DE10056515A1 - Rotationsdetektor, der einen Brückenschaltkreis mit magnetfeldabhängigen Widerstandselementen verwendet - Google Patents
Rotationsdetektor, der einen Brückenschaltkreis mit magnetfeldabhängigen Widerstandselementen verwendetInfo
- Publication number
- DE10056515A1 DE10056515A1 DE10056515A DE10056515A DE10056515A1 DE 10056515 A1 DE10056515 A1 DE 10056515A1 DE 10056515 A DE10056515 A DE 10056515A DE 10056515 A DE10056515 A DE 10056515A DE 10056515 A1 DE10056515 A1 DE 10056515A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- mre
- circuit
- magnetic field
- bias magnetic
- structured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/12—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means
- G01D5/14—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage
- G01D5/142—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage using Hall-effect devices
- G01D5/147—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable using electric or magnetic means influencing the magnitude of a current or voltage using Hall-effect devices influenced by the movement of a third element, the position of Hall device and the source of magnetic field being fixed in respect to each other
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P3/00—Measuring linear or angular speed; Measuring differences of linear or angular speeds
- G01P3/42—Devices characterised by the use of electric or magnetic means
- G01P3/44—Devices characterised by the use of electric or magnetic means for measuring angular speed
- G01P3/48—Devices characterised by the use of electric or magnetic means for measuring angular speed by measuring frequency of generated current or voltage
- G01P3/481—Devices characterised by the use of electric or magnetic means for measuring angular speed by measuring frequency of generated current or voltage of pulse signals
- G01P3/488—Devices characterised by the use of electric or magnetic means for measuring angular speed by measuring frequency of generated current or voltage of pulse signals delivered by variable reluctance detectors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/09—Magnetoresistive devices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Abstract
Eine Rotation eines rotierenden Objektes wie z. B. eines gezahnten Rotors (1) wird auf der Grundlage von Ausgangspotentialen (Va, Vb) eines Brückenschaltkreises (16), der vier magnetfeldabhängige Widerstandselemente (12-15) besitzt, erfaßt. Der Brückenschaltkreis, der auf einem integrierten Schaltkreischip (4) ausgebildet ist, ist in einem Biasmagnetfeld angeordnet, das von einem Magneten (3) erzeugt wird, der in einer Nachbarschaft des gezahnten Rotors angeordnet ist. Ein Paar von magnetfeldabhängigen Widerstandselementen (12, 13) bildet einen ersten Schaltkreis (10) in der Brücke, während das andere Paar (14, 15) einen zweiten Schaltkreis (11) bildet. Um den Einfluß magnetostriktiver Effekte aufgrund einer externen Kraft, mit der der integrierte Schaltkreischip (4) beaufschlagt wird, aufzuheben, sind der erste und zweite Schaltkreis (10, 11) in der Brücke (16) symmetrisch zueinander in Bezug auf eine zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet.
Description
Diese Erfindung betrifft einen Rotationsdetektor, der
eine Winkelposition oder eine Umdrehungsfrequenz bzw.
Drehzahl eines rotierenden Objektes erfaßt, wobei der
Rotationsdetektor magnetfeldabhängige Widerstandselemente
verwendet, die ihren elektrischen Widerstand als Reaktion
auf Änderungen in einem Magnetfeldvektor ändern. Der
Rotationsdetektor ist geeignet für eine Verwendung in
einer Motorsteuerung und einem Antiblockierbremssystem in
einem Kraftfahrzeug.
Es ist allgemein bekannt, einen Brückenschaltkreis
mit magnetfeldabhängigen Widerstandselementen beim Erfas
sen bzw. Messen der Rotation eines rotierenden Objektes
wie z. B. eines Rotors mit Zähnen zu verwenden. Das
magnetfeldabhängige Widerstandselement (im folgenden als
MRE bezeichnet) verändert seinen elektrischen Widerstand
als Reaktion auf die Änderungen in einem Vormagnetfeld
bzw. Biasmagnetfeld, die durch die Rotation eines gezahn
ten Rotors verursacht werden. Ein Paar von MRE-Schalt
kreisen sind an beiden Seiten eines Zentrums eines Bias
magnetfeldes angeordnet. Eine MRE-Brücke, die aus dem
Paar von MRE-Schaltkreisen besteht, erfaßt eine Umdre
hungsposition bzw. Drehposition des gezahnten Rotors.
Ein integrierter Schaltkreischip (im folgenden als
ein IC-Chip bezeichnet) mit einer MRE-Brücke ist übli
cherweise auf einem Kupferfederzungenrahmen angebracht
und mit einem hitzehärtbaren Kunstharz wie z. B. Epoxid
harz eingegossen. Die Gießform wird auf ein Niveau von
150 bis 160°C aufgeheizt und geschmolzenes Kunstharz von
etwa 175°C wird in die Form eingespritzt, um den IC-Chip
einzugießen. Durch die Hitze in dem Formprozeß wird im
Inneren des IC-Chips eine Verspannung erzeugt. Das heißt,
eine Ausdehnungsverspannung wird dem IC-Chip auferlegt,
da der Ausdehnungskoeffizient des Kupferfederzungen
rahmens viel höher ist als jener des IC-Chips (der aus
Silicium besteht). Dann wird der IC-Chip, der zusammen
mit dem Kupferfederzungenrahmen eingegossen ist, auf eine
Raumtemperatur heruntergekühlt, und der IC-Chip wird
durch das Zusammenziehen bzw. Schrumpfen des Kupfer
rahmens und Preßharzes mit einer Schrumpfungsverspannung
beaufschlagt.
Weiterhin wird der Rotationsdetektor Temperatur
änderungen unterworfen, wenn er konkret beispielsweise in
einem Automobil verwendet wird. Das Preßharz dehnt sich
aus oder zieht sich zusammen entsprechend den Temperatur
änderungen. Wenn die Temperatur beispielsweise ansteigt,
tendiert die Verspannung, die dem IC-Chip auferlegt ist,
dazu, verringert zu werden, da sich die Temperatur der
Gießtemperatur annähert.
Solche Temperaturänderungen beeinflussen die MRE-
Brücke, die in dem IC-Chip ausgebildet ist, nachteilig
aufgrund magnetostriktiver Effekte, die durch eine Ver
spannung verursacht werden, mit der ein ferromagnetischer
Dünnfilm wie z. B. ein MRE beaufschlagt wird. Die magneto
striktiven Effekte umfassen Änderungen der magnetischen
Eigenschaften wie z. B. der Magnetfeldsättigung und eines
Widerstandsänderungsverhältnisses in dem MRE. Die
magnetostriktiven Effekte beeinflussen die beiden MRE-
Schaltkreise, aus denen die MRE-Brücke besteht, in dem
konventionellen Rotationsdetektor nicht gleichmäßig. So
mit werden die Ausgangsspannungen der beiden MRE-Schalt
kreise durch die magnetostriktiven Effekte auf verschie
dene Weise beeinflußt, und dementsprechend kann die Rotation
des Rotors mit Zähnen bzw. gezahnten Rotors nicht
präzise erfaßt werden.
Die vorliegende Erfindung ist im Hinblick auf das
oben erwähnte Problem gemacht worden, und es ist daher
eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen verbesser
ten Rotationsdetektor bereitzustellen, der die Rotation
eines rotierenden Objektes dadurch präzise erfaßt bzw.
mißt, daß er die nachteiligen Effekte der Magneto
striktion eliminiert.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt durch die Merkmale
der Ansprüche 1, 4 und 6.
Erfindungsgemäß besteht der Rotationsdetektor aus
einem Vormagneten bzw. Biasmagneten zum Erzeugen eines
Vormagnetfeldes bzw. Biasmagnetfeldes und einer MRE-
Brücke, die auf einem integrierten Schaltkreischip bzw.
IC-Chip ausgebildet ist. Der Rotationsdetektor ist so an
geordnet, daß er einem rotierenden Objekt wie z. B. einem
Rotor mit Zähnen bzw. gezahnten Rotor mit einem bestimm
ten Luftspalt gegenüberliegt bzw. zugewandt ist. Die MRE-
Brücke umfaßt einen ersten MRE-Schaltkreis und einen
zweiten MRE-Schaltkreis, wobei jeder Schaltkreis ein Paar
von MREs besitzt, die in Reihe zwischen einer Energie
quelle bzw. Spannungsquelle und einer Erde bzw. Erdung
geschaltet sind. Der Vormagnet bzw. Biasmagnet ist so an
geordnet, daß seine zentrale Magnetfeldlinie mit einem
Durchmesser des gezahnten Rotors zusammenfällt, und der
erste und zweite MRE-Schaltkreis sind symmetrisch zuein
ander in Bezug auf die zentrale Magnetfeldlinie angeord
net. Der elektrische Widerstand von jedem MRE ändert sich
als Reaktion auf die Änderungen in dem Biasmagnetfeld,
die durch die Rotation des Rotors mit Zähnen verursacht
werden. Die Rotation des gezahnten Rotors wird auf der
Grundlage von Ausgangspotentialen der MRE-Brücke erfaßt.
