DE102005022812A1 - ND-Filter und Aperturblendenvorrichtung - Google Patents

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DE102005022812A1
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Koki Kunii
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Abstract

Ein ND-Filter ist aus einem transparenten Substrat mit einer Ebene hergestellt. Ein optischer Film ist auf der Ebene des transparenten Substrats gebildet. Der optische Film hat eine Schichtstruktur, beinhaltend einen lichtabsorbierenden Film und einen dielektrischen Film, und hat eine variable Übertragungsdichte. Eine Dicke von entweder dem lichtabsorbierenden Film oder dem dielektrischen Film der Schichtstruktur ist in einer Richtung der Ebene des transparenten Substrats variiert, so daß die Übertragungsdichte des optischen Films so eingestellt ist, um in der Richtung der Ebene zu variieren. Der lichtabsorbierende Film ist aus einem Material, ausgewählt aus Ti, Cr, Ni, NiCr, NiFe, NiTi und/oder einer Mischung davon, hergestellt und der dielektrische Film ist aus SiO¶2¶, Al¶2¶O¶3¶ oder einem Verbund hiervon gebildet.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein ND-Filter und eine Aperturblendenvorrichtung. Ein ND- (neutrale Dichte) Filter wird in einer Lichtmengenblende für den Zweck der gleichmäßigen Dämpfung der Menge des übertragenen Lichts in einem im allgemeinen sichtbaren Wellenlängenbereich benutzt. Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere ein dichtevarbiables ND-Filter, in welchem die Übertragungsdichte kontinuierlich geändert wird.
  • In einem konventionellen fotografischen System kann, falls die Leuchtdichte eines Objektes zu hoch ist, eine überhöhte Menge an Licht, größer als eine vordefinierte Menge, in eine fotosensitive Fläche durch die Blende vordringen, selbst wenn die Blende auf den kleinsten Durchmesser eingestellt ist (nämlich der Blendendurchmesser kleinstmöglich eingestellt ist). Dafür wird praktisch ein ND-Filter an das Bildaufnahmesystem montiert, um die Menge an Licht zu steuern, welche in die fotosensitive Fläche vordringt. In diesem Fall sind die spektralen Eigenschaften des ND-Filters eben ausgelegt, um einfach die Menge des eintreffenden Lichts zu reduzieren, daher wird eine gleichmäßige Durchlässigkeit für den allgemeinen sichtbaren Wellenlängenbereich als die grundlegende optische Eigenschaft des ND-Filters bereitgestellt.
  • Ein ND-Filter mit einer gleichmäßigen Übertragungsdichte wurde eingesetzt als Lichtmengenblende einer Kamera. Kürzlich wurde ein ND-Filter in welchem die Übertragungsdichte schrittweise variiert in unterteilten Bereichen als ein fortgeschrittenes Filter eingesetzt. Weiterhin wird für ein videooptisches System, welches sequenzielle Aufnahmen benötigt, ein dichtevariables ND-Filter benötigt, in welchem die Übertragungsdichte kontinuierlich variiert, da eine hohe Auflösung in einem großen Helligkeitsbereich durch die Benutzung eines dichtevariablen ND-Filters erreicht werden kann, im Vergleich mit einem single-density ND-Filter oder einem multi-density ND-Filter. Das dichtevariable ND-Filter wird in den folgenden Patentschriften offenbart.
    Patentschrift 1: JP-A-Hei 6-95208
    Patentschrift 2: JP-A-Hei 10-96971
    Patentschrift 3: JP-B-Hei 2-47722
    Patentschrift 4: JP-A-2003-043211
  • Gemäß Patentschrift 1 wird ein Vorlagemuster eines ND-Filters vorbereitet, welches eine Reflektionsdichteverteilung mit einer vordefinierten Relation mit einer Übertragungsdichteverteilung eines ND-Filters hat, welche eine Filterfunktion für übertragenes Licht bereitstellt, wenn das ND-Filter auf der Aperturlamelle einer Aperturblendenvorrichtung montiert wird. Dieses Vorlagemuster wird mit einer Kamera unter Benutzung eines Films fotografiert, welcher eine Durchlässigkeit durch die Filmbasis von gleich oder größer als 80% hat und welche eine Schicht zum Verhindern von Lichthofbildung, hat. Dann wird der Film entwickelt und als ein ND-Filter benutzt. Gemäß Patentschrift 2 wird durch ein Verfahren zur Herstellung eines ND-Filters, welches der Aperturlamelle einer Aperturblendenvorrichtung bereitgestellt wird, ein Plastikfilm, beinhaltend organische Pigmente, durch Licht von hoher Energie belichtet, während die Menge des Belichtungslichts partiell geändert wird, so daß ein ND-Filter mit einer variablen Dichtenverteilung hergestellt wird.
  • Gemäß Patentschrift 3 verwendet ein ND-Filter ein Metallmaterial als einen Absorptionsfilm und die Menge an übertragenem Licht wird kontinuierlich von der Mitte aus radial geändert, wo Reflektionsschutzfilme angeordnet sind. In diesem ND-Filter wird der Absorptionsfilm in eine Vielzahl dünne Schichten unterteilt und die unterteilten Absorptionsschichten werden in die Begrenzungen der Reflektionschutzfilme eingesetzt.
