DE10023341A1 - Plasmabildschirm mit Schutzschicht - Google Patents
Plasmabildschirm mit SchutzschichtInfo
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Abstract
Die Erfindung beschreibt einen Plasmabildschirm mit einer Schutzschicht (5) aus Materialien mit niedriger Elektronenaffinität und hoher Sputterresistenz.
Description
Die Erfindung betrifft einen Plasmabildschirm ausgerüstet mit einer Frontplatte, die eine
Glasplatte, auf der eine dielektrische Schicht und eine Schutzschicht aufgebracht sind,
aufweist, mit einer Trägerplatte ausgestattet mit einer Leuchtstoffschicht, mit einer
Rippenstruktur, die den Raum zwischen Frontplatte und Trägerplatte in Plasmazellen, die
mit einem Gas gefüllt sind, aufteilt, und mit einem oder mehreren Elektroden-Arrays auf
der Frontplatte und der Trägerplatte zur Erzeugung von stillen elektrischen Entladungen in
den Plasmazellen.
Plasmabildschirme ermöglichen Farbbilder mit hoher Auflösung, großer Bildschirmdia
gonalen und sind von kompakter Bauweise. Ein Plasmabildschirm weist eine hermetisch
abgeschlossene Glaszelle, die mit einem Gas gefüllt ist, mit gitterförmig angeordneten
Elektroden auf. Durch Anlegen einer elektrischen Spannung wird eine Gasentladung
hervorgerufen, die hauptsächlich Licht im Vakuum-Ultraviolett-Bereich erzeugt. Durch
Leuchtstoffe wird dieses VUV-Licht in sichtbares Licht umgewandelt und durch die
Frontplatte der Glaszelle zum Betrachter emittiert.
Plasmabildschirme werden in zwei Klassen unterteilt: DC-Plasmabildschirme und AC-
Plasmabildschirme. Bei den DC-Plasmabildschirmen stehen die Elektroden im direkten
Kontakt mit dem Plasma. Bei AC-Plasmabildschirmen sind die Elektroden durch eine
dielektrische Schicht von dem Plasma getrennt.
Prinzipiell unterscheidet man zwei Typen von AC-Plasmabildschirmen: eine Matrixanord
nung und eine koplanare Anordnung der Elektroden-Arrays. Bei der Matrixanordnung
wird die Gasentladung am Kreuzungspunkt zweier Elektroden auf der Front- und der
Trägerplatte gezündet und unterhalten. Bei der koplanaren Anordnung wird die Gasent
ladung zwischen den Elektroden auf der Frontplatte unterhalten und am Kreuzungspunkt
mit einer Elektrode, einer sogenannten Adresselektrode, auf der Trägerplatte gezündet. Die
Adresselektrode befindet sich in diesem Fall unter der Leuchtstoffschicht.
In einem typischen AC-Plasmabildschirm ist die dielektrische Schicht noch mit einer
Schicht aus MgO überschichtet. MgO besitzt einen hohen ioneninduzierten Sekundär
elektronenemissionskoeffizienten und verringert so die Zündspannung des Gases. Außer
dem ist MgO resistent gegen Sputtering durch positiv geladene Ionen des Plasmas. Nach
teilig ist, dass MgO während des Herstellungsprozess leicht mit Fremdstoffen kontaminiert
werden kann, welche kaum wieder entfernbar sind.
In JP 11054048 A der Patent Abstracts of Japan wird ein AC-Plasmabildschirm beschrie
ben, der auf der dielektrischen Schicht anstelle einer MgO-Schutzschicht eine Schutz
schicht aus diamant-ähnlichem Kohlenstoff (amorpher Diamant) aufweist. Die Schutz
schicht weist eine amorphe Struktur auf und wird mittels eines CVD(Chemical Vapour
Deposition)-Verfahrens abgeschieden.
Nachteilig bei Verwendung von diamant-ähnlichem Kohlenstoff in der Schutzschicht ist,
dass bei den rigiden Bedingungen, zum Beispiel hohe Temperaturen, bei der Herstellung
von Plasmabildschirmen diamant-ähnlicher Kohlenstoff seine Struktur verändern und
teilweise auch Wasserstoff abgeben kann. Ein Nachteil der Strukturveränderung ist, dass
sich dadurch eine Schicht mit graphitischem Anteil bildet, welche sich bräunlich verfärbt.
