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Die
vorliegende Erfindung betrifft eine Schaltungsanordnung mit einer
nicht-flüchtigen
Speicherzelle, eine Verwendung der Schaltungsanordnung und ein Verfahren
zum Betrieb einer nicht-flüchtigen Speicherzelle.
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Nicht-flüchtige Speicherzellen
sind weit verbreitete Elemente, um Daten wie Seriennummern, Trimmeinstellungen
von analogen Schaltungen oder eine Nummer eines Halbleiterkörpers dauerhaft
in einem Halbleiterkörper
zu speichern.
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Die
Dokumente
US 4,730,129 ,
US 5,404,049 ,
US 5,418,487 ,
US 5,731,733 ,
US 6,091,273 ,
US 6,384,664 B1 und
US 6,819,144 B2 beschreiben
Schaltungsanordnungen zum Betreiben nicht-flüchtiger
Speicherzellen, ausgebildet als Sicherung, englisch Fuse.
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Die
Dokumente
US 6,421,293
B1 und
US 6,525,955
B1 zeigen einmal programmierbare Speicherzellen, bei denen
während
des Programmierens ein Parameter eines Isolators verändert wird,
und eine dazugehörige
Schaltungsanordnung.
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Das
Dokument
US 2005/0212086
A1 beschreibt eine Antifuse, die als Zenerdiode ausgebildet
ist und die im programmierten Zustand einen niedrigen Widerstandswert
und im nicht-programmierten Zustand einen hohen Widerstandswert
aufweist.
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Die
Dokumente "Lifetime
Study for a Polyfuse in a 0.35 μm
Polycide CMOS Process",
J. Fellner, P. Bösmüller, H.
Reiter, 43rd Annual IEEE International Reliability Physics Symposium,
17.–21.
April 2005, Tagungsband, Seiten 446–449 und "A One Time Programming Cell Using More
than Two Resistance Levels of a PolyFuse", J. Fellner, 27th Annual IEEE Custom
Integrated Circuits Conference, 18.–21. September 2005, Tagungsband,
Seiten 263–266
sowie
US 5,976,943 befassen
sich mit programmierbaren Widerständen, die zwei Schichten umfassen.
Die zuerst auf dem Halbleiterkörper
abgeschiedene Schicht weist Polysilizium und die als zweite auf
den Halbleiterkörper
abgeschiedene Schicht ein Silizid auf.
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Dokument
US 2002/0008544 A1 betrifft
einen Schaltkreis mit einem ersten und einem zweiten Sicherungselement
sowie einem ersten und einem zweiten Inverter. Ein Ausgang des ersten
Inverters ist mit einem Eingang des zweiten Inverters und ein Ausgang
des zweiten Inverters ist mit einem Eingang des ersten Inverters
verbunden. Das erste Sicherungselement verbindet einen Versorgungsanschluss
mit dem ersten Inverter und das zweite Sicherungselement verbindet
den Versorgungsanschluss mit dem zweiten Inverter.
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Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ist es, eine Schaltungsanordnung mit
einer nicht-flüchtigen Speicherzelle
sowie ein Verfahren zum Betrieb einer nicht-flüchtigen Speicherzelle bereitzustellen,
die eine genaue Auswertung des Programmierzustands der nicht-flüchtigen
Speicherzelle und eine Realisierung der Schaltungsanordnung mit
einem geringen Aufwand an Bauelementen gewährleisten.
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Diese
Aufgabe wird mit dem Gegenstand des Patentanspruchs 1 sowie dem
Verfahren gemäß Patentanspruch
14 gelöst.
Weiterbildungen und Ausgestaltungen sind jeweils Gegenstand der
abhängigen
Ansprüche.
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Erfindungsgemäß umfasst
eine Schaltungsanordnung eine nicht-flüchtige
Speicherzelle, ein Referenzelement und einen Komparator. Ein differenzieller
Strompfad verbindet einen Versorgungsspannungsanschluss mit einem
Bezugspotenzialanschluss. Der Komparator ist symmetrisch ausgebildet und
in den differenziellen Strompfad geschaltet. Der Komparator weist
eine Selbsthaltefunktion auf. Die nicht-flüchtige Speicherzelle ist in
einem ersten Zweig des differenziellen Strompfades geschaltet und
das Referenzelement ist in einen zweiten Zweig des differenziellen
Strompfades geschaltet.
