DE10103814A1 - Elektrischer Schaltkontakt und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Elektrischer Schaltkontakt und Verfahren zu dessen Herstellung

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Abstract

Die Erfindung betrifft einen elektrischen Schaltkontakt mit zumindest einer ersten Kontaktfläche (4, 5), die relativ zu einer zweiten Kontaktfläche beweglich ist, sowie ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Schaltkontakts. In zumindest eine der ersten (4, 5) oder zweiten Kontaktflächen sind Vertiefungen (10) dergestalt eingebracht, daß die Begrenzungen der Grundflächen der einzelnen Vertiefungen (10) zu Kontaktlinien (11, 12, 11.1, 12.1, 13.1) ausgebildet sind, durch welche eine elektrisch leitende Verbindung zwischen den Kontaktflächen herstellbar ist.

Description

Die Erfindung betrifft einen elektrischen Schaltkontakt und ein Verfahren zu dessen Herstellung.
Solche Schaltkontakte können beispielsweise bei Eichleitungen eingesetzt werden, wie sie z. B. aus der DE 26 37 084 A1 bekannt sind.
Gewöhnlich bestehen Schaltkontakte aus einer ersten Kontaktfläche, die relativ zu einer zweiten, z. B. fest mit einer Baugruppe verbundenen, Kontaktfläche beweglich angeordnet ist. Die beiden Kontakte werden durch eine z. B. elektromechanische Betätigungsvorrichtung, mit der die erste Kontaktfläche bewegt wird, mit einem Teil ihrer Flächen aufeinander gedrückt, so daß an der Berührfläche eine elektrisch leitende Verbindung erzeugt wird. Eine bekannte Maßnahme zur Verbesserung der Eigenschaften des Schaltkontakts ist die Vergoldung einer Kontaktfläche mit Weichgold sowie die Vergoldung der korrespondierenden Kontaktfläche mit Hartgold. Die bewegte Kontaktfläche wird üblicherweise aus einem federelastischen Material gefertigt. Dadurch ergeben sich auch bei geringer Reproduzierbarkeit der Stellbewegung sichere elektrische Verbindungen, da die beiden Kontaktflächen sich durch die Federkraft in sicherem Kontakt befinden.
Durch die federelastischen Eigenschaften kommt es beim Schließen des Kontakts neben der reinen Bewegung der ersten Kontaktfläche in Stellrichtung auf die zweite Kontaktfläche zu, zu einer geringfügigen Schubbewegung entlang der Berührfläche der Kontakte. Durch diese mechanische Belastung kommt es zu einem Verschleiß des Schaltkontakts, der sich insbesondere in einer Verringerung der Lebensdauer des Schaltkontakts äußert. Vor allem Verschmutzungen, die sich an der Oberfläche des Schaltkontakts befinden verschlechtern die elektrischen Eigenschaften des Schaltkontakts erheblich. Dabei ist die Verschlechterung der Reproduzierbarkeit von besonderem Nachteil.
Eine Schutzmöglichkeit vor dem Einfluß der Verschmutzung des Kontakts ist die Verwendung von mehreren Kontaktspitzen, die sich in die korrespondierende Kontaktfläche eindrücken und somit für einen sicheren leitfähigen Übergang sorgen. Dabei vergrößert sich jedoch mit zunehmender Eindringtiefe der Kontaktspitzen in die Gegenfläche, die sich bei hohen Schaltzyklen ergibt, die Berührfläche und damit der leitende Querschnitt. Insbesondere bei Hochfrequenzanwendungen führt dies zu erheblichen Schwierigkeiten in der Abstimmung von Leiter und Schaltkontakt und dabei den besonderen Abforderungen der Hochfrequenz und Mikrowelle gerecht zu werden.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die Lebensdauer eines elektrischen Schaltkontakts zu erhöhen und insbesondere die Schaltsicherheit und Reproduzierbarkeit zu verbessern, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Schaltkontakts anzugeben.
