DE1014406B - Schmelzfluessiges Bad, Verfahren und Anode zur galvanischen Abscheidung von Wolfram und/oder Molybdaen - Google Patents

Schmelzfluessiges Bad, Verfahren und Anode zur galvanischen Abscheidung von Wolfram und/oder Molybdaen

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DE1014406B
DE1014406B DEN11228A DEN0011228A DE1014406B DE 1014406 B DE1014406 B DE 1014406B DE N11228 A DEN11228 A DE N11228A DE N0011228 A DEN0011228 A DE N0011228A DE 1014406 B DE1014406 B DE 1014406B
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DE
Germany
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tungsten
molybdenum
bath
bath according
moles
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Application number
DEN11228A
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English (en)
Inventor
George Leonard Davis
Charles Harold Raymond Gentry
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Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
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Description

DEUTSCHES
Die Erfindung bezieht sich auf die galvanische Abscheidung von Wolfram und/oder Molybdän, d.h. auf die Abscheidung dieser Metalle einzeln oder als Legierungen.
Nach der Erfindung wird ein Bad geschmolzener Salze des niederzuschlagenden Metalls verwendet, wodurch ein nichtporöser Überzug ohne Risse, in Form einer kohärenten und einer adhärenten Schicht auf einer Unterlage aus Metall oder Kohlenstoff erhalten werden kann und wobei die niedergeschlagene Schicht gute mechanische Eigenschaften aufweist.
Gemäß der Erfindung werden Wolfram und/oder Molybdän in einem Bad galvanisch niedergeschlagen, das im wesentlichen aus einem Gemisch aus
a) Alkalimetall-Wolframaten und/oder -Molybdaten,
b) Alkalimetallboraten oder -phosphaten,
c) Wolframoxyd und/oder Molybdänoxyd
besteht, wobei das Bad auf eine Temperatur erhitzt wird, bei der das Gemisch schmilzt und die Flüssigkeit und die elektrische Leitfähigkeit zum Vollziehen der Galvanisierung genügen. Für eine zweckdienliche Galvanisierung hoher Qualität ist es vorteilhaft, ein Bad zu verwenden, das aus einem Gemisch von
a) Natrium-Lithiumwolframat und/oder -Molybdat,
b) Natrium-Lithiumborat,
c) Wolfram- und/oder Molybdänoxyd
besteht. Bei solchen Bädern wurde gefunden, daß zur Herstellung einer Wolframschicht die Molekularverhältnisse zwischen den nachstehend erwähnten Komponenten vorzügliche Resultate ergeben:
a) NaLiWO4 bis zu 6 Mol, vorzugsweise 2 Mol,
b) NaLiB2O4 von 2 bis 6 Mol, vorzugsweise 6 Mol,
c) WO3 bis zu 3 Mol, vorzugsweise 1 Mol.
Zur Herstellung von Überzügen aus Molybdän oder aus Wolfram-Molybdän-Legierungen ersetzt das Molybdän ganz oder teilweise das Wolfram in den Zusammensetzungen des Bades, wie vorstehend für die Wolframgalvanisier ung erwähnt.
Beim Vorbereiten des Bades sind sorgfältig getrocknete Substanzen zu verwenden und die Wiederaufnahme von Wasser muß verhütet werden, um einen guten Niederschlag zu erhalten.