Dies verringert die Luminanz des Plasmabildschirms. Abgegebener Wasserstoff kann die
Gasphase im Inneren des Plasmabildschirms verändern, wodurch beispielsweise die Zünd
spannung unkontrolliert verändert werden kann.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen verbesserten Plasmabildschirm bereitzu
stellen.
Diese Aufgabe wird gelöst, durch einen Plasmabildschirm ausgerüstet mit einer Front
platte, die eine Glasplatte, auf der eine dielektrische Schicht und eine Schutzschicht aufge
bracht sind, aufweist, mit einer Trägerplatte ausgestattet mit einer Leuchtstoffschicht, mit
einer Rippenstruktur, die den Raum zwischen Frontplatte und Trägerplatte in Plasma
zellen, die mit einem Gas gefüllt sind, aufteilt, mit einem oder mehreren Elektroden-Arrays
auf der Frontplatte und der Trägerplatte zur Erzeugung von stillen elektrischen
Entladungen in den Plasmazellen, bei dem die Schutzschicht ein Material ausgewählt aus
der Gruppe kristalliner Diamant, AlN, AlGaN, BN und tetrahedral amorpher Kohlenstoff
enthält.
Diese Materialien weisen eine hohe chemische Resistenz beispielsweise gegen hohe Tempe
raturen bei Herstellung des Plasmabildschirms auf und sie sind im Vergleich zu MgO nicht
hygroskopisch. Sie weisen auch eine höhere physikalische Resistenz im Vergleich zu
diamant-ähnlichem Kohlenstoff auf und sind beispielsweise sputter-resistenter gegenüber
hochenergetischen Plasmabestandteilen. Außerdem enthält eine Schutzschicht aus einem
dieser Materialien keine wesentlichen Wasserstoffanteile und eine Veränderung der Gas
phase in den Entladungszellen durch Abgabe von Wasserstoff wird verhindert.
Es ist weiterhin bevorzugt, dass das Gas Xenon in einem Anteil von über 7 Vol.-% enthält.
Eine Schutzschicht aus kristallinem Diamant, AlN, AlGaN, BN oder tetrahedral amor
phem Kohlenstoff ermöglicht eine Erhöhung des Xenon-Anteils im Gas ohne drastisches
Ansteigen der Zündtemperatur. Durch Erhöhung des Anteils an UV-Licht generierendem
Xenon im Gas wird die UV-Lichtausbeute und damit die Anregung der Leuchtstoffe
effizienter.
Im folgenden soll anhand von einer Figur und zwei Ausführungsbeispielen die Erfindung
näher erläutert werden. Dabei zeigt
Fig. 1 den Aufbau und das Funktionsprinzip einer einzelnen Plasmazelle in einem
AC-Plasmabildschirm.
Gemäß Fig. 1 weist eine Plasmazelle eines AC-Plasmabildschirms mit einer koplanaren
Anordnung der Elektroden eine Frontplatte 1 und eine Trägerplatte 2 auf. Die Frontplatte
1 enthält eine Glasplatte 3, auf der eine dielektrische Schicht 4 und darauf eine Schutz
schicht 5 aufgebracht sind. Die Schutzschicht 5 ist bevorzugt aus MgO und die dielektri
sche Schicht 4 ist beispielsweise aus PbO-haltigem Glas. Auf die Glasplatte 3 sind parallele,
streifenförmige Entladungselektroden 6, 7 aufgebracht, die von der dielektrischen Schicht 4
bedeckt sind. Die Entladungselektroden 6, 7 sind zum Beispiel aus Metall oder ITO. Die
Trägerplatte 2 ist aus Glas und auf der Trägerplatte 2 sind parallele, streifenförmige, senk
recht zu den Entladungselektroden 6, 7 verlaufende Adresselektroden 10 aus beispielsweise
Ag aufgebracht. Diese sind von einer Leuchtstoffschicht 9, die in einer der drei Grund
farben rot, grün oder blau emittiert, bedeckt. Die einzelnen Plasmazellen sind durch eine
Rippenstruktur 12 mit Trennrippen aus vorzugsweise dielektrischem Material getrennt.
