DE10153978A1 - Röntgenanalysegerät mit einem ortsempfindlichen Festkörperröntgendetektor - Google Patents
Röntgenanalysegerät mit einem ortsempfindlichen FestkörperröntgendetektorInfo
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Abstract
In einem ortsempfindlichen Festkörperdetektor (PSD; Position Sensitive Detector) kann jedes Detektorelement 44 eine geringe Ladungsausbeute pro Röntgenquent liefern; außerdem kann eine relativ hohe parasitäre Kapazität 104 zwischen der Abgreifelektrode 90 und dem Halbleiter 86, 88, 92, mit dem sie verbunden sind, vorliegen. Dies verursacht einen geringen Rauschabstand, der das Signal verschlechtert. Gemäß der Erfindung sind die analogen Ladungsverstärker 58 in integrierter Bipolartechnik ausgeführt und ihre Ausleseelektronik 48 in digitaler Technik, vorzugsweise in einem BICMOS-Prozess in CML-Technik (CML : Current Mode Logic). Außerdem kann die digitale Signalverarbeitungselektronik auf dem gleichen Substrat wie die Ladungsverstärker angebracht werden.
Description
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Analysieren von Materialien mit
Hilfe von Strahlung, mit
- - einer Strahlungsquelle zum Erzeugen der Strahlung,
- - einem Probenort zum Plazieren einer Probe des zu untersuchenden Materials,
- - einer ortsempfindlichen Detektionseinrichtung zum Detektieren der von der Probe stammenden Strahlung,
- - welche Detektionseinrichtung versehen ist mit
- - einem Array aus strahlungsempfindlichen Detektorelementen,
- - einer an das Detektorarray angeschlossenen elektronischen Auslese schaltung mit Ladungsverstärkern in einer eindeutigen Beziehung zu den Detektorele menten, wobei der Eingang dieser Ladungsverstärker jeweils an eines der Detektorelemente angeschlossen ist.
Beim Analysieren von Stoffen mit Hilfe von Strahlung, insbesondere mit
Röntgenstrahlung, ist es nahezu immer notwendig, den Winkel, unter dem die Strahlung die
Probe verlässt, in Bezug auf die Richtung des einfallenden Strahlenbündels zu messen. Es
kann sich hierbei um einen großen Winkelbereich handeln (in der Größenordnung von 180
Grad) oder um einen kleineren Winkelbereich, wenn man die Winkelverteilung der Strahlung
in einem bestimmten Winkelbereich bereits globale kennt. Letzteres kommt vor, wenn man
beispielsweise die Feinstruktur einer Röntgenbeugungslinie messen möchte. In diesem Fall
kann man eine ortsempfindliche Detektionseinrichtung verwenden, d. h. einen Detektor, der
mit einem Array aus nebeneinander liegenden (im Allgemeinen zeilenförmigen) strahlungs
empfindlichen Detektorelemente versehen ist, wobei der Ort eines Elementes, das durch
Strahlung aktiviert wird, ein Maß für die Winkelrichtung ist, mit der die Strahlung die Probe
verlässt. In diesem Fall ist daher kein hinsichtlich des Winkels verschiebbarer Detektor not
wendig, was erhebliche Konstruktionsvorteile hat.
In der amerikanischen Patentschrift US 5.113.077 wird eine Einrichtung zum
Detektieren von Strahlung in einem Gerät zum Scannen eines Objektes mit Röntgenstrahlung
für Computertomographie ("Röntgenscanner") beschrieben. Der in dieser Patentschrift be
schriebene CT-Scanner ist mit einer ortsempfindlichen Detektionseinrichtung zum Detektie
ren der von einem zu untersuchenden Objekt kommenden Röntgenstrahlung versehen. Diese
Detektionseinrichtung umfasst ein Array aus strahlungsempfindlichen Detektorelementen in
Form eines Szcintillators mit Photodioden. An jedes Detektorelement ist eine elektronische
Ausleseschaltung angeschlossen, die Ladungsverstärker umfasst, die in einer eindeutigen
Beziehung mit den Detektorelementen verbunden sind, sodass der Eingang jeweils eines La
dungsverstärkers an den Ausgang eines der Detektorelemente angeschlossen ist. Jeder der
Ladungsverstärker ist in Form eines rückgekoppelten Operationsverstärkers (OPAMP) ausge
führt. An den Ausgang des Operationsverstärkers ist ein gesonderter pnp-Transistor ange
schlossen, sodass der Ausgangsstrom der Kombination OPAMP-Transistor durch den Emit
terstrom des pnp-Transistors gebildet wird.