Der Widerstand von jedem MRE wird durch magneto
striktive Effekte aufgrund der externen Kraft beeinflußt,
mit der der IC-Chip beaufschlagt wird, auf dem das MRE
strukturiert ist. Solch eine externe Kraft wird durch
Temperaturänderungen oder andere Ursachen erzeugt. Da der
erste und zweite MRE-Schaltkreis in der MRE-Brücke symme
trisch zueinander in Bezug auf die zentrale Biasmagnet
feldlinie angeordnet sind, wird der Einfluß der magneto
striktiven Effekte in der MRE-Brücke als Ganzes aufgeho
ben.
Die vier MREs in der MRE-Brücke können auf verschie
dene Weise strukturiert sein, solange wie der Einfluß der
magnetostriktiven Effekte die ersten und zweiten MRE-
Schaltkreise gleichermaßen beaufschlagt und ihr Einfluß
in der MRE-Brücke als Ganzes aufgehoben wird. Die MREs,
die sowohl in dem ersten als auch zweiten MRE-Schaltkreis
mit der Energie- bzw. Spannungsquelle verbunden sind,
sind symmetrisch zueinander in Bezug auf die zentrale
Magnetfeldlinie angeordnet, und die geerdeten MREs in den
beiden Schaltkreisen sind ebenfalls symmetrisch positio
niert bzw. angeordnet. Ein MRE auf der Seite der Span
nungsquelle bzw. Energiequelle in dem ersten MRE-Schalt
kreis und ein geerdetes MRE in dem zweiten MRE-Schalt
kreis können auf einer Seite des Magnetfeldzentrums
strukturiert sein, während ein MRE auf der Seite der
Spannungsquelle bzw. Energiequelle in dem zweiten MRE-
Schaltkreis und ein geerdetes MRE in dem ersten MRE-
Schaltkreis auf der anderen Seite des Magnetfeldzentrums
strukturiert sein können. Jedes der vier MREs kann in
zwei gleiche Bereiche aufgeteilt sein, und das MRE auf
der Seite der Spannungsquelle bzw. Energiequelle und das
geerdete MRE in sowohl dem ersten als auch zweiten MRE-
Schaltkreis können jeweils in Gestalt eines X struktu
riert sein. Es ist nötig, die Richtungen der MRE-Strukturierung
in jeder Anordnung so auszuwählen, daß die zwei
Ausgangspotentiale der MRE-Brücke sich als Reaktion auf
die Biasmagnetfeldänderungen mit einer Phasendifferenz
dazwischen ändern.
Die Unteransprüche beziehen sich auf vorteilhafte
Ausgestaltungen der Erfindung.
Da gemäß der vorliegenden Erfindung ein nachteiliger
Einfluß der magnetostriktiven Effekte auf die MRE-Brücke
als Ganzes aufgehoben wird, wird die Rotation des rotie
renden Objektes präzise erfaßt, ohne durch Temperatur
änderungen oder andere externe Störungen beeinflußt zu
werden.
Weitere Aufgaben, Vorteile und Merkmale der vorlie
genden Erfindung werden sich sogleich aus einem besseren
Verständnis der unten unter Bezugnahme auf die folgenden
Zeichnungen beschriebenen bevorzugten Ausführungsformen
ergeben.
Es zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht auf einen Rotationsdetektor,
der so positioniert ist, daß er einem Rotor mit Zähnen
bzw. gezahnten Rotor zugewandt ist;
Fig. 2A eine Draufsicht auf ein Muster bzw. eine
Strukturierung eines MRE-Brückenschaltkreises als einer
ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2B ein Schaltkreisdiagramm, das den in Fig. 2A
gezeigten MRE-Brückenschaltkreis zeigt;
Fig. 3 eine Draufsicht auf ein Muster bzw. eine
Strukturierung eines MRE-Brückenschaltkreises als ein
Vergleichsbeispiel;
Fig. 4A eine Draufsicht auf ein Muster- bzw. eine
Strukturierung eines MRE-Brückenschaltkreises als einer
zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 4B ein Schaltkreisdiagramm, das den in Fig. 4A
gezeigten MRE-Brückenschaltkreis zeigt;
Fig. 5A eine Draufsicht auf einen MRE-Brückenschalt
kreis als einer dritten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung; und
Fig. 5B ein Schaltkreisdiagramm, das den in Fig. 5A
gezeigten MRE-Brückenschaltkreis zeigt.
Eine erste Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
wird unter Bezugnahme auf die Fig. 1, 2A und 2B be
schrieben werden. Der Rotationsdetektor gemäß der vorlie
genden Erfindung wird zum Erfassen bzw. Messen eines
Rotationswinkels oder einer Umdrehungsfrequenz bzw. Dreh
zahl eines rotierenden Objektes wie z. B. eines gezahnten
Rotors verwendet. Der Rotationsdetektor wird verwendet
als ein Sensor zum Erfassen, zum Beispiel, einer Motor
umdrehung, eines Schließwinkels, eines Kurbelwellen
winkels, einer Fahrzeuggeschwindigkeit, einer Radge
schwindigkeit und so weiter.
Unter Bezugnahme auf Fig. 1 wird eine Gesamtstruktur
des Rotationsdetektors beschrieben werden. Der Rotations
detektor 2 ist so angeordnet bzw. positioniert, daß er
einem rotierenden gezahnten Rotor 1 mit einem bestimmten
Luftspalt dazwischen zugewandt ist. Der Rotationsdetektor
2 besteht aus einem Vormagneten bzw. Biasmagneten 3 und
einem IC-Chip 4, der auf einem Kupferfederzungenrahmen 6
angebracht ist. Der IC-Chip 4 und der Federzungenrahmen 6
werden zusammen mit einer hitzehärtbaren Formmasse 5 wie
z. B. Epoxidharz eingegossen. Der Vormagnet bzw. Bias
magnet 3 wird so positioniert, daß eine zentrale Linie 7
eines von dem Biasmagneten 3 erzeugten Biasmagnetfeldes
sich in Richtung eines Rotationszentrums des gezahnten
Rotors 1 erstreckt. Der IC-Chip 4 in der Formmasse 5 wird
so positioniert, daß er dem gezahnten Rotor 1 zugewandt
ist bzw. gegenüberliegt, und der Federzungenrahmen 6 er
streckt sich von der anderen Seite der Formmasse 5 aus.
Nachdem der IC-Chip 4 und der Federzungenrahmen 6 einge
gossen sind, wird ein hohler Biasmagnet 3 auf der Form
masse 5 angebracht.
Der Biasmagnet 3 ist so magnetisiert, daß ein N-Pol
dem gezahnten Rotor 1 zugewandt ist und ein S-Pol an der
anderen Seite auftaucht. Das Biasmagnetfeld ändert sich
entsprechend der Rotation des gezahnten Rotors 1, d. h.,
entsprechend ob die zentrale Linie 7 mit einem Zahn des
gezahnten Rotors 1 zusammenfällt. Die Änderungen des
Biasmagnetfeldes werden durch eine auf dem IC-Chip 4 aus
gebildete MRE-Brücke erfaßt.
Die auf dem IC-Chip 4 ausgebildete MRE-Brücke ist in
Fig. 2A in einem vergrößerten Maßstab gezeigt. Die MRE-
Brücke besteht aus einem ersten MRE-Schaltkreis 10 und
einem zweiten MRE-Schaltkreis 11. Die zentrale Linie 4a
des IC-Chips 4 fällt mit der zentralen Linie 7 des Bias
magnetfeldes zusammen. Der erste MRE-Schaltkreis 10 und
der zweite MRE-Schaltkreis 11 sind symmetrisch in Bezug
auf die zentrale Linie 4a positioniert bzw. angeordnet.
