DE102005027365A1 - Hochdrucksensoreinrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf eine Hochdrucksensoreinrichtung mit einem Drucksensorelement (1) und einer elektrischen Schaltung insbesondere in Form eines Halbleiterbauelementes (13, 13'), wobei das Drucksensorelement (1) eine unter Druckeinfluss verformbare Membran (3) sowie eine Funktionsschicht (5) aufweist, die bei Verformung eine elektrische Eigenschaft ändert und die wenigstens einen elektrischen Anschlussbereich (9, 10, 11, 12) aufweist und wobei der Aufbau und der Herstellungsprozess dadurch besonders vereinfacht werden, dass das Halbleiterbauelement mit dem elektrischen Anschlussbereich (9, 10, 11, 12) direkt mittels einer Lötschicht (20, 21) verbunden ist.

Description

  • Die Erfindung liegt auf dem Gebiet der Hochdrucksensoren. Solche Sensoren werden vorwiegend auf dem Gebiet der Hydraulik eingesetzt, um Drucke von einigen 10 bis vielen 100 bar reproduzierbar zu messen. Derartige Sensoren müssen im Aufbau extrem stabil und haltbar ausgeführt sein, außerdem korrosionsfest und sicherheitstechnisch zuverlässig.
  • In besonders großer Zahl werden Hochdrucksensoren im Kraftfahrzeugbereich bei der Benzindirekteinspritzung, bei der Common-Rail-Dieseldirekteinspritzung und in der Hydraulik der Fahrdynamikregelung eingesetzt.
  • In jedem dieser Fälle kommt es bei der Anwendung auf absolute Zuverlässigkeit, reproduzierbar genaue Messung, Ausfallsicherheit, Temperaturstabilität und geringen Preis an.
  • Für die genannten Anwendungen ist bereits vorgeschlagen worden, Hochdrucksensorelemente mit piezoresistiven Funktionsschichten aus NiCrSi-Legierungen einzusetzen. Es ist ebenfalls vorgeschlagen worden, derartige Sensorelemente mit einer in der Hochdrucksensoreinrichtung selbst angeordneten Auswerteschaltung zu verbinden und somit eine Hochdrucksensoreinrichtung zu schaffen, die einerseits an einen hydraulischen Druckraum anschließbar ist und andererseits ein vorverarbeitetes Ausgangssignal liefern.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, derartige Sensoren, insbesondere bezüglich des Aufbaus zu vereinfachen um eine weniger aufwendige und kostengünstigere Herstellung zu ermöglichen.
  • Die Erfindung bezieht sich dabei auf eine Hochdrucksensoreinrichtung mit einem Drucksensorelement und einer elektrischen Schaltung insbesondere in Form eines Halbleiterbauelements, wobei das Drucksensorelement eine unter Druckeinfluss verformbare Membran sowie eine Funktionsschicht aufweist, die bei Verformung eine elektrische Eigenschaft ändert und die wenigstens einen elektrischen Anschlussbereich aufweist.
  • Bei einer derartigen Hochdrucksensoreinrichtung wird die genannte Aufgabe erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die elektrische Schaltung mit dem elektrischen Anschlussbereich direkt mittels einer Lotschicht verbunden ist.
  • STAND DER TECHNIK
  • Es ist bei bestehenden Hochdrucksensoreinrichtungen vorgeschlagen worden, elektrische Signale beziehungsweise Messgrößen der Funktionsschicht mittels Bonddrähten oder Federkontaktelementen oder auch in flexible Folien integrierter Leiter zu der entsprechenden Auswerteschaltung zu leiten. Die Auswerteschaltung ist dann in dem Gehäuse der Hochdrucksensoreinrichtung unabhängig von dem Drucksensorelement angeordnet und mit diesem wie beschrieben mittels einer flexiblen elektrischen Verbindung kontaktiert. Die Auswerteschaltung besteht dabei typisch aus einer Leiterplatte oder einem Aufbau in Hybridtechnik, wobei mindestens eine integrierte Schaltung in Form eines Halbleiterchips mit einem komplexen Teil der Auswerteschaltung vorgesehen ist. Zusätzlich können weitere Beschaltungselemente in diskreter Ausführung innerhalb des Gehäuses vorgesehen sein, die für die Optimierung der elektromagnetischen Eigenschaften der Hochdrucksensoreinrichtung sorgen.
  • Ein derartiger Aufbau erfordert jedoch bei der Fertigung mehrere Einzelschritte wie den Einbau des Hochdrucksensorelementes, den Einbau der Auswerteschaltung und die elektrische Verbindung dieser beiden Elemente.