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Aufgrund
der unterschiedlichen Widerstandswerte des Referenzelementes und
der nicht-flüchtigen
Speicherzelle fließen
unterschiedliche Ströme
im ersten und im zweiten Zweig des differenziellen Strompfades.
Mittels des Komparators wird der unterschiedliche Stromfluss im
ersten Zweig und im zweiten Zweig ermittelt. Aufgrund der Selbsthaltefunktion
des Komparators wird ein derart gewonnenes Ausgangssignal ausgangsseitig
an dem Komparator bereitgestellt. Das Ausgangssignal wird somit
in Abhängigkeit
von dem Widerstandswert der nicht-flüchtigen
Speicherzelle und von dem Widerstandswert des Referenzelements erzeugt.
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Es
ist ein Vorteil der Schaltungsanordnung, dass aufgrund der Integration
der Komparatorfunktion und der Selbsthaltefunktion in einem Block
ein schaltungstechnischer Aufwand gering gehalten werden kann. Mit
Vorteil ist mittels des Komparators und des Referenzelements der
Programmierzustand der nicht-flüchtigen
Speicherzelle genau auswertbar.
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Der
Komparator mit Selbsthaltefunktion umfasst einen ersten und einen
zweiten Inverter. Der erste Inverter koppelt einen Versorgungsanschluss des
ersten Inverters mit einem Bezugspo tenzialanschluss. Entsprechend
koppelt der zweite Inverter einen Versorgungsanschluss des zweiten
Inverters mit dem Bezugspotenzialanschluss. Der erste Inverter und
der zweite Inverter weisen jeweils einen Eingang und einen Ausgang
auf. Der Eingang des zweiten Inverters ist mit dem Ausgang des ersten
Inverters sowie der Ausgang des zweiten Inverters ist mit dem Eingang
des ersten Inverters verbunden. Durch die unterschiedlichen Ströme in den
beiden Zweigen des differentiellen Strompfades laden sich die beiden Zweige
verschieden schnell auf. Dieser Unterschied wird vom symmetrischen
Komparator mit einem digitalen Ausgangssignal bewertet. Die Rückkopplung der
beiden Inverter gewährleistet
die Selbsthaltefunktion des Ausgangssignals des Komparators.
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Die
Schaltungsanordnung umfasst eine Schreibanordnung mit einem ersten
Schalter, der einen ersten Eingang der Schreibanordnung mit dem Ausgang
des ersten Inverters koppelt, und einem zweiten Schalter, der einen
zweiten Eingang der Schreibanordnung mit dem Ausgang des zweiten
Inverters koppelt. Weiter weist die Schreibanordnung einen Steuereingang
auf, der mit einem Steueranschluss des ersten Schalters und einem
Steueranschluss des zweiten Schalters gekoppelt ist.
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In
einer Ausführungsform
koppelt die nicht-flüchtige
Speicherzelle den Versorgungsspannungsanschluss mit dem Versorgungsanschluss
des ersten Inverters sowie das Referenzelement den Versorgungsspannungsanschluss
mit dem Versorgungsanschluss des zweiten Inverterskoppelt. In einer
Ausführungsform
weist der erste Inverter einen ersten und einen zweiten Transistor
sowie der zweite Inverter ebenfalls einen ersten und einen zweiten Transistor
auf.
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In
einer Weiterbildung koppelt ein erster Ladetransistor den Ausgang
des ersten Inverters mit dem Bezugspotenzialanschluss und koppelt
ein zweiter Ladetransistor den Ausgang des zweiten Inverters mit
dem Bezugspotenzialanschluss. Der erste und der zweite Ladetransistor
sind an jeweils einem Steueranschluss miteinander verbunden. Sind der
erste und der zweite Ladetransistor leitend geschaltet, so befinden
sich der Ausgang des ersten Inverters und der Ausgang des zweiten
Inverters auf einem niedrigen Potenzial, näherungsweise dem Bezugspotenzial.
