die Qualität der Lichtquelle basierend auf einer visuellen Untersuchung und der persönlichen Erfahrung. Ein erfahrener Ingenieur oder Anwender kann die Pupillenabbildung gemäß 1A von der Pupillenabbildung gemäß 1B aufgrund einer Verzerrung, von Fehlstellen oder Diskontinuitäten der Pupillenabbildung in 1B unterscheiden. Die Pupillenabbildung in 1A ist akzeptabel, wobei die Pupillenabbildung der 1B unakzeptabel ist. Die Bedingungen des Lichtquellenmoduls, das die Pupillenabbildung gemäß 1B erzeugt, werden verändert, um eine beabsichtigte Pupillenabbildung zu erzeugen. Wenn die Verzerrungen, Fehlstellen und Diskontinuitäten der Pupillenabbildung substantiell aber nicht so erheblich sind, dass es schwierig ist, die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen, können einige unerwünschte Pupillenabbildungen fälschlicherweise als Pupillenabbildung mit akzeptabler Qualität bestimmt werden. Die Bedingungen des Belichtungsschritts von derartigen Pupillenabbildungen werden dann zur Durchführung eines photolithographischen Prozesses verwendet. Derartige Bedingungen des Belichtungsschritts erzeugen jedoch unerwünschte photolithographische Strukturen und beeinträchtigen nachfolgende Prozesse.
Basierend auf der vorstehenden Beschreibung besteht ein Bedürfnis für verbesserte Verfahren zur Bestimmung der Qualität einer Lichtquelle.
Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, Verfahren zur Bestimmung der Qualität einer Lichtquelle anzugeben, bei denen eine Fehleinschätzung vermieden wird und die ein zuverlässiges Ergebnis bei der Beurteilung der Lichtqualität bereitstellen.
Die Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche gelöst.
Nach einem der Ausführungsbeispiele enthält ein Verfahren die folgenden Schritte: Ein Bildsensor-Array wird mit einem Licht von einer Lichtquelle belichtet. Die Adressen und entsprechenden Intensitäten einer Vielzahl von Positionen in einer Pupillenabbildung, die die Intensitäten des Lichts von der Lichtquelle auf dem Imagesensor-Array repräsentieren, werden gesammelt. Es wird wenigstens eine innere Kurve und eine äußere Kurve der Pupillenabbildung basierend auf den gesammelten Adressen und entsprechenden Intensitäten definiert. Wenn die Adressen eine vorherbestimmte Struktur in Bezug auf wenigstens die innere oder die äußere Kurve aufweisen, wird die Lichtquelle in einem photolithographischen Prozess verwendet.
Ein anderes exemplarisches Ausführungsbeispiel enthält ein Verfahren mit den folgenden Schritten. Ein Bildsensor-Array wird mit einem Licht von einer Lichtquelle belichtet. Es werden die Adressen und die entsprechenden Intensitäten einer Vielzahl von Positionen auf einer Pupillenabbildung gesammelt, die die Intensitäten des Lichts von der Lichtquelle auf dem Bildsensor-Array repräsentieren. Die gesammelten Intensitäten werden addiert, um eine Gesamtsummenintensität zu berechnen. Es wird wenigstens eine innere Kurve oder eine äußeren Kurve der Pupillenabbildung basierend auf den gesammelten Adressen und entsprechenden Intensitäten definiert, wobei die innere Kurve eine Vielzahl von Adressen umschließt, die etwa 10% der gesamten Summenintensität entsprechen, und die äußere Kurve eine Vielzahl von Adressen umschließt, die etwa 90% der gesamten Summenintensität entsprechen. Die Lichtquelle wird in einem photolithographischen Prozess angewendet, wenn die Adressen eine vorherbestimmte Struktur in Bezug auf die innere Kurve und die äußere Kurve aufweisen.
Gemäß einem weiteren exemplarischen Ausführungsbeispiel enthält ein Verfahren die folgenden Schritte. Ein Bildsensor-Array wird mit einem Licht von einer Lichtquelle belichtet. Die Adressen und entsprechenden Intensitäten einer Vielzahl von Positionen auf einer Pupillenabbildung, die die Intensitäten des Lichts von der Lichtquelle auf dem Bildsensor-Array repräsentieren, werden gesammelt. Es wird eine Vielzahl von Segmenten auf der Pupillenabbildung gebildet, wobei jedes Segment eine Vielzahl von Adressen mit entsprechend normalisierten Intensitäten enthält. Auf der Pupillenabbildung wird eine äußere Kurve definiert. Dann wird ein gültiges Gebiet in jedem der Segmente berechnet. Es wird eine Anzahl von Segmenten mit gültigen Gebieten gezählt, die größer als ein erster vorherbestimmter Wert sind. Wenn die Anzahl der Segmente mit gültigen Gebieten, die größer als der erste vorherbestimmte Wert sind, größer ist als ein zweiter vorherbestimmter Wert, wird die Lichtquelle in einem photolithographischen Prozess angewendet.
Die obigen und anderen Beispiele werden anhand der folgenden detaillierten Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen näher erklärt.
Kurze Beschreibung der Figuren
Im Folgenden werden die beispielhaften Figuren kurz beschrieben. Diese stellen nur beispielhafte Ausführungsbeispiele dar, wobei der Bereich der vorliegenden Erfindung durch diese nicht beschränkt wird. In den Figuren zeigen:
1A und 1B Bilder von Pupillenabbildungen.
2A–2C Bilder von verschiedenen beispielhaften Pupillenabbildungen.
3 ein Flussablaufdiagramm eines exemplarischen Verfahrens zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle.
4A eine exemplarische Pupillenabbildung nach einer Koordinatentransformation.
4B eine exemplarische Pupillenabbildung mit einem inneren Kreis und einem äußeren Kreis.
5A eine schematische Darstellung, die eine Beziehung zwischen dem inneren Kreis C1 und der Intensitätskonturlinie C3 gemäß 4B darstellt.
5B eine schematische Darstellung, die die Beziehung zwischen dem äußeren Kreis C2 und der Intensitätenkonturlinie C4 gemäß 4B darstellt.
6A ein Flussablaufdiagramm eines beispielhaften Verfahrens zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle.
6B eine schematische Darstellung einer exemplarischen 3-D Pupillenabbildung.
6C eine Schnittansicht entlang einer Schnittlinie 6C-6C durch die Mitte der Pupillenabbildung gemäß 6B.