Beim Analysieren von Stoffen mit Hilfe von Röntgenstrahlung nutzt man häu
fig relativ weiche Röntgenstrahlung, wie z. B. die Kα-Strahlung von Kupfer mit einer Wellen
länge von ungefähr 0,154 nm. Bei solcher relativ weichen Röntgenstrahlung ist die Ladungs
ausbeute eines Festkörperdetektionselementes ziemlich gering. So wird in einem Silicium
detektor, der aus einem Körper aus n-Material besteht, der einerseits an einen pn-Übergang
und anderseits an eine N+-Schicht grenzt, pro einfallendem Röntgenquant eine Ladungsmen
ge angeregt werden, die 2200 Elektron-Loch-Paaren entspricht. In der Praxis ist es häufig
nicht möglich, die Röntgenausbeute eines solchen ortsempfindlichen Detektors durch Ver
größerung der röntgenempfindlichen Oberfläche zu erhöhen, weil die Abmessung dieser
Oberfläche die Ortsauflösung bestimmt und somit vorzugsweise möglichst klein gehalten
wird. Weiterhin wird durch die Größe der der Röntgenstrahlung ausgesetzten Oberfläche des
Detektorelementes die Größe der Abgreifelektrode bestimmt. Die Kombination dieser Ab
greifelektrode mit dem Halbleitermaterial, auf dem sie befestigt ist, bestimmt die Größe der
(parasitären) Kapazität am Ausgang des Detektorelementes, somit am Eingang des daran
angeschlossenen Ladungsverstärkers. Bei der Technik solcher Verstärker ist allgemein be
kannt, dass die Kapazität am Eingang eines solchen Verstärkers den Rauschbeitrag dieses
Verstärkers in der Verstärkungskette bestimmt, d. h. je größer die Eingangskapazität, desto
höher der Rauschbeitrag.
Die beiden oben genannten Effekte (geringe Ladungsausbeute per Röntgen
quant und hohe Eingangskapazität) verursachen einen relativ geringen, somit schlechten
Rauschabstand in der elektronischen Ausleseschaltung der Detektionseinrichtung. Im Prinzip
ist es nicht unmöglich, den Rauschabstand mit einer längeren Messdauer zu verbessern, dies
ist jedoch unerwünscht, weil dadurch die relativ teuren Analysegeräte unerwünscht lange Zeit
für eine Messung brauchen und somit mit geringem Wirkungsgrad genutzt werden könne.
Um dem oben genannten Problem entgegenzuwirken, liegt der Erfindung die
Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung der eingangs erwähnten Art zu verschaffen, bei der der
Rauschabstand bei der weiteren Signalverarbeitung möglichst groß gehalten werden kann.
Hierzu ist diese Einrichtung gemäß der Erfindung dadurch gekennzeichnet, dass die La
dungsverstärker in integrierter Bipolartechnik ausgeführt sind und dass die elektronische
Ausleseschaltung an die Ausgänge der Ladungsverstärker angeschlossene Signalverarbei
tungsschaltungen umfasst, die in digitaler Technik ausgeführt sind.
Die Erfindung nutzt die Erkenntnis, dass durch die parasitäre Eingangskapa
zität des Ladungsverstärkers ein wesentlicher Rauschbeitrag geliefert wird. Um an dieser
Stelle den Rauschbeitrag auf ein Minimum zu beschränken, wird dort für die Ladungsver
stärker integrierte Bipolartechnik eingesetzt, die relativ wenig Rauschen verursacht. Die
weitere Signalverarbeitung muss dabei mit genügend hoher Geschwindigkeit erfolgen, um
die Zählgeschwindigkeit und damit die Durchlaufgeschwindigkeit der zu analysierenden
Proben nicht unnötig zu beschränken. Diese Geschwindigkeit kann mit Signalverarbeitungs
schaltungen erzielt werden, die in digitaler Technik ausgeführt sind. Außerdem haben in di
gitaler Technik ausgeführte Schaltungen den weiteren Vorteil, dass sie mit einer relativ klei
nen Schaltungsoberfläche integriert werden können und so ausgeführt werden können, dass
sie einen relativ geringen Stromverbrauch haben. Die Forderung einer nach kleinen Schal
tungsoberfläche ist umso nachdrücklicher, weil eine ausreichend hohe Zählgeschwindigkeit
des Detektorarrays gefordert wird; um dies zu realisieren, hat jedes Detektorelement seine
eigene Signalverarbeitungsschaltung, was viele Verarbeitungsschaltungen, d. h. eine große
Oberfläche mit integrierten Schaltungen mit sich bringt. Um diese Oberfläche doch noch
genügend klein zu halten, wird der relativ geringe Raumbedarf der digitalen Technik genutzt.
Es sei bemerkt, dass aus der genannten Patentschrift US 5.113.077 bekannt ist,
den Ladungsverstärker mit einem gesonderten Ausgangstransistor in Form eines
pnp-Transistors (also mit einem Bipolartransistor) zu versehen. Dieser Patentschrift ist jedoch
keine Information über die Technologie zu entnehmen, in der die Ladungsverstärker selbst,
d. h. die Schaltungen, die direkten Kontakt mit der parasitären Eingangskapazität haben, aus
geführt sind.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind die digitalen Si
gnalverarbeitungsschaltungen auf demselben Substrat aufgebracht wie die Ladungsverstär
ker. Um eine hohe Ortsauflösung und einen großen Messbereich zu erhalten, verwendet man
in einem ortsempfindlichen Detektorarray vorzugsweise eine möglichst große Anzahl Detek
torelemente. Das bedeutet, dass bei einer eindeutigen Beziehung zwischen den Ladungs
verstärkern und den Detektorelementen eine mindestens ebenso große Anzahl Verbindungen
angebracht werden muss. Wenn die Bipolarschaltungen und die in digitaler Technik ausge
führten Schaltungen jeweils ein eigenes Substrat hätten, müssten für jede Verbindung auf
jedem Substrat ebenso viele Bondpads angebracht werden; bekanntlich nehmen Bondpads
auf der betreffenden integrierten Schaltung viel Raum ein. Die oben genannte Maßnahme hat
jetzt den Vorteil, dass die genannten Bondpads nicht notwendig sind.