Der erste MRE-Schaltkreis 10 umfaßt ein erstes MRE 12 und
ein zweites MRE 13, und der zweite MRE-Schaltkreis 11 um
faßt ein drittes MRE 14 und ein viertes MRE 15. Jedes MRE
besitzt die Gestalt eines Kammes, mit einer Vielzahl von
langen Seiten und kurzen Seiten, die abwechselnd ausge
bildet sind. Jedes MRE ist ein ferromagnetisches magnet
feldabhängiges Widerstandselement, das aus einer Legie
rung auf der Grundlage von Nickel besteht, wie z. B. Ni-Co
oder Ni-Fe. Ein Dünnfilm bzw. eine Dünnschicht aus solch
einer Legierung wird auf dem IC-Chip 4 mittels eines be
kannten Prozesses wie z. B. der Abscheidung aus der Gas
phase ausgebildet, und dann wird der Dünnfilm mittels
eines Photolithographieprozesses in eine erwünschte Form
strukturiert und geätzt.
Das erste MRE 12 und das zweite MRE 13 des ersten
MRE-Schaltkreises 10 sind in Reihe geschaltet bzw. ver
bunden und entlang der Rotationsrichtung A des gezahnten
Rotors 1 ausgerichtet. Das erste MRE 12 ist in der Rich
tung strukturiert, die ungefähr einen Winkel von 45° in
Bezug auf die zentrale Linie 7 bzw. mit der zentralen
Linie 7 des Biasmagnetfeldes bildet. Das zweite MRE 13
ist in der Richtung strukturiert, die im wesentlichen
senkrecht zu der Richtung des ersten MRE 12 ist. Mit an
deren Worten, die beiden MREs 12 und 13 sind so struktu
riert, daß sie die Gestalt eines V bilden. Auf diese
Weise wird eine Deformation der Signalform in einer Aus
gangsspannung der MREs 12, 13 sogar dann vermieden, wenn
die Änderungen des Biasmagnetfeldes bzw. Vormagnetfeldes
groß sind.
Die dritten und vierten MREs 14, 15 des zweiten MRE-
Schaltkreises 11 sind gleichermaßen strukturiert, so daß
der erste und zweite MRE-Schaltkreise 10 und 11 symme
trisch zueinander in Bezug auf die zentrale Linie 7 des
Biasmagnetfeldes angeordnet sind. Das heißt, das dritte
MRE 14 ist in derselben Richtung wie das erste MRE 12
strukturiert und symmetrisch dazu in Bezug auf die zen
trale Linie 4a angeordnet. Das vierte MRE 15 ist in der
selben Richtung wie das zweite MRE 13 strukturiert und
symmetrisch dazu in Bezug auf die zentrale Linie 4a ange
ordnet. Die beiden MREs 14 und 15 des zweiten MRE-Schalt
kreises 11 bilden eine weitere V-förmige Gestalt, die in
Bezug auf die von den MREs 12 und 13 des ersten MRE-
Schaltkreises 10 gebildete V-förmige Gestalt auf den Kopf
gestellt bzw. umgedreht ist.
Die MRE-Brücke 16, die aus dem ersten und zweiten
MRE-Schaltkreis 10, 11 besteht, ist wie in Fig. 2B ge
zeigt elektrisch verbunden. In dem ersten MRE-Schaltkreis
10 sind das erste und zweite MRE 12, 13 in Reihe verbun
den bzw. geschaltet, und das erste MRE 12 ist mit einer
Spannungs- bzw. Energiequelle verbunden, während das
zweite MRE 13 geerdet ist. Gleichermaßen, in dem zweiten
MRE-Schaltkreis 11, sind das dritte und vierte MRE 14, 15
in Reihe geschaltet, und das dritte MRE 14 ist mit der
Spannungs- bzw. Energiequelle verbunden, während das
vierte MRE 15 geerdet ist. Ein Ausgangspotential Va wird
von einem Verbindungsstück bzw. Anschluß der ersten und
zweiten MREs 12, 13 in dem ersten MRE-Schaltkreis 10 ab
genommen, während ein Ausgangspotential Vb von einem An
schluß bzw. Verbindungsstück der dritten und vierten MREs
14 und 15 in dem zweiten MRE-Schaltkreis 11 abgenommen
bzw. herausgenommen wird.
Die Operation bzw. Arbeitsweise des Rotationsdetek
tors 2 wird im folgenden beschrieben werden. Wenn der ge
zahnte Rotor 1 in der Richtung "A" rotiert, sind die
Zähne und Gräben des gezahnten Rotors 1 abwechselnd dem
Biasmagneten 3 zugewandt. Wenn sich ein Zahn dem Bias
magneten 3 nähert, ändert sich das Biasmagnetfeld, da es
von dem Zahn gezogen wird. Zu diesem Zeitpunkt schwingt
ein magnetischer Vektor, der durch die MREs 12-14 hin
durch geht, in die Rotationsrichtung "A". Der Widerstand
der MREs ändert sich als Reaktion auf die Richtungs
änderungen des magnetischen Vektors. Dementsprechend ändern
sich die Ausgangspotentiale Va und Vb der MRE-Brücke
16 als Reaktion auf die Rotation des gezahnten Rotors 1.
Die Ausgangspotentiale Va, Vb werden in einen Differenz
verstärker (nicht gezeigt) eingegeben. Die Rotation des
gezahnten Rotors 1 wird auf der Grundlage des Ausgangs
des Differenzverstärkers erfaßt. Da das Paar von MRE-
Schaltkreisen 10, 11 symmetrisch in Bezug auf die
zentrale Linie 7 des Biasmagnetfeldes angeordnet ist,
gibt es eine Phasendifferenz zwischen den zwei Ausgangs
potentialen Va und Vb. Folglich wird die Position des ge
zahnten Rotors sogar dann erfaßt, wenn der Rotor 1 nicht
rotiert.
Der Einfluß der magnetostriktiven Effekte auf die
MRE-Brücke 16 wird im folgenden erläutert werden. Der IC-
Chip 4 wird wie oben beschrieben mit der Formmasse 5 ein
gegossen und folglich wird der IC-Chip 4 mit einer exter
nen Kraft aufgrund von Temperaturänderungen oder anderen
Ursachen beaufschlagt und die Magnetostriktion in der
MRE-Brücke 16 erzeugt. Insbesondere wird, wie in Fig. 2A
gezeigt, eine Verspannung δ1, δ2, δ3 und δ4 dem ersten,
zweiten, dritten bzw. vierten MRE 12-15 auferlegt. Auf
grund der auferlegten Verspannung ändert sich der Wider
stand der entsprechenden MREs 12-15 um Rδ1, Rδ2, Rδ3 bzw.
Rδ4, wie in Fig. 2B gezeigt. Das Ausgangspotential Va des
ersten MRE-Schaltkreises 10 wird wie folgt ausgedrückt:
Va = (R12 + Rδ1) . E/(R12 + Rδ1 + R13 + Rδ2),
wobei R12 und R13 der Widerstand des ersten bzw. zweiten
MRE 12 bzw. 13 und E eine Spannung der Energiequelle bzw.
Spannungsquelle ist. Das Ausgangspotential Vb des zweiten
MRE-Schaltkreises 11 wird wie folgt ausgedrückt:
Vb = (R14 + Rδ4) . E/(R14 + Rδ4 + R15 + Rδ3),
wobei R14 und R15 der Widerstand des dritten bzw. vierten
MRE 14 bzw. 15 ist.
Die Verspannung δ1, δ4, mit der die MREs 12, 14 be
aufschlagt werden, die außen angeordnet sind, ist größer
als die Verspannung δ2, δ3, mit der die MREs 13, 15 be
aufschlagt werden, die innen positioniert sind. Da die
MREs 12, 14 symmetrisch in Bezug auf die zentrale Linie
4a angeordnet sind, ist δ1 im wesentlichen gleich δ4.
Gleichermaßen, da die MREs 13, 15 symmetrisch in Bezug
auf die zentrale Linie 4a positioniert sind, ist 62 im
wesentlichen gleich δ3. Folglich gibt es die folgende Be
ziehung zwischen den durch die Verspannung verursachten
Widerstandsänderungen:
(Rδ1 = Rδ4) < (Rδ2 = Rδ3)
Angenommen R12 = R13 = R14 = R15, dann wird Va gleich
Vb (Va = Vb). Auf diese Weise werden sowohl der erste
MRE-Schaltkreis 10 als auch der zweite MRE-Schaltkreis 11
gleichermaßen mit den magnetostriktiven Effekten beauf
schlagt. Mit anderen Worten, der nachteilige Einfluß der
Magnetostriktion wird in der MRE-Brücke 16 als Ganzes
eliminiert, und dementsprechend wird die Rotation des ge
zahnten Rotors 1 präzise erfaßt.