7A ein Flussablaufdiagramm eines exemplarischen Verfahrens zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle.
7B eine schematische Darstellung, bei der eine Pupillenabbildung in Segmente unterteilt ist.
7C eine schematische Darstellung, die ein beispielhaftes vergrößertes erstes Segment aus einer Pupillenabbildung gemäß 7B zeigt.
7D eine schematische Darstellung, die die in Schritt 730 beschriebene Transformation zeigt.
7E eine schematische Darstellung, die die in Schritt 730 beschriebene Transformation zeigt.
Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele
Diese Beschreibung der beispielhaften Ausführungsbeispiele soll in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen gelesen werden, die einen Teil der Beschreibung bilden. In der Beschreibung wird mit den relativen Bezeichnungen, wie "untere", "obere", "horizontal", "vertikal", "über", "unter", "hoch", "runter", "oben" und "unten", als auch mit Ableitungen von diesen (z. B. "horizontal", "nach unten gerichtet", "nach oben gerichtet", etc.) die Orientierung oder die Darstellung in der Zeichnung beschrieben. Diese relativen Bezeichnungen werden dabei verwendet, um die Beschreibung verständlich zu machen, wobei es nicht erforderlich, dass die Vorrichtung in einer bestimmten Orientierung konstruiert ist oder betrieben wird.
Die 2A und 2C zeigen Bilder von verschiedenen beispielhaften Pupillenabbildungen. Jede Pupillenabbildung repräsentiert ein Licht von einer Lichtquelle, das von einem Bild-Array, beispielsweise einem CCD-Array, einem CMOS-Bildsensor-Array oder ähnlichem, aufgenommen wird. In den 2A–2C enthalten die Pupillenabbildung 200 in 2A eine runde Pupillenabbildung, eine Ringpupillenabbildung, wie in 2B und eine Pupillenabbildung mit vier Lichtbereichen, die bei 45° in Bezug auf eine horizontale Achse angeordnet sind, wie in 2C gezeigt. In den anderen Ausführungsbeispielen (nicht dargestellt) kann die Pupillenabbildung beispielsweise eine ovale Pupillenabbildung, eine im Wesentlichen runde Pupillenabbildung oder eine andere Pupillenabbildung mit wenigstens einem Lichtbereich sein, der an verschiedenen Winkeln in Bezug auf eine horizontalen Achse angeordnet ist. Die Pupillenabbildung in 2A weist einen Lichtbereich 210 und einen Kreis 215 auf. Der Kreis 215 zeigt die Maximalabmessung an, die der Radius des Lichtbereichs 210 erreichen kann. Die Pupillenabbildung in 2B hat einen Lichtbereich 210, einen Maximalabmessungskreis 215 und ein abgeschirmtes Gebiet 220. Das abgeschirmte Gebiet 220 entsteht, wenn das Licht eine runde Blende passiert, die zwischen der Quelle des Lichts und einem CCD-Array angeordnet ist. Die Lichtquelle mit der donutartigen Pupillenabbildung verbessert die Tiefenschärfe (DOF) des photolithographischen Prozesses. Die Pupillenabbildung in 2C hat vier Lichtbereiche 210 und einen Maximalabmessungskreis 215. Die Pupillenabbildung in 2C kann gebildet werden, wenn das Licht ein Kreuz mit einer zentralen runden Blende passiert, die zwischen der Lichtquelle und einem CCD-Array angeordnet ist. Die Anwendung der Lichtquelle mit der Pupillenabbildung gemäß 2C verbessert auch die DOF des photolithographischen Prozesses. Anhand der obigen Ausführungen kann ein Fachmann die Art einer Pupillenabbildung für einen gewünschten photolithographischen Prozess leicht durch Auswählen eines entsprechenden Blendentyps auswählen.
3 zeigt ein Flussablaufdiagramm eines exemplarischen Verfahrens zur Bestimmung der Qualität einer Lichtquelle.
In Schritt 300 wird das Bildsensor-Array mit einem Licht von einer Lichtquelle belichtet. Die detaillierten Beschreibungen entsprechen denen der 2A–C.

In Schritt 310 werden die Adressen und die entsprechenden Intensitäten gesammelt, die einer Vielzahl von Positionen auf einer Pupillenabbildung entsprechen, die die Intensität des Lichts von der Lichtquelle darstellen. Die Adressen, die die Positionen des CCDs in dem CCD-Array repräsentieren, weisen entsprechende Intensitäten auf. Die Adressen können beispielsweise Adressen in einem kartesischen Koordinatensystem, in einem Polar-Koordinatensystem oder Adressen in einem anderen Koordinatensystem enthalten. In den Ausführungsbeispielen sind die Adressen Adressen in einem kartesischen Koordinatensystem, wie in Tabelle 1 dargestellt. Tabelle 1

X (mm)	Y (mm)	Intensität (I) (a.u.)

–0.39851	–0.971389	0.000175
–0.373611	–0.971389	0.000269
–0.348704	–0.971389	0.004330
–0.323796	–0.971389	0.009940
–0.298889	–0.971389	0.008340
–0.273982	–0.971389	0.002815
–0.249074	–0.971389	0.006727
–0.224167	–0.971389	0.009749

Tabelle zeigt einen Teil der Adressen von entsprechenden Intensitäten entlang der Y-Achse "–0,971389". In einigen Ausführungsbeispielen wird der Mittelpunkt der Pupille als Mittelpunkt des Kartesischen Koordinatensystems verwendet. Somit sind in den gesammelten Adressen negative Adressen enthalten. In einigen Ausführungsbeispielen werden die den Adressen entsprechenden Intensitäten während oder nach dem Schritt 310 normalisiert, in dem die Adressen gesammelt werden. Es wird darauf hingewiesen, dass die Anzahl der Adressen basierend auf der Auflösung der Pupillenabbildung verändert werden kann. Wenn eine Pupillenabbildung mit einer hohen Auflösung gewünscht wird, werden mehr Adressen und ein CCD-Array mit einer hohen Pixelanzahl verwendet.
In 4A wird eine beispielhafte Pupillenabbildung nach einer Koordinatentransformation gezeigt.