  • VORTEILE DER ERFINDUNG
  • Durch den erfindungsgemäßen Aufbau kann die elektrische Schaltung, insbesondere das Halbleiterbauelement unmittelbar auf dem Drucksensorelement, und zwar auf dessen Funktionsschicht mittels des Lotes befestigt und gleichzeitig mit diesem elektrisch in den Anschlussbereichen verbunden werden. Das Drucksensorelement kann somit auch die elektrische Schaltung tragen. Diese beiden Elemente müssen daher nicht unabhängig voneinander in das Gehäuse eingebaut werden. Die elektrische und mechanische Verbindung der elektrischen Schaltung beziehungsweise des Halbleiterbauelementes mit dem Drucksensorelement werden somit zu einem einzigen Arbeitsschritt und zu einem einzigen konstruktiven Merkmal, nämlich dem Verbindungslot zusammengefasst. Dabei treten als positive Nebenwirkungen einerseits die gute thermische Ankopplung der elektrischen Schaltung an das Drucksensorelement und andererseits eine extreme Verkürzung der Zuleitungen und entsprechende Verringerung der Störungsanfälligkeit durch Einstrahlung elektromagnetischer Strahlung ein.
  • Die Lotverbindung kann einfach dadurch gestaltet werden, dass auf eines der beiden zu verbindenden Teile, entweder die Funktionsschicht des Drucksensorelementes oder die dem Drucksensorelement zugewandte Unterseite der elektrischen Schaltung insbesondere des Halbleiterbauelementes ein Lot mittels eines Druckverfahrens oder auf ähnliche bekannte Weise aufgebracht wird, und dass dann die beiden Teile in einem Ofen einem Reflow-Prozess unterworfen werden.
  • Zusätzliche diskrete Beschaltungselemente wie Kondensatoren und Widerstände können entweder mit dem Halbleiterbauelement fest verbunden sein oder in dem Gehäuse der Hochdrucksensoreinrichtung untergebracht und beispielsweise später mit einem Harz vergossen werden.
  • Die Verbindungstechnik des Halbleiterbauelementes mit der Funktionsschicht gelingt mit dem als Flip-Chip-Technologie bekannten Verfahren. Auf der dem Drucksensorelement zugewandten Unterseite des Halbleiterbauelementes, das typischerweise im wesentlichen aus Silizium besteht, kann eine Aluminiummetallisierung mit einer Beimischung von wenigen Prozent Silizium und Kupfer aufgebracht werden und diese kann von einer Nickelschicht überdeckt sein. Die Nickelschicht kann beispielsweise zwischen 1 und 5 μm dick sein und wird als Underbump-Metallisierung bezeichnet. Sie kann außerdem von einer 50 nm dünnen Goldschicht als Korrosionsschutzschicht überdeckt sein.
  • Auch die Funktionsschicht aus der NiCrSi-Legierung kann zusätzlich von einer Nickelschicht mit einer Schichtdicke von einigen μm versehen sein.
  • In einem an sich bekannten Bumping-Verfahren werden beispielsweise im Schablonendruck Lotkugeln, bestehend aus PbSn oder im bleifreien Fall SnAgCu im Durchmesser von ca. 100 μm auf eine der beiden Seiten aufgebracht. Danach werden die Teile in der Sollposition aneinander gefügt und in einem Reflow-Ofen in bekannter Weise durch Aufschmelzen des Lotes elektrisch und mechanisch miteinander verbunden. Dabei ist ein Minimalabstand von ca. 200 μm zwischen den Bump-Kontakten einfach umsetzbar.
  • In dem Bereich zwischen dem Halbleiterbaulelement und der Funktionsschicht, der nicht von geschmolzenem Lot ausgefüllt ist, bietet sich eine Füllung (Underfill) durch einen organischen Verbindungswerkstoff, beispielsweise ein Epoxidharz an. Der Verbindungswerkstoff sollte elastisch sein, um die Verformung der Funktionsschicht, die zur Messung von Druckänderungen notwendig ist, nicht zu behindern.