Bei einer weiteren Ausführungsform der Erfindung sind die digitalen Signal
verarbeitungsschaltungen in einem BICMOS-Prozess in CML-Technik (CML: Current Mode
Logic) ausgeführt. Würde man die digitalen Signalverarbeitungsschaltungen in der üblichen
CMOS-Logik ausfuhren, dann würde beim Übergang von einem ersten Logikzustand in den
komplementären Logikzustand ein impulsförmiger Spitzenstrom (auch Querstrom genannt)
der Transistoren der umschaltenden Logikgatter zum Substrat auftreten, auf dem sie aufge
bracht sind. Da auf demselben Substrat auch die in Bipolartechnik ausgeführten Ladungsver
stärker aufgebracht sind, besteht die Möglichkeit, dass diese impulsförmigen Leckströme
zum Rauschen der Ladungsverstärker beitragen, was deren Rauschabstand verschlechtern
würde. Bei Anwendung der oben genannten Maßnahme wird dieser Effekt vermieden, indem
beim BICMOS-Prozess das Substrat einen viel höheren Widerstand hat als beim üblichen
CMOS-Prozess; infolgedessen sind die Substratströme viel kleiner und durchdringen das
Substrat in viel geringerem Maße, wodurch die störende Wirkung weniger stark ist und
sich weniger weit erstreckt. Außerdem treten beim Übergang von dem einen Logikzustand in
den komplementären Logikzustand in BICMOS-CML-Schaltungen viel kleinere Spitzen
ströme auf.
Bei einer anderen Ausführungsform der Erfindung ist die Gesamtheit aus De
tektorarray und elektronischen Ausleseschaltungen auf einem gemeinsamen Träger ange
bracht ist, der aus keramischem Material hergestellt ist. Um bei den bipolaren Ladungsver
stärkern einen optimalen Rauschabstand zu erreichen, werden diese auf einen relativ hohen
Ruhestrom eingestellt. Auch die Anwendung von CML-Technik erfordert einen höheren
Strom als die übliche CMOS-Logik. Große Ströme gehen mit einem hohen Wärmeverlust
einher. Indem nun die Schaltungen auf einem keramischen Träger, z. B. Aluminiumnitrid,
platziert werden, wird eine gute Wärmeverteilung erreicht, somit eine große Wärmeabfuhr
fläche mit den zugehörigen guten Kühleigenschaften.
Die Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher
beschrieben, wobei gleiche Bezugszeichen entsprechende Elemente andeuten. Es zeigen:
Fig. 1 eine globale Wiedergabe eines an sich bekannten Röntgenanalysege
rätes, in dem die Erfindung angewendet werden kann;
Fig. 2 eine schematische Übersicht der Plazierung des Arrays aus strah
lungsempfindlichen Detektorelementen und zweier zur elektronischen Ausleseschaltung der
ortsempfindlichen Detektionseinrichtung gehörenden Gruppen gemäß der Erfindung;
Fig. 3 eine schematische Übersicht der verschiedenen Funktionsblöcke der
elektronischen Ausleseschaltung von Fig. 2;
Fig. 4 eine perspektivische Übersicht des Aufbaus des Arrays aus strah
lungsempfindlichen Detektorelementen von Fig. 2;
Fig. 5a eine grafische Wiedergabe des Signalverlaufes direkt nach einem
Ladungsverstärker der elektronischen Ausleseschaltung;
Fig. 5b eine grafische Wiedergabe des Signalverlaufes nach Filterung des
Signals von Fig. 5a;
Fig. 6a ein in CMOS-Technik ausgeführtes Logikgatter;
Fig. 6b ein in CML-Technik ausgeführtes Logikgatter.
Die Erfindung soll anhand einer Ausführungsform beschrieben werden, in der
die Einrichtung zum Analysieren von Materialien mit Hilfe von Strahlung durch ein Gerät
zur Röntgenanalyse gebildet wird, insbesondere ein Röntgenbeugungsgerät. Darin hat die
analysierende Strahlung die Form von Röntgenstrahlung. Er wird jedoch darauf hingewiesen,
dass die Erfindung auf alle andere Geräte zur Strahlungsanalyse, in denen ein ortsempfindli
cher Detektor zum Detektieren der von der zu untersuchenden Probe stammenden Strahlung
verwendet wird, anwendbar ist.
Fig. 1 zeigt eine schematische Darstellung eines an sich bekannten Gerätes
zur Röntgenanalyse, in diesem Fall ein Gerät zur Röntgenbeugung, in dem die Erfindung
angewendet werden kann. Hierin ist auf einem Gestell 2 ein Goniometer 4 angebracht. Dieses
Goniometer 4 kann mit einem Winkelcodierer zum Messen der Winkeldrehung einer Rönt
genquelle 6 und auf Wunsch der Winkeldrehung einer Detektionseinrichtung 9 versehen sein.