  • Gemäß Patentschrift 1 wird die Änderung der Dichte des ND-Filters durch Aufteilen der ausgefällten Menge an Silberpartikeln erreicht. Dennoch verursacht Lichtstreuung durch die Silberpartikel eine Verschlechterung der Auflösung und die Benutzung dieses Typs eines ND-Filters ist für ein modernes Bildaufnahmesystem problematisch, für welches die Auflösung erhöht wurde. Für Patentschrift 2 ist die Farbdämpfung der organischen Pigmente, speziell die Änderung der Übertragungseigenschaften in Umgebungen mit hoher Temperatur und hoher Luftfeuchtigkeit ein erheblicher Nachteil. Gemäß Patentschrift 3 wird die Änderung der Dichte erreicht durch lokales Einsetzen von Metall filmen mit unterschiedlichen Dicken zwischen den Reflektionsschutzfilmen. Dennoch, gemäß dieses Verfahrens können gleichmäßige Übertragungseigenschaften in dem allgemeinen Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts nicht erreicht werden. Dadurch ist es schwierig, diesen Typ eines ND-Filters an einem Bildaufnahmesystem anzuwenden.
  • Unter Einbeziehung verschiedener Probleme der Eingangs beschriebenen konventionellen Technologien, ist es ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein dichtevariables ND-Filter bereitzustellen, welches Lichtstreuung unterbindet, welches eine hohe Beständigkeit für eine Änderung der Umgebungsbedingungen hat und neutrale Übertragungseigenschaften für einen gesamten allgemeinen sichtbaren Wellenlängenbereich. Die folgenden Mittel sind bereitgestellt, um dieses Ziel zu erreichen. Im Speziellen stellt die vorliegende Erfindung ein ND-Filter bereit, gekennzeichnet durch: Ein transparentes Substrat mit einer Ebene sowie einen optischen Film, der auf der Ebene des transparenten Substrates geformt ist, mit einer Schichtstruktur, beinhaltend einen lichtabsorbierenden Film und einen dielektrischen Film, und mit einer variablen Übertragungsdichte, wobei eine Dicke entweder des lichtabsorbierenden Films oder des dielektrischen Films der Schichtstruktur sich in der Richtung der Ebene des Substrats ändert und in Übereinstimmung mit dieser Änderung wird die Übertragungsdichte des optischen Films so eingestellt, um in der Richtung der Ebene zu variieren.
  • Vorzugsweise ist die Dicke entweder des lichtabsorbierenden Films oder des dielektrischen Films, beinhaltet in der Schichtstruktur, in der Richtung der Ebene des Substrats kontinuierlich geändert oder gestuft und in Übereinstimmung mit dieser Änderung ist die Übertragungsdichte des optischen Films so eingestellt, um kontinuierlich in der Richtung der Ebene zu variieren. Weiterhin ist das Material des lichtabsorbierenden Films ausgewählt aus Ti, Cr, Ni, NiCr, NiFe, NiTi und/oder einer Mischung aus diesen und der dielektrische Film ist aus SiO2, Al2O3 oder einem Verbund aus diesen gebildet. Der dielektrische Film und der lichtabsorbierende Film können mit vorbestimmten Dicken und in einer vorbestimmten Reihenfolge geschichtet werden, um eine Reflektionsschutzfunktion bereitzustellen. Des weiteren wird der optische Film durch Aufdampfen des lichtabsorbierenden Films unter Benutzung eines Metallmaterials erhalten und der lichtabsorbierende Film beinhaltet ein Oxid des Metallmaterials, welches hergestellt wird, während ein Mischgas, beinhaltend Sauerstoff, während des Aufdampfens des lichtabsorbierenden Films zugeführt wird und ein Vakuumniveau von 1 × 10–3 Pa bis 1 × 10–2 Pa konstant beibehalten wird. In diesem Fall, nachdem der lichtabsorbierende Film und der dielektrische Film geschichtet sind, kann der optische Film einer thermischen Alterungsbehandlung (thermal aging treatment) in einer Sauerstoffatmosphäre ausgesetzt werden, beinhaltend Sauerstoff größer oder gleich als 10%, und die Änderung der optischen Eigenschaften kann so stabilisiert werden. Dieses so aufgebaute ND-Filter kann an der Blendenlamelle der Aperturblendenvorrichtung angebracht werden.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung hat das ND-Filter im wesentlichen eine Schichtstruktur des lichtabsorbierenden Films und des dielektrischen Films, welche auf dem transparenten Substrat geformt sind. Diese Schichtstruktur verursacht keine Lichtstreuung und hat eine hohe Widerstandsfähigkeit gegenüber Umgebungsstreß und neutrale Eigenschaften in einem gesamten sichtbaren Wellenlängenbereich. Da die Dicken des lichtabsorbierenden Films und des dielektrischen Films der Schichtstruktur in der Richtung der Ebene des Substrats variieren, kann die Übertragungsdichte in der Richtung der Ebene des Substrats variieren, während die Beständigkeit und die neutralen Eigenschaften beibehalten werden. Dadurch kann ein dichtevariables ND-Filter erhalten werden, welches keine Lichtstreuung verursacht und welches eine hohe Widerstandsfähigkeit gegenüber Umgebungsänderungen und neutrale Eigenschaften relativ in einem gesamten sichtbaren Wellenlängenbereich hat.