In der Plasmazelle, das heißt zwischen den Entladungselektroden 6, 7, von denen jeweils
eine im Wechsel als Kathode bzw. Anode wirkt, befindet sich ein Gas, vorzugsweise ein
Edelgasgemisch aus beispielsweise He, Ne oder Kr, welches als UV-Licht generierende
Komponente Xe enthält. Nach Zündung der Oberflächenentladung, wodurch Ladungen
auf einem zwischen den Entladungselektroden 6, 7 im Plasmabereich 8 liegenden Entla
dungsweg fließen können, bildet sich im Plasmabereich 8 ein Plasma, durch das je nach
der Zusammensetzung des Gases Strahlung 11 im UV-Bereich, insbesondere im VUV-
Bereich, erzeugt wird. Diese Strahlung 11 regt die Leuchtstoffschicht 9 zum Leuchten an,
die sichtbares Licht 13 in einer der drei Grundfarben emittiert, das durch die Frontplatte 1
nach außen tritt und somit einen leuchtenden Bildpunkt auf dem Bildschirm darstellt. In
der Leuchtstoffschicht 9 kann beispielsweise als blau-emittierender Leuchtstoff
BaMgAl10O17 : Eu, als grün-emittierender Leuchtstoff beispielsweise Zn2SiO4 : Mn und als
rot-emittierender Leuchtstoff beispielsweise (Y,Gd)BO3 : Eu verwendet werden.
Die dielektrische Schicht 4 über den transparenten Entladungselektroden 6, 7 dient unter
anderem bei AC-Plasmabildschirmen dazu, eine direkte Entladung zwischen den aus leit
fähigem Material bestehenden Entladungselektroden 6, 7 und damit die Ausbildung eines
Lichtbogens bei Zündung der Entladung zu unterbinden.
Zur Herstellung einer Frontplatte 1 mit einer Schutzschicht 5 werden zunächst auf einer
Glasplatte 3, deren Größe der gewünschten Bildschirmgröße entspricht, mittels Aufdampf
verfahren und anschließender Strukturierung die Entladungselektroden 6, 7 aufgebracht.
Anschließend wird die dielektrische Schicht 4 aufgebracht und getrocknet.
Zur Herstellung einer Schutzschicht 5 wird je nach Material ein unterschiedliches Verfah
ren, welche an sich bekannt sind, angewendet. Eine Schutzschicht 5, die kristallinen Dia
mant enthält, kann durch CVD-Methoden hergestellt. Dazu wird eine Gasmischung, die
in der Regel Kohlenstoff und Wasserstoff sowie gegebenenfalls Sauerstoff, Edelgase oder
Halogene enthält, in reaktive Radikale und Molekülbruchstücke zerlegt, aus denen sich auf
einem heißen Substrat ein Diamantfilm abscheidet. Die Anregung der Gasmischung kann
beispielsweise durch ein Plasma, einen heißen Draht, eine Bogenentladung oder eine
chemische Flamme wie zum Beispiel eine Acetylen-Sauerstoff-Flamme.
Eine Schutzschicht 5, welche AlN enthält, kann mittels reaktiven Sputtern aus einem Al-
Target in einer stickstoffhaltigen Atmosphäre hergestellt werden. Eine Schutzschicht 5,
welche AlN oder AlGaN enthält, kann auch mittels MO(metal organic)-CVD oder über
Plasma CVD hergestellt werden. Hierbei werden entsprechende metall-organische Verbin
dungen entweder thermisch oder mit Hilfe eines Plasmas in Gegenwart einer Stickstoff
quelle angeregt und umgesetzt.
Ebenso kann eine Schutzschicht 5, welche BN enthält, mittels CVD oder reaktiven
Sputterns hergestellt werden. In diesem Fall werden geeignete bor-organische Verbindun
gen eingesetzt. Außerdem können BN-haltige Schichten durch ionenstrahlgestützte
Abscheidtechniken hergestellt werden. Das BN kann ein kubisches oder hexagonales
Kristallgitter besitzen.
Eine Schutzschicht 5, welche tetrahedral amorphen Kohlenstoff (t-a:C) enthält, kann
beispielsweise über eine gefilterte Bogenentladung aus Graphit oder auch mittels CVD-
Techniken hergestellt werden.
Die Schichtdicke der Schutzschicht 5 beträgt vorzugsweise zwischen 2 nm und 10 µm.
Ganz besonders bevorzugt sind Schichtdicken zwischen 5 nm und 1 µm.