Zur Galvanisierung kann jede inerte Anode verwendet werden. Es ist jedoch vorteilhaft, eine Anode mit der gleichen Zusammensetzung wie die niederzuschlagende Schicht zu verwenden, da dann die Zusammensetzung des Bades von selbst während der Elektrolyse nahezu konstant bleibt. Der chemische Angriff der Schmelze erfordert Nickel oder Edelmetall als Grundmetall, so daß es zweckmäßig ist, andere Grundmetalle zunächst mit einer Nickel- oder Edelmetallschicht zu versehen.
Wie erwähnt, muß die Temperatur des Bades derart sein, daß die Schmelze eine hinreichende Flüssigkeit und eine hinreichende elektrische Leitfähigkeit besitzt. Das Temperaturgebiet liegt gewöhnlich zwischen 600 und Schmelzflüssiges Bad,
Verfahren und Anode
zur galvanischen Abscheidung
von Wolfram und/oder Molybdän
Anmelder:
N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken,
Eindhoven (Niederlande)
Vertreter: Dipl.-Ing. H. Zoepke, Patentanwalt,
München 5, Erhardtstr. 11
Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 27, September 1954
George Leonard Davis, South Coulsdon, Surrey,
und Charles Harold Raymond Gentry,
Carshalton, Surrey (Großbritannien),
sind als Erfinder genannt worden
10000C, wobei die besten Resultate bei Badtemperaturen zwischen 800 und 9500C erzielt werden.
Die Galvanisierung kann mittels Gleichstrom oder mittels eines periodisch umkehrenden Stromes durchgeführt werden. Bei Anwendung von Gleichstrom muß die Stromdichte innerhalb 0,5 bis 10 A/dm2, vorzugsweise zwischen 1,0 und 10 A/dm2, liegen. Bei Anwendung eines periodisch umkehrenden Stromes können gute Resultate in einem breiten Bereich erzielt werden, wobei die vorzugsweise angewandten Stromdichten in der Vorwärtsrichtung und in der entgegengesetzten Richtung zwischen 100 und 1000 A/dm2 liegen.
Das Verhältnis zwischen den Zeiten der Vorwärts- und Rückwärtsgalvanisierung ist nicht kritisch und kann 10: 1 betragen. Bei Anwendung eines periodisch umkehrenden Stromes ist es vorteilhaft, zunächst eine dünne Schicht (5 bis 10 μ) bei niedriger Stromdichte mittels Gleichstrom niederzuschlagen.
709 658/341
Es ist nicht notwendig, eine schützende Atmosphäre über dem Bad vorzusehen; jedoch verhütet ein inertes Gas, z.B. Stickstoff, das Eindringen von Feuchtigkeit und schützt die Leitungen und Stützen vor Oxydation.
Badgefäße aus Zirkon und Graphit können verwendet werden; im allgemeinen ist jedoch ein Gefäß aus einem Metall, das gegen hohe Temperaturen widerstandsfähig ist, mechanisch fester; daher sind die Platinmetalle am besten geeignet.
Das Verfahren nach der Erfindung läßt sich nicht nur zur Herstellung von kohärenten und adhärenten Schichten auf Grundmetallen, z.B. zur Herstellung von Stahl mit einem Schutzüberzug durchführen, sondern auch zur Herstellung von Wolfram-, Molybdän- oder Wolfram-Molybdän-Legierungen in Form von Rohren, Platten oder anderen Formen durch Abscheidung auf einer metallischen Unterlage, die darauf chemisch gelöst wird.