  • 1(A) ist eine schematische Seitenansicht und 1(B) eine Schnittansicht der Struktur eines dichtevariablen ND-Filters gemäß der vorliegenden Erfindung.
  • 2 ist ein Graph, welcher eine Übertragungsdichteeigenschaft des dichtevariablen ND-Filters gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 3 ist ein schematisches Blockdiagramm, welches eine Vakuumbedampfungsvorrichtung zeigt, welche zur Herstellung des dichtevariablen ND-Filters gemäß der vorliegenden Erfindung eingesetzt wird.
  • 4 ist eine Tabelle, welche die Filmabscheidungbedingungen für das dichtevariable ND-Filter gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt.
  • 5 ist ein schematisches Diagramm, welches eine Aperturblendenvorrichtung für eine Kamera zeigt, welche das dichtevariable ND-Filter gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet.
  • 6 ist ein Graph, welcher die optischen Eigenschaften der lichtabsorbierenden Filme, beinhaltet in einem optischen Film zeigt.
  • 7 ist ein Graph, welcher die optischen Eigenschaften des optischen Films zeigt.
  • 8 ist ein Graph, welcher die optischen Eigenschaften des optischen Films zeigt.
  • 9 ist ein Graph, welcher die optischen Eigenschaften des optischen Films zeigt.
  • Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun im Detail unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. 1 ist eine schematische Seitenansicht (A) und eine Schnittansicht (B) der Struktur eines dichtevariablen ND-Filters gemäß der vorliegenden Erfindung. Wie in 1(A) gezeigt, weist das ND-Filter ein transparentes Substrat 1 mit einer Ebene auf und einen optischen Film 2, geformt auf dem Substrat 1. Der optische Film hat eine Schichtstruktur, beinhaltend Schichten von lichtabsorbierenden Filmen 22, 24 und 26 und dielektrischen Filmen 21, 23, 25 und 27. Wenn die Dicken der lichtabsorbierenden Filme und der transparenten dielektrischen Filme gesteuert werden, wird eine lokal justierte Übertragungsdichte erhalten. Als ein Merkmal ist die Dicke von mindestens einem der lichtabsorbierenden Filme 22, 24 und 26 und den dielektrischen Filmen 21, 23, 25 und 27 der Schichtstruktur in der Richtung der Ebene des Substrats 1 geändert und in Übereinstimmung mit dieser Änderung ist die Übertragungsdichte des optischen Films 2 so eingestellt, daß diese in der Richtung der Ebene variiert. In der in 1 gezeigten Ausführungsform sind die Dicken aller sieben Schichten, welche das ND-Filter bilden, im selben Verhältnis variiert. Es sollte bemerkt werden, daß die vorliegenden Erfindung dennoch nicht auf diese Ausführungsform begrenzt ist. Die Dicken müssen nicht im selben Verhältnis variiert werden oder nicht alle Dicken der Filme müssen verändert werden. Des weiteren kann die Gesamtzahl an Schichten der Schichtstruktur frei bestimmt werden in Übereinstimmung mit der opti schen Spezifikation.
  • In dieser Ausführungsform sind die Dicken der lichtabsorbierenden Filme 22, 24 und 26 und der dielektrischen Filme 22, 23, 25 und 27 der Schichtstruktur kontinuierlich in der Richtung der Ebene des Substrats 1 (in der Zeichnung von links nach rechts) verändert und in Übereinstimmung mit dieser Änderung ist die Übertragungsdichte des optischen Films 2 so eingestellt, um kontinuierlich in der Zeichnung von links nach rechts anzusteigen. Um die Dicke des Films in der Richtung der Ebene des Substrats kontinuierlich zu verändern oder abzustufen können die Abschirmungseffekte unter Benutzung einer Maske 3 während eines Filmabscheidungsprozesses, wie z.B. eines Aufdampfprozesses, benutzt werden.
  • Z.B. wird, wenn der erste dielektrische Film 21 aufgetragen werden soll, die Maske von links nach rechts bei konstanter Geschwindigkeit bewegt, wie durch einen Pfeil gezeigt, während die Filmabscheidung bei einer konstanten Verdampfungsrate durchgeführt wird. Als ein Ergebnis wird ein dielektrischer Film 21, welcher links dünn und rechts dick ist, erhalten. Dieser Prozeß wird wiederholt für alle Filme durchgeführt und die abgeschrägte oder konische Struktur, wie in 1(A) gezeigt, wird erhalten. Es sollte bemerkt werden, daß die konstante Bewegung der Maske 3 unter Benutzung eines Motors durchgeführt werden kann.
