CN101109906B - 用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法。将一影像感测器阵列曝光于一光源的光。收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度。依据收集的该地址及强度，定义该瞳孔图像的内曲线及外曲线的至少其中之一。若该地址具有一预设的模式与该内曲线及该外曲线中至少其中之一相关，将该光源用于一光刻制程。本发明所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，能较好的决定光源的品质，产生合适的光刻图案并改良后续制程。

Description

用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法 

技术领域

本发明是有关于决定光源品质的方法，特别是有关于决定应用于光刻制程的光源品质的方法。 

背景技术

随着电子产品的进步，半导体技术广泛应用于制造存储器、中央处理单元(CPU)、显示装置、发光二极管(LED)、激光二极管及其他装置或芯片组。为了要达到高整合性及高速，半导体集成电路的尺寸缩小，且已提出许多材料与技术以达到这些目标，并克服制造过程中的困难。 

为了缩小集成电路和装置的尺寸，光刻技术，例如曝光制程，扮演了重要的角色。 

该曝光制程涉及光源，其主掌了集成电路的特征尺寸的解析度。可以通过增加光源的景深(D O F)、光源的品质或曝光步骤中其他调整，来达到欲达到的解析度。因此，提出了用以决定光源品质的方法。 

图1A及图1B显示瞳孔图像的图片。瞳孔图像是为射在影像感测阵列的光源的光影像，用以决定该光源是否可以应用在光刻制程。为了产生瞳孔图像，需由一光源模块提供光。该光通过一罩子并投射在一电耦合装置(C CD)阵列。该C CD阵列包含多个C CD。上述每一个C CD感测一相对强度(灰阶值)并表示在该C CD阵列中的一地址。因此，该C CD阵列产生对应的瞳孔图像。 

传统上，工程师或操作者依据视觉检测及个人经验，来决定光源的品质。有经验的工程师或操作者可以由图1B中的瞳孔图像的扭曲、空隙或不连续，来辨别图1A和图1B中的瞳孔图像。在图 1A中的瞳孔图像是可以接受的，但是在图1B中的瞳孔图像则为不可接受。调整产生图1B的瞳孔图像的光源模块的状况，以产生所欲的瞳孔图像。如果瞳孔图像的扭曲、空隙或不连续明显，但并未严重到难以决定光源的品质，则某些不宜的瞳孔图像会被错认为具有可接受的品质。继之，这种瞳孔图像的曝光步骤的条件，被用于执行光刻制程。这样的曝光步骤的条件，会产生不当的光刻图案，并影响后续制程。

发明内容

有鉴于上述，需要提出一种更好的方法，来决定光源的品质。 

本发明提供一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，包含下列步骤。将一影像感测器阵列曝光于一光源的光；收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及所述地址对应的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度；依据收集的该地址及该强度，定义该瞳孔图像的内曲线及/或外曲线；以及当对应于10％标准化强度的地址都落在该内曲线的一第一环与该内曲线的一第二环之间的范围及/或当对应于90％标准化强度的地址都落在该外曲线的一第一环与该外曲线的一第二环之间的范围，将该光源用于一光刻制程；其中，该内曲线的该第一环围住对应于总强度的7.5％的多个地址，该内曲线的该第二环围住对应于总强度的12.5％的多个地址，该总强度为收集的该强度之和；其中，该外曲线的该第一环围住对应于总强度的87.5％的多个地址，该外曲线的该第二环围住对应于总强度的92.5％的多个地址，该总强度为收集的该强度之和。 

本发明所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，该内曲线及该外曲线包含下列至少其中之一：圆形、椭圆形及一大致圆形。 

本发明所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，进一步包含：将该地址及该强度转换为一三次元图像；定义该内曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的约10％；定义该外曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的约90％；以及将该三次元图像横剖，以产生介于该内曲线及该外曲线之间的一强度分布模式。 

本发明所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，该强度分布模式是由一多项式回归方法所产生。 

本发明所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，进一步包含：将该地址及该强度转换为一三次元图像；定义该内曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的约7.5％～12.5％；定义该外曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的约87.5％～92.5％；以及将该三次元图像横剖，以产生介于该内曲线及该外曲线之间的一强度分布模式。 