Bei Verwendung eines ortsempfindlichen Detektors ist eine Messung der Winkeldrehung
jedoch nicht notwendig, weil die Winkelposition der zu messenden Röntgenstrahlung gerade
durch einen solchen Detektor selbst bestimmt wird. In diesem Fall kann anstelle eines Go
niometers ein Einstellmechanismus verwendet werden, um den ortsempfindlichen Detektor in
dem gewünschten Messgebiet zu plazieren. Das Goniometer ist außerdem mit einem Pro
benträger 8 versehen, auf dem eine Probe 10 angebracht ist. Für die Fälle, in denen Messung
der Winkeldrehung der Probe wichtig ist, kann auf dem Probenträger ein Winkelcodierer
angebracht sein. Die Röntgenquelle 6 umfasst einen Halter 12 für eine in dieser Figur nicht
abgebildete Röntgenröhre, die in dem Halter befestigt wird. Diese Röntgenröhre wird mit
einem Hochspannungsstecker 15 versehen, mit dem die Hochspannung und der Heizstrom
für die Röntgenröhre zugeführt werden. Der Röhrenhalter 12 ist weiterhin mit einer Aus
trittsöffnung 38 für Röntgenstrahlung und einer Einheit 16 zum Parallelisieren der Röntgen
strahlung (einem Soller-Spalt-Kollimator) versehen. Die Platten des Soller-Spalt-Kollimators
16 liegen parallel zur Zeichenebene, sodass das von der Röntgenquelle 6 erzeugte Strahlen
bündel die Probe 10 mit einem divergenten Bündel belichtet. Die Detektionseinrichtung 9
besteht aus einem Halter 18 für einen Soller-Spalt-Kollimator und einem Detektor 20. Die
Platten des Soller-Spalt-Kollimators im Halter 18 liegen ebenfalls parallel zur Zeichenebene.
Es ist möglich, die Röntgenquelle fest aufzustellen, wobei in diesem Fall der Probenträger
drehbar sein muss.
Das Röntgenbeugungsgerät, wie in Fig. 1 abgebildet, ist weiterhin mit einer
Verarbeitungseinrichtung zur Verarbeitung der verschiedenen gemessenen Daten versehen.
Diese Verarbeitungseinrichtung besteht aus einer Zentraleinheit 22 (auf Wunsch mit einer
Schnittstelleneinrichtung zur Anpassung der Messdaten an die Verarbeitungseinrichtung) mit
einer Speichereinheit 26 und einem Monitor 24 zur Darstellung der verschiedenen Daten und
zur Wiedergabe des gemessenen und berechneten Ergebnisses. Die auf das Goniometer 4
montierte Röntgenquelle 6, die Detektionseinrichtung 9 und der Probenträger 8 können alle
mit einer (nicht abgebildeten) Einheit zum Bestimmen der Winkelstellung des betreffenden
Elementes in Bezug auf das Goniometer versehen sein. Ein Signal, das diese Winkelstellung
wiedergibt, wird über Verbindungsleitungen 28-1, 28-2 und 28-3 zur Zentraleinheit 22 über
tragen.
Die Probe 10 wird mit Röntgenstrahlung belichtet, die aus der Röntgenquelle
6 stammt. In dieser Röntgenquelle ist schematisch eine Anode 30 wiedergegeben, die Teil
der in dieser Figur weiter nicht abgebildeten Röntgenröhre ist. In der Anode 30 wird Rönt
genstrahlung 34 erzeugt, die durch das Röntgenfenster 38 nach außen tritt. Bei der Aufstel
lung nach Fig. 1 wird der Punkt, von dem die Röntgenstrahlen ausgehen, nicht von einem
einzelnen Punkt gebildet, sondern von einer Brennlinie 32 auf der Anode, die senkrecht zur
Zeichenebene steht. In einem fokussierenden Diffraktometer wird ein Brennpunkt im Punkt
36 des die Probe verlassenden Strahlenbündels 40 am Ort des Eingangs des Detektors 20
gebildet, wo die Strahlen dieses Strahlenbündels sich vereinigen. Dadurch hat diese Aufstel
lung nur in der Zeichenebene eine fokussierende Wirkung und hat der Querschnitt des
Strahlenbündels am Ort des Vereinigungspunktes 36 die Form einer Linie senkrecht zur Zei
chenebene. Ein ortsempfindlicher Röntgendetektor hat dann ebenfalls linienförmige Detek
torelemente, die parallel zur Brennlinie am Ort von Punkt 36 liegen.
Fig. 2 gibt eine schematische Übersicht der Plazierung des Arrays aus
strahlungsempfindlichen Detektorelementen und zweier Chips mit jeweils 64 Gruppen von
elektronischen Ausleseschaltungen, die die an die Detektorelemente angeschlossenen La
dungsverstärker umfassen. Weiterhin umfasst jede dieser elektronischen Ausleseschaltungen
Bandfilter und Signalpegel-Komparatoren, wobei jeder der Chips am Ausgang auch mit ei
nem Ausgangsmultiplexer versehen ist, um die Anzahl Ausgangsanschlussstifte des Chips zu
begrenzen.