Fig. 3 zeigt eine MRE-Brückenstrukturierung als ein
Vergleichsbeispiel, in der das erste MRE 12 und das drit
te MRE 14, die beide mit der Spannungs- bzw. Energie
quelle verbunden sind, nicht symmetrisch in Bezug auf das
Biasmagnetfeldzentrum 7 angeordnet sind. Gleichermaßen
sind das zweite MRE 13 und das vierte MRE 15, die beide
geerdet sind, nicht symmetrisch in Bezug auf das Bias
magnetfeldzentrum angeordnet. In dieser Struktur wird die
Verspannung nicht gleichmäßig dem ersten MRE-Schaltkreis
10 und dem zweiten MRE-Schaltkreis 11 auferlegt. Somit
können die nachteiligen Effekte der Magnetostriktion
nicht eliminiert werden, und dementsprechend wird die
Rotation des rotierenden Objektes nicht präzise erfaßt.
In der in Fig. 2A gezeigten MRE-Brücke 16 sind das
erste MRE 12 und das dritte MRE 14 in derselben Richtung
strukturiert, und das zweite MRE 13 und das vierte MRE 15
sind in derselben Richtung, die von der vorigen verschie
den ist, strukturiert. Folglich, wenn die MRE-Brücke 16
wie in Fig. 2B gezeigt verbunden bzw. geschaltet ist, än
dern sich die Ausgangspotentiale Va und Vb als Reaktion
auf die Rotation des gezahnten Rotors 1 mit einer Phasen
differenz dazwischen. Somit wird die Rotation auf der
Grundlage des Ausgangs des Differenzverstärkers erfaßt,
zu dem Va und Vb eingegeben werden. Falls die MREs 12 und
14 in verschiedenen Richtungen zueinander strukturiert
werden und die MREs 13 und 15 in verschiedenen Richtungen
zueinander strukturiert werden, ändern sich Va und Vb in
Phase, und von dem Ausgang des Differenzverstärkers wer
den keine Informationen über die Rotation erhalten.
Eine zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung wird nun unter Bezugnahme auf die Fig. 4A und 4B
beschrieben werden. In dieser Ausführungsform ist die
MRE-Brücke 16 verschieden von jener der ersten Ausfüh
rungsform strukturiert, aber der nachteilige Einfluß der
magnetostriktiven Effekte wird auf ähnliche Weise elimi
niert.
Der erste MRE-Schaltkreis 10, der aus den ersten und
zweiten MREs 12, 13 besteht, und der zweite MRE-Schalt
kreis 11, der aus den dritten und vierten MREs 14, 15 be
steht, sind symmetrisch in Bezug auf die zentrale Bias
magnetfeldlinie 7 angeordnet. Alle MREs 12-15 sind in
derselben Richtung strukturiert, die in Bezug auf die
zentrale Linie 7 um ungefähr 45° geneigt ist. Die MREs
12-15 sind wie in Fig. 4B gezeigt verbunden, um die MRE-
Brücke 16 zu bilden. Das erste MRE 12 und das vierte MRE
15 sind auf derselben Seite der zentralen Linie 4a
(rechte Seite in Fig. 4A) strukturiert und in Gestalt
eines Kammes angeordnet, so daß sie sich nicht berühren
bzw. in Kontakt stehen. Gleichermaßen sind das zweite MRE
13 und das dritte MRE 14 auf der anderen Seite der zen
tralen Linie 4a (linke Seite in Fig. 4A) strukturiert und
in Gestalt eines Kammes angeordnet, so daß sie sich nicht
berühren.
Der Einfluß der magnetostriktiven Effekte auf die
MRE-Brücke 16 wird im folgenden erläutert werden. Die
Verspannung δ3, δ4 aufgrund der externen Kraft wird den
auf dem IC-Chip 4 ausgebildeten MREs 12 und 15 gleicher
maßen auferlegt, und die MREs 13 und 14 werden gleicher
maßen mit der Verspannung δ1, δ2 beaufschlagt, wie in
Fig. 4A gezeigt. Der Widerstand der MREs 12, 15 wird auf
grund der Magnetostriktion, die von der Verspannung ver
ursacht wird, um (Rδ3 + Rδ4) geändert, während der Wider
stand der MREs 13, 14 um (Rδ1 + Rδ2) geändert wird. Die
Ausgangspotentiale Va und Vb der MRE-Brücke 16 werden je
weils durch die folgenden Gleichungen ausgedrückt:
Va = (R12 + Rδ3 + Rδ4) . E/(R12 + Rδ3 + Rδ4 + R13
+ Rδ1 + Rδ2) und
Vb = (R14 + Rδ1 + Rδ2) . E/(R14 + Rδ1 + Rδ2 + R15
+ Rδ3 + Rδ4),
wobei R12, R13, R14 und R15 der Widerstand des MRE 12,
13, 14 bzw. 15 und E eine Spannung der Energiequelle bzw.
Spannungsquelle ist.
Da ein Paar aus den MREs 12, 15 und das andere Paar
13, 14 symmetrisch in Bezug auf die zentrale Linie 4a
strukturiert sind, ist die Verspannung (δ3 + δ4), die den
MREs 12, 15 auferlegt wird, gleich der Verspannung (δ1 +
d2), mit der die MREs 13, 14 beaufschlagt werden. Dement
sprechend sind die Widerstandsänderungen in beiden Paaren
ebenfalls gleich, das heißt:
(Rδ1 + Rδ2) = (Rδ3 + Rδ4)
Angenommen R12 = R13 = R14 = R15, dann sind die bei
den Ausgangspotentiale Va und Vb einander gleich (Va =
Vb). Dies bedeutet, daß der Einfluß der magnetostriktiven
Effekte gleichermaßen an sowohl den ersten MRE-Schalt
kreis 10 als auch den zweiten MRE-Schaltkreis 11 überge
ben wird. Folglich wird der nachteilige Einfluß auf die
MRE-Brücke 16 als Ganzes aufgehoben, und dementsprechend
wird die Rotation des gezahnten Rotors 1 präzise erfaßt.
Falls das erste MRE 12 und das dritte MRE 14 in ver
schiedenen Richtungen zueinander in Bezug auf die zentra
le Biasmagnetfeldlinie 7 strukturiert werden, und das
zweite MRE 13 und das vierte MRE 15 in den verschiedenen
Richtungen strukturiert werden, ändern sich die beiden
Ausgangspotentiale Va und Vb in Phase und über die Rota
tion werden keine Informationen erhalten. Da jene Paare
von MREs, d. h., 12 und 14, und 13 und 15, in dieser Aus
führungsform in derselben Richtung strukturiert sind, än
dern sich die Ausgangspotentiale Va und Vb als Reaktion
auf die Rotation des gezahnten Rotors 1 mit einer Phasen
differenz dazwischen, und dementsprechend repräsentiert
der Ausgang von dem Differenzverstärker auf korrekte
Weise die Informationen über die Rotation.
Eine dritte Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung wird nun unter Bezugnahme auf die Fig. 5A und 5B
beschrieben werden. Diese Ausführungsform ist ähnlich zu
der ersten Ausführungsform, ausgenommen, daß jedes MRE
12-15 gleichermaßen in zwei Bereiche aufgeteilt ist. So
mit werden nur die Merkmale der dritten Ausführungsform,
die verschieden von jenen der ersten Ausführungsform
sind, im folgenden beschrieben werden.
Der erste MRE-Schaltkreis 10 besteht aus dem ersten
und zweiten MRE 12, 13, und der zweite MRE-Schaltkreis 11
besteht aus dem dritten MRE 14 und dem vierten MRE 15,
auf dieselbe Weise wie in der ersten Ausführungsform. Das
erste MRE 12 ist in zwei gleiche Bereiche 12a und 12b
aufgeteilt, und das zweite MRE 13 ist in zwei gleiche Be
reiche 13a und 13b aufgeteilt. Jene vier aufgeteilten
MREs sind wie in Fig. 5A gezeigt strukturiert. Die Struk
turierungsrichtung der MREs 12a, 12b und jene der MREs
13a und 13b kreuzen einander in Gestalt eines X. Glei
chermaßen ist das dritte MRE 14 in 14a und 14b aufge
teilt, und das vierte MRE 15 ist in 15a und 15b aufge
teilt. Diese aufgeteilten Bereiche sind wie in Fig. 5A
gezeigt strukturiert. Die Strukturierungsrichtung der
MREs 14a, 14b kreuzt die Strukturierungsrichtung der MREs
15a, 15b in Gestalt eines X.