Die Aufgabe wird durch den erfindungsgemäßen elektrischen Schaltkontakt des Anspruchs 1 das Verfahren nach Anspruch 13 gelöst.
Durch die in einer der beiden Kontaktflächen ausgebildeten Vertiefungen können sich Schmutzpartikel, die auf den Kontaktflächen vorhanden sind, ablagern, ohne daß dadurch die Qualität des elektrischen Kontakts verschlechtert wird. Im Gegensatz zu glattflächigen Kontakten wird die effektive Auflagefläche und damit der leitende Querschnitt nicht verändert. Insbesondere ist die geringfügige Schubbewegung der strukturierten Oberfläche vorteilhaft, die zu einer Ablagerung der Verschmutzungen in den Vertiefungen führt und den leitenden Querschnitt reinigt. Die Lebensdauer und vor allem die Kontaktsicherheit bei hohen Schaltzyklen ist deutlich verbessert. Gleichzeitig wird ein gleichbleibender leitender Querschnitt durch die linienförmigen Kontakte sichergestellt, wodurch sich insbesondere für Hochfrequenz- Anwendungen eine deutliche Verbesserung in der Reproduzierbarkeit der Schalteigenschaften ergibt.
Durch die Berührung der Kontakte entlang einer Vielzahl von Kontaktlinien wird auch das Verschweißen der Kontakte, wie es bei punktförmigen Kontakten auftritt, beispielsweise bei Kontaktspitzen, vermieden. Durch die vergrößerte Kontaktfläche verringert sich die lokale Stromdichte und elektrische Feldstärke, wodurch parasitäre Induktivitäten und Kapazitäten verringert werden.
Durch die in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen des erfindungsgemäßen elektrischen Schaltkontakts möglich.
Die regelmäßige Anordnung der einzelnen Vertiefungen erleichtert die Fertigung der Kontaktfläche, deren Positionierung sowohl während des Fertigungsprozesses als auch auf der korrespondierenden Kontaktfläche gröber toleriert werden kann. Die Kosten für die Montage und für die Fertigung des einzelnen Kontakts können somit gesenkt werden, ohne eine Erhöhung der Ausfallwahrscheinlichkeit zu erzielen.
Die Anordnung der Vertiefungen auf derjenigen Kontaktfläche, die mit einer Hartgoldbeschichtung versehen ist, hat den Vorteil, daß die relativ dünnen Kontaktlinien wegen des mechanischen Abriebs der vergoldeten Schicht nicht durch eine Erhöhung der Schichtdicke im Hinblick auf eine hohe Anzahl an Schaltzyklen vorgesorgt werden muß.
Die Ausbildung gerader Linien als Kontaktlinien führt zu einer starken Vereinfachung in der Herstellung eines Werkzeugs, z. B. zum Prägen, wodurch eine kostengünstige Fertigung des Schaltkontakts erst ermöglicht wird. Die Anordnung der geraden Kontaktlinien in einem 90°-Winkel ist ebenfalls zur Herstellung des Prägewerkzeugs von Vorteil. Ein Verdrehen des so entstandenen rechtwinkligen Rasters, so daß die Kontaktlinien in einem von Null Grad verschiedenen Winkel bezüglich der Schubrichtung angeordnet sind, erleichtert ferner die Aufnahme des Schmutzes in den Vertiefungen. Verlaufen die Kontaktlinien insbesondere in einem 45° Winkel zur Schubrichtung, so wird keine Querkraft beim Schaltvorgang auf den Schaltkontakt ausgeübt.
Bei einer wabenförmigen Struktur kann sich die mechanische Belastbarkeit an den Kontaktlinien verbessern, so daß eine Beschädigung zuverlässig verhindert wird. Durch veränderte Liniengeometrien und den damit verbundenen unterschiedlichen Formen der einzelnen Vertiefungen läßt sich zudem in vorteilhafter Weise eine Anpassung an die Partikelgröße der zu erwartenden Verschmutzung des Schaltkontakts vornehmen. Die Verschmutzung kann in weitem Umfang variieren und hängt vor allem vom Einsatzgebiet der Schaltkontakte ab. Bei stark streuender Verschmutzung kann die Verwendung verschiedener Geometrien der Vertiefungen daher von Vorteil sein.