In 3 werden in Schritt 320 Adressen in einem Kartesischen Koordinatensystem in Adressen eines Polar-Koordinatensystems transformiert. Die Pupillenabbildung 400 enthält eine Vielzahl von Adressen mit entsprechenden Intensitäten. In einigen Ausführungsbeispielen sind die in Schritt 310 gesammelten Adressen, Adressen in einem Kartesischen Koordinatensystem. Für derartige Ausführungsbeispiele transformiert Schritt 320 die Adressen von dem Kartesischen Koordinatensystem mit entsprechenden Intensitäten I(x, y) in Adressen in einem Polar-Koordinatensystem mit entsprechenden Intensitäten I(r, θ) mittels eines Koordinatentransformationsverfahrens. Beispielsweise wird I(0,5, 0,5) in I(0,707, Π/4) transformiert. Das Transformationsverfahren kann beispielsweise ein allgemeines Verfahren zur Koordinatentransformation sein, beispielsweise r = (x² + y²)^1/2 und θ = tan^–1(y/x).
In einigen Ausführungsbeispielen wird der oben beschriebene Koordinatentransformationsschritt 320 nicht verwendet, wenn die in Schritt 310 gesammelten Adressen mit entsprechenden Intensitäten bereits im Polar-Koordinatensystem vorliegen. Mit der Adresssammlung in einem Polar-Koordinatensystem können die nachfolgenden Schritte 330 und 340 durchgeführt werden.
4B zeigt eine beispielhafte Pupillenabbildung mit einem inneren und einem äußeren Kreis.
Gemäß 3 werden im Adresstransformationsschritt 330 eine innere Kurve C1 und eine äußere Kurve C2 der Pupillenabbildung 400 definiert. In einigen Ausführungsbeispielen sind die innere Kurve C1 und die äußere Kurve C2 kreisförmig ausgebildet, wie in 4B gezeigt. Der innere Kreis C1 hat einen Radius R1, wobei der äußere Kreis C2 einen Radius R2 aufweist. Der Radius R1 ist der Abstand vom Mittelpunkt "O" der Pupillenabbildung 400 zu einer Adresse im Polar-Koordinatensystem mit einem Wert von etwa 7,5% bis 12,5% von der totalen Summenintensität (I_sum). Der äußere Kreis C2 hat einen Radius R2, wobei der Radius R2 der Abstand vom Mittelpunkt "O" der Pupillenabbildung zu einer Adresse im Polar-Koordinatensystem ist, die einen Wert von etwa 87,5% von I_sum bis etwa 92,5% von I_sum aufweist. I_sum kann mittels der Gleichung (1) bestimmt werden:
Durch Berechnen der totalen Summenintensität I_sum kann eine Adresse beispielsweise mit 10% der totalen Summenintensität I_sum gefunden werden. Die Adresse für I(r, θ) kann bestimmt werden, um die Gleichung (2) zu berechnen.
Wenn beispielsweise die Gleichung (2) angibt, dass die Adresse von 10% von I_sum gleich (0,55061, 3/4Π) ist, ist der Radius R1 gleich 0,55061. Der innere Kreis C1 wird dann auf der Pupillenabbildung basierend auf dem Radius R1, wie in 4B gezeigt, definiert.
Durch Berechnen der totalen Summenintensität I_sum kann die Adresse beispielsweise mit 90% der totalen Summenintensität I_sum gefunden werden. Die Adresse von I(r, θ) kann basierend auf Gleichung (3) wie folgt bestimmt werden:
Wenn Gleichung (3) angibt, dass die Adresse von 90% I_sum gleich (0,88428, 7/8Π) ist, ist der Radius R2 0,88428. Der innere Kreis C1 und der äußere Kreis C2 werden dann auf der Pupillenabbildung 400 basierend auf den Radien R1 und R2 definiert, wie in 4B gezeigt.
Gemäß 4B zeigt die Pupillenabbildung 400 auch eine Vielzahl von Intensitätskonturlinien C3 und C4, die entsprechend an den inneren Kreis C1 und an den äußeren Kreis C2 angrenzen. Die Intensitätskonturlinien C3 und C4 werden bestimmt, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen.
5A zeigt eine schematische Darstellung, die die Beziehung zwischen dem inneren Kreis C1 und der Intensitätskonturlinie C3 gemäß 4B zeigt.
In einigen Ausführungsbeispielen weist der innere Kreis C1 den Radius R1 auf, der der Abstand vom Mittelpunkt "O" der Pupillenabbildung zur Adresse im Polar-Koordinatensystem mit einem Wert von etwa 10% I_sum ist. Die Intensitätskonturlinie C3 stellt eine Kurve dar, die von der Ortskurve der Adressen mit etwa 10% der normalisierten Intensität gebildet wird. Die Radien R1max und R1min sind Abstände vom Mittelpunkt "O" der Pupillenabbildung zu den Adressen des Koordinatensystems entsprechend etwa 7,5% von I_sum und etwa 12,5% von I_sum. Die Radien C1max und C1min werden entspre chend den Radien R1max und R1min gebildet. Der Kreis C1min umschließt eine Vielzahl von Adressen, die etwa 7,5% von I_sum aufweisen. Der Kreis C1max umschließt eine Vielzahl von Adressen der etwa 12,5% von I_sum aufweist. Wenn die Adressen entsprechend etwa 10% der normalisierten Intensität im Wesentlichen innerhalb des Bereichs liegen, der zwischen den Kreisen C1max und C1min gebildet wird, wird bestimmt, dass die Qualität der Lichtquelle akzeptabel ist. Unter diesen Umständen wird Schritt 335 erfüllt und die Lichtquelle wird in einem photolithografischen Prozess in Schritt 340 verwendet, wie in 3 gezeigt. Ein Halbleiterwafer wird mittels eines photolithographischen Prozesses hergestellt. Im Gegensatz dazu sollte, wenn die Adressen entsprechend etwa 10% der normalisierten Intensität nicht in den Bereich zwischen den Kreisen C1max und C1min fallen, die Qualität der Lichtquelle verbessert werden und Schritt 335 wird nicht erfüllt, wie in 3 gezeigt. Unter diesen Abständen wird eine modifizierte Lichtquelle angewendet und die Schritte 300–335 werden wiederholt, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen, wie in 3 gezeigt.
In einigen Ausführungsbeispielen ist es nicht notwendig, beide Kreise C1max und C1min zu berechnen, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen. Beispielsweise wird die Qualität der Lichtquelle als akzeptabel bestimmt und es können die Schritte 335 und 340 gemäß 3, wie oben dargestellt, durchgeführt werden, wenn die Adressen auf dem inneren Kreis C1 mit den Intensitäten übereinstimmen, die gleiche oder fast gleiche normalisierte Intensitäten aufweisen.