本发明另提供一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，包含下列步骤。将一影像感测器阵列曝光于一光源的光。收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度。将该收集的强度加总，以计算一总强度。依据收集的该地址及强度，定义该瞳孔图像的内曲线及外曲线的至少其中之一，其中该内曲线围住对应于该总强度的约10％的多个地址，该外曲线围住对应于该总强度的约90％的多个地址。若该地址具有一预设的模式与该内曲线及该外曲线相关，将该光源用于一光刻制程。 

本发明另提供一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，包含下列步骤。将一影像感测器阵列曝光于一光源的光。收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度。在该瞳孔图像上定义多个区段，其中每一该区段包含多个位置和个别的标准化强度。在该瞳孔图像上定义一外曲线。计算每一该区段的有效区域。计数有效区段大于一第一预定值的区段数目。若有效区段大于该第一预定值的该区段的数目大于一第二预定值，则将该光源用于一光刻制程。 

本发明所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，能较好的决定光源的品质，产生合适的光刻图案并改良后续制程。 

附图说明

图1A及图1B显示瞳孔图像的图片。 

图2A到图2C显示不同实施例的瞳孔图像的图片。 

图3显示依据本发明实施例的决定光源品质的方法的流程图。 

图4A显示依据实施例在坐标转换之后的瞳孔图像。 

图4B显示依据实施例具有内曲线和外曲线的瞳孔图像。 

图5A显示在图4B中内曲线C₁和强度轮廓线C₃的关系的示意图。 

图5B显示在图4B中外曲线C₂和强度轮廓线C₄的关系的示意图。 

图6A显示依据本发明实施例的决定光源品质的方法的流程图。 

图6B显示依据本发明实施例的三次元瞳孔图像。 

图6C是为沿着穿过图6B的三次元瞳孔图像650的中心C的横剖线6C-6C的横剖视图。 

图7A显示依据本发明实施例的决定光源品质的方法的流程图。 

图7B显示瞳孔图像分割为区段的示意图。 

图7C显示图7B的第一区段放大的示意图。 

图7D显示步骤730中转换的示意图。 

图7E显示步骤730中转换的示意图。 

具体实施方式

为了让本发明的目的、特征、及优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图示做详细的说明。本发明说明书提供不同的实施例来说明本发明不同实施方式的技术特征。其中，实施例中的各元件的配置是为说明之用，并非用以限制本发明。在本说明书中，类似如“较低”、“较上”、“水平”、“垂直”、“上方”、“下方”、“上”、“下”、“顶”、“底”及其副词等相对性字眼，应参考叙述及所述图式的方位加以解释。且上述相对性字眼是为了便于描述，并非意指该装置必须以该特定方位来运作或构建。 

图2A到图2C显示不同实施例的瞳孔图像的图片。每一个瞳孔图像表示由一影像感测器阵列(例如C CD阵列、CM O S影像感测 器阵列或其他)侦测的一光源的光。在图2A到图2C中，瞳孔图像200包含图2A的圆形瞳孔图像，图2B的环形瞳孔图像，及图2C的瞳孔图像，其具有和水平轴45度夹角的4个光区段。在其他实施例中(未显示)，该瞳孔图像可以为椭圆形瞳孔图像、大致圆形瞳孔图像或其他瞳孔图像，具有和水平轴呈任何角度夹角的至少一光区段。图2A的瞳孔图像具有光区段210及一圆形215。圆形215表示光区段210的半径所能达到的最大尺寸。图2B的瞳孔图像包含光区段210、最大尺寸圆形215及一遮蔽区域220。当光通过设于光源和一CCD阵列之间的一圆形罩子时，就产生了遮蔽区域220。具有该甜甜圈状的瞳孔图像的光源，能够改善光刻制程的景深。图2C的瞳孔图像具有4个光区段210和最大尺寸圆形215。图2C的瞳孔图像可以形成于，当光通过设于光源和一CCD阵列之间的交叉中央圆形罩子时。若使用具有图2C的瞳孔图像的光源，可以改善光刻制程的景深。如上所述，所属技术领域内的人士，可以通过选择对应的罩子种类，来选择所欲光刻制程的瞳孔图像种类。 