Der erfindugnsgemäße elektrische Schaltkontakt ist in der Zeichnung dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Seitenansicht eines erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiels eines Schaltkontakts mit zwei Kontaktflächen;
Fig. 2 eine Draufsicht des in Fig. 1 dargestellten erfindungsgemäßen Schaltkontakts;
Fig. 3 eine vergrößerte Ansicht eines ersten Ausführungsbeispiels einer geprägten Kontaktfläche des erfindungsgemäßen Schaltkontakts im Ausschnitt III der Fig. 2;
Fig. 4 eine Schnittdarstellung des ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Schaltkontakts entlang der Linie IV-IV der Fig. 3;
Fig. 5 eine Schnittdarstellung des ersten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Schaltkontakts entlang der Linie V-V der Fig. 3
Fig. 6 eine erste perspektivische Ansicht des ersten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Schaltkontakts;
Fig. 7 eine zweite perspektivische Ansicht des ersten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Schaltkontakts;
Fig. 8 eine rasterelektronenmikroskopische Darstellung einer geprägten Kontaktfläche eines erfindungsgemäßen Schaltkontakts; und
Fig. 9 eine vergrößerte Ansicht eines zweiten Ausführungsbeispiels einer strukturierten Kontaktfläche eines erfindungsgemäßen Schaltkontakts.
In Fig. 1 ist ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Schaltkontakts 1 in einer Seitenansicht dargestellt. Der Schaltkontakt weist zwei erste Kontaktflächen 4 und 5 auf, mittels derer zwei nicht dargestellte zweite Kontaktflächen leitend miteinander verbindbar sind. Die Beschreibung einer der beiden ersten Kontaktflächen 4 gilt aufgrund der Symmetrie in gleicher Weise für die am gegenüberliegenden Ende angeordnete erste Kontaktfläche 5 auf deren zusätzliche Beschreibung zur Vermeidung von Wiederholungen verzichtet wird. Der dargestellte Schaltkontakt 1 dient beispielsweise zum Verbinden verschiedener nicht dargestellter Dämpfungsglieder einer Eichleitung, an denen die jeweils zweiten Kontaktflächen angeordnet sind.
Der Schaltkontakt 1 ist aus einem federelastischen dünnen Metallstreifen gefertigt und weist eine Krümmung auf. Die Kontaktflächen 4 und 5 sind an Enden 6 und 7 des Metallstreifens so angebracht, daß ihre Oberfläche in Richtung des Mittelpunkts der Krümmung weist. Die leitende Verbindung wird durch eine Stellbewegung der beiden ersten Kontaktflächen 4 und 5 auf den beiden korrespondierenden zweiten Kontaktflächen erzeugt. Die Stellbewegung der ersten Kontaktflächen 4 und 5 relativ zu den zweiten Kontaktflächen wird beispielsweise durch ein nicht dargestelltes Stellelement, z. B. einen Elektromagneten, vorgenommen, das den Schaltkontakt 1 linear in Richtung des Pfeils A bewegt.
Fig. 2 zeigt eine Draufsicht des erfindungsgemäßen Schaltkontakts 1. Der im Ausführungsbeispiel dargestellte Schaltkontakt 1 ist bezüglich einer Mittelachse 2 in Längsrichtung sowie einer Mittelachse 3 in Querrichtung symmetrisch aufgebaut. In der Mitte weist der Schaltkontakt 1 an seinen beiden Längsseiten jeweils eine Ausnehmung 8 auf, die der Anbindung an ein nicht dargestelltes Halteelement dienen. Das Halteelement kann gleichzeitig als das Stellelement ausgebildet sein, durch das der Schaltkontakt bewegbar ist. Von dem Ende der Ausnehmung 8 in Längsrichtung des Schaltkontakt 1 an verjüngt sich der Schaltkontakt 1 in Richtung der beiden Enden 6 und 7, die eine kreisförmige Außenkontur aufweisen. Im Bereich der Enden 6 und 7 ist in die Oberfläche 9 eine Struktur eingebracht, die anhand der Fig. 3 bis 9 detailliert beschrieben wird und durch welchen die Kontaktflächen 4 und 5 ausgebildet sind.