  • 1(B) zeigt eine schematische Querschnittsstruktur, erstellt entlang einer Linie B-B des ND-Filters, welcher in 1(A) gezeigt ist. D.h. die Querschnittsstruktur ist für den dicksten Bereich des ND-Filters, gezeigt in 1(A), dargestellt, dessen Übertragungsdichte D 1,4 beträgt. Wie in der Zeichnung dargestellt, ist das transparente Substrat 1 aus PET (Polyethylen-Terephthalat) von 0,1 mm Dicke hergestellt. Es sollte dennoch bemerkt werden, daß die vorliegende Erfindung nicht auf dieses Material beschränkt ist und anstatt von PET andere Polyesterfilme oder Polykarbonat-(PC)-Filme verwendet werden können. Ein Polyesterfilm, wie z.B. PET oder ein Polykarbonatfilm, ist für eine Aperturblende bevorzugt, dennoch, solange wie die Anwendung nicht speziell begrenzt ist, kann transparentes Glas oder Plastik, als das transparente Substrat 1 für einen zu benutzenden Wellenlängenbereich verwendet werden, falls benötigt. Der erste dielektrische Film 21, abgeschieden auf dem transparenten Substrat 1, ist aus SiO2 ge bildet und seine physikalische Dicke ist 44 nm. Der lichtabsorbierende Film 22, geformt auf dem dielektrischen Film 21, ist aus metallischem Ti und Oxid TixOy hergestellt und seine physikalische Dicke ist 55 nm. Der dielektrische Film 23, abgeschieden auf dem lichtabsorbierenden Film 22, ist aus Al2O3 hergestellt und seine physikalische Dicke beträgt 26 nm. Der lichtabsorbierende Film 24, abgeschieden auf dem dielektrischen Film 23, ist ebenfalls aus metallischem Ti und Oxid TixOy geformt, und seine physikalische Dicke ist 80 nm. Der dielektrische Film 25, die fünfte Schicht, abgeschieden auf dem lichtabsorbierenden Film 24, ist aus Al2O3 hergestellt und seine physikalische Dicke ist 26 nm. Der lichtabsorbierende Film 26, abgeschieden auf dem dielektrischen Film 25, ist ebenfalls aus metallischem Ti und Oxid TixOy hergestellt und seine physikalische Dicke beträgt 28 nm. Der dielektrische Film 27, die letzte, siebte Schicht, ist aus SiO2 hergestellt und seine physikalische Dicke ist 78 nm. Es sollte dennoch bemerkt werden, daß die offenbarte Schichtstruktur ein Beispiel ist und den Schutzbereich der vorliegenden Erfindung nicht begrenzt. Für optische Dünnschichten wird ein transparentes Keramikmaterial generell als ein dielektrischer Film betrachtet, relativ zu einer zu benutzenden Wellenlänge. Wenn dielektrische Filme eine Dicke haben (ca. 7-fach der Wellenlänge), so daß die Lichtinterferenzeffekte auftreten, geschichtet sind, können die optischen Eigenschaften (die Menge an reflektiertem Licht, die Menge an transmittiertem Licht, polarisiertes Licht und Phasen) des einfallenden Lichts frei eingestellt werden. In dieser Ausführungsform, unter Benutzung der Schichtstruktur, gezeigt in 1(B), ist die Reflektionsschutzfunktion für den optischen Film 2 bereitgestellt. Die lichtabsorbierenden Filme haben eine Funktion um wörtlich Licht in dem Wellenlängenbereich der benutzt werden soll, zu absorbieren und im allgemeinen wird Metall in dem sichtbaren Wellenlängenbereich eingesetzt. Gemäß dieser Erfindung ist Metalloxid in das Metallmaterial eingebracht um im Speziellen die optischen Eigenschaften und die physikalischen Eigenschaften zu verbessern. Anstelle von Ti können andere Metalle wie Cr, Ni, NiCr, NiFe, NiTi und/oder eine Mixtur von diesen als das Metallmaterial für die lichtabsorbierenden Filme ausgewählt werden.
  • 2 ist ein Graph, der die Übertragungsdichteeigenschaften des dichtevariablen ND-Filters, gezeigt in 1, darstellt. Die vertikale Achse repräsentiert die Übertragungsdichte (D) und die horizontale Achse repräsentiert die Wellenlänge (nm). In diesem Graph ist die Dicke des optischen Films 2 als ein Parameter verwendet und insgesamt sind acht Stufen bezeichnet. Der dickste Teil des optischen Films (gezeigt in 1(B)) ist als das Dickenverhältnis von 1,0 definiert und hiernach sind die Dickenverhältnisse von 0,86; 0,71; 0,57; 0,43; 0,29; 0,14 und 0,00 bestimmt. Wie aus dem Graph ersichtlich, hat der Teil mit dem Dickenverhältnis von 1,0 eine Dichte von D = 1,4 und danach nimmt die Übertragungsdichte (D) wesentlich im Verhältnis zu der Dicke ab. Des weiteren ist für alle Dicken die Übertragungsdichteeigenschaft weitestgehend eben im sichtbaren Wellenlängenbereich. Für das ND-Filter der Erfindung kann die Menge an übertragenem Licht gleichmäßig in dem gesamten sichtbaren Wellenlängenbereich gedämpft werden.