图3显示依据本发明实施例的决定光源品质的方法的流程图。 

在步骤300，将该影像感测器阵列曝光于一光源的光。详细叙述和图2A到图2C的叙述类似。 

在步骤310，收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度。该地址表示在CCD阵列中CCD的位置，其具有个别的强度。例如，该地址可以包含：在一笛卡儿坐标系统中的地址、在极坐标系统或其他坐标系统中的地址。在某些实施例中，该地址是为在一笛卡儿坐标系统中的地址，如表1所示。 

表1 

X(mm)	Y(mm)	Intensity(I)(a.u.)
			-0.39851	-0.971389	0.000175

-0.373611	-0.971389	0.000269
			-0.348704	-0.971389	0.004330
-0.323796	-0.971389	0.009940
			-0.298889	-0.971389	0.008340
-0.273982	-0.971389	0.002815
			-0.249074	-0.971389	0.006727
-0.224167	-0.971389	0.009749

表1显示该具有个别强度的地址沿着X轴“-0.971389”的次集合。在某些实施例中，瞳孔的中央是作为该笛卡儿坐标系统的中心。因此，负的地址是包含在收集到的地址中。在某些实施例中，在步骤310收集地址时或之后，将对应于地址强度予以标准化。要注意的是，地址的数量可以依据该瞳孔图像的解析度而异。若想要具有高解析度的瞳孔图像，则使用更多的地址及高像素数CCD阵列。 

参见图4A，其显示依据实施例在坐标转换之后的瞳孔图像。 

参见图3，在步骤320中，笛卡儿坐标系统中的地址被转换成极坐标中的地址。瞳孔图像400包含多个具有个别强度的地址。在某些实施例中，步骤310所收集的地址是为笛卡儿坐标系统中的地址。在这些实施例中，步骤320将具有个别强度I(x，y)的地址从笛卡儿坐标系统转换为在极坐标系统中具有个别强度I(r，θ)的地址。例如，I(0.5，0.5)被转换成I(0.707，П/4)。例如，该转换方法可以为坐标转换的一般方法，例如r＝(x²+y²)^1/2及θ＝tan^-1(y/x)。 

在某些实施例中，如果在步骤310中收集的具有个别强度的地址是已经在极坐标系统中，则并不使用上述的步骤320的坐标转换。若是在极坐标系统中的收集地址，则可以执行后续的步骤330和340。 

参见图4B，其显示依据实施例具有内曲线和外曲线的瞳孔图 像。 

参见图3，转换地址之后，在步骤330定义该瞳孔图像400的内曲线C₁及外曲线C₂。在某些实施例中，内曲线C₁及外曲线C₂为如图4B所示的圆环。内曲线C₁半径为R₁，外曲线C₂半径为R₂。半径R₁是为从该瞳孔图像400中央“O”到位于极坐标系统中对应于总强度(I_sum)的7.5％～12.5％的地址的距离。外曲线C₂半径为R₂。半径R₂是为从该瞳孔图像中央“O”到位于极坐标系统中对应于总强度(I_sum)的87.5％～92.5％的地址的距离。该总强度I_sum 是可由下列公式(1)决定的： 

$I_{\mathrm{sum}}=\underset{\mathrm{\θ}=0}{\overset{2\mathrm{\π}}{\mathrm{\Σ}}}\underset{r=0}{\overset{\∞}{\mathrm{\Σ}}}I(r,\mathrm{\θ})---\left(1\right)$

例如，通过得到该总强度I_sum，可以找到具有10％I_sum的地址。I(r，θ)的地址可以依据下列公式(2)决定的： 

$\underset{\mathrm{\θ}=0}{\overset{2\mathrm{\π}}{\mathrm{\Σ}}}\underset{r=0}{\overset{R_1}{\mathrm{\Σ}}}I(r,\mathrm{\θ})=I_{\mathrm{sum}}/10---\left(2\right)$

例如，若公式(2)提出具有10％I_sum的地址为(0.55061，3/4П)，则半径R₁为0.55061。继之，依据半径R₁，在瞳孔图像中定义内曲线C₁，如图4B所示。 

例如，通过得到该总强度I_sum，可以找到具有90％I_sum的地址。I(r，θ)的地址可以依据下列公式(3)决定的： 

$\underset{\mathrm{\θ}=0}{\overset{2\mathrm{\π}}{\mathrm{\Σ}}}\underset{r=0}{\overset{R_2}{\mathrm{\Σ}}}I(r,\mathrm{\θ})=0.9\×I_{\mathrm{sum}}---\left(3\right)$