Alle die aufgeteilten MREs sind wie in Fig. 5B ge
zeigt verbunden und bilden eine MRE-Brücke 16. Der erste
MRE-Schaltkreis 10 in der Brücke 16 besteht aus den MREs
12a, 12b, 13a und 13b, die alle in Reihe zwischen der
Spannungs- bzw. Energiequelle und der Erde bzw. Erdung
verbunden sind. Gleichermaßen besteht der zweite MRE-
Schaltkreis aus den MREs 14a, 14b, 15a und 15b, die alle
in Reihe zwischen der Energiequelle und der Erde verbun
den bzw. geschaltet sind.
Der Einfluß der magnetostriktiven Effekte auf die
MRE-Brücke 16 wird erläutert werden. Wie in Fig. 5A ge
zeigt werden die MREs 12a-15b auf ähnliche Weise wie in
der ersten Ausführungsform mit der Verspannung δ1, δ2, δ3
und δ4 beaufschlagt. Aufgrund der auferlegten Verspannung
ändern sich die Widerstände der MREs 12a-15b zu
(R12a + Rδ1), (R12b + Rδ2), (R13a + Rδ1), (R13b + Rδ2), (R14a + Rδ3), (R14b + Rδ4), (R15a + Rδ3) bzw. (R15b + Rδ4).
(R12a + Rδ1), (R12b + Rδ2), (R13a + Rδ1), (R13b + Rδ2), (R14a + Rδ3), (R14b + Rδ4), (R15a + Rδ3) bzw. (R15b + Rδ4).
Die Ausgangspotentiale Va und Vb der MRE-Brücke 16
werden wie folgt ausgedrückt:
Va = (R12a + Rδ1 + R12b + Rδ2) . E/(R12a + Rδ1 +
R12b + Rδ2 + R13a + Rδ1 + R13b + Rδ2)
Vb = (R14a + Rδ3 + R14b + Rδ4) . E/(R14a + Rδ3 +
R14b + Rδ4 + R15a + Rδ3 + R15b + Rδ4)
Aus demselben Grund wie in der ersten Ausführungsform
werden die Widerstandsänderungen wie folgt ausgedrückt:
(Rδ1 = Rδ4) < (Rδ2 = Rδ3)
Angenommen, die Widerstände R12a-R15b sind alle gleich,
dann wird Va gleich Vb.
Somit wird der nachteilige Einfluß der Magneto
striktion auf die MRE-Brücke 16 als Ganzes eliminiert.
Zusätzlich kann in dieser Ausführungsform der Einfluß der
Verspannung δ1, δ2 auf das Ausgangspotential Va konstant
gehalten werden. Gleichermaßen kann der Einfluß der Ver
spannung δ3, δ4 auf das Ausgangspotential Vb konstant ge
halten werden. Mit anderen Worten, der Einfluß der Ver
spannung auf den ersten MRE-Schaltkreis 10 und den zwei
ten MRE-Schaltkreis 11 wird individuell in sich selbst
eingestellt. Folglich, sogar falls alle Verspannungen
δ1-δ4 voneinander verschieden sind, kann in dieser Aus
führungsform der nachteilige Einfluß eliminiert werden,
wodurch die Informationen über die Rotation präzise er
faßt werden. Weiterhin, da jedes Paar von aufgeteilten
MREs (zum Beispiel 12a und 12b) so strukturiert ist, daß
ein aufgeteilter Bereich von dem anderen aufgeteilten Bereich
entlang der zentralen Biasmagnetfeldlinie 7 ver
schoben ist, kann der Einfluß der Magnetostriktion ent
lang der zentralen Linie 7 eliminiert werden, zusätzlich
zu der Elimination des Einflusses entlang der Rotations
richtung "A".
Obwohl jedes MRE in der dritten Ausführungsform in
zwei Bereiche aufgeteilt ist, ist es ebenfalls möglich,
es in mehr als zwei Bereiche aufzuteilen. Beispielsweise
kann jedes MRE 12-15 in vier Bereiche aufgeteilt sein, um
16 Bereiche zu bilden, und sie können in Bezug auf die
zentrale Biasmagnetfeldlinie 7 symmetrisch strukturiert
sein.
Obwohl die vorliegende Erfindung unter Bezugnahme auf
die vorhergehenden bevorzugten Ausführungsformen gezeigt
und beschrieben worden ist, wird es für Fachleute offen
sichtlich sein, daß Änderungen in Form und Detail daran
gemacht werden können, ohne vom Anwendungsbereich der Er
findung, wie er in den beigefügten Ansprüchen definiert
wird, abzuweichen.
Zusammengefaßt wird eine Rotation eines rotierenden
Objektes wie z. B. eines gezahnten Rotors 1 wird auf der
Grundlage von Ausgangspotentialen Va, Vb eines Brücken
schaltkreises 16, der vier magnetfeldabhängige Wider
standselemente 12-15 besitzt, erfaßt. Der Brückenschalt
kreis, der auf einem integrierten Schaltkreischip 4 aus
gebildet ist, ist in einem Biasmagnetfeld angeordnet, das
von einem Magneten 3 erzeugt wird, der in einer Nachbar
schaft des gezahnten Rotors angeordnet ist. Ein Paar von
magnetfeldabhängigen Widerstandselementen 12, 13 bildet
einen ersten Schaltkreis 10 in der Brücke, während das
andere Paar 14, 15 einen zweiten Schaltkreis 11 bildet.
Um den Einfluß magnetostriktiver Effekte aufgrund einer
externen Kraft, mit der der integrierte Schaltkreischip 4
beaufschlagt wird, aufzuheben, sind der erste und zweite
Schaltkreis 10, 11 in der Brücke 16 symmetrisch zueinan
der in Bezug auf eine zentrale Linie 7 des Biasmagnet
feldes angeordnet.
Claims (6)
1. Rotationsdetektor mit:
einem Biasmagneten (3), der so angeordnet ist, daß er einem gezahnten Rotor (1) mit einem Luftspalt dazwi schen zugewandt ist, zum Erzeugen eines Biasmagnet feldes; und
einer MRE-Brücke (16), die auf einem IC-Chip (4) strukturiert und so in dem Biasmagnetfeld angeordnet ist, daß sie dem gezahnten Rotor mit einem Luftspalt dazwischen zugewandt ist, wobei die MRE-Brücke (16) einen ersten MRE-Schaltkreis (10) und einen zweiten MRE-Schaltkreis (11) umfaßt, wobei der erste MRE- Schaltkreis (10) ein erstes MRE (12) und ein zweites MRE (13) besitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen einer Spannungsquelle und einer Erde in Reihe ge schaltet sind, wobei der zweite MRE-Schaltkreis (11) ein drittes MRE (14) und ein viertes MRE (15) be sitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen der Span nungsquelle und der Erde in Reihe geschaltet sind, wobei sich der Widerstand des ersten MRE (12) und des zweiten MRE (13) als Reaktion auf Änderungen des Biasmagnetfeldes mit einer Phasendifferenz dazwischen ändern, wobei sich der Widerstand des dritten MRE (14) und des vierten MRE (15) als Reaktion auf Ände rungen des Biasmagnetfeldes mit einer Phasendifferenz dazwischen ändern, wobei die MRE-Brücke (16) eine Rotation des gezahnten Rotors auf der Grundlage einer Ausgangsspannung davon erfaßt, wobei:
das erste MRE (12) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) und das dritte MRE (14) in dem zweiten MRE-Schaltkreis (11) symmetrisch in Bezug auf eine zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet sind; und
das zweite MRE (13) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) und das vierte MRE (15) in dem zweiten MRE- Schaltkreis (11) symmetrisch in Bezug auf die zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet sind.
einem Biasmagneten (3), der so angeordnet ist, daß er einem gezahnten Rotor (1) mit einem Luftspalt dazwi schen zugewandt ist, zum Erzeugen eines Biasmagnet feldes; und
einer MRE-Brücke (16), die auf einem IC-Chip (4) strukturiert und so in dem Biasmagnetfeld angeordnet ist, daß sie dem gezahnten Rotor mit einem Luftspalt dazwischen zugewandt ist, wobei die MRE-Brücke (16) einen ersten MRE-Schaltkreis (10) und einen zweiten MRE-Schaltkreis (11) umfaßt, wobei der erste MRE- Schaltkreis (10) ein erstes MRE (12) und ein zweites MRE (13) besitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen einer Spannungsquelle und einer Erde in Reihe ge schaltet sind, wobei der zweite MRE-Schaltkreis (11) ein drittes MRE (14) und ein viertes MRE (15) be sitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen der Span nungsquelle und der Erde in Reihe geschaltet sind, wobei sich der Widerstand des ersten MRE (12) und des zweiten MRE (13) als Reaktion auf Änderungen des Biasmagnetfeldes mit einer Phasendifferenz dazwischen ändern, wobei sich der Widerstand des dritten MRE (14) und des vierten MRE (15) als Reaktion auf Ände rungen des Biasmagnetfeldes mit einer Phasendifferenz dazwischen ändern, wobei die MRE-Brücke (16) eine Rotation des gezahnten Rotors auf der Grundlage einer Ausgangsspannung davon erfaßt, wobei:
das erste MRE (12) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) und das dritte MRE (14) in dem zweiten MRE-Schaltkreis (11) symmetrisch in Bezug auf eine zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet sind; und
das zweite MRE (13) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) und das vierte MRE (15) in dem zweiten MRE- Schaltkreis (11) symmetrisch in Bezug auf die zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet sind.