  • 3 ist ein schematisches Blockdiagramm, welches ein Beispiel einer Vakuumverdampfungsvorrichtung zeigt, benutzt zur Herstellung des dichtevariablen ND-Filters, gezeigt in 1. Zusätzlich zum Vakuumverdampfungsverfahren kann ein Verfahren zur Bildung eines feinen Films, wie z.B. das Ionenplattieren (ion plating method), das Ionenstrahlassistenzverfahren (ion beam assistance method) oder das Sputterverfahren ebenfalls als Filmabscheidungsverfahren zur Herstellung des ND-Filters eingesetzt werden. Wie in 3 gezeigt, besteht die Verdampfungsvorrichtung hauptsächlich aus einer Vakuumkammer 11 und eine Filmdickenüberwachung 12 sowie eine Filmdickensteuerung 13 sind oberhalb der Kammer 11 angebracht. Ein Substrathalter 14 zur sicheren Aufnahme eines zu bearbeitenden Substrats, ein Substrat 15, zur Messung der Dicke eines Films, und eine Verdampfungsquelle 16 sind innerhalb der Kammer 11 angeordnet. Auch wenn nicht gezeigt, befindet sich eine Dickensteuerungsmaske, gezeigt in 1, zwischen der Verdampfungsquelle 16 und dem Substrathalter 14. Die Filmdickenüberwachung 12 beinhaltet eine Lichtquelle, ein Spektrometer und einen Fotoempfänger. Licht, welches durch das Spektrometer emittiert wird, trifft auf das dickengemessene Substrat 15 und das Licht, welches von dem dickengemessenen Substrat 15 reflektiert wird, wird zum Fotoempfänger übertragen, dessen Ausgangssignal der Filmdickensteuerung 13 zugefügt wird. In dieser Weise, da die Filmdicke in Echtzeit überwacht wird, werden die lichtabsorbierenden Filme und die dielektrischen Filme mit gewünschten Dicken auf das Substrat abgeschieden. Gleichzeitig wird die oben beschriebene Maske in Synchronisation mit der Echtzeitüberwachung der Filmdicke bewegt, so daß die lichtabsorbierenden Filme und die dielektrischen Filme, bei welchen die Dicken monoton in der Richtung der Ebene des Substrats variieren, abgeschieden werden.
  • Ein Vakuumventil 17, eine Vakuumventilsteuerung 18, eine Gaszufuhreinheit 19 und eine Auslaßeinheit 20 sind mit der Kammer 11 verbunden. In dieser Ausführungsform ist das APC-System (automatic pressure control) eingesetzt, um ein konstantes Vakuumniveau in der Kammer 11 aufrechtzuerhalten. Im Speziellen wird eine Rückkopplung durch das Vakuumventil 17 und die Vakuumventilsteuerung 18 durchgeführt um die Gaszufuhreinheit 19 zu steuern und die Menge an Mischgas zu regulieren, welches in die Kammer 11 eingelassen wird. Es sollte dennoch bemerkt werden, daß die vorliegende Erfindung nicht auf dieses System begrenzt ist und auch ein System zur Verwendung eines Nadelventils, um eine konstante Menge an Gas zuzuführen, benutzt werden kann.
  • 4 ist eine Tabelle, welche die Filmabscheidungsbedigungen zeigt, wenn der optische Film, gezeigt in 1, unter Benutzung einer Vakuumverdampfungsvorrichtung, gezeigt in 3, hergestellt wird. Wie in 4 gezeigt, beträgt die Substrattemperatur 100°C und das Vakuumniveau, welches in der Kammer 11 erreicht wird, ist auf 1 × 10–3 Pa eingestellt. Um die lichtabsorbierenden Filme 22, 24 und 26 abzuscheiden, wird Ti als Quellenmaterial benutzt, wobei die Verdampfungsrate auf 1 nm pro Sekunde eingestellt ist. Des weiteren wird in dieser Ausführungsform Luft, wobei Stickstoff und Sauerstoff in einem Verhältnis von 4:1 gemischt sind, als ein Mischgas benutzt, welches zur Verdampfung von Ti zugeführt wird. Es sollte dennoch bemerkt werden, daß die vorliegende Erfindung nicht auf dieses Gas beschränkt ist und generell ein Mischgas, welches Sauerstoff in einem Verhältnis von 50% oder weniger enthält, benutzt wird. Des weiteren ist das Vakuumniveau bei Zufuhr des Sauerstoff beinhaltenden Mischgases auf 4 × 10–3 Pa gesetzt. Es sollte noch bemerkt werden, daß die vorliegende Erfindung nicht hierauf begrenzt ist. Im allgemeinen können lichtabsorbierende Filme, welche vorzuziehende optische und physikalische Eigenschaften aufweisen und welche aus einem Gemisch von Metall und Metalloxid hergestellt werden, abgeschieden werden, wenn das Vakuumniveau zwischen 1 × 10–3 Pa und 1 × 10–2 Pa gehalten wird. Zur Abscheidung der dielektrischen Filme 21 und 27 wird SiO2 als Verdampfungsquelle benutzt, wobei die Verdampfungsrate auf 1 nm pro Sekunde eingestellt ist. Ein reaktives Gas wird nicht speziell zur Abscheidung von SiO2 zugeführt. Für die dielektrischen Filme 23 und 25 wird Al2O3 als Verdampfungsquelle benutzt und die Verdampfungsrate ist auf 1 nm pro Sekunde eingestellt. Ebenfalls ist in diesem Fall ein reaktives Gas nicht eingesetzt. Wie eingangs beschrieben, können lichtabsorbierende Filme, übereinstimmend mit den geforderten Eigenschaften als Metallfilme oder als Mischung aus Metallfilmen und Oxidfilmen erhalten werden, wenn das Metallmaterial, wie z.B. Ti, verwendet wird und der Partialdruck von Sauerstoff in dem Mischgas, welches während der Filmabscheidung zugeführt wird, eingestellt ist. Um die instabilen Elemente, beinhaltet in den lichtabsorbierenden Filmen zu stabilisieren, kann eine Wärmebehandlung nach der Abscheidung durchgeführt werden. Z. B. werden, nachdem die lichtabsorbierenden Filme und die dielektrischen Filme geschichtet sind, diese Filme in einer Sauerstoffatmosphäre, beinhaltend 10% Sauerstoff oder mehr, aufgeheizt, so daß die Änderung der optischen Eigenschaften durch diese thermische Alterungsbehandlung stabilisiert werden kann.