Fig. 3 ist eine vergrößerte Darstellung des Ausschnitts III der Fig. 2 und zeigt eine erste in die Oberfläche des Schaltkontakts 1 eingebrachte Struktur, durch die die erste Kontaktfläche 4 ausgebildet ist. Die Struktur wird durch Vertiefungen 10 gebildet, die in regelmäßiger Abfolge in die Oberfläche 9 des Endes 6 des Schaltkontakts 1 eingebracht sind. Die Begrenzungen der einzelnen Vertiefungen 10 durch die Oberfläche 9 des Schaltkontakts 1 bilden Kontaktlinien 11 und 12. Im dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Vertiefungen 10 von pyramidaler Geometrie. Die Begrenzungen der Pyramide bilden jede Vertiefung 10 mit einer quadratischen Grundfläche aus. Die Anordnung der einzelnen Vertiefungen 10 ist regelmäßig. Dadurch weisen zwei benachbarte Vertiefungen 10 als Begrenzung eine gemeinsame Kontaktlinie 11 oder 12 auf. Die Summe der Kontaktlinien 11 und 12, die mit der zweiten Kontaktfläche in Berührung steht, wenn der Kontakt leitend geschaltet ist, ist die effektive Kontaktfläche durch die der leitende Querschnitt ausgebildet wird.
Die regelmäßige Anordnung der Vertiefungen 10 erzeugt ein Raster mit parallelen Kontaktlinien 11, zu denen die ebenfalls parallelen Kontaktlinien 12 in einem rechten Winkel verlaufen. Die parallelen Kontaktlinien 11 sind in einem ersten Rasterabstand r1 angeordnet, der insbesondere identisch mit einem zweite Rasterabstand r2 paralleler Kontaktlinien 12 ist. Das Raster ist in einem 45° Winkel gegenüber einer Schubrichtung B gedreht, wodurch es zu einer symmetrischen Einleitung auftretender Reibungskräfte kommt. Querkräfte auf den Schaltkontakt 1 werden vermieden. Die Bewegung der Kontaktfläche 4 in Schubrichtung B entsteht durch die elastische Verformung des Schaltkontakts 1. Der in unbelastetem Zustand gekrümmte Schaltkontakt 1 wird mit einer Kraft mit den ersten Kontaktflächen 4 und 5 gegen die korrespondierenden zweiten Kontaktflächen gedrückt, wobei die Kraft so groß ist, daß sich die Krümmung des Schaltkontakts 1 verändert. Durch den sich ändernden Abstand des Endes 6 von der Mittelachse 3 des Schaltkontakts 1 entsteht die beschriebene Bewegung in Schubrichtung B.
Ablagerungen die sich auf der ersten Kontaktfläche 4 und der zweiten Kontaktfläche bilden, werden in den Vertiefungen 10 abgelagert. Die Größe der Vertiefungen 10 richtet sich nach der Partikelgröße der zu erwartenden Verschmutzung und kann sowohl hinsichtlich Längen- und Breitenausdehnung als auch in der Tiefe angepaßt werden. Die Schubbewegung verbessert den Transport der Verschmutzung in die Vertiefungen 10, insbesondere bei schräg zu der Schubrichtung B verlaufenden Kontaktlinien 11 und 12. Um bei großen Unterschieden in der Partikelgröße der Verschmutzungen optimale Aufnahmemöglichkeiten in den Vertiefungen 10 zu schaffen, können sich die einzelnen Vertiefungen 10 nach Größe und Orientierung voneinander unterscheiden. Insbesondere ist eine Änderung des Geometrie in den Randbereichen der Kontaktfläche 4 denkbar. Durch die Aufnahme der Schmutzpartikel in den Vertiefungen 10 bleiben die elektrischen Eigenschaften der leitenden Verbindung erhalten. Verschmutzungen, die beispielsweise bei glattflächigen Kontakten zu einer signifikanten Erhöhung des Übergangswiderstandes führen, resultieren nicht in einer Verschlechterung des Kontakts. Die Schmutzpartikel werden in den Vertiefungen 10 abgelagert und der leitende Querschnitt zwischen der ersten Kontaktfläche 4 und der korespondierenden zweiten Kontaktfläche bleibt unverändert.