Claims (8)

Patentansprüche: ao
1. Schmelzflüssiges Bad zur galvanischen Abscheidung von poren- und rissefreien Überzügen von Wolfram- und/oder Molybdän, dadurch gekennzeichnet, daß es aus einem Gemisch von
a) Alkalimetall - Wolframaten und/oder -Molybdaten,
b) AlkaJimetallboraten oder -phosphaten,
c) Wolfram- und/oder Molybdänoxyd
besteht.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es aus einem Gemisch von
a) Natrium-Lithiurn-Wolframat und/oder -Molybdat,
b) Natrium-Lithium-Borat,
c) Wolfram- und/oder Molybdänoxyd besteht.
3. Bad nach Anspruch 1 und 2 zur Abscheidung von Wolfram, dadurch gekennzeichnet, daß es nachfolgende Zusammensetzung hat:
a) NaLiWO4 bis zu 6 Mol,
b) NaLiB2O4 von 2 bis 6 Mol,
c) WO3 bis zu 3 Mol.
4. Bad nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß es nachfolgende Zusammensetzung hat:
a) 2 Mol NaLiWO4,
b) 6 Mol NaLiB2O4,
c) 1 Mol WO3.
5. Bad nach Anspruch 3 oder 4 zur Abscheidung von Molybdän oder Wolfram-Molybdän-Legierungen, dadurch gekennzeichnet, daß in der Zusammensetzung des Bades das Wolfram ganz oder teilweise durch Molybdän ersetzt ist.
6. Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Wolfram und/oder Molybdän unter Verwendung eines Bades nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß eine Badtemperatur zwischen 800 und 950° C angewendet wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst eine 5 bis 10 μ starke Schicht unter Anwendung von Gleichstrom niedergeschlagen und die Galvanisierung mittels eines periodisch umkehrenden Stromes fortgesetzt wird.
8. Anode zur Verwendung in einem Bad nach Anspruch 1 bis 5 unter Anwendung eines Verfahrens nach Anspruch 7 und 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie die gleiche Zusammensetzung wie die niedergeschlagene Schicht aufweist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 514 365;
französische Patentschrift Nr. 638 345 ;
Machu, »Moderne Galvanotechnik«, 1954, S. 509.
© 709 658/341 8.57
DEN11228A 1954-09-27 1955-09-24 Schmelzfluessiges Bad, Verfahren und Anode zur galvanischen Abscheidung von Wolfram und/oder Molybdaen Pending DE1014406B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB27915/54A GB777591A (en) 1954-09-27 1954-09-27 Improvements in and relating to the electro-deposition of tungsten and/or molybdenummetal

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1014406B true DE1014406B (de) 1957-08-22

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ID=10267351

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DEN11228A Pending DE1014406B (de) 1954-09-27 1955-09-24 Schmelzfluessiges Bad, Verfahren und Anode zur galvanischen Abscheidung von Wolfram und/oder Molybdaen

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BE (1) BE541584A (de)
CH (1) CH371265A (de)
DE (1) DE1014406B (de)
FR (1) FR1139334A (de)
GB (2) GB777591A (de)
NL (2) NL108205C (de)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL247276A (de) * 1959-01-12
US3369978A (en) * 1964-10-01 1968-02-20 Interior Usa Electrodeposition of molybdenum
FR2244708B1 (de) 1973-09-25 1977-08-12 Ugine Kuhlmann
FR2446869A1 (fr) * 1979-01-16 1980-08-14 Ugine Kuhlmann Amelioration du rendement faraday dans la preparation electrolytique du chlorate de sodium
US7470307B2 (en) 2005-03-29 2008-12-30 Climax Engineered Materials, Llc Metal powders and methods for producing the same
US8197885B2 (en) 2008-01-11 2012-06-12 Climax Engineered Materials, Llc Methods for producing sodium/molybdenum power compacts

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR638345A (fr) * 1926-12-01 1928-05-22 Procédé électrolytique notamment applicable à la fabrication d'un certain nombrede métalloïdes, métaux, alliages, composés binaires ou plus complexes
DE514365C (de) * 1928-09-11 1930-12-11 Hellmuth Hartmann Dr Ing Verfahren zur elektrolytischen Gewinnung von Metallen, insbesondere Wolfram

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR638345A (fr) * 1926-12-01 1928-05-22 Procédé électrolytique notamment applicable à la fabrication d'un certain nombrede métalloïdes, métaux, alliages, composés binaires ou plus complexes
DE514365C (de) * 1928-09-11 1930-12-11 Hellmuth Hartmann Dr Ing Verfahren zur elektrolytischen Gewinnung von Metallen, insbesondere Wolfram

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CH371265A (de) 1963-08-15
GB1104728A (en) 1968-02-28
NL108205C (de)
BE541584A (de)
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FR1139334A (fr) 1957-06-27
GB777591A (en) 1957-06-26

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