In Fig. 2 wird das Array aus strahlungsempfindlichen Detektorelementen mit
dem Bezugszeichen 42 angedeutet. Das Array besteht aus einer Anzahl von 128 Detektor
elementen 44-1 bis 44-128, im Allgemeinen mit dem Bezugszeichen 44 anzugeben. Der Auf
bau des Arrays 42 soll anhand von Fig. 4 näher beschrieben werden. Jedes der Detektor
elemente 44-i ist über einen (nicht abgebildeten) Bondpad auf dem Substrat von Array 42,
einen Verbindungsdraht 46-i und einen (nicht abgebildeten) Bondpad auf Chip 48 an eine
eigene elektronische Ausleseschaltung in Chip 48-1 oder 48-2 angeschlossen, wobei der Ein
gang jeder Ausleseschaltung durch den Eingang eines Ladungsverstärkers gebildet wird.
Nach elektronischer Verarbeitung der von jedem der Detektorelemente 44 empfangenen Sig
nale werden diese verarbeiteten Signale über einen (nicht abgebildeten) Multiplexer pro Chip
48 an die Ausgänge 50-1 bis 50-6 weitergegeben, im Allgemeinen 50. Dabei bestehen die
Ausgänge 50-1 und 50-4 jeweils aus zwei realen Leitern für das Übertragen eines binären
Signals, das angibt, ob ein Röntgenquant detektiert worden ist oder nicht, die Ausgänge 50-2
und 50-5 jeweils aus zwei realen Leitern für das Übertragen eines binären Signals, das angibt,
ob die Energie des detektierten Röntgenquants in ein vorgeschriebenes Energiefenster fällt
oder nicht, und bestehen die Ausgänge 50-3 und 50-6 jeweils aus einem Bus von zwölf realen
Leitern für das Übertragen eines digitalen Signals aus sechs Bits, das die Adresse des Detek
torelementes 44-i wiedergibt, die das betreffende Röntgenquant detektiert hat. Das Substrat
des Arrays 42 und die Substrate der beiden Chips 48-1 und 48-2 sind gemeinsam auf einem
gemeinsamen Träger (55) aufgebracht, der aus keramischem Material hergestellt ist, z. B. aus
Aluminiumnitrid. Der Inhalt einer Ausleseschaltung auf Chip 48 soll anhand von Fig. 3
ausführlicher beschrieben werden.
Beim Einfall eines Röntgenquants 54 wird das von dem Quant getroffene De
tektorelement 44-i einen Stromimpuls an den zugehörigen Ladungsverstärker abgeben. Die
Folgenummer i des getroffenen Detektorelementes ist ein Maß für den Ort, wo das Quant
einfällt, sodass die ortsempfindliche Richtung senkrecht zur Längsrichtung der Detektorele
mente steht, wie in Fig. 2 durch die Richtung von Pfeil 52 wiedergegeben. Dabei wird die
Ortsauflösung des Detektorarrays durch die Breite der Detektorelemente 44 bestimmt, d. h.
durch die Abmessung in Richtung von Pfeil 52.
Fig. 3 zeigt eine schematische Übersicht der verschiedenen Funktionsblöcke
der elektronischen Ausleseschaltung in Chip 48 von Fig. 2. Der durch ein Detektorelement
44 erzeugte Stromimpuls wird über einen (nicht in Fig. 3 abgebildeten) Bondpad auf dem
Substrat des Arrays 42, einen Verbindungsdraht 46 und einen Bondpad 56 auf dem Chip 48
zum Ladungsverstärker 58 übertragen. Zu regelmäßigen Zeitpunkten wird der Ladungsver
stärker mittels einer Rücksetzschaltung 60 wieder in einen Anfangszustand zurückgebracht.
An den Ausgang des Ladungsverstärkers 58 ist eine Pufferschaltung 66 ange
schlossen, um dafür zu sorgen, dass der Ausgang des Ladungsverstärkers 58 nicht durch die
darauf folgenden Schaltungen belastet wird. Das hinter der Pufferschaltung 66 erhaltene Sig
nal wird für eine weitere Verarbeitung in einem Bandfilter 68 gefiltert, woraufhin das so ge
filterte Signal in einer Komparatorschaltung 70 mit zuvor eingestellten Werten verglichen
wird, um festzustellen, ob ein Röntgenquant der gewünschten Energie (also ein Ladungsim
puls mit dem richtigen Wert) empfangen worden ist. Die Komparatorschaltung 70 besteht
hierzu aus einem Rauschschwellenkomparator 70-1, um festzustellen, ob das empfangene
Signal die eingestellte Rauschschwelle überschreitet, einen Niedrigpegel-Komparator 70-2,
um festzustellen, ob das empfangene Signal höher ist als ein zuvor eingestellter niedrigster
Signalpegel und einen Hochpegel-Komparator 70-3, um festzustellen, ob das empfangene
Signal niedriger ist als ein zuvor eingestellter höchster Signalpegel. Die Komparatorpegel
können mit einer Einstellschaltung 72 eingestellt werden. In Fig. 3 ist mit einer vertikalen
gestrichelten Linie 71 die Grenze zwischen den Gebieten, die in analoger Technik ausgeführt
sind (links von der gestrichelten Linie, mit A bezeichnet) und die in digitaler Technik ausge
führt sind (rechts von der gestrichelten Linie, mit D bezeichnet) angegeben. Gemäß der Er
findung befinden sich diese beiden Gebiete auf demselben Substrat 55, siehe Fig. 2.