2. Rotationsdetektor nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß
das erste MRE (12) und das dritte MRE (14) parallel zueinander strukturiert sind, wobei sie einen vorbe stimmten schrägen Winkel relativ in Bezug auf die zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes bilden; und
das zweite MRE (13) und das vierte MRE (15) parallel zueinander strukturiert sind, wobei sie einen vorbe stimmten schrägen Winkel relativ in Bezug auf die zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes bilden.
das erste MRE (12) und das dritte MRE (14) parallel zueinander strukturiert sind, wobei sie einen vorbe stimmten schrägen Winkel relativ in Bezug auf die zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes bilden; und
das zweite MRE (13) und das vierte MRE (15) parallel zueinander strukturiert sind, wobei sie einen vorbe stimmten schrägen Winkel relativ in Bezug auf die zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes bilden.
3. Rotationsdetektor nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß
die ersten und zweiten MREs (12, 13) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) so strukturiert sind, daß sie die Gestalt eines V bilden, deren zentrale Linie parallel zu der zentralen Linie (7) des Biasmagnet feldes ist und die einen vorbestimmten Winkel zwi schen den beiden Seiten der V-förmigen Gestalt be sitzt; und
die dritten und vierten MREs (14, 15) in dem zweiten MRE-Schaltkreis (11) so strukturiert sind, daß sie die Gestalt eines umgedrehten V bilden, die dieselbe Gestalt wie die V-förmige Gestalt in dem ersten MRE- Schaltkreis besitzt und um 180° in Bezug auf eine Linie senkrecht zu der zentralen Linie (7) des Bias magnetfeldes gedreht ist.
die ersten und zweiten MREs (12, 13) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) so strukturiert sind, daß sie die Gestalt eines V bilden, deren zentrale Linie parallel zu der zentralen Linie (7) des Biasmagnet feldes ist und die einen vorbestimmten Winkel zwi schen den beiden Seiten der V-förmigen Gestalt be sitzt; und
die dritten und vierten MREs (14, 15) in dem zweiten MRE-Schaltkreis (11) so strukturiert sind, daß sie die Gestalt eines umgedrehten V bilden, die dieselbe Gestalt wie die V-förmige Gestalt in dem ersten MRE- Schaltkreis besitzt und um 180° in Bezug auf eine Linie senkrecht zu der zentralen Linie (7) des Bias magnetfeldes gedreht ist.
4. Rotationsdetektor mit:
einem Biasmagneten (3), der so angeordnet ist, daß er einem gezahnten Rotor (1) mit einem Luftspalt dazwi schen zugewandt ist, zum Erzeugen eines Biasmagnet feldes; und
einer MRE-Brücke (16), die auf einem IC-Chip (4) strukturiert und so in dem Biasmagnetfeld angeordnet ist, daß sie dem gezahnten Rotor mit einem Luftspalt dazwischen zugewandt ist, wobei die MRE-Brücke (16) einen ersten MRE-Schaltkreis (10) und einen zweiten MRE-Schaltkreis (11) umfaßt, wobei der erste MRE- Schaltkreis (10) ein erstes MRE (12) und ein zweites MRE (13) besitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen einer Spannungsquelle und einer Erde in Reihe ge schaltet sind, wobei der zweite MRE-Schaltkreis (11) ein drittes MRE (14) und ein viertes MRE (15) be sitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen der Span nungsquelle und der Erde in Reihe geschaltet sind, wobei sich der Widerstand des ersten MRE (12) und des zweiten MRE (13) als Reaktion auf Änderungen des Biasmagnetfeldes mit einer Phasendifferenz dazwischen ändern, wobei sich der Widerstand des dritten MRE (14) und des vierten MRE (15) als Reaktion auf Ände rungen des Biasmagnetfeldes mit einer Phasendifferenz dazwischen ändern, wobei die MRE-Brücke (16) eine Rotation des gezahnten Rotors auf der Grundlage einer Ausgangsspannung davon erfaßt, wobei:
das erste und vierte MRE (12, 15) parallel zueinander auf einer Seite der zentralen Linie (7) des Bias magnetfeldes mit einem vorbestimmten schrägen Winkel relativ in Bezug auf die zentrale Linie strukturiert sind, wobei sie eine Gestalt eines Kammes bilden, in der der erste und vierte MRE so verschränkt sind, daß sie sich nicht berühren;
das zweite und dritte MRE (13, 14) parallel zuein ander auf der anderen Seite der zentralen Linie (7) des Biasmagnetfeldes mit demselben schrägen Winkel wie jener von den ersten und vierten MREs struktu riert sind, wobei sie eine Gestalt eines Kammes bil den, in der das zweite und dritte MRE so verschränkt sind, daß sie sich nicht berühren;
das erste MRE (12) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) und das dritte MRE (14) in dem zweiten MRE-Schalt kreis (11) symmetrisch in Bezug auf eine zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet sind; und
das zweite MRE (13) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) und das vierte MRE (15) in dem zweiten MRE- Schaltkreis (11) symmetrisch in Bezug auf die zentra le Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet sind.
einem Biasmagneten (3), der so angeordnet ist, daß er einem gezahnten Rotor (1) mit einem Luftspalt dazwi schen zugewandt ist, zum Erzeugen eines Biasmagnet feldes; und
einer MRE-Brücke (16), die auf einem IC-Chip (4) strukturiert und so in dem Biasmagnetfeld angeordnet ist, daß sie dem gezahnten Rotor mit einem Luftspalt dazwischen zugewandt ist, wobei die MRE-Brücke (16) einen ersten MRE-Schaltkreis (10) und einen zweiten MRE-Schaltkreis (11) umfaßt, wobei der erste MRE- Schaltkreis (10) ein erstes MRE (12) und ein zweites MRE (13) besitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen einer Spannungsquelle und einer Erde in Reihe ge schaltet sind, wobei der zweite MRE-Schaltkreis (11) ein drittes MRE (14) und ein viertes MRE (15) be sitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen der Span nungsquelle und der Erde in Reihe geschaltet sind, wobei sich der Widerstand des ersten MRE (12) und des zweiten MRE (13) als Reaktion auf Änderungen des Biasmagnetfeldes mit einer Phasendifferenz dazwischen ändern, wobei sich der Widerstand des dritten MRE (14) und des vierten MRE (15) als Reaktion auf Ände rungen des Biasmagnetfeldes mit einer Phasendifferenz dazwischen ändern, wobei die MRE-Brücke (16) eine Rotation des gezahnten Rotors auf der Grundlage einer Ausgangsspannung davon erfaßt, wobei:
das erste und vierte MRE (12, 15) parallel zueinander auf einer Seite der zentralen Linie (7) des Bias magnetfeldes mit einem vorbestimmten schrägen Winkel relativ in Bezug auf die zentrale Linie strukturiert sind, wobei sie eine Gestalt eines Kammes bilden, in der der erste und vierte MRE so verschränkt sind, daß sie sich nicht berühren;
das zweite und dritte MRE (13, 14) parallel zuein ander auf der anderen Seite der zentralen Linie (7) des Biasmagnetfeldes mit demselben schrägen Winkel wie jener von den ersten und vierten MREs struktu riert sind, wobei sie eine Gestalt eines Kammes bil den, in der das zweite und dritte MRE so verschränkt sind, daß sie sich nicht berühren;
das erste MRE (12) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) und das dritte MRE (14) in dem zweiten MRE-Schalt kreis (11) symmetrisch in Bezug auf eine zentrale Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet sind; und
das zweite MRE (13) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) und das vierte MRE (15) in dem zweiten MRE- Schaltkreis (11) symmetrisch in Bezug auf die zentra le Linie (7) des Biasmagnetfeldes angeordnet sind.