例如，若公式(3)提出具有10％I_sum的地址为(0.88428，7/8П)，则半径R₂为0.88428。继之，依据半径R₁和R₂，在瞳孔图像中定义内曲线C₁和外曲线C₂，如图4B所示。 

参见图4B，瞳孔图像400亦显示了多个强度轮廓线C₃和C₄，其是分别邻近于内曲线C₁和外曲线C₂。强度轮廓线C₃和C₄是用以决定该光源的品质。 

图5A显示在图4B中内曲线C₁和强度轮廓线C₃的关系的示意 图。 

在某些实施例中，内曲线C₁的半径为R₁，其是为从该瞳孔图像400中央“O”到位于极坐标系统中对应于总强度(I_sum)的10％的地址的距离。强度轮廓线C₃则表示由具有约10％标准化强度的地址的位置形成的一曲线。半径R_1min和R_1max是分别为从该瞳孔图像400中央“O”到位于极坐标系统中对应于总强度(I_sum)的7.5％及12.5％的地址的距离。圆环C_1max和C_1min则分别以半径R_1max和R_1min定义的。圆环C_1min围住具有约7.5％I_sum的多个地址。圆环C_1max围住具有约12.5％I_sum的多个地址。若对应于约10％标准化强度的地址大致落在圆环C_1max和C_1min之间的区域，则可以认为该光源的品质为可以接受。在此情况下，步骤335被满足，且在图3的步骤340中，将该光源用于光刻制程。以该光刻制程制造一半导体晶圆。相反地，若对应于约10％标准化强度的地址并非大致落在圆环C_1max和C_1min之间的区域，则该光源的品质必须要改善，而图3的步骤335并未被满足。在此情况下，使用修正后的光源，并重复步骤300到335，以决定该光源的品质，如图3所示。 

在某些实施例中，并不需要取得C_1max和C_1min来决定光源品质。例如，若内曲线C₁的地址对应的强度是具有相同或几乎相同的标准化强度，则该光源的品质可视为可接受，且可以如上述来执行图3中的步骤335和340。 

在某些实施例中，仅以C_1max和C_1min中之一来决定该光源的品质。 

在某些实施例中，若对应于约10％标准化强度的地址是落于圆环C_1max中，则该光源的品质可视为可接受，且可以如上述来执行图3中的步骤335和340。在某些实施例中，若对应于约10％标准化强度的地址是落于圆环C_1min之外，则该光源的品质可视为可接受，且可以如上述来执行图3中的步骤335和340。 

图5B显示在图4B中外曲线C₂和强度轮廓线C₄的关系的示意图。 

在某些实施例中，外曲线C₂的半径为R₂，其是为从该瞳孔图像400中央“O”到位于极坐标系统中对应于总强度(I_sum)的90％的地址的距离。强度轮廓线C₄则表示由具有约90％标准化强度的地址的位置形成的一曲线。半径R_2min和R_2max是分别为从该瞳孔图像中央“O”到位于极坐标系统中对应于总强度(I_sum)的87.5％及92.5％的地址的距离。圆环C_2max和C_2min则分别以半径R_2max 和R_2min定义的。圆环C_2min围住具有约87.5％I_sum的多个地址。圆环C_2max围住具有约92.5％I_sum的多个地址。若对应于约90％标准化强度的地址大致落在圆环C_2max和C_2min之间的区域，则可以认为该光源的品质为可以接受。在此情况下，步骤335被满足，且在图3的步骤340中，将该光源用于光刻制程。以该光刻制程制造一半导体晶圆。 

相反地，若对应于约90％标准化强度的地址并非大致落在圆环C_2max和C_2min之间的区域，则该光源的品质必须要改善，而图3的步骤335并未被满足。在此情况下，使用修正后的光源，并重复步骤300到335，以决定该光源的品质，如图3所示。 

在某些实施例中，并不需要取得C_2max和C_2min来决定光源品质。例如，若外曲线C₂的地址对应的强度是具有相同或几乎相同的标准化强度，则该光源的品质可视为可接受，且可以如上述来执行图3中的步骤335和340。 