Eine Schnittdarstellung eines erfindungsgemäßen Schaltkontakts 1 entlang der Linie IV-IV von Fig. 3 ist in Fig. 4 gezeigt. Die Linie IV-IV ist dabei in der Mitte zwischen zwei benachbarten Kontaktlinien 11 gewählt und verläuft parallel zu den Kontaktlinien 11. Die Vertiefungen 10 weisen eine identische Geometrie auf und sind mit regelmäßigen Abständen angeordnet. Der Rasterabstand 1 ergibt sich aus einer maximalen ersten Längenausdehnung d1 der Vertiefung 10 plus einer Breite w1 der die Vertiefung 10 begrenzenden Kontaktlinie 12. In Verbindung mit dem Öffnungswinkel α1 der pyramidalen Form ergibt sich eine maximale Tiefe h1 der Vertiefungen 10.
Eine zweite Schnittdarstellung des Schaltkontakts 1 entlang der Linie V-V von Fig. 3 ist in Fig. 5 dargestellt, wobei die Schnittlinie zwischen zwei Kontaktlinien 12 angeordnet ist und zu der Linie IV-IV senkrecht verläuft. Die maximale zweite Längenausdehnung d2 ergibt zusammen mit einer zweiten Breite w2 der Kontaktlinie 11 den Rasterabstand und aus dem Öffnungswinkel α2 ergibt sich wiederum die maximale Tiefe h1. Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel handelt es sich bei den Vertiefungen 10 um eine symmetrisch ausgebildete pyramidale Geometrie mit quadratischer Grundfläche, so daß die erste und zweite Längenausdehnung d1 und d2, die Öffnungwinkel α1 und α2, sowie die erste und zweite Breite w1 und w2 der Kontaktlinien 11 und 12 identisch sind.
Mit der ersten bzw. zweiten Breite w1 und w2 läßt sich die effektive Kontaktfläche in weiten Grenzen einstellen und somit an die Hochfrequenz-Eigenschaften beispielsweise einer zu kontaktierenden Micro-Strip-Leitung anpassen.
Die dargestellte Struktur läßt sich in besonders einfacher Weise in die Oberfläche 9 des Schaltkontakts 1 durch Prägen einbringen. Dazu kann zum Beispiel eine Walze verwendet werden, in deren Oberfläche die Negativform der Vertiefungen 10 eingebracht sind. Der Walze werden Rohlinge des Schaltkontakts 1 durch einen Vereinzler in gerichteter Form zugeführt. Beim Durchlaufen einer Prägestrecke zwischen der Walze und einem Gegenlager wird an den beiden Enden 6 und 7 eine Struktur eingeprägt. Die Negativform der Prägewalze kann beispielsweise mit Hilfe eines speziellen Fräsers angefertigt werden. Besonders vorteilhaft ist die beschriebene symmetrische Ausbildung der Struktur. In diesem Fall kann mit einem kegelstumpfförmigen Fräser, dessen Öffnungswinkel α1 beträgt, die Negativform in das Prägewerkzeug eingebracht werden, indem entlang der späteren Kontaktlinien 11 und 12 das Prägewerkzeug ausgenommen wird.