In einigen Ausführungsbeispielen wird nur einer der Kreise C1max und C1min verwendet, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen. In einigen Ausführungsbeispielen wird, wenn die Adressen von etwa 10% der normalisierten Intensität entsprechend in den Kreis C1max fallen, die Qualität der Lichtquelle als akzeptabel bestimmt und die Schritte 335 und 340 können, wie oben beschrieben, gemäß 3 durchgeführt werden. In einigen Ausführungsbeispielen wird, wenn die Adressen von etwa 10% der normalisierten Intensität außerhalb des Kreises C1min fallen, die Qualität der Lichtquelle als akzeptabel bestimmt und die Schritte 335 und 340 können wie in 3 durchgeführt werden.
5B zeigt schematisch die Beziehung zwischen dem äußeren Kreis C2 und der Intensitätskonturlinie C4 gemäß 4B.
In einigen Ausführungsbeispielen weist der äußere Kreis C2 den Radius R2 auf, der dem Abstand vom Mittelpunkt "O" der Pupillenabbildung zur Adresse im Polar-Koordinatensystem entsprechend etwa 90% von I_sum entspricht. Die Intensitätskonturlinie C4 wird von den Adressen von etwa 90% der normalisierten Adressen gebildet. Die Radien R2max und R2min sind Abstände vom Mittelpunkt "O" der Pupillenabbildung zur Adresse im Polar-Koordinatensystem von etwa 87,5% I_sum und etwa 92,5% I_sum. Die Kreise C2max und C2min entsprechen den Radien R2max und R2min. Der Kreis C2min umschließt eine Vielzahl von Adressen mit etwa 87,5% von I_sum. Der Kreis C2max umschließt eine Vielzahl von Adressen mit etwa 92,5% von I_sum. Wenn die Adressen von etwa 90% der normalisierten Intensität im Wesentlichen in den Bereich fallen, der zwischen den Kreisen C2max und C2min gebildet wird, wird die Qualität der Lichtquelle als akzeptabel bestimmt. Unter diesen Umständen ist Schritt 335 erfüllt und die Lichtquelle wird in einem photolithographischen Prozess in dem in 3 dargestellten Schritt 340 angewendet. Im Gegensatz dazu sollte, wenn die Adressen entsprechend 90% der normalisierten Intensitäten nicht in den Bereich fallen, der von den Kreisen C2max und C2min gebildet wird, die Qualität der Lichtquelle verbessert werden, wobei der Schritt 335 nicht, wie in 3 dargestellt, erfüllt wird. Unter diesen Umständen wird eine modifizierte Lichtquelle angewendet und die Schritte 300 bis 335 werden wiederholt, um die Qualität der Lichtquelle, wie 3 dargestellt, zu bestimmen.
In einigen Ausführungsbeispielen ist es nicht notwendig, beide Kreise C2max und C2min zu berechnen, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen. Beispielsweise wird die Qualität der Lichtquelle als akzeptabel bestimmt, wenn die den Intensitäten entsprechenden Adressen auf dem äußeren Kreis C2 gleiche oder im Wesentlichen gleiche normalisierten Intensitäten aufweisen, wobei dann die Schritte 335 und 340, wie in 3 dargestellt, durchgeführt werden können.
In einigen Ausführungsbeispielen wird nur einer der Kreise C2max oder C2min verwendet, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen. Dabei wird in einigen Ausführungsbeispielen die Qualität der Lichtquelle als akzep tabel bestimmt, wenn die Adressen von etwa 90% der normalisierten Intensität in den Kreis C2max fallen, und die Schritte 335 und 340 können dann, wie in 3 dargestellt, durchgeführt werden. In einigen Ausführungsbeispielen wird die Qualität der Lichtquelle als akzeptabel bestimmt, wenn die Adressen von etwa 90% der normalisierten Intensität außerhalb des Kreises C2min liegen und die Schritte 335 und 340 gemäß 3 können dann durchgeführt werden.
Die Kreise C1 und C2, die Gebiete von 10% I_sum und 90% I_sum umschließen, sind nur beispielhafte Werte. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese beschränkt. Der Fachmann kann die Kreise C1 und C2 entsprechend den unterschiedlichen Prozentsätzen der gesamten Summenintensität (I_sum) basierend auf einer gewünschten Qualität der Lichtquelle leicht auswählen.
Es wird darauf hingewiesen, dass der innere Kreis C1, der äußere Kreis C2 oder beide verwendet werden, wenn eine gewünschte Qualität der Lichtquelle bestimmt werden kann. Beispielsweise kann die Qualität der Lichtquelle, die die Pupillenabbildung gemäß 2A und 2C erzeugt, unter Verwendung von einem oder von beiden Kreise C1 und C2 bestimmt werden. Die Qualität der Lichtquelle, die die Pupillenabbildung gemäß 2B erzeugt, kann unter Verwendung des äußeren Kreises C2 allein bestimmt werden, ohne einen inneren Kreis zu erfordern. Basierend auf der obigen Beschreibung kann der Fachmann leicht den inneren Kreis C1, den äußeren Kreis C2 oder beide verwenden, um eine gewünschte Qualität der Lichtquelle zu erhalten.
In einigen Ausführungsbeispielen können die Kurven beispielsweise kreisförmig, ein Teil eines Kreises oder andere Kurven sein, die geeignet sind, eine Grenze zu bilden, um die Lichtqualität zu bestimmen. Beispielsweise weist 2C vier Lichtbereiche auf, wobei Teile der Kreise C1 und C2 ausreichend sind, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen. Der Fachmann kann somit leicht die Form der Kurve modifizieren oder auswählen, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen.
Im Folgenden wird eine Beschreibung eines anderen beispielhaften Verfahrens zur Bestimmung einer Lichtquelle angegeben.
6A zeigt ein Flussablaufdiagramm zur Darstellung eines beispielhaften Verfahrens zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle.
Ein Halbleiter-Wafer wird mittels eines photolithographischen Prozesses gefertigt. In 6A sind die Schritte 600, 610, 630, 635 und 640 ähnliche Schritte wie in 3, nur um 300 erhöht. Somit können diese Schritte in 6A die gleichen Schritte wie in 3 sein, so dass deren Beschreibung nicht wiederholt wird.
Nach Schritt 610 wandelt Schritt 620 die Adressen und Intensitäten in eine 3D-Zeichnung um, wie in 6B dargestellt. In 6B enthält die 3D-Zeichnung Adresskoordinaten X und Y und die Intensitätskoordinate Z.