An den Ausgang des Rauschschwellenkomparators 70-1 ist eine Quantende
tektionsschaltung 74 angeschlossen, die mit einem binären Signal, dem Detektionssignal, an
ihrem Ausgang 78 angibt, ob ein Röntgenquant detektiert worden ist oder nicht. An die Aus
gänge des Niedrigpegel-Komparators 70-2 und des Hochpegel-Komparators 70-3 ist eine
Fensterschaltung 76 angeschlossen, die, falls das detektierte Röntgenquant in das durch die
Komparatoren 70-2 und 70-3 vorgeschriebene Energiefenster fällt, dieses an ihrem Ausgang
80-i mit einem binären Signal angibt (dem Fenstersignal). Der Busleiter 83 am Ausgang des
Multiplexers 82 überträgt hierbei das binäre Detektionssignal, das binäre Fenstersignal und
das digitale 6-Bit-Adressignal.
Pro Chip 48 sind 64 der oben beschriebenen Kanäle für die Signalverarbeitung
vorhanden. Jeder Kanal i hat somit einen Binärausgang 78-i und einen Binärausgang 80-i,
welche Ausgänge alle an einen Ausgangsmultiplexer 82 angeschlossen sind, von dem aus ein
Ausgangsignal beispielsweise über eine geeignete Schnittstellenschaltung der Zentraleinheit
22 (siehe Fig. 1) zugeführt werden kann.
Alle anhand von Fig. 3 beschriebenen einzelnen Schaltungen sind dem
Fachmann bekannt und brauchen hinsichtlich Aufbau und Funktionsweise nicht näher erläu
tert zu werden.
Fig. 4 zeigt eine perspektivische Übersicht des Aufbaus des Arrays 42 aus
strahlungsempfindlichen Detektorelementen nach Fig. 2. Das genannte Array ist auf einem
Substrat 86 gebildet, das aus einer relativ dicken Schicht aus n-Material mit einem hohen
elektrischen Widerstand besteht. An einer Seite dieser Schicht sind längliche Vertiefungen 88
ausgespart, die mit p-Material gefüllt sind. Auf diesem p-Material ist eine längliche Abgreif
elektrode 90 aus Aluminium zum Abgreifen des Signals angebracht. Die Form der Ausspa
rung 88 und damit der Elektrode 90 ist derart, dass deren Breite erheblich kleiner ist als die
Länge, wodurch die Form der Elektrode der Form einer zu detektierenden Röntgen
brennlinie entspricht. An der anderen Seite der Schicht 86 ist eine Schicht n+-Material 92 zur
elektrischen Kontaktierung angebracht. Im Betrieb ist die Spannung an der n+-Schicht 92 z. B.
80 V, an der Abgreifelektrode z. B. 2,5 V. Durch die angelegte Spannung entsteht ein elektri
sches Feld, dessen Feldlinien 94 zwischen der Abgreifelektrode 90 und der n+-Schicht 92
wiedergegeben sind. Diese Spannungsdifferenz (nämlich 80-2,5 V) verarmt das Material 86
vollständig, d. h. es gibt dann keine freien Ladungsträger mehr.
Im Betrieb fällt ein Röntgenquant 54 auf der Unterseite der Schicht 86 ein.
Dadurch entsteht in dieser Schicht eine Anzahl Elektron-Loch-Paare, wobei die Zahl von der
Energie des Röntgenquants abhängig ist. Wenn die Energie des Röntgenquants z. B. 8 keV
ist, ist die Zahl ausgelöster Elektron-Loch-Paare gleich dem Verhältnis dieser Energie zur
Auslöseenergie eines einzigen Elektron-Loch-Paares von z. B. 3,6 eV, sodass in diesem Fall
ungefähr 2200 Elektron-Loch-Paare ausgelöst werden. Die Elektronen 96 der ausgelösten
Elektron-Loch-Paare bewegen sich unter dem Einfluss des elektrischen Feldes in Richtung
der n+-Schicht 92, die Löcher 100 bewegen sich in Richtung des p-Materials 88, also der
Elektrode 90. Somit entsteht ein Ladungsimpuls in einer Schaltung, die zwischen der
n+-Schicht 92 und dem p-Material 88 angeschlossen ist.
Die Form der Aussparung 88 und somit der Elektrode 90 ist so, dass deren
Breite erheblich kleiner ist als die Länge, wodurch in einer Richtung senkrecht zur Längs
richtung der Elektrode 90 eine hohe Ortsauflösung erhalten werden kann, während durch die
größere Länge dieser Elektrode doch noch eine hinreichende Elektrodenoberfläche erhalten
wird, sodass die detektierende Oberfläche nicht unnötig klein und der Dektionswirkungsgrad
somit möglicherweise zu klein wird. Vorzugsweise muss das zu detektierende Röntgenstrah
lenbilndel am Ort der Detektoroberfläche einen streifenförmigen Querschnitt haben. Diese
Bedingung wird in vielen Röntgenanalysegeräten erfüllt, insbesondere bei Geräten für Rönt
genbeugung.