Die Beschichtung der Oberfläche 9 vorzugsweise mit Hartgold kann beim Prägeverfahren zum Einbringen der Vertiefungen 10 sowohl vor als auch nach dem Prägen der strukturierten Oberfläche erfolgen, wobei eine gleichmäßigere Schichtdicke auf dem glattflächigen Rohling erfolgt. Für Rastergrößen in denen das Prägeverfahren nicht anwendbar ist, kann die Struktur beispielsweise durch Erodieren, durch Ätzen oder durch Galvanisieren hergestellt werden. Der Rasterabstand kann in weitem Bereich variieren, z. B. zwischen 10 µm und 100 µm. Ein bevorzugter Bereich zum einfachen Herstellen eines Prägewerkzeugs liegt zwischen 50 µm und 80 µm, insbesondere bei 70 µm.
Zur besseren Anschaulichkeit sind in den Fig. 6 und 7 zwei perspektivische Darstellungen des Ausschnitts III aus Fig. 2 des erfindungsgemäßen Schaltkontakts aus verschiedenen Betrachtungswinkeln dargestellt. Insbesondere ist dabei zu erkennen, daß die Kontaktlinien 11 und 12 ein Bestandteil der ursprünglichen Oberfläche 9 sind. Entlang einer Grenzlinie 13 zwischen dem strukturierten Ende 4 und der nicht bearbeiteten Oberfläche 9 ergibt sich ein Übergang ohne Höhenversatz zwischen der Oberfläche 9 und den Kontaktlinien 11 bzw. 12. Dadurch ist es möglich, den Schaltkontakt in Bauteile zu integrieren, bei denen bislang glattflächige Kontakte eingesetzt wurden, ohne z. B. den Stellweg anpassen zu müssen.
In Fig. 8 ist ein rasterelektronenmikroskopische Ansicht eines erfindungsgemäßen Schaltkontakts gezeigt, dessen Struktur mit einem Prägewerkzeug in das Ende 4 eines Schaltkontakts 1 erzeugt ist. Die Oberfläche 9 ist mit Hartgold, die Oberfläche des korrespondierenden nicht dargestellten Kontakts mit Weichgold beschichtet. Anstatt der Paarung Hartgold/Weichgold eignet sich auch jede andere Paarung Hartbeschichtung/Weichbeschichtung, insbesondere Hartmetall/Weichmetall.
Eine Ansicht einer strukturierten Kontaktfläche 4 eines zweiten Ausführungsbeispiels im Ausschnitt III der Fig. 2 ist in Fig. 9 dargestellt. Als Struktur sind dabei Vertiefungen 10 in die Oberfläche 9 des Schaltkontakts 1 eingebracht, deren Grundfläche durch regelmäßige Sechsecke in Art einer Wabenstruktur gebildet wird. Bei einer regelmäßigen Anordnung der Sechsecke in einem Raster schließen die Kontaktlinien 11.1, 12.1 und 13.1 drei Winkel mit der Schubrichtung B ein. Im dargestellten Ausführungsbeispiel ist insbesondere eine der drei Kontaktlinien 13.1 in Richtung der Mittelachse 2 orientiert.
Durch die dadurch symmetrische Anordnung der Kontaktlinien 11.1 und 12.1 bezüglich der Mittelachse 2 ist die Krafteinleitung in den Schaltkontakt wiederum symmetrisch und einseitiger Verschleiß wird vermieden.
Die vorstehend beschriebene Strukturierung der Oberfläche kann auch an der korrespondierenden zweiten Kontaktfläche des zu schaltenden Bauteils angeordnet sein. Die erste Kontaktfläche 4 ist dann zum Erzielen derselben Wirkung glatt ausgeführt. Insbesondere ist eine solche Anordnung denkbar, wenn die zweite Kontaktfläche mit einer härteren Oberflächenbeschichtung ausgeführt ist als die der ersten Kontaktfläche 4.