  • Da die Membran eines typisch für die Messung von hohen Drucken eingesetzten Drucksensorelementes oft aus Stahl besteht, ist zwischen der Membran und der piezoelektrischen Funktionsschicht, insbesondere dann wenn diese verschiedene elektrisch voneinander getrennte Anschlussbereiche aufweist, eine Isolationsschicht vorzusehen. Der vorgeschlagene Aufbau ermöglicht eine automatisierte Bearbeitung, wobei sich die meisten Arbeitsschritte an der dem Halbleiterbauelement zugewandten Außenfläche der Membran (= Werkstückträgerebene) orientieren. Auf diese Ebene wird zunächst die Isolationsschicht und danach die Funktionsschicht aufgebracht, darauf die Lötbumps und danach wird dort die Auswerteschaltung in Form des Halbleiterbauelementes positioniert. Vor oder nach dem Reflow-Prozess wird dort auch der organische Verbindungwerkstoff (Underfill) eingebracht und damit die Funktionsschicht gegen äußere Einflüsse geschützt (passiviert). Damit sind die komplexesten und sensibelsten Arbeitsschritte beim Aufbau der Hochdrucksensoreinrichtung ausgehend von einer einzigen Referenzfläche durchführbar.
  • Danach kann der Hochdrucksensor mit einem Druckstutzen durch Schweißen verbunden und die so entstandene Einheit mit einem Gehäuse versehen werden.
  • ZEICHNUNGEN
  • Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels in einer Zeichnung gezeigt und anschließend beschrieben.
  • Dabei zeigt
  • 1 schematisch im Längsschnitt Teile aus einer Hochdrucksensoreinrichtung;
  • 2 in einer Draufsicht ein Halbleiterbauelement wie es gemäß 1 Anwendung finden kann;
  • 3 die unterhalb des in 2 dargestellten Halbleiterbauelementes liegenden Funktionselemente der Funktionsschicht;
  • 4 Teile einer Hochdrucksensoreinrichtung schematisch im Längsschnitt mit gegenüber der 1 unterschiedlicher Kontaktierung des Halbleiterbauelementes;
  • 5 das Halbleiterbauelement aus 4 in einer Draufsicht;
  • 6 schematisch die Teile der Hochdrucksensoreinrichtung aus 1 im Einbauzustand in einem Gehäuse;
  • 7 eine Gesamtansicht einer Hochdrucksensoreinrichtung schematisch im Längsschnitt;
  • 8 eine Gesamtansicht einer Hochdrucksensoreinrichtung gemäß dem Stand der Technik im Längsschnitt;
  • 9 eine Hochdrucksensoreinrichtung gemäß 8 aus dem Stand der Technik in einer Explosionsdarstellung.
  • BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
  • 1 zeigt schematisch ein Drucksensorelement 1, das ein Stahlsubstrat 2, eine Membran 3, eine Isolationsschicht 4 und eine Funktionsschicht 5 aufweist. Das Stahlsubstrat 2 umgibt gemeinsam mit der Membran 3, die ebenfalls aus Stahl besteht, einen Druckraum 6, der an einen Hydraulikanschluss angekoppelt wird, so dass der Druck in einem angeschlossenen Hydraulikraum auf die Membran 3 wirken kann. Diese ist in ihrer Dicke so bemessen, dass sie bei den in Frage kommenden Drucken eine elastische mechanische Auslenkung erfährt.
  • Eine Funktionsschicht 5 ist auf die Membran 3 unter Zwischenlage einer Isolationsschicht 4, beispielsweise aus Siliziumoxid, Siliziumnitrid oder einem Metalloxid, aufgebracht. Die Funktionsschicht 5 besteht aus einem piezoresistiven Werkstoff wie beispielsweise einer NiCrSi-Legierung. Diese erzeugt bei einer Verformung in Folge einer Auslenkung der Membran 3 eine Widerstandsänderung oder eine Piezospannung, die abgenommen und gemessen werden kann.
  • 3 zeigt Funktionselemente 7, 8 der Funktionsschicht 5, die eine Brückenschaltung mit Anschlussbereichen 9, 10, 11, 12 bilden. Elektrische Signale können an diesen Anschlussbereichen abgenommen und einer Auswerteschaltung zugeführt werden, wie in der 2 in Form des Halbleiterbauelementes 13 dargestellt ist. Diese besteht aus einem Silizium-Chip, der entsprechende Halbleiterfunktionselemente in Form von logischen Gattern und ähnlichen Elementen enthält.
  • Wie in der 2 dargestellt ist, sind die elektrischen Anschlussbereiche 9, 10, 11, 12 der Funktionsschicht an Anschlussstellen des Halbleiterbauelementes 13 angeschlossen, die jeweils auf Zungen 14, 15, 16, 17 des Halbleiterbauelementes 13 liegen. Die Zungen sind jeweils über schmale Brücken mit dem Kern des Halbleiterbauelementes verbunden. Auf diese Weise wird eine hohe Elastizität erreicht, so dass bei unterschiedlichen thermischen Ausdehnungen der Funktionsschicht 5 und des Halbleiterbauelementes 13 diese durch elastische Verformung der Zungen 14, 15, 16, 17 ausgeglichen werden können. Die Zungen werden derart an dem Halbleiterbauelement 13 vorgesehen, dass zunächst von einer Seite des Halbleiterbauelementes Nuten eingebracht werden, die das Halbleiterbauelement nicht vollständig durchsetzen, sondern eine definierte Tiefe haben, und dass darauf das Halbleiterbauelement von der anderen Seite so weit bearbeitet wird bis der Boden der Nut erreicht ist, so dass die Zungen von dem Kern des Halbleiterbauelementes getrennt werden.
