DE1013484B - Bad zum galvanischen Abscheiden hochglaenzender Nickelueberzuege - Google Patents

Bad zum galvanischen Abscheiden hochglaenzender Nickelueberzuege

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Publication number
DE1013484B
DE1013484B DESCH21197A DESC021197A DE1013484B DE 1013484 B DE1013484 B DE 1013484B DE SCH21197 A DESCH21197 A DE SCH21197A DE SC021197 A DESC021197 A DE SC021197A DE 1013484 B DE1013484 B DE 1013484B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bath
nickel coatings
gloss nickel
galvanic deposition
nickel
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Pending
Application number
DESCH21197A
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Hans-Guenther Todt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bayer Pharma AG
Original Assignee
Schering AG
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Publication date
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Publication of DE1013484B publication Critical patent/DE1013484B/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • C25D3/14Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
    • C25D3/16Acetylenic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

  • Bad zum galvanischen Abscheiden hochglänzender Nickelüberzüge Die Erfindung befaßt sich mit der Aufgabe, in den bekannten galvanischen Nickelbädern (Nickelsulfat/ Nickelchloridbad, Nickelsulfamatbad. Nickelborfluoridbad) Nickelniederschläge zu erzeugen, die bei guten mechanischen Eigenschaften einen solch hohen Glanz aufweisen, daß bei genügend glattem Grundma.te,rial ein Polieren des erzeugten Niederschlages überflüssig wird. Zu diesem Zweck wurden bereits wohldefinierte organische Verbindungen, wie Aldehyde, Thioverbindungen, Sulfonamide usw., verwendet. In dem deutschen Patent 848 890 ist die Verwendung von mehrwertigen ungesättigten, insbesondere dreifach ungesättigten Alkoholen offenbart worden. Es ist auch bekannt, daß diese Alkohole zur Kondensation neigen unter Bildung von die kathodische Polarisation ungünstig beeinflussenden Kondensationsprodukten. Es wurde vorgeschlagen, diesen Nachteil durch Zusatz bestimmter Aldehyde als Kondensationsverzögerer zu überwinden.
  • Obgleich also zur Erzeugung hochglänzender galvanischer Nickelniederschläge schon eine größere Anzahl von Verfahren bekannt ist, die sich als Glanzbildner vorwiegend organischer Verbindungen bedienen, muß festgestellt werden, daß dies Problem bisher noch keineswegs völlig zufriedenstellend gelöst ist. In keinem Falle ließ sich bisher auf Grund der chemischen Konstitution mit einiger Sicherheit vorhersagen, ob eine bestimmte Substanz als Glanzbildner wirkt oder nicht. Es wurde nun gefunden, daß sich Sauerstoff enthaltende Acetylenderivate, deren Sauerstoff mit beiden Valenzen an Kohlenstoff atome gebunden ist; als besonders gut brauchbar erweisen. Im Gegensatz zum Stand der Technik des deutschen Patents 934 320, wo der Zusatz beispielsweise von Propargylalkohol zu sauren Nickelbädern beschrieben wird, handelt es sich bei dem erfindungsgemäßen Zusatz um die dreifach ungesättigten Äther, Oxyäthylpropargyläther und Methoxyb:utemin. Zusätze von dreifach ungesättigten Äthern sind bisher nicht b,eschri@eb:en, und ihre Brauchbarkeit war nicht vorauszusehen.
  • Von besonderer Bedeutung ist bei den erfindungsgemäßen Zusätzen die ungewöhnlich gute Glanztiefenstreuung, eine gute Beständigkeit (da keine Kondensationsreaktionen eintreten) sowie ein auffallend starkes Einebnungsvermögen bei der Abscheidung der Glanznickelüberzüge und die Möglichkeit, mit sehr hohen Stromdichten arbeiten zu können; letzteres ist eine unmittelbare Folge der starken Inhibitorwirkung. ; Die besten Ergebnisse bezüglich Glanz und Duktilität des Niederschlages erzielt man, wenn man dem Nickelbad außerdem noch einen oder mehrere andere organische Stoffe zugibt, insbesondere Sulfonsäuren oder Sulfatnide; besonders geeignet sind Benzaldehyd-Sulfonsäuren oder deren Salze, p-Toluolsulfamid und Saccharin.
  • Nachfolgend werden zwei Beispiele für eine geeignete Badzusammcnsetzung angegeben:
    Beispiel 1
    NiS 04 ....................... 280 g/1
    Niclz *,«*,*,** ................ 50 g/1
    H3 B 03 ....................... 40 g/1
    Oxyäthylpropargyläther ........ 0,06 g/1
    Benzalde,hyd-o-sulfo:saures Na . . 1,5 g/1
    Temperatur .................... 55 ° C
    PH ............................ 4,2
    Stromdichte . . . . . . . . . . . . . 0,5 bis 12 Amp./qdtn
    Beispiel 2
    Ni S 04 .............,.......... 280 g/1
    Niclz ......................... 50 g/1
    H3 B 03 ..,......,............. 40 g/1
    Methoxyl)utenin . . . . . . . . . . . . . . . 0,03 g/1
    Temperatur ................... 45 ° C
    PH ............................ 4,2
    Stromdichte . . . . . . . . . . . . , 0,5 bis 10 Amp./qdm

Claims (1)

  1. PATENT ANS Pßt'CI1E: 1. Bad üblicher Zusammensetzung zum galvanischen Abscheiden hochglänzender Nickelüberzüge unter Verwendung von Glanzmitteln, dadurch gekennzeichnet, daß es als Glanzmittel die dreifach ungesättigten Äther Oxyäthylpropargyläther und Methoxybutenin enthält. z. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es das Glanzmittel in einer Menge von 0,005 bis 1,0 g/1, vorzugsweise 0,03 bis 0,2 gll, enthälf. 3. Bad nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich Sulfonsäuren oder deren Salze, Sulfamide und/oder Saccharin enthält. 4. Bad nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß es als Zusatzglanzbildn.er vorzugsweise benzaldehyd-o-sulfosaures Natrium, benzaldehyd-2, 4-disulfosaurzs Natrium, p-Toluolsulfamid und/ oder Saccharin in einer Menge von 0',05 g/1 bis zur Sättigung enthält.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1287392B (de) * 1958-12-23 1969-01-16 Kemiska Aktiebolaget Candor Bad zum galvanischen Abscheiden von Nickelueberzuegen

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE1287392B (de) * 1958-12-23 1969-01-16 Kemiska Aktiebolaget Candor Bad zum galvanischen Abscheiden von Nickelueberzuegen

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