Die gesamte Frontplatte 1 wird zwei Stunden bei 100 bis 600°C nachbehandelt und
zusammen mit einer Trägerplatte 2 aus Glas, welche eine Rippenstruktur 12, leitfähige
Adresselektroden 10 und eine Leuchtstoffschicht 9 aufweist, sowie einem Gas zum Bau
eines AC-Plasmabildschirms verwendet. Das Gas enthält vorzugsweise ein Edelgasgemisch
wie Ne/Xe, He/Xe oder Ne/He/Xe, wobei der Anteil von Xenon im Gas bevorzugt
mindestens 7 Vol.-% beträgt. Das Gas kann auch reines Xenon enthalten. Je höher der
Gehalt an UV-Licht generierendem Xenon ist, desto effizienter ist die UV-Lichtausbeute
und damit die Anregung der Leuchtstoffe.
Die Schutzschicht 5, welche ein Material mit niedriger Elektronenaffinität enthält, ernied
rigt die Zünd- und Betriebsspannungen des Plasmas. So kann der Effekt, dass mit steigen
dem Xenon-Gehalt die Zündspannung des Plasmas steigt teilweise kompensiert werden
und es kann eine preiswerte Treiberelektronik im Plasmabildschirm eingesetzt werden. Der
Plasmabildschirm weist dann neben einer resistenteren Schutzschicht 5 auch eine erhöhte
Luminanz auf.
Im folgenden werden Ausführungsformen der Erfindung erläutert, die beispielhafte Reali
sierungsmöglichkeiten darstellen.
Mittels Mikrowellen-Plasma-CVD wurde als Schutzschicht 5 ein Diamantfilm auf die
dielektrische Schicht 4 einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische
Schicht 4 und zwei Entladungselektroden 6, 7 aufweist, aufgebracht. Die dielektrische
Schicht 4 enthielt PbO und die beiden Entladungselektroden 6, 7 waren aus ITO. Die
Schichtdicke der Schutzschicht 5 aus kristallinem Diamant betrug 0.5 µm.
Die gesamte Frontplatte 1 wurde zwei Stunden bei 200 bis 400°C nachbehandelt und
anschließend zusammen mit einer Trägerplatte 2 aus Glas, welche eine Rippenstruktur 12,
Adresselektroden 10 aus Ag und eine Leuchtstoffschicht 9 aufweist, sowie einem Gasge
misch, welches eine Zusammensetzung von 7 Vol.-% Xe und 93 Vol.-% Ne aufwies, zum
Bau eines AC-Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.
Mittels Mikrowellen-Plasma-CVD mit einem reinen Stickstoffplasma und Trimethyl
aluminium wurde als Schutzschicht 5 eine Schicht aus AlN auf die dielektrische Schicht 4
einer Frontplatte 1, welche eine Glasplatte 3, eine dielektrische Schicht 4 und zwei Entla
dungselektroden 6, 7 aufweist, aufgebracht. Die dielektrische Schicht 4 enthielt PbO und
die beiden Entladungselektroden 6, 7 waren aus ITO. Die Schichtdicke der Schutzschicht 5
betrug 0.3 µm.
Die gesamte Frontplatte 1 wurde zwei Stunden bei 200 bis 400°C nachbehandelt und
anschließend zusammen mit einer Trägerplatte 2 aus Glas, welche eine Rippenstruktur 12,
Adresselektroden 10 aus Ag und eine Leuchtstoffschicht 9 aufweist, sowie einem Gasge
misch, welches eine Zusammensetzung von 20 Vol.-% Xe und 80 Vol.-% Ne aufwies, zum
Bau eines Plasmabildschirms verwendet, der erhöhte Luminanz aufwies.
Claims (2)
1. Plasmabildschirm ausgerüstet mit einer Frontplatte (1), die eine Glasplatte (3), auf der
eine dielektrische Schicht (4) und eine Schutzschicht (5) aufgebracht sind, aufweist, mit
einer Trägerplatte (2) ausgestattet mit einer Leuchtstoffschicht (9), mit einer Rippenstruk
tur (12), die den Raum zwischen Frontplatte (1) und Trägerplatte (2) in Plasmazellen, die
mit einem Gas gefüllt sind, aufteilt, mit einem oder mehreren Elektroden-Arrays (6, 7, 10)
auf der Frontplatte (1) und der Trägerplatte (2) zur Erzeugung von stillen elektrischen
Entladungen in den Plasmazellen,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Schutzschicht (5) ein Material ausgewählt aus der Gruppe kristalliner Diamant,
AlN, AlGaN, BN und tetrahedral amorpher Kohlenstoff enthält.
2. Plasmabildschirm nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass das Gas Xenon in einem Anteil von über 7 Vol.-% enthält.
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