Die Adresskoordinaten X und Y können beispielsweise kartesische Koordinaten oder Polar-Koordinaten sein. In einigen Ausführungsbeispielen sind Intensitäten an verschiedenen Adressen in der 3D-Pupillenabbildung 650 normalisiert. In einigen Ausführungsbeispielen werden die Adressen und entsprechenden Intensitäten der Pupillenabbildung gemäß 2B verwendet, um die 3D-Pupillenabbildung 650 zu erzeugen. Die 3D-Pupillenabbildung 650 enthält somit einen hohlen Bereich 660, der den Blendenbereich 220 gemäß 2B darstellt.
Nach Schritt 630 bildet Schritt 633 eine Schnittansicht der 3D-Pupillenabbildung 650 und erzeugt eine in 6C gezeigte Abbildung. 6C zeigt eine Schnittdarstellung entlang der Linie 6C-6C durch den Mittelpunkt "C" der 3D-Pupillenabbildung 650 gemäß 6B. In 6C repräsentieren C1 und C2 die Kreise, wie in Verbindung mit 5A und 5B gezeigt. Die Punkte 670 zeigen normalisierte Intensitäten der Adressen der 3D-Pupillenabbildung 650 entlang der Schnittlinie 6C-6C. Die Kurve 680 ist mittels eines Polynom-Regressionsverfahrens nachgeformt, um durch die Punkte 670 oder angrenzend zu den Punkten 670 zu verlaufen. In einigen Ausführungsbeispielen ist die Kurve 680 beispielsweise eine Parabel. Wenn alle Punkte 670 auf oder nahe an der Kurve 680 liegen, dann hat die Lichtquelle wenigstens die gewünschte Qualität. Wie in 6C gezeigt, liegen die Punkte 670 entweder auf oder leicht neben der Kurve 680. Unter diesen Umständen ist Schritt 635 erfüllt und die Lichtquelle wird in einem photolithographischen Prozess in Schritt 640 angewendet, wie in 6A gezeigt. Im Gegensatz sollte, wenn eine erhebliche Anzahl der Punkte 670 nicht auf oder nahe zur Kurve 680 liegen, die Qualität der Lichtquelle verbessert werden, wobei Schritt 635 dann nicht erfüllt ist, wie in 6A gezeigt. Unter diesen Umständen wird eine modifizierte Lichtquelle angewendet und die Schritte 600–635 werden wiederholt, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen, wie in 6A gezeigt.
7A zeigt ein Flussablaufdiagramm, das ein beispielhaftes Verfahren zur Bestimmung der Qualität einer Lichtquelle zeigt. 7B zeigt eine schematische Darstellung einer Pupillenabbildung, die in Segmente eingeteilt ist. 7C ist eine schematische Darstellung, die beispielhaft ein vergrößertes erstes Segment der Pupillenabbildung gemäß 7B darstellt.
Im Folgenden wird eine Beschreibung eines beispielhaften Verfahrens zur Bestimmung der Qualität einer Lichtquelle angegeben.
Ein Halbleiter-Wafer wird mittels des photolithographischen Prozesses gefertigt. In 7A entsprechen die Schritte 700, 710 und 770 den entsprechenden Schritten 300, 310 und 340 aus 3. Somit können diese Schritte in 7A die gleichen sein, wie die oben in 3 beschriebenen, so dass deren Beschreibung nicht wiederholt wird.
In Schritt 720 wird eine Vielzahl von Segmenten auf einer Pupillenabbildung 705 gebildet, wie in 7B dargestellt. Die Pupillenabbildung 705 ist in eine Vielzahl von Segmenten 715 aufgeteilt, die durch Grenzlinien 711 unterteilt sind. Die Segmente 715 weisen im Wesentlichen die gleiche Breite d auf. Die Schritte zum Bilden eines Segments sind unten beschrieben und beziehen sich auf 7C.
7C zeigt eine schematische Darstellung eines ersten Segments 715 der Pupillenabbildung 705 gemäß 7D. Die Graustufe auf der Pupillenabbildung 705 wird von den Intensitäten an den Adressen auf der Pupillenabbildung 705 repräsentiert. In 7C repräsentiert ein "x" erste Adressen 701 entsprechend den normalisierten Intensitäten größer als 0,3; "a" repräsentiert zweite Adressen 703 entsprechend der normalisierten Intensität kleiner als etwa 0,3, "o" repräsentiert die Adressen 706 entsprechend der normalisierten Intensität gleich null und "z" repräsentiert die Adressen 707 entsprechend den normalisierten Intensitäten größer als etwa 0,9. In einigen Ausführungs beispielen enthält das Segment 715 einen zentralen Bereich 721 und Grenzbereiche 723. Der zentrale Bereich 721 weist mehr erste Adressen 701, d. h. "x" auf, als die Anzahl der ersten Adressen 701 in jedem der Grenzbereiche 723. Die Grenzlinien 711 sind basierend auf einem periodischen Verteilungsprofil der ersten Adressen 701 "x" gebildet. In einigen Ausführungsbeispielen werden die Grenzlinien 711 an der Stelle gebildet, an der die Grenzbereiche 723 die geringsten ersten Adressen 701 "x" aufweisen. In anderen Ausführungsbeispielen werden die Grenzlinien 711 an dem zentralen Bereich 721 mit den meisten ersten Adressen 701 "x" gebildet. Dementsprechend kann ein Fachmann basierend auf den Ausführungsbeispielen leicht erkennen, dass die Grenzlinien 711 an der Stelle platziert werden können, an der ein vorherbestimmtes erstes Segment des periodischen Verteilungsprofils der ersten Adressen gefunden wird.
Es wird darauf hingewiesen, dass 7C nur eine schematische Darstellung ist. Der zentrale Bereich 721 muss nicht notwendigerweise 5 Spalten mit Adressen aufweisen, wobei jeder der Grenzbereiche nicht notwendigerweise 3 Spalten mit Adressen aufweisen muss. Die Anzahl der Spalten kann für jedes gegebene Ausführungsbeispiel ausgewählt werden. In einigen Ausführungsbeispielen kann der zentrale Bereich 721 die zentrale Spalte von Adressen sein, wobei Grenzbereiche 723 die Adressspalten unmittelbar angrenzend zu den Grenzlinien 711 sein können.
