DE10018785C1

DE10018785C1 - Rotationssiebdruckform und Verfahren zu deren Herstellung

Info

Publication number: DE10018785C1
Application number: DE2000118785
Authority: DE
Inventors: Thomas Iredale
Original assignee: Kissel & Wolf GmbH
Current assignee: Kissel & Wolf GmbH
Priority date: 2000-04-15
Filing date: 2000-04-15
Publication date: 2001-12-20
Anticipated expiration: 2020-04-16
Also published as: DE10018785C5; EP1145849A3; EP1145849A2

Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf eine Rotationssiebdruckform (7) mit einem zylindrischen Schablonenträger (1) und einer darauf aufgebrachten Schablone (6), wobei der Schablonenträger (1) aus Metall oder einem metallisierten Gewebe mit einer Vielzahl von Sieböffnungen (2) besteht. Sie ist dadurch gekennzeichnet, daß die Schablone (6) aus einem gummielastischen Material besteht. DOLLAR A Die Erfindung bezieht sich ferner auf ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Rotationssiebdruckform.

Description

Die Erfindung betrifft eine Rotationssiebdruckform mit einem zylindischen Schablonenträger und einer darauf auf gebrachten Schablone, wobei der Schablonenträger aus Me tallfolie oder einem metallisierten Gewebe mit einer Vielzahl von feinen Sieböffnungen besteht. Die Erfindung betrifft desweiteren ein Verfahren zur Herstellung der Rotationssiebdruckform, bei dem auf einen zylindrischen Schablonenträger vollflächig eine Beschichtung aus Scha blonenmaterial aufgebracht und die Beschichtung zwecks Ausbildung eines bestimmten Schablonendessins teilweise entfernt wird.

Rotationssiebdruckformen haben einen zylindrischen Scha blonenträger, der in der Regel aus Nickel galvanisch her gestellt ist und wabenförmige Sieböffnungen hoher Fein heit aufweist. Zur Herstellung des Schablonendessins wird auf den Schablonenträger vollflächig eine Beschichtung aufgebracht, welche anschließend an den Stellen, die für die Druckfarbe durchlässig sein sollen, entfernt wird. Dies kann auf verschiedene Weise erfolgen.

Konventionell wird auf den Schablonenträger ein mittels Licht vernetzbares Schablonenmaterial aufgetragen und an den Stellen, wo das Schablonenmaterial entfernt werden soll, mit einer lichtdichten Abdeckschicht versehen. Die Beschichtung wird dann belichtet, so daß Schablonenmate rial in den nicht abgedeckten Bereichen vernetzt und aus härtet. Die nicht vernetzten, abgedeckten Bereiche werden dann ausgewaschen, und zwar je nach Art des Schablonenma terials mittels Wasser oder Chemikalien.

Als Schablonenmaterial kommen besondere Fotolacke zur An wendung, die sich an den nicht belichteten Stellen leicht auswaschen lassen. Für die Herstellung von Flexodruckfor men werden auch 2 bis 5 mm dicke Fotoelastomerbeschich tungen verwendet, die durch Bestrahlung mit ultraviolet tem Licht vernetzen und auch aushärten, so daß sie gegen Druckchemikalien und Lösemittel eine hohe Beständigkeit aufweisen (vgl. EP 0 598 926 A1).

Daneben ist es bekannt, den Schablonenträger mit einem dünnen organischen Lack zu beschichten und dann den Lack für die Herstellung des Schablonendessins mittels eines Laserstrahls durch Verdampfen an den Stellen abzutragen, an denen die Rotationssiebdruckformen durchlässig sein soll (vgl. EP 0 562 150 A1).

Rotationssiebdruckformen werden insbesondere im Tex tilstoff-, Etiketten- und Flockdruck eingesetzt. Soweit der Schablonenträger aus Metall oder einem metallisierten Gewebe besteht, sind Rotationssiebdruckformen nicht zum Bedrucken von Gegenständen geeignet, die nicht regelmäßig sind, beispielsweise unterschiedliche Dicken, scharfe Kanten oder rauhe Oberflächen aufweisen. Hierzu gehören insbesondere Keramikfliesen. Aufgrund der Unregelmäßig keiten brechen die Stege des Schablonenträgers, so daß die Rotationssiebdruckform anschließend nicht mehr zu ge brauchen ist. Für diesen Zweck sind deshalb Rotations siebdruckformen aus Polyestergewebe entwickelt worden, die eine gute Elastizität und Abriebfestigkeit aufweisen, jedoch Druckergebnisse erzielen, die hohen Ansprüchen nicht genügen.

Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, eine Rotationssiebdruckform so zu gestalten, daß sie auch zum Bedrucken von unregelmäßigen Gegenständen wie Keramik fliesen geeignet ist und eine hohe Druckqualität gewähr leistet. Aufgabe der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Rotationssiebdruckform.

Die erste Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Rotati onssiebdruckform mit einer Schablone aus einem gummiela stischen Material gelöst. Dabei kommt als gummielasti sches Material insbesondere Gummi, Polyurethan oder Sili konelastomer in Frage. Die gummielastische Beschichtung wirkt als Polsterung gegen z. B. rauhe Oberflächen, scharfe Kanten und/oder Dickenabweichungen, wie sie bei Keramikflie sen auftreten, und vermeidet hierdurch ein Brechen der Stege des Schablonenträgers. Da der Schablonenträger aus Metall oder metallisiertem Gewebe besteht, also in üblicher Weise galvanisch hergestellt ist, gewährleistet er hohe Druckqualität auch bei großer Druckgeschwindigkeit. Dabei läßt sich die erfindungsgemäße Rotationssiebdruck form sowohl für den Direkt- als auch den Indirektdruck verwenden.