Claims (20)

1. Elektrischer Schaltkontakt, mit zumindest einer ersten Kontaktfläche (4, 5), die relativ zu einer zweiten Kontaktfläche beweglich ist, wobei in zumindest eine der ersten oder zweiten Kontaktflächen (4, 5) Vertiefungen (10) eingebracht sind und die Begrenzungen der einzelnen Vertiefungen (10) zu Kontaktlinien (11, 12, 11.1, 12.1, 13.1) ausgebildet sind, an welcher eine elektrisch leitende Verbindung zwischen den Kontaktflächen herstellbar ist.
2. Elektrischer Schaltkontakt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (10) regelmäßig angeordnet sind.
3. Elektrischer Schaltkontakt nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten (4, 5) oder zweiten Kontaktflächen eine Oberflächenbeschichtung aus einem Hartmetall, insbesondere Hartgold, und die jeweils korrespondierenden zweiten oder ersten (4, 5) Kontaktflächen eine Oberflächenbeschichtung aus einem Weichmetall, insbesondere Weichgold, aufweist.
4. Elektrischer Schaltkontakt nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche (9) derjenige Kontaktfläche (4, 5), die eingeprägten Vertiefungen (10) aufweist, mit Hartgold beschichtet ist.
5. Elektrischer Schaltkontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktlinien (11, 12, 11.1, 12.1, 13.1) zumindest stückweise gerade Linien sind.
6. Elektrischer Schaltkontakt nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktlinien (11, 12) rechtwinklig zueinander verlaufen.
7. Elektrischer Schaltkontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (10) eine pyramidale Geometrie mit quadratischer Grundfläche aufweisen und der Öffnungswinkel der Pyramide wenigstens 90° beträgt.
8. Elektrischer Schaltkontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (10) eine regelmäßig sechseckige Grundfläche aufweisen.
9. Elektrischer Schaltkontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß alle Vertiefungen (10) einer Kontaktfläche (4, 5) eine identische Geometrie aufweisen.
10. Elektrischer Schaltkontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (10) eine Kontaktfläche (4, 5) unterschiedliche Geometrien aufweisen.
11. Elektrischer Schaltkontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (10) in einem Rasterabstand von 10 µm bis 100 µm angeordnet sind, bevorzugt zwischen 50 µm und 80 µm, besonders bevorzugt 70 µm.
12. Elektrischer Schaltkontakt nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktlinien (11, 12, 11.1, 12.1, 13.1) in einem von Null Grad verschiedenen Winkel zu einer Schubrichtung B, in welcher die Kontaktflächen zueinander beweglich sind, insbesondere symmetrisch, angeordnet sind.
13. Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Schaltkontakts mit zumindest einer ersten Kontaktfläche (4, 5), die relativ zu zumindest einer zweiten Kontaktfläche beweglich ist, mit folgenden Verfahrensschritten:
  • - Herstellen eines Rohteils (1) mit einer oder mehreren glatten ersten (4, 5) oder zweiten Kontaktflächen;
  • - Orientieren des Rohteils (1) und
  • - Einbringen der Vertiefungen (10) in die erste (4, 5) oder zweite Kontakfläche, so daß zwischen den einzelnen Vertiefungen Kontaktlinien (11, 12, 11.1, 12.1, 13.1) ausgebildet werden, durch welche eine elektrisch leitende Verbindung zwischen der ersten und zweiten Kontaktfläche herstellbar ist.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (10) durch ein Prägewerkzeug eingebracht werden.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Prägewerkzeug als Prägewalze ausgeführt ist.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß auf das Rohteil (1) vor dem Prägen eine Beschichtung auf der Oberfläche (9) aufgebracht wird.
17. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (10) durch Ätzen in die Oberfläche (9) des Rohteils (1) eingebracht werden.
18. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (10) durch Erodieren in die Oberfläche (9) eingebracht werden.
19. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß Begrenzungen der Vertiefungen (10) galvanisch auf die Oberfläche (9) aufgebracht werden.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15 oder 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Einbringen der Vertiefungen (10) eine Beschichtung auf die Oberfläche (9) aufgebracht wird.
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