7D zeigt eine schematische Darstellung für eine beispielhafte Transformation eines Segments einer Pupillenabbildung, wie es in Schritt 730 beschrieben ist. In diesem Schritt werden äußere Kurven 733 der Pupillenabbildung 705 definiert.
Mit Bezug auf 7B werden in Schritt 730 die Adressen des ersten Segments 715 der Pupillenabbildung 705 innerhalb des Randbereichs 731 mit entsprechenden Intensitäten gesammelt. Die Adressen innerhalb des Randbereichs 731 enthalten Adressen mit Intensitäten, die von "x", "a", "o" und "z" repräsentiert werden, die ähnliche Definitionen aufweisen, wie oben beschrieben und in 7D(1) dargestellt sind. In einigen Ausführungsbeispielen werden alle Adressen innerhalb der Pupillenabbildung 705 gesammelt. Jedoch werden in anderen Ausführungsbeispielen nur Adressen innerhalb des Randbereichs 731 gesammelt, um Verarbeitungszeit des Schritts 730 einzusparen.
Schritt 730 definiert dann normalisierte Intensitäten an den Adressen als null, wenn die Adressen außerhalb eines Bereichs liegen, der von den ersten Adressen 701 "x" gebildet wird und normalisierte Intensitäten größer als 90% aufweisen. Wie oben erwähnt, repräsentiert "z" die Adressen 707 entsprechend den Intensitäten größer als etwa 90%. Die Intensitäten an den in 7D(1) gezeigten Adressen 707 "z" resultieren vom Rauschen und sollten beseitigt werden, um eine Verwechslung auf der Pupillenabbildung 705 zu vermeiden. Die Intensitäten der Adressen 707 sind somit als null definiert, wobei "z" durch "o" ersetzt wird, wie in 7D(2) dargestellt.
Mit Bezug auf 7D(2) werden nach der Transformation die äußeren Kurven 733 durch die belegten Adressen gebildet, die die Intensitäten "O" aufweisen und unmittelbar an die Adressen 703 der Pupillenabbildung 705, d.h. "a", angrenzen.
In einigen Ausführungsbeispielen wird in Schritt 730 auch eine innere Kurve 740 auf der Pupillenabbildung 705 definiert. 7E zeigt eine schematische Darstellung, die eine Transformation eines Segments einer Pupillenabbildung, wie in Schritt 730 beschrieben, darstellt.
In Schritt 730 werden die Adressen der Pupillenabbildung 705 innerhalb eines anderen Randbereichs 741 mit entsprechenden Intensitäten, wie in 7B gezeigt, gesammelt. Die Adressen innerhalb des Randbereichs 741 enthalten Adressen mit den Intensitäten, die durch "x", "a", "o" und "z" repräsentiert werden und die gleiche Definition wie oben beschrieben aufweisen, wie in 7E(1) gezeigt. Eine detaillierte Beschreibung dieser Schritte wird nicht wiederholt. In einigen Ausführungsbeispielen werden alle dieser Adressen innerhalb der Pupillenabbildung 705 gesammelt. Jedoch werden in anderen Ausführungsbeispielen nur Adressen innerhalb des Randbereichs 741 gesammelt, um die Verarbeitungszeit im Schritt 730 zu reduzieren.
In Schritt 730 werden dann entsprechende Intensitäten an den Adressen, die außerhalb eines von den ersten Adressen 701 und "x" gebildeten Bereichs liegen und normalisierte Intensitäten größer als etwa 90% aufweisen, so definiert, dass diese den Wert null aufweisen. Wie oben erwähnt, repräsentiert "z" die Adressen 707 entsprechend den Intensitäten von größer als etwa 90%. Die Intensitätswerte an den Adressen 707, die in 7E(1) gezeigt sind, resultieren vom Rauschen und sollten entfernt werden, um eine Verwirrung oder Verwechslung in der Pupillenabbildung 705 zu vermeiden. Die Intensitäten an den Adressen 707 werden somit zu "null" definiert, wobei "z" durch "o" ersetzt wird, wie in 7E(2) gezeigt.
Nach der Transformation wird die innere Kurve 743 durch eine Linie gebildet, die durch die Adressen mit den "0"-Intensitäten verläuft und die unmittelbar an die Adressen 703, d.h. "a"n der Pupillenabbildung 705 angrenzen.
In einigen Ausführungsbeispielen wird der Prozess zur Bildung der inneren Kurve 743 in Schritt 730 nicht verwendet. Beispielsweise liegt das erste Segment 715, wie in 7B gezeigt, am Rand der Pupillenabbildung 705. Der erste Segmentbereich 715 enthält den Randbereich 731 und enthält nicht den Randbereich 741. Somit wird der Prozess zur Bildung der inneren Kurve 743 in Schritt 733 nicht für das erste Segment 715 durchgeführt. In einigen Ausführungsbeispielen kann, wenn die runde Pupillenabbildung gemäß 2A statt der Donutpupillenabbildung 705 gemäß 2B verwendet wird, der Prozess zur Bildung der inneren Kurve 743 in Schritt 730 vom Prozessorablauf entfernt werden, da die runde Pupillenabbildung gemäß 2A den Randbereich 741 nicht enthält. Der Fachmann kann basierend auf der Form der Pupillenabbildung leicht entscheiden, ob der Schritt 730 eingefügt wird oder nicht.
Dann wird Schritt 740 durchgeführt, um das gültige Gebiet von einem der Segmente 715 zu berechnen. Mit Bezug auf 7D(2) wird die Anzahl der ersten Adressen 701 und der zweiten Adressen 703 innerhalb des Randbereichs 731 und der Grenzlinien 711 als erste Anzahl "T" gezählt. Die Anzahl der ersten Adressen 701 innerhalb des Randbereichs 731 und der Grenzlinien 711 wird als zweite Anzahl "N" gezählt. Das gültige Gebiet des ersten Segments 715 wird als ein Verhältnis der zweiten Anzahl "N" geteilt durch die erste Anzahl "T", d. h. "N/T" definiert.
In Schritt 750 werden die Segmente 715 gezählt, deren gültige Gebiete größer als ein erster vorherbestimmter Wert sind. In einigen Ausführungsbeispielen ist der vorherbestimmte Wert etwa 0,3. Beispielsweise ist in 7D(2) die erste Anzahl "T" 144 und die zweite Anzahl "N" 94. Somit ist das gültige Gebiet etwa 0,65 (94/144), was größer ist als 0,3. Auf diese Art und Weise wird das erste Segment 715 gezählt. Wenn das gültige Gebiet der anderen Segmente 715 geringer ist, als der vorherbestimmte Wert, d. h. 0,3, werden die Segmente 715 nicht gezählt.