5. Rotationsdetektor nach Anspruch 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jedes MRE (12-15) eine Vielzahl von kurzen Seiten und eine Vielzahl von langen Seiten besitzt;
die kurzen Seiten des ersten und vierten MRE (12, 15) parallel zueinander strukturiert sind, und ihre lan gen Seiten parallel zueinander strukturiert sind; und
die kurzen Seiten des zweiten und dritten MRE (13, 14) parallel zueinander strukturiert sind, und ihre langen Seiten parallel zueinander strukturiert sind.
jedes MRE (12-15) eine Vielzahl von kurzen Seiten und eine Vielzahl von langen Seiten besitzt;
die kurzen Seiten des ersten und vierten MRE (12, 15) parallel zueinander strukturiert sind, und ihre lan gen Seiten parallel zueinander strukturiert sind; und
die kurzen Seiten des zweiten und dritten MRE (13, 14) parallel zueinander strukturiert sind, und ihre langen Seiten parallel zueinander strukturiert sind.
6. Rotationsdetektor mit:
einem Biasmagneten (3), der so angeordnet ist, daß er einem gezahnten Rotor (1) mit einem Luftspalt dazwi schen zugewandt ist, zum Erzeugen eines Biasmagnet feldes; und
einer MRE-Brücke (16), die auf einem IC-Chip (4) strukturiert und in dem Biasmagnetfeld so angeordnet ist, daß sie dem gezahnten Rotor mit einem Luftspalt dazwischen zugewandt ist, wobei die MRE-Brücke (16) einen ersten MRE-Schaltkreis (10) und einen zweiten MRE-Schaltkreis (11) umfaßt, wobei der erste MRE- Schaltkreis (10) ein erstes MRE (12) und ein zweites MRE (13) besitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen einer Spannungsquelle und einer Erde in Reihe ge schaltet sind, wobei der zweite MRE-Schaltkreis (11) ein drittes MRE (14) und ein viertes MRE (15) be sitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen der Span nungsquelle und der Erde in Reihe geschaltet sind, wobei die MRE-Brücke (16) eine Rotation des gezahnten Rotors auf der Grundlage einer Ausgangsspannung davon erfaßt, wobei:
der erste und zweite MRE-Schaltkreis (10, 11) symme trisch in Bezug auf eine zentrale Linie (7) des Bias magnetfeldes angeordnet sind;
jedes MRE (12-15) in zwei gleiche Bereiche aufgeteilt ist;
die ersten und zweiten MREs (12, 13) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) in Gestalt eines X strukturiert sind, wobei sie sich an einem Punkt kreuzen, der je des MRE gleichermaßen aufteilt; und
die dritten und vierten MREs (14, 15) in dem zweiten MRE-Schaltkreis (11) in derselben Gestalt eines X wie in dem ersten MRE-Schaltkreis strukturiert sind und sich an einem Punkt kreuzen, der jedes MRE gleicher maßen aufteilt.
einem Biasmagneten (3), der so angeordnet ist, daß er einem gezahnten Rotor (1) mit einem Luftspalt dazwi schen zugewandt ist, zum Erzeugen eines Biasmagnet feldes; und
einer MRE-Brücke (16), die auf einem IC-Chip (4) strukturiert und in dem Biasmagnetfeld so angeordnet ist, daß sie dem gezahnten Rotor mit einem Luftspalt dazwischen zugewandt ist, wobei die MRE-Brücke (16) einen ersten MRE-Schaltkreis (10) und einen zweiten MRE-Schaltkreis (11) umfaßt, wobei der erste MRE- Schaltkreis (10) ein erstes MRE (12) und ein zweites MRE (13) besitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen einer Spannungsquelle und einer Erde in Reihe ge schaltet sind, wobei der zweite MRE-Schaltkreis (11) ein drittes MRE (14) und ein viertes MRE (15) be sitzt, die in dieser Reihenfolge zwischen der Span nungsquelle und der Erde in Reihe geschaltet sind, wobei die MRE-Brücke (16) eine Rotation des gezahnten Rotors auf der Grundlage einer Ausgangsspannung davon erfaßt, wobei:
der erste und zweite MRE-Schaltkreis (10, 11) symme trisch in Bezug auf eine zentrale Linie (7) des Bias magnetfeldes angeordnet sind;
jedes MRE (12-15) in zwei gleiche Bereiche aufgeteilt ist;
die ersten und zweiten MREs (12, 13) in dem ersten MRE-Schaltkreis (10) in Gestalt eines X strukturiert sind, wobei sie sich an einem Punkt kreuzen, der je des MRE gleichermaßen aufteilt; und
die dritten und vierten MREs (14, 15) in dem zweiten MRE-Schaltkreis (11) in derselben Gestalt eines X wie in dem ersten MRE-Schaltkreis strukturiert sind und sich an einem Punkt kreuzen, der jedes MRE gleicher maßen aufteilt.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33446799A JP3506078B2 (ja) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | 回転検出装置 |
JP11-334467 | 1999-11-25 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10056515A1 true DE10056515A1 (de) | 2001-05-31 |
DE10056515B4 DE10056515B4 (de) | 2009-07-02 |
DE10056515B8 DE10056515B8 (de) | 2009-11-05 |
Family
ID=18277726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10056515A Expired - Fee Related DE10056515B8 (de) | 1999-11-25 | 2000-11-15 | Rotationsdetektor, der einen Brückenschaltkreis mit magnetfeldabhängigen Widerstandselementen verwendet |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6366079B1 (de) |
JP (1) | JP3506078B2 (de) |
DE (1) | DE10056515B8 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003046595A1 (en) | 2001-11-27 | 2003-06-05 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Arrangement for determining the position of a motion sensor element |
FR2837279A1 (fr) * | 2002-03-18 | 2003-09-19 | Denso Corp | Dispositif de determination de position utilisant un element magnetoresistif |
US8564286B2 (en) | 2010-06-28 | 2013-10-22 | Infineon Technologies Ag | GMR sensors having reduced AMR effects |
EP2770303A1 (de) * | 2013-02-20 | 2014-08-27 | Nxp B.V. | Magnetfeldsensorsystem mit einem um eine Radachse drehenden magnetischen Rad und mit auf einer senkrechten Ebene zur Radachse angeordneten Magnetsensorelementen |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10160450A1 (de) * | 2001-12-08 | 2003-06-18 | Philips Intellectual Property | Anordnung zum Detektieren der Bewegung eines Encoders |
JP2004301741A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Denso Corp | 磁気センサ |
JP4259937B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2009-04-30 | アルプス電気株式会社 | 角度検出センサ |
JP4229877B2 (ja) * | 2004-06-08 | 2009-02-25 | 三菱電機株式会社 | 磁気検出装置 |
US20060006864A1 (en) * | 2004-07-08 | 2006-01-12 | Honeywell International, Inc. | Integrated magnetoresitive speed and direction sensor |
US7253613B2 (en) * | 2004-11-02 | 2007-08-07 | Denso Corporation | Rotation detecting device |
JP4586543B2 (ja) * | 2005-01-17 | 2010-11-24 | 株式会社デンソー | 磁気検出装置 |
US7425824B2 (en) * | 2005-05-20 | 2008-09-16 | Honeywell International Inc. | Magnetoresistive sensor |
EP1770400A1 (de) * | 2005-09-28 | 2007-04-04 | Jaquet AG | Vorrichtung mit Hall-Sensoren zum Erfassen von Drehzahlen |
JP4742816B2 (ja) * | 2005-11-01 | 2011-08-10 | 株式会社デンソー | 回転検出装置 |
JP4940965B2 (ja) | 2007-01-29 | 2012-05-30 | 株式会社デンソー | 回転センサ及び回転センサ装置 |
US8134361B2 (en) * | 2007-06-13 | 2012-03-13 | Ricoh Company, Ltd. | Magnetic sensor including magnetic field detectors and field resistors arranged on inclined surfaces |
JP2009025074A (ja) * | 2007-07-18 | 2009-02-05 | Tokai Rika Co Ltd | 磁気センサ |
JP4577396B2 (ja) * | 2008-04-03 | 2010-11-10 | 株式会社デンソー | 回転検出装置 |
DE102010025170B4 (de) * | 2010-06-25 | 2013-02-28 | Meas Deutschland Gmbh | Vorrichtung zum Erzeugen eines Sensorsignals und Verfahren zur Bestimmung der Position eines Gebers |
US11506732B2 (en) * | 2010-10-20 | 2022-11-22 | Infineon Technologies Ag | XMR sensors with serial segment strip configurations |
CN102022974B (zh) * | 2010-10-29 | 2013-01-23 | 昌辉汽车电气系统(安徽)有限公司 | 一种磁感应效应角度传感器的标定方法 |
JP5215370B2 (ja) * | 2010-11-22 | 2013-06-19 | 三菱電機株式会社 | 磁気式位置検出装置 |