  • 5 ist eine schematische Ansicht, welche ein Beispiel zeigt, bei dem das dichtevariable ND-Filter der Erfindung an die Blendenlamelle einer Apperturblendenvorrichtung für eine Kamera angebracht ist. Eine Blendenlamelle 100 ist in 5 gezeigt und Bezugszeichen 0 bezeichnet ein dichtevariables ND-Filter gemäß der Erfindung. Wie in 5 gezeigt, ist die Durchlässigkeit des dichtevariablen ND-Filters 0 kontinuierlich auswärts zeigend von der Mitte der Blendenapertur aus reduziert. D.h., daß die Durchlässigkeit des dichtevariablen ND-Filters 0 kontinuierlich und linear reduziert ist im Verhältnis zu der Distanz von der optischen Achse des optischen Bildaufnahmesystems.
  • Die Aperturblende wird bereitgestellt um die Menge an Licht zu steuern, die auf einen Silber-Halogenitfilm oder eine Halbleiterbildaufnahmevorrichtung, wie ein CCD, fällt, und wird verringert, wenn das Bildfeld hell ist. Daher wird die Blende verkleinert bei gutem Wetter oder beim Fotografieren eines Objekts mit einer hohen Leuchtdichte und neigt dazu, nachteilig von einem Aufpendeln (hunting phenomenom) der Blende beeinflußt zu werden, oder Lichtbeugung, so daß eine Verschlechterung der Abbildungsleistung eintritt. Als eine Gegenmaßnahme wird das ND-Filter an der Blendenlamelle angebracht, um die Apertur der Blende zu erhöhen, auch wenn die Helligkeit des Bildfeldes relativ hoch ist. Kürzlich, mit der Erhöhung der Empfindlichkeit der Bildaufnahmevorrichtung, wurde die Dichte des ND-Filters erhöht und die Durchlässigkeit für Licht wurde weiter reduziert, so daß die Apertur der Blende vergrößert wird, auch wenn die Helligkeit des Bildfeldes gleichbleibt. Dennoch, als ein Problem wenn die Dichte des ND-Filters erhöht wird, wird der Unterschied zwischen der Menge an Licht, welche durch den Filter trifft und der Menge an Licht, die nicht durch den Filter trifft erhöht, wodurch die Auflösung verschlechtert wird. Zum Lösen dieses Problems wird das dichtevariable ND-Filter, gezeigt in 5, verwendet. D.h. für die Dichte des ND-Filters, wenn die Struktur verwendet wird, bei der die Durchlässigkeit des ND-Filters kontinuierlich und linear zur Mitte der optischen Achse erhöht wird, kann die Verringerung der Auflösung vermieden werden.
  • In dieser Ausführungsform wird die Schichtstruktur, bei der lichtabsorbierende Filme und dielektrische Filme alternierend geschichtet werden, als optischer Films benutzt, welcher das ND-Filter bildet. Speziell für die lichtabsorbierenden Filme wird die Verläßlichkeit und Dauerhaftigkeit des dichtevariablen ND-Filters für eine lange Lebensdauer sichergestellt durch Benutzung der Mischung, beinhaltend das Metallmaterial und das Oxid dieses Metalls. Dieser Punkt wird nun als Referenz beschrieben und Details sind in Patentschrift 4 beschrieben. Zunächst ist 6 ein Graph, der die optischen Eigenschaften des lichtabsorbierenden Films zeigt, der unter den Bedingungen, angegeben in 4, abgeschieden wurde. Die horizontale Achse repräsentiert die Wellenlänge und die vertikale Achse repräsentiert den Brechungsindex und den Absorptionskoeffizient. Wie aus dem Graph ersichtlich, gibt es einen Trend im sichtbaren Wellenlängenbereich, daß sich der Absorptionskoeffizient des lichtabsorbierenden Films, hergestellt aus der Mischung von Ti und TixOy, erhöht, wenn die Wellenlänge lang wird.
  • 7 ist ein Graph, der die optischen Eigenschaften des optischen Films mit fünf Schichten zeigt, der mit den Filmabscheidungsbedingungen, gezeigt in 4, hergestellt ist. Die horizontale Achse repräsentiert die Wellenlänge im sichtbaren Wellenlängenbereich und die linke vertikale Achse repräsentiert die Lichtmenge (%), welche die Skalen für den Reflexionsgrad und die Durchlässigkeit angibt, während die rechte vertikale Achse die Übertragungsdichte repräsentiert. In 7 sind die Simulationsergebnisse gezeigt, die während der Konstruktionsphase erhalten wurden, anstelle der Eigenschaften des optischen Films, der tatsächlich hergestellt wurde. Es ist ideal, daß die Durchlässigkeit eben aussieht in dem allgemeinen sichtbaren Wellenlängenbereich. In der Konstruktionsphase unter Berücksichtigung des Einflusses der Wärmebehandlung, welche später durchgeführt wird, ist die Durchlässigkeit fortschreitend erhöht, von der Seite der kurzen Wellenlängen zur Seite der langen Wellenlängen. Aufgrund der Eigenschaften des optischen Films wird ein Trend vorhergesehen, daß, nachdem die Wärmebehandlung durchgeführt wurde, die Durchlässigkeit zur Region der Seite der kurzen Wellenlängen im sichtbaren Wellenlängenbereich erhöht wird.
  • In 8 sind die anfänglichen Eigenschaften des optischen Films gezeigt, der abgeschieden wurde unter den Filmabscheidungsbedingungen gezeigt in 4. Zum einfachen Verständnis der Eigenschaften ist der Reflektionsgrad, die Durchlässigkeit und die Übertragungsdichte genauso wie in 7 gemessen. Wie aus dem Graph ersichtlich, sind die optischen Eigenschaften im wesentlichen gleich, wie entworfen und die Durchlässigkeit erhöht sich fortschreitend von der Seite der kurzen Wellenlängen zur Seite der langen Wellenlängen.
  • Die erhaltenen optischen Eigenschaften nach der Wärmebehandlung sind in 9 gezeigt. Zum Verständnis der Eigenschaften ist der Reflektionsgrad, die Durchlässigkeit und die Übertragungsdichte genauso gemessen wie in den 7 und 8. Wie in dem Graph gezeigt, wird nachdem die Wärmebehandlung durchgeführt wurde, ein optischer Film erhalten, bei dem das übertragene Licht gleichmäßig im sichtbaren Wellenlängenbereich reduziert wird ohne jegliche Wellenlängenabhängigkeit und eine Reflektion auf der Oberfläche wird unterdrückt. Wie Eingangs beschrieben, wird die Durchlässigkeit bei dem anfänglichen Schritt im Vorhinein graduell steigend von der Seite der kurzen Wellenlängen zur Seite der langen Wellenlängen eingestellt, so daß nach der abgeschlossenen Wärmebehandlung die Änderung der optischen Eigenschaften entsprechend kompensiert wird. Durch Optimierung der Reihenfolge des Abscheidens der dielektrischen Filme und der lichtabsorbierenden Filme und der Dicken dieser Filme, welche die Schichtstruktur bilden, kann die eingangs beschriebene Konstruktion ohne weiteres erhalten werden kann. Bei Durchführung der Wärmebehandlung wird die Durchlässigkeit überproportional im Bereich der kurzen Wellenlängen angehoben. Dadurch kann die anfängliche Abweichung ausgelöscht werden und als ein Ergebnis kann eine extrem flache Übertragungscharakteristik im sichtbaren Wellenlängenbereich erreicht werden.

Claims (7)

  1. ND-Filter aufweisend – ein transparentes Substrat mit einer Ebene und – einen optischen Film, gebildet auf der Ebene des transparenten Substrats, wobei der optische Film eine Schichtstruktur aufweist, beinhaltend Schichten eines lichtabsorbierenden Films und eines dielektrischen Films und aufweisend eine variable Übertragungsdichte, – wobei eine Dicke von mindestens einer Schicht von entweder dem lichtabsorbierenden Film oder dem dielektrischen Film der Schichtstruktur in einer Richtung der Ebene des transparenten Substrats variiert, so daß die Übertragungsdichte des optischen Films so eingestellt ist, um in der Richtung der Ebene zu variieren.
  2. ND-Filter nach Anspruch 1, wobei die Dicke von entweder dem lichtabsorbierenden Film oder dem dielektrischen Film, beinhaltet in der Schichtstruktur, kontinuierlich in der Richtung der Ebene des transparenten Substrats variiert, so daß die Übertragungsdichte des optischen Films so eingestellt ist, um kontinuierlich in der Richtung der Ebene zu variieren.
  3. ND-Filter nach Anspruch 1, wobei der lichtabsorbierende Film aus einem Material gebildet ist, ausgewählt aus Ti, Cr, Ni, NiCr, NiFe, NiTi und/oder einer Mischung aus diesen und der dielektrische Film aus SiO2, Al2O3 oder einem Verbund hiervon gebildet ist.
  4. ND-Filter nach Anspruch 1, wobei der dielektrische Film und der lichtabsorbierende Film sukzessiv mit vordefinierten Dicken in einer vordefinierten Reihenfolge geschichtet werden, um Reflektion von Licht zu vermeiden, welches in die Ebene des transparenten Substrats einfällt.
  5. ND-Filter nach Anspruch 1, wobei der lichtabsorbierende Film durch Aufdampfen eines Metallmaterials gebildet ist und ein Oxid des Metallmaterials beinhaltet, welches erzeugt wird, während ein Mischgas, beinhaltend Sauerstoff, während des Aufdampfens des lichtabsorbierenden Films zugeführt wird und ein Vakuumniveau in der Größenordnung von 1 × 10–3 Pa bis 1 × 10–2 Pa während des Aufdampfens aufrechterhalten wird.
  6. ND-Filter nach Anspruch 5, wobei der optische Film einer thermischen Alterungsbehandlung in einer gasförmigen Atmosphäre ausgesetzt wird, welche 10% oder mehr Sauerstoff enthält, so daß die optischen Eigenschaften des optischen Films stabilisiert sind.
  7. Eine Aperturblendenvorrichtung mit einer Blendenlamelle mit angebrachtem ND-Filter nach den Ansprüchen 1–6.
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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7764950B2 (en) * 2002-05-24 2010-07-27 Kodiak Networks, Inc. Advanced voice services architecture framework
US20060076634A1 (en) 2004-09-27 2006-04-13 Lauren Palmateer Method and system for packaging MEMS devices with incorporated getter
JP4613706B2 (ja) * 2004-11-24 2011-01-19 住友金属鉱山株式会社 吸収型多層膜ndフィルター
US7296902B2 (en) * 2005-07-27 2007-11-20 Christie Digital Systems Canada, Inc. Opto-mechanical filter for blending of images from a digital projector
CN100416309C (zh) * 2005-11-23 2008-09-03 亚洲光学股份有限公司 中性密度滤光片
JP4692548B2 (ja) * 2006-01-20 2011-06-01 住友金属鉱山株式会社 吸収型多層膜ndフィルターおよびその製造方法
JP4963027B2 (ja) * 2006-01-31 2012-06-27 キヤノン電子株式会社 Ndフィルタおよびその製造方法、それらを用いた光量絞り装置
US7585122B2 (en) * 2006-03-15 2009-09-08 Nokia Corporation Aperture construction for a mobile camera
CN102692662B (zh) * 2006-08-30 2015-06-24 佳能电子株式会社 光学滤光器以及摄像装置
US20080316628A1 (en) * 2007-06-25 2008-12-25 Nisca Corporation Density filter, method of forming the density filter and apparatus thereof
MX2009002822A (es) * 2009-03-17 2010-02-22 Juan Luis Rendon Granados Un vidrio antirreflejante por una o ambas caras, en forma parcial o total, de un tacto suave y terso, con un aspecto que no refleja la luz y agradable a la vista.
WO2014034133A1 (ja) 2012-08-31 2014-03-06 キヤノン電子株式会社 光量調整装置、撮像光学系、及び撮像装置
US9448346B2 (en) * 2012-12-19 2016-09-20 Viavi Solutions Inc. Sensor device including one or more metal-dielectric optical filters
US10197716B2 (en) 2012-12-19 2019-02-05 Viavi Solutions Inc. Metal-dielectric optical filter, sensor device, and fabrication method
US9568362B2 (en) 2012-12-19 2017-02-14 Viavi Solutions Inc. Spectroscopic assembly and method
DE102013212445A1 (de) * 2013-06-27 2014-12-31 Robert Bosch Gmbh Teilweise getöntes optisches Element und Verfahren zu seiner Herstellung
CN104345523B (zh) * 2013-08-05 2017-07-28 杭州海康威视数字技术股份有限公司 智能交通摄像机局部进光量自动控制的方法及其装置
JP6286202B2 (ja) * 2013-12-19 2018-02-28 Fdk株式会社 ウエッジ膜の形成方法
CN106168692B (zh) * 2014-06-23 2017-11-28 孙义昌 一种多层膜层的中性灰度减光滤镜及其制造方法
CN108603952A (zh) * 2016-02-23 2018-09-28 东海光学株式会社 塑料基材nd滤镜和眼镜用塑料基材nd滤镜
US10739660B2 (en) * 2016-09-23 2020-08-11 3M Innovative Properties Company Articles with resistance gradients for uniform switching
JP6867148B2 (ja) * 2016-12-05 2021-04-28 キヤノン電子株式会社 光学フィルタ及び撮像光学系
KR20210132176A (ko) * 2019-03-05 2021-11-03 퀀텀-에스아이 인코포레이티드 통합 디바이스를 위한 광학 흡수 필터
CN110568537A (zh) * 2019-09-11 2019-12-13 贵州民族大学 一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜
CN113549888A (zh) * 2021-07-29 2021-10-26 浙江水晶光电科技股份有限公司 中灰镜及其制备方法、制备装置
CN115521076B (zh) * 2022-10-27 2024-01-30 沈阳仪表科学研究院有限公司 多段线性渐变密度滤光片的加工方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3943019A (en) * 1971-09-22 1976-03-09 Agfa-Gevaert Aktiengesellschaft Optical filter
JPS5938701A (ja) 1982-08-30 1984-03-02 Asahi Optical Co Ltd Ndフイルタ−
JPH0247722A (ja) * 1988-08-09 1990-02-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子計算機システム
US5479298A (en) * 1991-12-20 1995-12-26 Canon Denshi Kabushiki Kaisha ND filter and aperture device using the same
JP3359114B2 (ja) * 1993-08-26 2002-12-24 キヤノン株式会社 薄膜型ndフィルター及びその製造方法
JPH1096971A (ja) 1996-09-20 1998-04-14 Canon Electron Inc 光学絞り用ndフィルターの製造方法と絞り装置
JP4855602B2 (ja) * 2001-07-27 2012-01-18 日本電産コパル株式会社 薄膜型ndフィルタ及びその製造方法
JP2003322709A (ja) * 2002-04-30 2003-11-14 Sony Corp 薄膜型ndフィルター
CN1243279C (zh) * 2002-07-30 2006-02-22 佳能电子株式会社 滤光片制造方法、有该滤光片的光通量光阑装置和照相机
JP3685331B2 (ja) * 2002-07-30 2005-08-17 キヤノン電子株式会社 Ndフィルタの製造方法、並びにこれらのndフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ

Also Published As

Publication number Publication date
US20050254155A1 (en) 2005-11-17
CN100470269C (zh) 2009-03-18
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KR20060047909A (ko) 2006-05-18
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CN1696813A (zh) 2005-11-16

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