  • Das Halbleiterbauelement 13 weist zusätzlich zu den genannten Anschlussstellen noch weitere Anschlüsse 18, 19 auf, an denen die vorverarbeiteten Messsignale von dem Halbleiterbauelement ausgegeben werden. Durch entsprechende Lötbumps, wie sie beispielhaft in der 1 mit 20, 21 bezeichnet sind, und die jeweils die leitenden Verbindungen zwischen dem Halbleiterbauelement 13 und der Funktionsschicht 5 herstellen, werden diese Ausgangssignale wieder auf die Funktionsschicht 5 geleitet, von wo sie dann mittels der Anschlussdrähte 22, 23 an einen Außenanschluss der Hochdrucksensoreinrichtung geleitet werden.
  • Die 4 zeigt ein Drucksensorelement 1 mit einer Isolationsschicht 4 und einer Funktionsschicht 5 gleich denen, die in der 1 dargestellt sind, wobei auch das Halbleiterbauelement 13' mit der Funktionsschicht 5 durch Lötbumps 20, 21 elektrisch leitend verbunden ist, wobei im Unterschied zu der 1 jedoch die Ausgangssignale nach der Verarbeitung in dem Halbleiterbauelement 13' nicht zu der Funktionsschicht 5 zurückgeleitet, sondern mittels Durchkontaktierungen 24, 25 unmittelbar zur Oberseite des Halbleiterbauelementes 13' geführt und von dort mittels Anschlussdrähten 26, 27 zu einem Außenanschluss der Hochdrucksensoreinrichtung geführt werden.
  • Die entsprechende Aufsicht auf das Halbleiterbauelement 13' zeigt die 5. Dort sind die Anschlussbereiche 9, 10, 11, 12 in derselben Anordnung wie in der 2 vorhanden. Jedoch sind die zusätzlichen Anschlüsse 18, 19 in anderer Weise realisiert, nämlich mittels der Durchkontaktierungen 24, 25 wie schon in der 4 angedeutet.
  • Die 6 zeigt schematisch den Einbau der oben beschriebenen Teile einer Hochdrucksensoreinrichtung in ein Gehäuse, wobei auf eine Ausführungsform gemäß den 1, 2 und 3 Bezug genommen ist.
  • Im Unterschied zu den 1 und 4 ist das Halbleiterbauelement 13 noch weiter vereinfacht und auch das sogenannte Underfill, das in den 1 und 4 mit dem Bezugszeichen 28 bezeichnet ist, weggelassen. Das Underfill besteht typisch aus einem Epoxidharz und füllt den Zwischenraum zwischen dem Halbleiterbauelement 13, 13' und der jeweiligen Funktionsschicht 5 aus, der zwischen den Lötbumps 20, 21 liegt. Außerdem dient der organische Werkstoff dazu, die genannten beiden Teile fest miteinander zu verbinden, wobei jedoch eine Elastizität des Underfill-Werkstoffes gewährleistet sein muss, um eine Beeinflussung der Funktionsschicht bei Membranauslenkung zu verhindern.
  • Die 6 zeigt, dass das Drucksensorelement 1 im Bereich 29 mit einem Druckstutzen 30 fest und hydraulisch dicht verschweißt ist. Dieser Bereich ist fest mit einem Sechskantflansch 31 verbunden. Der Sechskantflansch 31 trägt ein Kunststoffgehäuse 32 welches das Halbleiterbauelement 13 umgibt.
  • Das Gehäuse 32 trägt außerdem feste Außenanschlüsse in Form von Metallpins 33, 34, die beispielsweise Steckerstifte bilden können. Die Metallpins 33, 34 sind mittels eines Löt- oder Vergusswerkstoffes 35 fest mit dem Gehäuse 32 verbunden. Die Zuleitungen 22, 23 dienen der Verbindung des Halbleiterbauelementes 13 mit den Außenanschlüssen 33, 34. Dabei können entweder innerhalb des Gehäuses 32 oder innerhalb eines weiteren weiter außen liegenden und in der 6 nicht dargestellten Gehäuses diskrete Schaltelemente angeordnet sein, die mit den Zuleitungen 22, 23 verbunden oder in diese eingefügt sein können, beispielsweise Widerstände oder Kondensatoren, die zur Beschaltung der Hochdrucksensoreinrichtung beispielsweise zum Schutz vor schädlichen elektromagnetischen Einstrahlungen dienen können. Das Innere des Gehäuses 32 und/oder Teile des Gehäuses, welches weiter außen liegt und in der 7 dargestellt ist, können mittels eines üblichen Vergusswerkstoffes zur Stabilisierung, Abdichtung und elektrischen Abschirmung wenigsten teilweise vergossen sein.