Der Schablonenträger besteht vorzugsweise aus Nickel oder vernickeltem Gewebe, wobei es auf die Wandstärke, Länge, Durchmesser und Umfang ebenso wenig ankommt wie auf die Formgebung und Regelmäßigkeit der Sieböffnungen. Die Dic ke der Beschichtung aus dem gummielastischen Material kann an die jeweiligen Anforderungen angepaßt werden, d. h. die Dicke wird umso größer sein, je unregelmäßiger die zu bedruckenden Gegenstände sind.

Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung der vorbeschriebenen Rotationssiebdruckform, das erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet ist, daß eine Beschichtung aus gummielastischem Material auf den Scha blonenträger aufgebracht wird und die Beschichtung unter Beibehaltung der gummielastischen Eigenschaft teilweise entfernt wird. Wesentlich ist also, daß die gummielasti sche Eigenschaft der Beschichtung auch nach Fertigstel lung der Rotationssiebdruckform noch vorhanden ist, damit sie beim Druckvorgang wie ein Polster wirkt. Das gummie lastische Material kann beispielsweise mittels Spritzen, Rakeln oder Tauchen aufgebracht werden. Es besteht jedoch auch die Möglichkeit, es in Form einer Folie aufzubrin gen, indem mehrere blattartige Folien nebeneinander aufgebracht werden oder eine oder mehrere Folien aufgewic kelt werden.

Die anschließende teilweise Entfernung der Beschichtung geschieht vorzugsweise mittels eines Lasers durch Ver dampfen. Auch ein chemisches Ätzen kommt in Frage, wenn die Beschichtung zuvor abgedeckt wird. Schließlich be steht auch die Möglichkeit, die zu entfernenden Teile der Beschichtung mechanisch auszuschneiden.

In der Zeichnung ist die Erfindung anhand eines Ausfüh rungsbeispiels näher veranschaulicht. Es zeigen:

Fig. 1 einen Schablonenträger für die erfindungs gemäße Rotationssiebdruckform mit vollflä chiger Beschichtung in einer Schrägan sicht;

Fig. 2 einen Teilquerschnitt durch den Schablo nenträger gemäß Fig. 1;

Fig. 3 die erfindungsgemäße Rotationssiebdruck form unter Verwendung des Schablonenträ gers gemäß den Fig. 1 und 2 in einer Schrägansicht und

Fig. 4 einen Teilquerschnitt durch die Rotations siebdruckform gemäß Fig. 3.

In den Fig. 1 und 2 ist ein Schablonenträger 1 aus Nickel dargestellt, der mit einer Vielzahl von Sieböff nungen - beispielhaft mit 2 bezeichnet - versehen ist. Die Sieböffnungen 2 sind von Materialstegen - beispiel haft mit 3 bezeichnet - umgeben. Außenseitig ist auf den Schablonenträger 1 vollflächig eine Beschichtung 4 aufge bracht, die die Sieböffnungen 2 abdeckt. Die Beschichtung 4 besteht aus einem gummielastischen Material, z. B. Si likonelastomer. Sie kann durch Spritzen, Rakeln oder Tau chen aufgebracht worden sein.

Wie die Fig. 3 und 4 zeigen, sind aus der Beschichtung 4 Bereiche 5 entfernt worden, so daß dort der Schablonen träger 1 mit seinen dort vorhandenen Sieböffnungen 2 freigelegt ist. Auf diese Weise ist eine Schablone 6 und damit eine fertige Rotationssiebdruckform 7 entstanden. Für den Druckvorgang wird die Farbe von innen auf den Schablonenträger 1 aufgetragen und radial nach außen durch die freigelegten Sieböffnungen 2 nach außen ge drückt.

Das Entfernen der Bereiche 5 kann mittels eines Laser strahls geschehen, wie dies in der EP 0 562 150 A1 be schrieben ist.

Claims

1. Rotationssiebdruckform (7) mit einem zylindrischen Schablonenträger (1) und einer darauf aufgebrachten Schablone (6), wobei der Schablonenträger (1) aus Metall oder einem metallisierten Gewebe mit einer Vielzahl von Sieböffnungen (2) besteht, dadurch ge kennzeichnet, daß die Schablone (6) aus einem gum mielastischen Material besteht.

2. Rotationssiebdruckform nach Anspruch 1, dadurch ge kennzeichnet, daß das Schablonenmaterial Gummi, Polyurethan oder Silikonelastomer ist.

3. Rotationssiebdruckform nach Anspruch 1 oder 2, da durch gekennzeichnet, daß der Schablonenträger (1) aus Nickel oder vernickeltem Gewebe besteht.

4. Verfahren zur Herstellung der Rotationssiebdruckform nach den Ansprüchen 1 bis 3, bei dem auf einen zylindrischen Schablonenträ ger vollflächig eine Beschichtung aus Scha blonenmaterial aufgebracht und die Beschichtung zwecks Ausbildung eines bestimmten Schablonendessins teilweise entfernt wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine Beschichtung aus gummielastischem Material auf den Schablonenträger aufgebracht wird und die Beschichtung unter Beibehaltung der gummi elastischen Eigenschaft teilweise entfernt wird.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß als gummielastisches Material Gummi, Polyurethan oder Silikonelastomer verwendet wird.

6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekenn zeichnet, daß das gummielastische Material mittels Spritzen, Rakeln oder Tauchen aufgebracht wird.

7. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekenn zeichnet, daß das gummielastische Material in Form einer Folie aufgebracht wird.

8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere blattartige Folien nebeneinander aufge bracht werden.

9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine oder mehrere Folien aufgewickelt werden.

10. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung mittels La ser, chemischem Ätzen und/oder Ausschneiden teilwei se entfernt wird.