Wird in einem folgenden Schritt der erste und der zweite Ladetransistor
gleichzeitig sperrend geschaltet, so laden die nicht-flüchtige Speicherzelle
und das Referenzelement die Ausgänge der
beiden Inverter auf. Weist die nicht-flüchtige Speicherzelle einen
höheren
Widerstandswert verglichen mit dem Referenzelement auf, so steigt
ein Potenzial an dem Ausgang des zweiten Inverters schneller an
als ein Potenzial an dem Ausgang des ersten Inverters. Ist die Schaltschwelle
des zweiten Inverters erreicht, so ist an dem Ausgang des zweiten Inverters
ein hohes Potenzial abgreifbar. Aufgrund der Verbindung des Ausgangs
des zweiten Inverters mit dem Eingang des ersten Inverters wird
der erste Inverter derart angesteuert, dass er an seinem Ausgang
ein niedriges Potenzial bereitstellt. Das umgekehrte gilt für den Fall,
dass die nicht-flüchtige
Speicherzelle einen niedrigeren Widerstandswert verglichen mit dem
Referenzelement aufweist.
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Die
nicht-flüchtige
Speicherzelle kann eine maskenprogrammierte Speicherzelle sein.
Alternativ kann die nicht-flüchtige Speicherzelle
eine reversibel programmierbare Speicherzelle umfassen. In einer weiteren
alternativen Ausführungsform
kann die nicht-flüchtige
Speicherzelle als irreversibel programmierbare Speicherzelle realisiert
sein.
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Die
nicht-flüchtige
Speicherzelle kann als Widerstand realisiert sein, wobei ein Programmierstrom
den Widerstandswert der nicht-flüchtigen
Speicherzelle irreversibel vergrößert. Alternativ
kann die nicht-flüchtige
Speicherzelle eine Sicherung, englisch Fuse, sein, die mittels eines
Laserstrahles programmiert wird. Bevorzugt ist die nicht-flüchtige Speicherzelle
als Sicherung, englisch Fuse, realisiert, die einen mittels eines
Programmierstroms aufschmelzbaren Widerstand umfasst. Die nicht-flüchtige Speicherzelle
kann einen Metallwiderstand, einen Polysiliziumwiderstand oder einen
kombinierten Polysilizium/Silizid-Widerstand aufweisen.
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In
einer alternativen Ausführungsform
kann die nicht-flüchtige Speicherzelle
als Antifuse-Element realisiert sein, wobei der Widerstandswert
irreversibel mittels eines Programmierstroms verkleinerbar ist.
In einer Ausführungsform
kann das Antifuse-Element als Diode, insbesondere als Zenerdiode,
realisiert sein.
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Das
Referenzelement kann als Widerstand realisiert sein, der einen Widerstandswert
aufweist, welcher bevorzugt zwischen den Widerstandswerten der nicht-flüchtigen
Speicherzelle vor und nach dem Programmieren liegt.
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Die
Schaltungsanordnung kann einen Programmiertransistor aufweisen,
der zwischen einen Anschluss der nicht-flüchtigen Speicherzelle und den Bezugspotenzialanschluss
geschaltet ist. Ein weiterer Anschluss der nicht-flüchtigen
Speicherzelle ist mit dem Versorgungsspannungsanschluss verbunden.
Wird der Programmiertransistor leitend geschaltet, so fließt ein hoher
Strom durch die nicht-flüchtige Speicherzelle
und stellt einen Widerstandswert der nicht-flüchtigen Speicherzelle ein,
so dass die nicht-flüchtige
Speicherzelle programmiert wird.
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In
einer Ausführungsform
weist die Schaltungsanordnung ein Kompensationselement auf, das mit
einem Anschluss des Referenzelementes verbunden ist und an den zweiten
Zweig des differenziellen Strompfads angekoppelt ist. Das Kompensationselement
dient zur Kompensation der kapazitiven Last, die von dem Programmiertransistor
im ersten Zweig des differenziellen Strompfads hervorgerufen ist.
Mit Vorteil kann mittels des Kompensationselements eine symmetrische
kapazitive Belastung an den Versorgungsanschlüssen des ersten und der zweiten
Inverters erreicht werden. Mit Vorteil sind somit die kapazitiven
und resistiven Lasten in dem ersten und dem zweiten Zweig des Strompfads
abgesehen von den Widerstandswerten der nicht-flüchtigen Speicherzelle
und des Referenzelements näherungsweise
gleich.