Schritt 760 bestimmt, ob der nachfolgende Prozessschritt 770 durchgeführt werden soll. In Schritt 760 wird, wenn die Anzahl der gezählten Segmente 715 größer als ein zweiter vorherbestimmter Wert ist, Schritt 770 durchgeführt, um die Lichtquelle in einem photolithographischen Prozess anzuwenden. Die Qualität der Lichtquelle hängt von der Anzahl der gezählten Segmente ab. In einigen Ausführungsbeispielen liegt der zweite vorherbestimmte Wert etwa bei 16–18. In den derartigen Ausführungsbeispielen ist, wenn die Anzahl der gezählten Segmente 715 in den Bereich von 16–18 fällt, der Schritt 760 erfüllt und die Lichtquelle wird in einem photolithographischen Prozess 770, wie in 7A dargestellt, angewendet. Im Gegensatz dazu wird, wenn die Anzahl der gezählten Segmente 715 nicht in den Bereich von 16–18 fällt, der Schritt 760 nicht erfüllt und die Qualität der Lichtquelle sollte verbessert werden, wie in 3 dargestellt. Unter diesen Umständen wird eine modifizierte Lichtquelle angewendet und die Schritte 700–760 werden wiederholt, um die Qualität der Lichtquelle zu bestimmen, wie in 7A gezeigt.
Die vorliegende Erfindung kann in Form eines computerimplementierten Verfahrens und einer Vorrichtung zur Ausübung eines derartigen Verfahrens realisiert werden. Die vorliegende Erfindung kann auch in Form eines Computerprogrammcodes ausgeführt werden, der auf einem greifbaren Medium, beispielsweise einer Diskette (ROMs), einer CD-ROMs, Festplattenlaufwerken, "ZIP^TM"-Laufwerke, Flashspeicherlaufwerke oder auf anderen Computer-lesbaren Speichermedien ausgebildet sein, wobei, wenn das Computerprogramm in einem Computer geladen wird und von einem Computer ausgeführt wird, der Computer die Vorrichtung zum Ausüben der Erfindung wird. Die vorliegende Erfindung kann auch in Form eines Computerprogrammcodes ausgebildet sein, der beispielsweise auf einem Speichermedium gespeichert ist, in einen Computer geladen und/oder von diesem ausgeführt wird, etwa über eine elektrische Leitung oder Verkabelung, über Lichtwellenleiter oder über elektromagnetische Strahlung, wobei, wenn der Computerprogrammcode in einen Computer geladen wird und von einem Computer ausgeführt wird, der Computer eine Vorrichtung zum Ausüben der Erfindung wird. Beim Implementieren auf einem üblichen Prozessor konfigurieren die Computerprogrammcode-Segmente den Prozessor, um spezielle logische Schaltfunktionen zu erzeugen.
Obwohl die vorliegende Erfindung an beispielhaften Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie nicht auf diese beschränkt. Die beigefügten Ansprüche sind breit aufgestellt, um andere Varianten und Ausführungsbeispiel der Erfindung zu erfassen, die vom Fachmann gemacht werden können, ohne vom Gebiet der Erfindung und dem Bereich der Äquivalente abzuweichen.

Claims

Verfahren zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle, die in einem photolithographischen Prozess angewendet wird, enthaltend die Schritte: Belichten (300) eines Bildsensor-Arrays mit einem Licht einer Lichtquelle; Sammeln (310) von Adressen und entsprechenden Intensitäten entsprechend einer Vielzahl von Stellen auf einer Pupillenabbildung (400), die die Intensität des Lichts von der Lichtquelle auf dem Bildsensor-Array repräsentiert; Definieren (330) wenigstens einer inneren Kurve (C1) oder einer äußeren Kurve (C2) der Pupillenabbildung (400) basierend auf den gesammelten Adressen und entsprechenden Intensitäten; und Verwenden der Lichtquelle in einem photolithographischen Prozess, wenn die Adressen ein vorherbestimmtes Muster in Bezug auf wenigstens eine der inneren Kurve (C1) oder der äußeren Kurve (C2) aufweisen.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die innere Kurve (C1) und die äußere Kurve (C2) wenigstens aus einem Kreis, einem Oval, und/oder aus einen Teil eines Kreises bestehen.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei ein Radius (R1) der inneren Kurve (C1) ein Abstand von einem Mittelpunkt (O) der Pupillenabbildung (400) zu einer Adresse entsprechend etwa 7,5% einer Gesamtsummenintensität bis etwa 12% der Gesamtsummenintensität ist, wobei die Gesamtsummenintensität (I_sum) als Summe der gesammelten Intensitäten berechnet wird.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei Adressen auf dem inneren Kreis (C1) Intensitäten entsprechen mit der gleichen oder etwa gleichen normalisierten Intensitäten.
Verfahren nach Anspruch 4, wobei im Wesentlichen alle der Adressen, die einer normalisierten Intensität von etwa 10% entsprechen, in einen Bereich zwischen einem ersten und einem zweiten Kreis (C1, C2) fallen, wobei der erste Kreis (C1) eine Vielzahl von Adressen entsprechend etwa 7,5% der totalen Summenintensität und der zweite Kreis (C2) eine Vielzahl von Adressen entsprechend etwa 12,5% der Gesamtsummenintensität umschließt.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei die äußere Kurve (C2) Punkte umschließt, entsprechend den Adressen, die zwischen 87,5% und 92,5% der Gesamtsummenintensität aufweisen.
Verfahren nach Anspruch 6, wobei die Adressen auf dem äußeren Kreis (C2) Intensitäten entsprechen, die etwa gleiche oder im Wesentlichen gleiche normalisierte Intensitäten aufweisen.
Verfahren nach Anspruch 7, wobei im Wesentlichen alle Adressen, die etwa 90% des normalisierten Intensitätenwertes entsprechen, in einen Bereich zwischen einem ersten Kreis (C1) und zweiten Kreis (C2) fallen, wobei der erste Kreis (C1) eine Vielzahl von Adressen umschließt, die etwa 87,5% der Gesamtsummenintensität entsprechen und der zweite Kreis (C2) eine Vielzahl von Adressen umschließt, die etwa 92,5% der Gesamtsummenintensität entsprechen.
Verfahren nach Anspruch 1, weiter enthaltend: Umwandeln (620) der Adressen und Intensitäten in eine dreidimensionale Abbildung (3-D); Bilden (630) einer inneren Kurve (C1), die Adressen umschließt, für die eine Summe von Intensitäten etwa 10% der Gesamtsummenintensität ist; Bilden (630) einer äußeren Kurve (C2), die Adressen umschließt, für die eine Summe von Intensitäten etwa 90% der Gesamtsummenintensität ist; und Aufschneiden (633) der 3-D-Abbildung, um ein Intensitätsverteilungsmuster zwischen der inneren Kurve (C1) und der äußeren Kurve (C2) zu bilden.
Verfahren nach Anspruch 9, wobei das Intensitätsverteilungsmuster mittels eines Polynom-Regressionsverfahrens erzeugt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, weiter enthaltend: Umwandeln (620) der Adressen der Intensitäten in eine dreidimensionale Abbildung (3-D); Bilden (630) der inneren Kurve (C1), die Adressen umschließt, für die eine Summe von Intensitäten etwa 7,5% bis 12,5% der Gesamtsummenintensität ist; Bilden (630) der äußeren Kurve (C2), die Adressen umschließt, die eine Summe der Intensitäten von 87,5% bis etwa 92,5% der Gesamtsummenintensität ist; und Aufschneiden (633) der 3-D-Abbildung, um ein Intensitätsverteilungsmuster zwischen der inneren und der äußeren Kurve (C1, C2) zu erzeugen.
Verfahren zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle, die in einem photolithographischen Prozess angewendet wird, enthaltend die Schritte: Belichten eines Bildsensors-Array mit einem Licht von einer Lichtquelle; Sammeln von Adressen und entsprechenden Intensitäten entsprechend einer Vielzahl von Stellen auf einer Pupillenabbildung, die die Intensität des Lichts von der Lichtquelle auf dem Bildsensor-Array repräsentiert; Addieren der gesammelten Intensitäten, um eine Gesamtsummenintensität zu berechnen; Bilden von wenigsten einer inneren Kurve (C1) und einer äußeren Kurve (C2) auf der Pupillenabbildung basierend auf den gesammelten Adressen und entsprechenden Intensitäten, wobei die innere Kurve (C1) eine Vielzahl von Adressen entsprechend etwa 10% der Gesamtsummenintensität umschließt und die äußere Kurve (C2) eine Vielzahl von Adressen entsprechend etwa 90% der Gesamtsummenintensität umschließt; und Anwenden der Lichtquelle in einem photolithographischen Prozess, wenn die Adressen ein vorherbestimmtes Muster in Bezug auf die innere Kurve und die äußere Kurve aufweisen.
Verfahren nach Anspruch 12, wobei die Adressen auf der inneren Kurve (C1) den Intensitäten entsprechen, die gleiche oder in etwa gleiche normalisierte Intensitäten aufweisen.
Verfahren nach Anspruch 13, wobei im Wesentlichen alle Adressen, die normalisierte Intensitätenwerte von etwa 10% entsprechen, in einen Bereich zwischen einen ersten Kreis (C1) und einen zweiten Kreis (C2) fallen, wobei der erste Kreis (C1) eine Vielzahl von Adressen umschließ, die etwa 7,5% der Gesamtsummenintensität entsprechen und der zweite Kreis (C2) eine Vielzahl von Adressen umschließt, die etwa 12,5% der Gesamtsummenintensität umschließen.
Verfahren nach Anspruch 12, wobei Adressen auf dem äußeren Kreis (C2) den Intensitäten entsprechen, die etwa gleiche oder ungefähr gleiche normalisierte Intensitäten aufweisen.
Verfahren nach Anspruch 15, wobei im Wesentlichen alle Adressen, die normalisierten Intensitätswerten von etwa 90% entsprechen, in einen Bereich zwischen einem ersten Kreis (C1) und einen zweiten Kreis (C2) fallen, wobei der erste Kreis (C1) eine Vielzahl von Adressen umschließt, die etwa 87,5% der Gesamtsummenintensität entsprechen und der zweite Kreis (C2) eine Vielzahl von Adressen umschließt, die etwa 92,5% der Gesamtsummenintensität umschließen.
Verfahren nach Anspruch 12, weiter enthaltend: Umwandeln (620) der Adressen und Intensitäten in eine dreidimensionale Abbildung (3-D); Bilden (630) der inneren Kurve (C1), die Adressen umschließt, für die eine Summe der Intensitäten etwa 10% der Gesamtsummenintensität ist; Bilden (630) einer äußeren Kurve (C2), die Adressen umschließt, für die eine Summe der Intensitäten etwa 90% der Gesamtsummenintensität ist; und Aufschneiden (633) der 3D-Abbildung, um ein Intensitätsverteilungsmuster zwischen der inneren Kurve (C1) und der äußeren Kurve (C2) mittels eines Polynom-Regressionsverfahrens zu erzeugen.
Verfahren nach Anspruch 12, wobei ein Halbleiter-Wafer mittels des photolithographischen Prozesses gefertigt wird.
Verfahren zur Bestimmung einer Qualität einer Lichtquelle, die in einem photolithographischen Prozess angewendet wird, enthaltend die Schritte: Belichten (700) eines Bildsensor-Arrays mit einem Licht von einer Lichtquelle; Sammeln (710) von Adressen und entsprechenden Intensitäten entsprechend einer Vielzahl von Stellen auf einer Pupillenabbildung (705), die die Intensität des Lichts von der Lichtquelle auf dem Bildsensor-Array repräsentiert; Bilden (720) einer Vielzahl von Segmenten (715) auf der Pupillenabbildung (705), wobei jedes Segment (715) eine Vielzahl von Adressen und entsprechend normalisierten Intensitäten enthält; Bilden (730) einer äußeren Kurve (C2) auf der Pupillenabbildung (705); Berechnen (740) eines gültigen Gebiets von jedem der Segmente (715): Zählen (750) der Anzahl der Segmente (715), die gültige Gebiete aufweisen, die größer als ein vorherbestimmter Wert sind; und Anwenden (770) einer Lichtquelle in einem photolithographischen Prozess, wenn die Anzahl der Segmente (715) mit gültigen Gebieten, die größer als ein erster vorherbestimmter Wert sind, größer ist als ein zweiter vorherbestimmter Wert.
Verfahren nach Anspruch 19, wobei ein Halbleiter-Wafer mittels des photolithographischen Prozesses gefertigt wird.