Die Elektrode 90 endet mit einem auf demselben Substrat 86 angebrachten
Bondpad 98. Von diesem Bondpad 98 aus sorgt eine Verbindungsleitung 46 für die Verbin
dung mit einem zum Chip 48 gehörenden Bondpad 56 (siehe auch Fig. 3). So wird der über
die Elektrode 90 abgegriffene Ladungsimpuls zur weiteren Signalverarbeitung an den La
dungsverstärker 58 von Chip 48 übertragen. Die Kombination von Elektrode 90, p-Material
88, dem darunter liegenden Halbleitermaterial 86 und der Schicht n+-Material 92 bewirkt eine
parasitäre Kapazität, die in der Figur schematisch mit dem Bezugszeichen 104 dargestellt ist;
diese parasitäre Kapazität 104 wird am Ausgang des Detektorelementes, somit am Eingang
des daran angeschlossenen Ladungsverstärkers wahrgenommen. Da die Kapazität am Ein
gang eines solchen Verstärkers den Rauschbeitrag dieses Verstärkers in der Verstärkungs
kette bestimmt, ist es sehr wichtig, den Rest der Signalverarbeitungskette möglichst
rauscharm auszuführen.
Die Fig. 5a und 5b zeigen eine grafische Wiedergabe des Signalverlaufes
direkt nach einem Ladungsverstärker der elektronischen Ausleseschaltung bzw. nach Filte
rung dieses Signals. Wie allgemein bekannt, ist ein Ladungsverstärker mit einem Kondensa
tor versehen, der den empfangenen Ladungsimpuls in einen Spannungsschritt umwandelt,
welcher Spannungsschritt dann von einem Spannungsverstärker verstärkt wird. Durch immer
vorhandenen, durch das Halbleitermaterial des Substrats 86 fließenden Leckstrom wird dieser
Kondensator langsam aufgeladen, wodurch die Ausgangsspannung Vu des (invertierend aus
geführten) Ladungsverstärkers einen linear abfallenden zeitlichen Verlauf aufweist, wie
durch den linearen Abschnitt 106 in Fig. 5a dargestellt. Wenn kein Ladungsimpuls am Ein
gang des Ladungsverstärkers angeboten wird, wird nach einiger Zeit der Verstärker rückge
setzt, was bedeutet, dass die Ladung am Kondensator auf einen Anfangswert gebracht wird
(z. B. 0 C), woraufhin der oben genannte Verlauf wieder beginnt. Wird jedoch ein La
dungsimpuls angeboten, dann äußert sich dies als Sprung in der Ladung am Kondensator,
also in der Ausgangsspannung, so wie durch den Spannungssprung 108 in Fig. 5a wieder
gegeben, woraufhin der lineare Abschnitt sich (mit einer vertikalen Verschiebung) bei der
Linie 110 fortsetzt, bis der Verstärker bei der Rücksetzung 112 wieder rückgesetzt wird.
Das so erhaltene Signal wird mit einem Bandfilter, dessen Ausgangssignal Vf
in Fig. 5b mit einer ausgezogenen Linie 114 wiedergegeben ist, digital gefiltert. Die mit I
angedeutete Fläche über der Zeitachse und unter der Linie 114 ist dabei nahezu ebenso groß
wie die Fläche II unter der Zeitachse und über der Linie 114. Dieser Effekt wird mit einem
Filter erreicht, das drei zusammenfallende reelle Pole hat. Der Vorteil des oben genannten
Signalverlaufs gemäß der Linie 114 ist, dass die Zeit, die zwischen dem Anbieten eines
Stromimpulses und dem Detektieren dieses Impulses (d. h. dem elektronisch Feststellen, dass
ein Impuls aufgetreten ist) verstreicht, kürzer ist, und zwar wegen des genannten Signalver
laufs, der eine viel schnellere Rückkehr auf den Wert null aufweist als ein Signalverlauf mit
beispielsweise einem herkömmlichen Bandfilter, dessen Verlauf zum Vergleich in Fig. 5b
mit der gestrichelten Linie 116 gezeigt wird. Diese schnelle Rückkehr auf den Wert null er
möglicht eine hohe Zählgeschwindigkeit des Detektors.
