DE102007013763A1 - Elektroplattierungsverfahren - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006-085043 | 2006-03-27 | ||
JP2006085043A JP2007262430A (ja) | 2006-03-27 | 2006-03-27 | 電気めっき方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102007013763A1 true DE102007013763A1 (de) | 2007-10-04 |
Family
ID=38460475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102007013763A Withdrawn DE102007013763A1 (de) | 2006-03-27 | 2007-03-22 | Elektroplattierungsverfahren |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070221506A1 (zh) |
JP (1) | JP2007262430A (zh) |
KR (1) | KR20070096910A (zh) |
CN (1) | CN101070604B (zh) |
DE (1) | DE102007013763A1 (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2143828B1 (en) * | 2008-07-08 | 2016-12-28 | Enthone, Inc. | Electrolyte and method for the deposition of a matt metal layer |
DE102008033174B3 (de) * | 2008-07-15 | 2009-09-17 | Enthone Inc., West Haven | Cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht und Verfahren zur Abscheidung einer kupferhaltigen Schicht |
CN101771142B (zh) * | 2010-02-10 | 2012-09-19 | 力佳电源科技(深圳)有限公司 | 一种软包锂电池极耳材料及其电镀和应用方法 |
US20110272289A1 (en) * | 2010-05-10 | 2011-11-10 | Eci Technology, Inc. | Boric acid replenishment in electroplating baths |
US8425751B1 (en) | 2011-02-03 | 2013-04-23 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Systems and methods for the electrodeposition of a nickel-cobalt alloy |
JP5631775B2 (ja) * | 2011-02-24 | 2014-11-26 | 新光電気工業株式会社 | 複合めっき液 |
US10083769B2 (en) * | 2013-10-24 | 2018-09-25 | Kurita Water Industries Ltd. | Treatment method and treatment apparatus of iron-group metal ion-containing liquid, method and apparatus for electrodepositing Co and Fe, and decontamination method and decontamination apparatus of radioactive waste ion exchange resin |
KR101665617B1 (ko) * | 2014-07-31 | 2016-10-14 | 주식회사 필머티리얼즈 | 저열팽창 철-니켈-코발트 3원계 합금의 전주도금 조성물 및 이를 이용하여 전주도금된 저열팽창 철-니켈-코발트 3원계 합금 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2990343A (en) * | 1955-02-11 | 1961-06-27 | William H Safranek | Chromium alloy plating |
US3697391A (en) * | 1970-07-17 | 1972-10-10 | M & T Chemicals Inc | Electroplating processes and compositions |
CH572989A5 (zh) * | 1973-04-27 | 1976-02-27 | Oxy Metal Industries Corp | |
US4430171A (en) * | 1981-08-24 | 1984-02-07 | M&T Chemicals Inc. | Electroplating baths for nickel, iron, cobalt and alloys thereof |
JPS62109991A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-05-21 | C Uyemura & Co Ltd | 電気めつき液 |
CN1021237C (zh) * | 1991-05-14 | 1993-06-16 | 沈阳电镀厂 | 稀土永磁体电镀多层镍的方法 |
JP2982658B2 (ja) * | 1994-06-10 | 1999-11-29 | 上村工業株式会社 | 電気めっき液中の金属濃度の低下方法 |
JPH0813200A (ja) * | 1994-06-28 | 1996-01-16 | Hitachi Metals Ltd | 合金メッキ層の製造方法 |
US20030066756A1 (en) * | 2001-10-04 | 2003-04-10 | Shipley Company, L.L.C. | Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate |
-
2006
- 2006-03-27 JP JP2006085043A patent/JP2007262430A/ja active Pending
-
2007
- 2007-03-07 US US11/682,987 patent/US20070221506A1/en not_active Abandoned
- 2007-03-22 DE DE102007013763A patent/DE102007013763A1/de not_active Withdrawn
- 2007-03-23 KR KR1020070028746A patent/KR20070096910A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-03-27 CN CN2007100897248A patent/CN101070604B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101070604B (zh) | 2011-05-18 |
KR20070096910A (ko) | 2007-10-02 |
JP2007262430A (ja) | 2007-10-11 |
US20070221506A1 (en) | 2007-09-27 |
CN101070604A (zh) | 2007-11-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
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