在某些实施例中，仅以C_2max和C_2min中之一来决定该光源的品质。在某些实施例中，若对应于约90％标准化强度的地址是落于圆环C_2max中，则该光源的品质可视为可接受，且可以如上述来执行图3中的步骤335和340。在某些实施例中，若对应于约90％标准化强度的地址是落于圆环C_2min之外，则该光源的品质可视为可 接受，且可以如上述来执行图3中的步骤335和340。 

上述内曲线C₁和外曲线C₂分别对应于包围在10％I_sum和90％I_sum之间的区域，是仅为例示。本发明并不以上述为限。本领域技术人员，可以依据所欲的光源的品质，来选取对应于不同比例的总强度的内曲线C₁和外曲线C₂。 

需注意的是，当可以决定所欲的光源品质时，使用内曲线C₁、外曲线C₂或两者。例如，产生图2A和图2C的瞳孔图像的光源的品质，可以通过使用内曲线C₁或外曲线C₂中任一个或两者来决定。产生图2B的瞳孔图像的光源的品质，可以仅使用外曲线C₂来决定，而无须使用内曲线C₁。基于上述，本领域技术人员可以使用内曲线C₁、外曲线C₂或两者，来取得所欲的光源品质。 

在某些实施例中，可以使用曲线(如圆形、椭圆形及一部分圆形)其适用于定义一范围来决定该光源的品质。例如，图2C的瞳孔图像具有4个光区段。部分的内曲线C₁和外曲线C₂就足以决定光源的品质。所属技术领域内的人士可以改变或选取曲线的形状来决定光源的品质。 

下文是叙述另一实施例的用以决定光源品质的方法。 

以光刻制程制造一半导体晶圆。在图6A中的步骤600、610、630、635、640是如其标号所示，是为图3中具有相同数字的类似步骤的标号再加上300。因此，图6A这些步骤是如图3中所述，在此不加赘述。 

在步骤610之后，步骤620将该地址及该强度转换为如图6B所示的三次元图像。在图6B，三次元图像包含地址坐标X和Y以及强度坐标Z。 

例如，地址坐标X和Y可以为笛卡儿坐标或极坐标。在某些实施例中，将不同地址的强度在三次元瞳孔图像650中予以标准化。在某些实施例中，图2B中的该地址和个别的强度是用以产生三次 元瞳孔图像650。三次元瞳孔图像650的中间包含一空区660，其表示图2B中的遮蔽区域220。 

在步骤630之后，步骤633产生三次元瞳孔图像650的横剖视图，并产生如图6C所示的图像。图6C是为沿着穿过图6B的三次元瞳孔图像650的中心C的横剖线6C-6C的横剖视图。在图6C，C₁ 和C₂表示在图5A和图5B中所述的内曲线及外曲线。点670表示三次元瞳孔图像650中沿着横剖线6C-6C的地址的标准化强度。曲线680是通过多项式回归方法所产生的经过或邻近于点670的轮廓。例如，在某些实施例中，曲线680为抛物线。若点670几乎都落在或靠近曲线680，则该光源至少具有所欲的品质。如图6C所示，点670不是落在曲线680上就是只差一点。在此情况下，步骤635被满足，且在图6A的步骤640中，将该光源用于光刻制程。相反地，若点670中有相当数量没有落在或靠近曲线680，则该光源的品质必须要改善，而图6A的步骤635并未被满足。在此情况下，使用修正后的光源，并重复步骤600到635，以决定该光源的品质，如图6A所示。 

图7A显示依据本发明实施例的决定光源品质的方法的流程图。图7B显示瞳孔图像分割为区段的示意图。图7C显示图7B的第一区段放大的示意图。 

下文是叙述另一实施例的用以决定光源品质的方法。 

以光刻制程制造一半导体晶圆。在图7A中的步骤700、710、770是如其标号所示，是类似于图3中步骤300、310、340。因此，图7A这些步骤是如图3中所述，在此不加赘述。 

步骤720在图7B中所示瞳孔图像705上定义多个区段。瞳孔图像705被分割为多个区段715，其是以界线711分隔。区段715具有大致相同的宽度d。定义区段的步骤配合图7C说明如后。 