Die Fig. 6a und 6b zeigen ein Logikgatter in CMOS-Logik bzw. ein Lo
gikgatter in CML-Technik. Das Logikgatter von Fig. 6a besteht aus zwei mit ihrem
Hauptstrompfad in Reihe geschalteten MOSFET-Transistoren 118 und 120, wobei der Ver
bindungspunkt 122 den Ausgang für das Logiksignal bildet. Bei einem Übergang von einem
Logikzustand in den komplementären Logikzustand wird ein Querstrom zum Substrat hin
auftreten. Dieser Strom wird folgendermaßen verursacht. In einem ersten Logikzustand des
Gatters wird ein Strom durch den Ausgang 122 geleitet, der nach innen gerichtet ist, im kom
plementären Logikzustand wird ein Strom durch den Ausgang 122 geleitet, der nach außen
gerichtet ist. Im letztgenannten Fall fließt der Strom vom Speisepunkt 124 durch den Transi
stor 118 zum Ausgang 122 und leitet Transistor 120 nicht, wodurch also kein Strom zum
Substrat fließt. Im ersten Fall fließt der Strom vom Ausgang 122 durch den Transistor 120
zum Substrat, wobei der Transistor 120 nicht leitet. In diesem Fall fließt also doch Strom
zum Substrat. Beim Übergang des Logikzustandes tritt somit eine Stromdifferenz in Form
eines impulsförmigen Spitzen- oder Querstrom auf. Da auf demselben Substrat auch die in
Bipolartechnik ausgeführten Ladungsverstärker angebracht sind, wird dieser impulsförmige
Spitzenstrom zum Rauschen der Ladungsverstärker beitragen, was deren Rauschabstand ver
schlechtern würde.
Das beschriebene Problem wird durch Verwendung eines in CML-Logik aus
geführten Logikgatters, wie in Fig. 6b gezeigt, gelöst. Dieses Gatter besteht aus zwei paral
lellen Zweigen 126 und 128, die mit einer Stromquelle 138 in Reihe liegen. Jeder der beiden
parallellen Zweige 126 und 128 besteht aus einem MOSFET-Transistor 130 bzw. 132 und
einer Stromquelle 134 bzw. 136. Der Ausgang dieses Gatters wird durch die zwei Verbin
dungspunkte 138 und 140 gebildet, wobei die Differenzspannung dieser zwei Punkte den
Logikwert repräsentiert. Beim Umschalten zwischen zwei Logikzuständen ist die Stromab
nahme in dem einen Transistor, z. B. Transistor 130, gleich der Stromzunahme in dem ande
ren Transistor 132 und umgekehrt. Der Substratstrom ist die Summe aus diesen beiden Strö
men und diese ändert sich dabei nicht. Dadurch wird der unerwünschte Spitzenstrom nicht
auftreten und stellt dieser somit auch keinen Rauschbeitrag in der analogen Verarbeitungs
kette auf dem Substrat dar.
Claims (5)
1. Einrichtung zum Analysieren von Materialien mit Hilfe von Strahlung, mit
einer Strahlungsquelle (6) zum Erzeugen der Strahlung (42),
einem Probenort (8) zum Plazieren einer Probe (10) des zu untersuchenden Materials,
einer ortsempfindlichen Detektionseinrichtung (9) zum Detektieren der von der Probe stammenden Strahlung (45),
welche Detektionseinrichtung versehen ist mit
einem Array (42) aus strahlungsempfindlichen Detektorelementen (44),
einer an das Detektorarray angeschlossenen elektronischen Auslese schaltung; (48) mit Ladungsverstärkern (58) in einer eindeutigen Beziehung zu den De tektorelementen (44), wobei der Eingang dieser Ladungsverstärker jeweils an eines der De tektorelemente angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet,
dass die Ladungsverstärker (58) in integrierter Bipolartechnik ausgeführt sind und dass die elektronische Ausleseschaltung (48) an die Ausgänge der Ladungsverstärker angeschlossene Signalverarbeitungsschaltungen (74-82) umfasst, die in digitaler Technik ausgeführt sind.
einer Strahlungsquelle (6) zum Erzeugen der Strahlung (42),
einem Probenort (8) zum Plazieren einer Probe (10) des zu untersuchenden Materials,
einer ortsempfindlichen Detektionseinrichtung (9) zum Detektieren der von der Probe stammenden Strahlung (45),
welche Detektionseinrichtung versehen ist mit
einem Array (42) aus strahlungsempfindlichen Detektorelementen (44),
einer an das Detektorarray angeschlossenen elektronischen Auslese schaltung; (48) mit Ladungsverstärkern (58) in einer eindeutigen Beziehung zu den De tektorelementen (44), wobei der Eingang dieser Ladungsverstärker jeweils an eines der De tektorelemente angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet,
dass die Ladungsverstärker (58) in integrierter Bipolartechnik ausgeführt sind und dass die elektronische Ausleseschaltung (48) an die Ausgänge der Ladungsverstärker angeschlossene Signalverarbeitungsschaltungen (74-82) umfasst, die in digitaler Technik ausgeführt sind.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, in der die digitalen Signalverarbeitungsschal-
tungen auf demselben Substrat aufgebracht sind wie die Ladungsverstärker.
3. Einrichtung nach Anspruch 2, in der die digitalen Signalverarbeitungsschal
tungen in einem BICMOS-Prozess in CML-Technik (CML: Current Mode Logic) ausgeführt
sind.
4. Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, in der die Gesamtheit
aus Detektorarray (42) und elektronischer Ausleseschaltung (48) auf einem gemeinsamen
Träger (55) angebracht ist, der aus keramischem Material hergestellt ist.
5. Ortsempfindliche Detektionseinrichtung zum Detektieren von Strahlung wie in
einem der vorhergehenden Ansprüche definiert.
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Date | Code | Title | Description |
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Owner name: PANALYTICAL B.V., ALMELO, NL |
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R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20130112 |
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