  • Die dargestellte Hochdrucksensoreinrichtung ist einfach und kostengünstig herzustellen und besonders einfach an eine Hochdruckeinrichtung anschließbar, wobei die ausgegebenen Messsignale vorverarbeitet sind und einfach weiterverarbeitet werden können. Durch die vorliegende Erfindung verbindet die beschriebene Einrichtung geringe Baugröße mit hoher Zuverlässigkeit und Standfestigkeit. Es versteht sich, dass die als vorteilhaft beschriebenen Merkmale verschiedener Ausführungsformen auch untereinander im erfindungsgemäßen Sinne kombiniert werden können.
  • BEZUGSZEICHENLISTE
    Figure 00080001

Claims (11)

  1. Hochdrucksensoreinrichtung mit einem Drucksensorelement (1) und einer elektrischen Schaltung (13, 13') insbesondere in Form eines Halbleiterbauelementes, wobei das Drucksensorelement (1) eine unter Druckeinfluss verformbare Membran (3) sowie eine Funktionsschicht (5) aufweist, die bei Verformung eine elektrische Eigenschaft ändert und die wenigstens einen elektrischen Anschlussbereich (9, 10, 11, 12) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische Schaltung (13, 13') mit dem elektrischen Anschlussbereich direkt mittels einer Lotschicht verbunden ist.
  2. Hochdrucksensoreinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Funktionsschicht (5) flächig mit der Membran (3) verbunden ist.
  3. Hochdrucksensoreinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der Funktionsschicht (5) und der Membran (3) eine Isolationsschicht (4) vorgesehen ist.
  4. Hochdrucksensoreinrichtung nach einem der vorangehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische Schaltung (13, 13') mit zwei Anschlussbereichen (9, 10, 11, 12) der Funktionsschicht (5) mittels der Lotschicht (20, 21) verbunden ist und dass in der elektrischen Schaltung (13, 13') zwischen den zwei Anschlussbereichen (9, 10, 11, 12) wenigstens ein elastisches Formelement (14, 15, 16, 17) zum Ausgleich thermischer Dehnungen vorgesehen ist.
  5. Hochdrucksensoreinrichtung nach einem der vorangehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Membran (3) aus Stahl besteht.
  6. Hochdrucksensoreinrichtung nach einem der vorangehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Funktionsschicht (5) aus einem piezoelektrischen Material besteht.
  7. Hochdrucksensoreinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Funktionsschicht (5) aus einer NiCrSi-Legierung besteht.
  8. Hochdrucksensoreinrichtung nach einem vorangehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische Schaltung in Form eines Halbleiterbauelementes (13, 13') auf seiner der Funktionsschicht (5) zugewandten Unterseite eine Aluminiummetallisierung mit einer Beimischung von wenigen Prozent Silizium und Kupfer aufweist, die von einer Nickelschicht überdeckt ist.
  9. Hochdrucksensoreinrichtung nach einem der vorangehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische Schaltung (13, 13') mit der Funktionsschicht (5) in wenigstens einem Bereich, in dem keine Lotschicht vorgesehen ist, mittels eines organischen Verbindungswerkstoffes (28) verbunden ist.
  10. Hochdrucksensoreinrichtung nach einem der vorangehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische Schaltung (13, 13') und das Drucksensorelement (1) von einem Gehäuse umgeben sind, das einen elektrischen Außenanschluss (33, 34) aufweist und in dem zusätzlich elektrische Beschaltungselemente der elektrischen Schaltung (13, 13') und/oder des Drucksensorelementes (1) angeordnet sind.
  11. Verfahren zur Herstellung einer Hochdrucksensoreinrichtung nach einem der Ansprüche 1–10, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische Schaltung (13, 13') mit Anschlussbereichen (9, 10, 11, 12) der Funktionsschicht (5) derart verbunden wird, dass zunächst auf eines der beiden Elemente ein Lot aufgebracht wird, darauf beide Elemente zusammengefügt und mittels eines Lötverfahrens verlötet werden.
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