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Die
Schaltungsanordnung kann auf einem Halbleiterkörper ausgebildet sein. Die
Schaltungsanordnung kann in einer Bipolar-Integrationstechnik realisiert sein
und Transistoren umfassen, die als Bipolartransistoren ausgebildet
sind. Bevorzugt kann sie mittels einer Complementary Metal-Oxide-Semiconductor
Integrationstechnik hergestellt sein und Transistoren aufweisen,
die als Feldeffekttransistoren realisiert sind.
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Die
Schaltungsanordnung kann zu einer dauerhaften Speicherung von Daten
verwendet werden. Die Daten können
eine Seriennummer oder eine Identifikationsnummer für den Halbleiterkörper umfassen.
Alternativ kann die Schaltungsanordnung zur Speicherung einer Trimmeinstellung
einer analogen Schaltung, insbesondere eines Analog/Digital- oder eines
Digital/Analog-Wandlers,
vorgesehen sein. Sie kann zum Reparieren eines Random Access Memory,
abgekürzt
RAM, mittels Anschalten von redundanten Zeilen oder Spalten anstelle
defekter Zeilen oder Spalten dienen.
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Erfindungsgemäß sieht
ein Verfahren zum Betrieb einer nicht-flüchtigen
Speicherzelle folgende Schritte vor: Eine Versorgungsspannung wird
bereitgestellt. Ein Ausgangssignal und ein invertiertes Ausgangssignal
werden in Abhängigkeit
von einem Widerstandswert einer nicht-flüchtigen Speicherzelle und von
einem Widerstandswert eines Referenzelements eingestellt und gehalten.
Dabei sind die nicht-flüchtige
Speicherzelle in einen ersten Zweig und das Referenzelement in einen
zweiten Zweig eines differenziellen Strompfades geschaltet. Der
differenzielle Strompfad fließt
durch einen Komparator.
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Mit
Vorteil gewährleisten
der Komparator und das Referenzelement ein genaues Auslesen der in
der nicht-flüchtigen
Speicherzelle gespeicherten Information.
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Das
Verfahren zum Betrieb einer nicht-flüchtigen Speicherzelle umfasst
ein Einstellen und Halten eines Ausgangssignals mit einem Wert 1
und eines invertierten Ausgangssignals mit einem Wert 0 im Fall,
dass eine nicht-flüchtige
Speicherzelle einen höheren
Widerstandswert als ein Referenzelement aufweist, und ein Einstellen
und Halten des Ausgangssignals mit einem Wert 0 und des invertierten
Ausgangssignals mit einem Wert 1 im Fall, dass die nicht-flüchtige Speicherzelle
einen niedrigeren Widerstandswert als das Referenzelement aufweist. Dabei
werden die nicht-flüchtige
Speicherzelle und ein erster Zweig des differenziellen Strompfades
eines Komparators von einem ersten Strom und das Referenzelement
und ein zweiter Zweig des differenziellen Strompfades von einem
zweiten Strom durchflossen. Das Ausgangssignal und das invertierte Ausgangssignal
werden durch Überschreiben
des Ausgangssignals mit einem Einstellsignal und des invertierten
Ausgangssignals mit einem invertierten Einstellsignal eingestellt.
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Die
Erfindung wird nachfolgend an mehreren Ausführungsbeispielen anhand der
Figuren näher
erläutert.
Funktions- beziehungsweise wirkungsgleiche Bauelemente tragen gleiche
Bezugszeichen. Insoweit sich Schaltungsteile oder Bauelemente in
ihrer Funktion entsprechen, wird deren Beschreibung nicht in jeder
der folgenden Figuren wiederholt.
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1 zeigt
eine beispielhafte Ausführungsform
einer Schaltungsanordnung mit einer nicht-flüchtigen
Speicherzelle nach dem vorgeschlagenen Prinzip,
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2 zeigt
eine beispielhafte Weiterbildung der Schaltungsanordnung mit einer
nicht- flüchtigen Speicherzelle
nach dem vorgeschlagenen Prinzip,
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3A bis 3C zeigen
eine beispielhafte Ausführungsform
einer nicht-flüchtigen
Speicherzelle, die als Sicherung ausgebildet ist, und
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4 zeigt
eine beispielhafte Ausführungsform
einer nicht-flüchtigen
Speicherzelle, die als Antifuse realisiert ist.
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1 zeigt
eine beispielhafte Ausführungsform
einer Schaltungsanordnung mit einer nicht-flüchtigen Speicherzelle 10 nach
dem vorgeschlagenen Prinzip. Die Schaltungsanordnung weist einen
ersten Zweig 35 und einen zweiten Zweig 55 auf,
die zwischen einen Versorgungsspannungsanschluss 9 und
einen Bezugspotenzialanschluss 8 geschaltet sind. Der erste
und der zweite Zweig bilden zusammen einen differenziellen Strompfad eines Komparators 3.
Der Komparator 3 weist einen ersten Inverter 11 und
einen zweiten Inverter 21 auf. Der erste Inverter 11 ist
zwischen einen Versorgungsanschluss 12 des ersten Inverters 12 und
den Bezugspotenzialanschluss 8 geschaltet und weist einen ersten
Transistor 30 und einen zweiten Transistor 40 auf,
die zueinander in Serie geschaltet sind. Die Transistoren 30, 40 sind
eingangsseitig mit einem Eingang 14 des ersten Inverters 11 verbunden.
Ein Abgriff zwischen dem ersten und dem zweiten Transistor 30, 40 des
ersten Inverters 11 bildet einen Ausgang 15 des
ersten Inverters 11. Entsprechend weist der zweite Inverter 21 einen
ersten Transistor 50 und einen zweiten Transistor 60 auf,
die zwischen einen Versorgungsanschluss 22 des zweiten
Inverters 21 und den Bezugspotenzialanschluss 8 geschaltet sind.
Die beiden Transistoren 50, 60 des zweiten Inverters 21 sind
eingangsseitig an einem Eingang 24 des zweiten Inverters 21 angeschlossen.
Ein Knoten zwischen dem ersten und dem zweiten Transistor 50, 60 des
zweiten Inverters 21 dient als Ausgang 25 des zweiten
Inverters 21. Der Ausgang 15 des ersten Inverters 11 ist
mit dem Eingang 24 des zweiten Inverters 21 und
der Ausgang 25 des zweiten Inverters 21 ist mit
dem Eingang 14 des ersten Inverters 11 verbunden.
Der Ausgang 15 des ersten Inverters 11 ist über einen
ersten Ladetransistor 70 und der Ausgang 25 des
zweiten Inverters 21 ist über einen zweiten Ladetransistor 80 mit
dem Bezugspotenzialanschluss 8 gekoppelt. Der erste und
der zweite Ladetransistor 70, 80 sind eingangsseitig
miteinander verbunden.
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An
dem Versorgungsspannungsanschluss 9 ist eine Versorgungsspannung
VDD angeschlossen. Den Steueranschlüssen des ersten und des zweiten Ladetransistors 70, 80 ist
ein Ladesignal LOAD zuführbar.
Der erste und der zweite Ladetransistor 70, 80 sind
in einem ersten Betriebszustand leitend geschaltet.
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Somit
ist der erste Transistor 30 und der erste Transistor 50 des
ersten und des zweiten Inverters 11, 21 leitend
und der zweite Transistor 40 und der zweite Transistor 60 des
ersten und des zweiten Inverters 11, 21 sperrend
geschaltet. In den beiden Zweigen des differentiellen Strompfades
treten auf Grund der unterschiedlichen Widerstände der nicht-flüchtigen
Speicherzelle 10 und des Referenzelements 20 verschieden
große
Ströme
I1, I2 auf, die an den Versorgungsanschlüssen 12 und 22 unterschiedliche
Spannungspotentiale hervorrufen. Werden die beiden Ladetransistoren 70 und 80 sperrend geschaltet,
detektiert der Komparator 3 den Spannungsunterschied zwischen
den Versorgungsanschlüssen 12 und 22 und
speichert das Ergebnis selbsthaltend in den beiden Invertern 11 und 21 ab.
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Weist
die nicht-flüchtige
Speicherzelle 10 einen kleineren Widerstandswert als das
Referenzelement 20 auf, so steigt die invertierte Ausgangsspannung
NVOUT schneller als die Ausgangsspannung VOUT an, so dass aufgrund
der Rückkopplung
des ersten und des zweiten Inverters 11, 21 der
zweite Transistor 60 des zweiten Inverters 21 sowie
der erste Transistor 30 des ersten Inverters 11 leitend
und die beiden weiteren Transistoren 50, 40 als
Sperre geschaltet sind. An dem Ausgang 15 des ersten Inverters 11 ist
ein inverses Ausgangssignal NVOUT und an dem Ausgang 25 des
zweiten Inverters 21 ein Ausgangssignal VOUT abgreifbar.
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Mit
Vorteil kann somit mit wenigen Bauelementen ein Zustand der nicht-flüchtigen
Speicherzelle 10 erfasst und das Ausgangssignal VOUT gehalten
werden.
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2 zeigt
eine beispielhafte Weiterbildung der in 1 gezeigten
Ausführungsform
einer Schaltungsanordnung mit einer nicht-flüchtigen Speicherzelle. Zusätzlich zu
der Schaltungsanordnung gemäß 1 weist
die Schaltungsanordnung in 2 einen Programmiertransistor 150 auf,
der den Versorgungsanschluss 12 des ersten Inverters 11 mit
dem Bezugspotenzialanschluss 8 verbindet. Zusätzlich ist ein
Kompensationselement 160 an den Versorgungsanschluss 22 des
zweiten Inverters 21 angeschlossen. Das Kompensationselement 160 ist
als Transistor ausgebildet.
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An
den Ausgang 15 des ersten Inverters 11 ist ein
erster Puffer 135 und an den Ausgang 25 des zweiten
Inverters 21 ist ein zweiter Puffer 115 angeschlossen.
Der erste Puffer 135 weist einen Inverter, umfassend einen
ersten und einen zweiten Transistor 140, 130,
auf, der zwischen den Versorgungsspannungsanschluss 9 und
den Bezugspotenzialanschluss 8 geschaltet ist. Entsprechend
weist der zweite Puffer 115 einen Inverter, umfassend einen Transistor 120 und
einen Transistor 110, auf, der zwischen den Bezugspotenzialanschluss 8 und
den Versorgungsspannungsanschluss 9 geschaltet ist. Die Eingänge der
beiden Transistoren 130, 140 des ersten Puffers 135 sind
mit dem Ausgang 15 des ersten Inverters 11 sowie
die Eingänge
der Transistoren 120, 110 des zweiten Puffers 115 mit
dem Ausgang 25 des zweiten Inverters 21 verbunden.
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Dem
Ausgang 15 des ersten Inverters 11 ist ein erster
Schalter 100 einer Schreibanordnung 89 vorgeschaltet.
Ebenso ist dem Ausgang 25 des zweiten Inverters 21 ein
zweiter Schalter 90 der Schreibanordnung 89 vorgeschaltet.
Die Steueranschlüsse des
ersten und des zweiten Schalters 90, 100 sind miteinander
und mit einem Steuereingang 92 der Schreibanordnung 89 verknüpft.
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Die
Transistoren 30, 40, 50, 60, 70, 80, 110, 120, 130, 140, 150, 160 und
die Schalter 90, 100 können als Feldeffekttransistoren,
insbesondere als Metall-Oxid-Halbleiter Feldeffekttransistoren,
abgekürzt MOSFETs,
realisiert sein.
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Der
Programmiertransistor 150 dient zum Bereitstellen eines
ersten Stromes I1 mit einem hohen Stromwert, der durch die nicht-flüchtige Speicherzelle 10 zur
Durchführung
eines Programmiervorgangs fließt.
Durch seine Größe stellt
der Programmiertransistor 150 eine kapazitive Last an dem Versorgungsanschluss 12 dar.
Beim oben beschriebenen Auslesevorgang werden die beiden Zweige 35, 55 des
differentiellen Strompfades mit Vorteil in gleicher Weise kapazitiv
belastet, um eine symmetrische Auslegung des Komparators 3 zu
gewährleisten.
Dazu wird der Versorgungsanschluss 22 des zweiten Inverters 21 mit
dem Kompensationselement 160 verbunden. Dieses Kompensationselement 160 ist
als Transistor ausgebildet, und stellt für den zweiten Zweig 55 des
differentiellen Strompfades die gleiche kapazitive Belastung dar,
wie der Programmiertransistor 150 für den ersten Zweig 35 des
differentiellen Strompfads.
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Mit
Vorteil ist an den beiden Ausgängen 15, 25 des
ersten und des zweiten Inverters 11, 21 jeweils
ein Puffer 115, 135 nachgeschaltet, sodass eine
kapazitive Last an dem Ausgang 15 des ersten Inverters 11 und
eine kapazitive Last an dem Ausgang 25 des zweiten Inverters 21 näherungsweise gleich
sind und nicht von in 2 nicht gezeigten Schaltungen,
die ausgangsseitig dem ersten und dem zweiten Inverter 11, 21 nachgeschaltet
sind, geändert
werden kann. Somit beeinflussen nachgeschaltete Schaltungen nicht
den Einstell- und Umschaltvorgang des ersten und des zweiten Inverters 11, 21.
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Mit
Vorteil kann mittels der Schreibanordnung 89 das Ausgangssignal
VOUT mit dem Wert eines Einstellsignals DATAIN und das invertierte
Ausgangssignal NVOUT mit dem Wert des invertierten Einstellsignals
NDATAIN bereitgestellt werden, sobald mittels eines Schreibsteuersignals
WRITE die beiden Schalter 90, 100 leitend geschaltet
sind. Mit Vorteil ist es daher möglich,
Daten auf eine zweite Art und Weise in den beiden Invertern 11 und 21 zu
speichern, sofern die nicht-flüchtige Speicherzelle 10 niederohmig
ist. Damit können
für Testzwecke
Daten unabhängig
von der nicht-flüchtigen
Speicherzelle 10 gespeichert werden.
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Ist
die nicht-flüchtige
Speicherzelle 10 mittels eines Laserstrahls programmierbar,
so können
in einer alternativen Ausführungsform
der Programmiertransistor 150 und das Kompensationselement 160 entfallen.
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In
einer alternativen Ausführungsform
kann ein gestrichelt eingezeichneter Programmieranschluss 170 anstelle
des Programmiertransistors 150 mit dem Versorgungsanschluss 12 des
ersten Inverters 11 verbunden sein. Der Programmieranschluss 170 kann
als von außen
kontaktierbarer Anschluss, englisch pad, ausgebildet sein. Wird
eine Spannung unterhalb der Versorgungsspannung VDD an den Programmieranschluss 170 angelegt,
so kann der erste Strom I1 mit einem hohen Wert fließen. Durch diesen
Strom I1 ist ein Programmieren der nicht-flüchtigen
Speicherzelle 10 möglich.
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3A bis 3C zeigen
eine beispielhafte Ausführungsform
einer nicht-flüchtigen
Speicherzelle 10, die als Sicherung ausgebildet ist. Die
nicht-flüchtige
Speicherzelle 10 ist als Polyfuse realisiert.
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3A zeigt
eine beispielhafte Aufsicht auf die nicht-flüchtige
Speicherzelle 10. Diese umfasst einen mittleren Bereich 200 und
einen ersten und einen zweiten Anschluss 201, 202,
die über
den mittleren Bereich 200 miteinander verbunden sind. Der erste
und der zweite Anschluss 201, 202 weisen jeweils
mehrere Kontakte 203 auf.
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3B zeigt
einen Querschnitt der nicht-flüchtigen
Speicherzelle 10, dessen Lage in 3A eingezeichnet
ist. Die nicht-flüchtige
Speicherzelle 10 ist auf einer Isolatorschicht 205,
welche wiederum auf einem Träger 204 realisiert
ist, angeordnet. Der mittlere Bereich 200 weist eine Doppelschicht
aus einer Polysilizium-Schicht 206 und einer Silizid-Schicht 207 auf.
Die Polysilizium-Schicht 206 ist auf dem Isolator 205 und
die Silizid-Schicht 207 auf der Polysilizium-Schicht 206 abgeschieden.
Die Kontakte 203 sind mit der Silizid-Schicht 207 verbunden.
In 3B ist die nicht-flüchtige Speicherzelle 10 vor
dem Programmiervorgang gezeigt.
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3C zeigt
die nicht-flüchtigen
Speicherzelle 10 nach einem Programmiervorgang mit einem ausreichend
großen
Wert des Programmierstromes. Nach dem Programmiervorgang ist das
Silizid-Material 207 vor allem an dem ersten Anschluss 201 angeordnet.
Die ursprüngliche
Polysilizium-Schicht 206 und die Silizid-Schicht 207 haben
sich entmischt. Der Rest bildet eine polymorphe Siliziumschicht 208,
die sich mit dem Isolator 205 und der Isolatorschicht 209 vermischt
hat. Die nicht-flüchtige Speicherzelle 10 gemäß 3C weist
einen Widerstand im Megaohm-Bereich auf.
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4 zeigt
eine weitere beispielhafte Ausführungsform
einer nicht-flüchtigen
Speicherzelle 10, die als Antifuse ausgebildet ist und
eine Diode umfasst. Die Diode ist als Zener diode realisiert. 4A zeigt die nicht-flüchtige Speicherzelle 10 in
Aufsicht. Diese weist entgegengesetzt dotierte Gebiete 302, 303 auf,
die einen lateralen pn-Übergang
in einem Kontaktgebiet 300 ausbilden. Das Gebiet 302 ist n-dotiert; das Gebiet 303 ist
p-dotiert. Auf den beiden dotierten Gebieten 302, 303 sind
Anschlüsse 304, 305 angeordnet.
Die nicht-flüchtige
Speicherzelle 10 ist mittels eines ersten Stroms I1 programmierbar. Vor
dem Programmieren weist die Diode einen hohen Widerstandswert und
einen vergleichbar niedrigen Leckstrom und nach dem Programmieren
einen niedrigen Widerstandswert und einen hohen Stromfluss auf.
Im programmierten Zustand kann die Diode näherungsweise ein Verhalten
wie ein Widerstand zeigen.
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- 3
- Komparator
- 8
- Bezugspotenzialanschluss
- 9
- Versorgungsanschluss
- 10
- nicht-flüchtige Speicherzelle
- 11
- erster
Inverter
- 12
- Versorgungsanschluss
- 14
- Eingang
- 15
- Ausgang
- 20
- Referenzelement
- 21
- zweiter
Inverter
- 22
- Versorgungsanschluss
- 24
- Eingang
- 25
- Ausgang
- 30
- erster
Transistor
- 35
- erster
Zweig
- 40
- zweiter
Transistor
- 50
- erster
Transistor
- 55
- zweiter
Zweig
- 60
- zweiter
Transistor
- 70
- erster
Ladetransistor
- 80
- zweiter
Ladetransistor
- 89
- Schreibanordnung
- 90
- zweiter
Schalter
- 91
- zweiter
Eingang
- 92
- Steuereingang
- 100
- erster
Schalter
- 101
- erster
Eingang
- 110
- Transistor
- 115
- zweiter
Puffer
- 120
- Transistor
- 130
- Transistor
- 135
- erster
Puffer
- 140
- Transistor
- 150
- Programmiertransistor
- 160
- Kompensationselement
- 170
- Programmieranschluss
- 200
- mittlerer
Bereich
- 201,
202
- Anschluss
- 203
- Kontakt
- 204
- Träger
- 205
- Isolator
- 206
- Polysilizium-Schicht
- 207
- Silizid-Schicht
- 208
- polymorphe
Siliziumschicht
- 209
- Isolatorschicht
- 300
- Kontaktgebiet
- 302
- n-dotiertes
Gebiet
- 303
- p-dotiertes
Gebiet
- 304,
305
- Anschlüsse
- BURN
- Programmiersignal
- DATAIN
- Einstellsignal
- DATAOUT
- gepufferte
Ausgangsspannung
- I1
- erster
Strom
- I2
- zweiter
Strom
- LOAD
- Ladesignal
- VOUT
- Ausgangsspannung
- VDD
- Versorgungsspannung
- VSS
- Bezugspotenzial
- NDATAIN
- invertiertes
Einstellsignal
- NDATAOUT
- gepufferte,
invertierte Ausgangsspannung
- NVOUT
- invertierte
Ausgangsspannung
- WRITE
- Schreibsteuersignal