图7C显示图7B的瞳孔图像705的第一区段715的示意图。瞳孔 图像705的灰阶是由在瞳孔图像705的地址的强度表示的。在图7C中，x表示对应于标准化强度高于约0.3的第一地址701；a表示对应于标准化强度低于约0.3的第二地址703；o表示对应于标准化强度为0的地址706；z表示对应于标准化强度高于约0.9的地址707。在某些实施例中，区段715包含中央区域721及界线区域723。中央区域721具有的第一地址701(亦即x)较每一个界线区域723所包含的第一地址701多。界线711是依据第一地址701(x)的周期性分布状况来定义。在某些实施例中，界线711是定义为界线区域723具有最少的第一地址701(x)之处。在其他实施例中，界线711是定义在对应于最多的第一地址701(x)的中央区域721。因此，依据这些实施例，本领域技术技术人员可以了解到，界线711可以设的位置，是为该第一地址的周期性分布状况中预定区段出现之处。 

需注意的是，图7C仅为一示意图。中央区域721并不一定包含5行地址，且每一界线区域723并不一定包含3行地址。在任何给定的实施例中，行数是可以选择的。在某些实施例中，中央区域721可以为地址的中央行，而界线区域723可以为紧邻于界线711的地址行。 

图7D显示依据一实施例的步骤730中瞳孔图像的区段转换的示意图。在该步骤中，定义瞳孔图像705的外曲线733。 

参见图7B，步骤730收集瞳孔图像705的区段715中位于边缘区域731的具有对应强度的该地址。如图7D(1)所示在边缘区域731的地址包含，具有表示x、a、o、z的地址，其定义是如上述。在某些实施例中，收集瞳孔图像705中的所有地址。但是，在某些实施例中，仅收集在边缘区域731中的地址，以减少步骤730的处理时间。 

当该地址在第一地址701(x)所形成的区域之外，并具有大 于约90％的标准化强度时，步骤730将该地址的标准化强度定义为0。如上所述，z表示地址707对应到高于约90％的强度。在图7D(1)中地址707(z)的强度是由噪声而来，并应予以消除，以避免在瞳孔图像705中造成混淆。地址707的强度被定义为0，且将z置换为0，如图7D(2)所示。 

参见图7D(2)，在转换之后，将瞳孔图像705中具有强度0的地址和紧邻于地址703(a)的地址连接，而形成外曲线733。 

在某些实施例中，步骤730也在瞳孔图像705中定义一内曲线743。图7E显示在步骤730中所述的一瞳孔图像的区段的转换的示意图。 

在步骤730中，收集在瞳孔图像705位于另一个边缘区域741的地址，其具有对应的强度，如图7B所示。在边缘区域741中的地址包含：具有表示x、a、o、z的地址，其定义是如上述，如图7E(1)所示，其内容不再赘述。在某些实施例中，收集瞳孔图像705中的所有地址。但是，在某些实施例中，仅收集在边缘区域741中的地址，以减少步骤730的处理时间。 

当该地址在第一地址701(x)所形成的区域之外，并具有大于约90％的标准化强度时，步骤730将该地址的对应强度定义为0。如上所述，z表示地址707对应到高于约90％的强度。在图7E(1)中地址707的强度是由噪声而来，并应予以消除，以避免在瞳孔图像705中造成混淆。地址707的强度被定义为0，且将z置换为0，如图7E(2)所示。 

在转换之后，将瞳孔图像705中具有强度0的地址和紧邻于地址703(a)的地址连接，而形成内曲线743。 

在某些实施例中，并不在步骤730中定义内曲线743。例如，图7B中所示第一区段715是位于瞳孔图像705的边缘。第一区段715包含边缘区域731，且并不包含边缘区域741。因此，并不针 对第一区段715实施在步骤730中对内曲线743的定义。在某些实施例中，若使用如图2A所示的圆形瞳孔图像，而不是使用图2B的环形瞳孔图像，则也可以步骤730中定义内曲线743的程序自方法中移除。本领域技术人员可以依据瞳孔图像的形状，来判断是否执行步骤730。 

步骤740是用以计算每一该区段715的有效区域。参见图7D(2)，计算在边缘区域731和界线区域711之间第一地址701及第二地址703的数量，该计算结果为第一数量T。在边缘区域731和界线区域711之间第一地址703的数量为第二数量N。区段715的有效区域定义为第二数量N与第一数量T之比，亦即，N/T。 

步骤750计数有效区域大于一第一预定值的区段715的数目。在某些实施例中，该第一预定值约为0.3。例如，在图7D(2)中，第一数量T为144，第二数量N为94。则有效区域约为0.65(94/144)，其大于0.3。因此，该第一区段715列入计算。若其他区段715的有效区域小于该预定值(亦即，0.3)，则该区段715就不纳入计算。 

步骤760决定是否要执行后续的步骤770。在步骤760中，若纳入计算的该区段715的数目大于一第二预定值，则执行步骤770，将该光源用于一光刻制程。该光源的品质是依据计算的区段数量决定的。在某些实施例中，第二预定值约介于16到18之间。在这些实施例中，若计算的区段715的数量落在16到18之间，则步骤760被满足，而该光源用于一光刻制程，如图7A的步骤770所示。相反地，若计算的区段715的数量不是落在16到18之间，则步骤760不被满足，则该光源的品质必须加以改进，如图3所示。在此状况下，使用修正后的光源，并重复步骤700到760，以决定该光源的品质，如图7A所示。 

本发明所提出的方法及系统，或者其中某些部分，可能以计 算机程序(计算机指令)的方式加以实现，此计算机程序(计算机指令)可能建置于储存介质中，如软盘(floppy diskette s)、光盘(CD-ROMS)、硬盘(hard drive s)、固件(firmware)或其他任何机器可辨读的储存介质中。当前述的计算机程序(计算机指令)经由如计算机等机器载入并执行时，此载入计算机程序(计算机指令)的机器即转换为一用以实现本发明的装置。再者，本发明所揭示的方法及系统可以计算机程序(计算机指令)的方式进行传输，传输介质如电线(ele ctrical wire)、电缆(cable)、光纤(fibe r optics)以及其他任何可进行传输的传输介质或无线传输(wirele s scommunication)。当前述传输的计算机程序(计算机指令)经由如计算机等机器载入并执行时，此载入计算机程序(计算机指令)的机器即转换为一用以实现本发明的装置。又再者，本发明所揭示的方法及系统可以计算机程序(计算机指令)的型态应用于一通用目的(ge neral-purpo se)处理器中，当前述应用于通用目的处理器的计算机程序(计算机指令)与该处理器相结合时，即提供一用以实现本发明的装置，其功能相当于具有特定功能的逻辑电路(logiccircuits)。 

虽然本发明已通过较佳实施例说明如上，但该较佳实施例并非用以限定本发明。本领域的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，应有能力对该较佳实施例做出各种更改和补充，因此本发明的保护范围以权利要求书的范围为准。 

附图中符号的简单说明如下： 

瞳孔图像：200、400、705 

光区段：210 

圆形：215 

遮蔽区域：220 

区段：715 

界线：711 

边缘区域：731、741 

第一地址：701 

第二地址：703 

地址：706、707 

中央区域：721 

界线区域：723 

外曲线：733 

内曲线：743 

Claims (5)

1.一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法包括：

将一影像感测器阵列曝光于一光源的光；

收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及所述地址对应的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度；

依据收集的该地址及该强度，定义该瞳孔图像的内曲线及/或外曲线；以及

当对应于10％标准化强度的地址都落在该内曲线的一第一环与该内曲线的一第二环之间的范围及/或当对应于90％标准化强度的地址都落在该外曲线的一第一环与该外曲线的一第二环之间的范围，将该光源用于一光刻制程；

其中，该内曲线的该第一环围住对应于总强度的7.5％的多个地址，该内曲线的该第二环围住对应于总强度的12.5％的多个地址，该总强度为收集的该强度之和；

其中，该外曲线的该第一环围住对应于总强度的87.5％的多个地址，该外曲线的该第二环围住对应于总强度的92.5％的多个地址，该总强度为收集的该强度之和。

2.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该内曲线及该外曲线包含下列至少其中之一：圆形、椭圆形及一大致圆形。

3.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，进一步包含：

将该地址及该强度转换为一三次元图像；

定义该内曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的10％；

定义该外曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的90％；以及

将该三次元图像横剖，以产生介于该内曲线及该外曲线之间的一强度分布模式。

4.根据权利要求3所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该强度分布模式是由一多项式回归方法所产生。

5.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，进一步包含：

将该地址及该强度转换为一三次元图像；

定义该内曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的7.5％～12.5％；

定义该外曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的87.5％～92.5％；以及

将该三次元图像横剖，以产生介于该内曲线及该外曲线之间的一强度分布模式。

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