JP2012184995A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Tokai Rika Co Ltd | 磁気検出装置 |
JP5602682B2 (ja) * | 2011-06-03 | 2014-10-08 | 株式会社東海理化電機製作所 | 磁気センサ、及び磁気センサ用パターン |
JP6243602B2 (ja) * | 2012-03-22 | 2017-12-06 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 磁場方向計測装置及び回転角度計測装置 |
US9817078B2 (en) | 2012-05-10 | 2017-11-14 | Allegro Microsystems Llc | Methods and apparatus for magnetic sensor having integrated coil |
EP2983001B1 (de) * | 2013-04-01 | 2020-11-04 | SIRC Co., Ltd. | Sensorelement mit temperaturkompensierungsfunktion und magnetsensor sowie elektrische messvorrichtung damit |
US10145908B2 (en) | 2013-07-19 | 2018-12-04 | Allegro Microsystems, Llc | Method and apparatus for magnetic sensor producing a changing magnetic field |
US10495699B2 (en) | 2013-07-19 | 2019-12-03 | Allegro Microsystems, Llc | Methods and apparatus for magnetic sensor having an integrated coil or magnet to detect a non-ferromagnetic target |
JP6265484B2 (ja) * | 2014-04-07 | 2018-01-24 | セイコーNpc株式会社 | 磁気センサモジュール |
US10712403B2 (en) | 2014-10-31 | 2020-07-14 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor and electronic circuit that pass amplifier current through a magnetoresistance element |
US9823092B2 (en) * | 2014-10-31 | 2017-11-21 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor providing a movement detector |
GB2545012A (en) * | 2015-12-03 | 2017-06-07 | Prec Varionic Int Ltd | A non-contact sensor |
US10837943B2 (en) | 2017-05-26 | 2020-11-17 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor with error calculation |
US11428755B2 (en) * | 2017-05-26 | 2022-08-30 | Allegro Microsystems, Llc | Coil actuated sensor with sensitivity detection |
US10996289B2 (en) | 2017-05-26 | 2021-05-04 | Allegro Microsystems, Llc | Coil actuated position sensor with reflected magnetic field |
US11248971B2 (en) | 2018-02-02 | 2022-02-15 | Analog Devices International Unlimited Company | Magnetic field torque and/or angle sensor |
US10823586B2 (en) | 2018-12-26 | 2020-11-03 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor having unequally spaced magnetic field sensing elements |
US11237020B2 (en) | 2019-11-14 | 2022-02-01 | Allegro Microsystems, Llc | Magnetic field sensor having two rows of magnetic field sensing elements for measuring an angle of rotation of a magnet |
US11280637B2 (en) | 2019-11-14 | 2022-03-22 | Allegro Microsystems, Llc | High performance magnetic angle sensor |
JP2021148447A (ja) * | 2020-03-16 | 2021-09-27 | 株式会社東海理化電機製作所 | 位置検出装置 |
US11262422B2 (en) | 2020-05-08 | 2022-03-01 | Allegro Microsystems, Llc | Stray-field-immune coil-activated position sensor |
US11637482B2 (en) | 2020-10-08 | 2023-04-25 | Analog Devices International Unlimited Company | Magnetic sensor system for motor control |
US11460323B2 (en) | 2021-02-05 | 2022-10-04 | Analog Devices International Unlimited Company | Magnetic field sensor package |
US11493361B2 (en) | 2021-02-26 | 2022-11-08 | Allegro Microsystems, Llc | Stray field immune coil-activated sensor |
US11686788B2 (en) | 2021-07-08 | 2023-06-27 | Tdk Corporation | Magnetic sensor device and magnetic sensor system |
US11578997B1 (en) | 2021-08-24 | 2023-02-14 | Allegro Microsystems, Llc | Angle sensor using eddy currents |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2888074B2 (ja) | 1993-01-25 | 1999-05-10 | 三菱電機株式会社 | 磁気抵抗素子 |
JP2982638B2 (ja) * | 1995-01-19 | 1999-11-29 | 株式会社デンソー | 変位検出装置 |
JPH08242027A (ja) * | 1995-03-03 | 1996-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気抵抗素子回路 |
JP3440855B2 (ja) | 1997-11-28 | 2003-08-25 | 株式会社デンソー | 回転検出装置 |
-
1999
- 1999-11-25 JP JP33446799A patent/JP3506078B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-10-31 US US09/699,557 patent/US6366079B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-15 DE DE10056515A patent/DE10056515B8/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003046595A1 (en) | 2001-11-27 | 2003-06-05 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Arrangement for determining the position of a motion sensor element |
FR2837279A1 (fr) * | 2002-03-18 | 2003-09-19 | Denso Corp | Dispositif de determination de position utilisant un element magnetoresistif |
US8564286B2 (en) | 2010-06-28 | 2013-10-22 | Infineon Technologies Ag | GMR sensors having reduced AMR effects |
US9013181B2 (en) | 2010-06-28 | 2015-04-21 | Infineon Technologies Ag | Magnetoresistive sensors having reduced AMR effects |
EP2770303A1 (de) * | 2013-02-20 | 2014-08-27 | Nxp B.V. | Magnetfeldsensorsystem mit einem um eine Radachse drehenden magnetischen Rad und mit auf einer senkrechten Ebene zur Radachse angeordneten Magnetsensorelementen |
US9347799B2 (en) | 2013-02-20 | 2016-05-24 | Nxp B.V. | Magnetic field sensor system with a magnetic wheel rotatable around a wheel axis and with magnetic sensor elements being arranged within a plane perpendicular to the wheel axis |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6366079B1 (en) | 2002-04-02 |
JP2001153683A (ja) | 2001-06-08 |
DE10056515B4 (de) | 2009-07-02 |
DE10056515B8 (de) | 2009-11-05 |
JP3506078B2 (ja) | 2004-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10056515A1 (de) | Rotationsdetektor, der einen Brückenschaltkreis mit magnetfeldabhängigen Widerstandselementen verwendet | |
DE3821083C2 (de) | ||
DE19539722C2 (de) | Vorrichtung zur Erfassung einer Änderung eines Winkels oder der Feldstärke eines magnetischen Feldes | |
DE19510579C2 (de) | Drehwinkel- oder Drehzahlgeber | |
DE3878281T2 (de) | Sensor mit einem magneto-elektrischen messwandler. | |
DE4343686B4 (de) | Magnetometer | |
DE19729808C2 (de) | Sensoreinrichtung | |
DE102004010126B4 (de) | Magnetfeldsensor und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE112010005280B4 (de) | Magnetische Positionserfassungsvorrichtung | |
DE19732616C2 (de) | Magnetfeld-Messgerät zur Messung der Drehung eines sich drehenden Körpers | |
DE60025146T2 (de) | Herstellungsverfahren für eine magnetische fühleranordnung | |
DE10311086A1 (de) | Positionsbestimmungsvorrichtung unter Nutzung magnetoresistiver Elemente | |
EP1527352A1 (de) | Gmr-sensorelement und dessen verwendung | |
DE102006022336A1 (de) | Magnetfeldsensor, Sensor mit demselben und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE102008041859A1 (de) | Magnetfeldsensoranordnung zur Messung von räumlichen Komponenten eines magnetischen Feldes | |
DE102008040525A1 (de) | Mikromechanisches Sensorelement, Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Sensorelements und Verfahren zum Betrieb eines mikromechanischen Sensorelements | |
EP1046047B1 (de) | Magnetoresistives sensorelement mit wahlweiser magnetisierungsausrichtung der biasschicht | |
EP2992342B1 (de) | Magnetfeldsensorvorrichtung | |
DE19850460B4 (de) | Magnetfelddetektor | |
DE102015106521A1 (de) | Magnetfeldsensorvorrichtung | |
DE10128135A1 (de) | Magnetoresistive Schichtanordnung und Gradiometer mit einer derartigen Schichtanordnung | |
DE19642752B4 (de) | Meßgerät zur Feststellung der Änderung eines Magnetfeldes | |
DE19949714A1 (de) | Magnetisch sensitives Bauteil, insbesondere Sensorelement, mit magnetoresistiven Schichtsystemen in Brückenschaltung | |
DE102004063245B4 (de) | Magnetischer Detektor | |
WO2013174542A1 (de) | Magnetische differenzfeldsensoranordnung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8396 | Reprint of erroneous front page | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |