DD289766A5 - Verfahren zur herstellung funktioneller organochlor- und organophenoxysilane - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von funktionell substituierten Organochlor- und Organophenoxysilanen, die als Bausteine fuer neue Organosiliciumverbindungen sowie als Ausgangsstoffe fuer Silicone, Polysilane und Carbosilane von Interesse sind. Ziel der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung der Titelverbindungen auf der Basis funktioneller Si-H-Silane zu entwickeln. Das Verfahren zur Herstellung funktioneller Organochlor- und Organophenoxysilane der allgemeinen Formel R1CH2(SiR2 mX3m)3n, in der R1C6H5, C5H4N, Me2N, Me3Si, CH2CH, H; R2Alkyl und XCl, OPh sowie n0, 1, 2 und m0, 1 sein koennen, ist gekennzeichnet dadurch, dasz Trichlorsilan und andere funktionelle Si-H-Silane mit organischen Halogeniden und Methyliminophosphorsaeuretris(dimethylamid) in Akzeptorloesungsmitteln umgesetzt werden.{Verfahren; Organochlorsilane; Organophenoxysilane; Organosiliciumverbindungen; Silicone; Polysilane; Carbosilane; Trichlorsilan; Methyliminophosphorsaeuretris(dimethylamid); Akzeptorloesungsmittel}
Description
Hierzu 1 Seite Gleichungen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von funktionell substituierten Organochlor- und Organophenoxysilanen, die als Bausteine für neue Organosiliciumverbindungen sowie als Ausgangsstoffe für Silicone, Polysilane und Carbosilane von Interesse sind.
Organochlorsilane werden vorrangig durch Direktsynthese aus Silicium und organischen Halogeniden sowie durch Umsetzung von Siliciumtetrachlorid mit Grignardverbindungen hergestellt. Die Phenoxysilane werden aus diesen durch Umsetzung mit Phenolen erhalten.
Für spezieller substituierte Halogensilane stellt Trichlorsilan eine bevorzugte Ausgangsverbindung dar. Die Halogensilane werden vorrangig durch Hydrosilierung unter Übergangsmetallkatalyse erhalten (Zusammenfassende Übersicht: J. L. Speier-Advances in Organometallic Chemistry, Vol. 17 [1979], 407). Eine weitere Variante besteht in der Umsetzung von Organohalogeniden mit dem System Triethylamin/Trichlorsilan (R.Benkeser-Acc. of Chem. Res.4 [1971]; H.Schmidbaur, J. Ebenhöch - Z. Naturforsch.41 b [1986], 1527). Hierbei sind jedoch hohe Reaktionstemperaturen und lange Reaktionszeiten erforderlich.
Ziel der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung von speziellen Organochlor- und Organophenoxysilanen auf der Basis von funktionellon Si-H-Silanen zu entwickeln, das ohne hohe Temperaturen und lange Reaktionszeiten in glatter Reaktion verläuft.
funktionell Organochlor- und Organo <ncnoxysilane in glatter Reaktion bei niedrigen Temperaturen und kurzen Reaktionszeitenzu gewinnen.
starken Base Methyliminophosphorsäuretris(dims'ihylamid) gemäß Gl. (1) umgesetzt.
austauschen. Dieses wird in den GIn. (2,3) demonstriert.
und 85% ab. Die höchsten Ausbeuten werden in Akzeptorlösungsmitteln erreicht. Die anfallenden Phosphoniumsalze lassensich durch Ausfällen mit Ether oder Hexan aus den Reaktionsgemischen leicht abtrennen.
3,8g (0,05mol) Allylchlorid und 6,7g (0,05mol) HSiCI3 werden in 50ml Acetonitril vorgelegt. Bei Raumtemperatur tropft maninnerhalb von 10min 9,6g (0,05mol) (Me2N)3P = NMe in 10ml CH3CN zu. Nach einer Stunde ist die exotherme Reaktionbeendet.
Man destilliert das Lösungsmittel im schwachen Vakuum über eina Kolonne ab. Der ölige Rückstand wird mit 50ml Ether versetzt. Das Phosphoniumsalz scheidet sich als weißer Feststoff ab und wird abgetrennt. Das Filtrat wird fraktioniert.
Kp: 1170C Ausbeute: 79%
NMR-Daten: O29Si: +6,2 δ'Η: +2,28; +5,3-5.6
(ppm)
Benzylmethyldichlorsilan:
6,3g (0,05mol) Benzylchlorid und 5,7g (0,05mol) MeHSiCI2 werden in 50ml Acetonitril vorgelegt. Bei Raumtemperatur tropft man0,05mol (Me2N)3P = NMe in 10ml Acetonitril zu. Die exotherme Reaktion ist nach 4h beendet. Man arbeitet analog Beispiel 1 auf.
Kp:86°C/iOTorr Ausbeute: 66%
NMR-Daten: O29Si: +28,2 δ'Η: +0,47; +3,83; +7,1-7,4
(ppm)
Pico'yltrichlorsilan:
6,4g (0,05mol) Picolylchlorid und 0,05mol HSiCI3 werden in 50ml THF vorgelegt. Man tropft 0,05mol (Me2N)3P = NMe in 10ml THF zu und rührt 4h. Nach Abziehen des Lösungsmittels arbeitet man analog Beispiel 1 auf.
Kp: 100°C/8Torr Ausbeute: 68%
NMR-Daten: O29Si: +1,5 δ'Η: +4,13; +6,8-8,1
(ppm)
Dimethylaminomethyltrichlorsilan:
4,7g (0,05mol) Dimothylaminomethylchlorid (Mo;..4- CH2J+CI" und 0,05mol HSiCI3 werden in 50ml Acetonitril mit 0,05mol (Me2N)3P = NMe umgesetzt. Die Reaktionszeit betiöqt 2 h und die Aufarbeitung erfolgt analog Beispiel
Kp:133°C · Ausbeute: 74%
NMR-Daten: O29Si: -6,3 δ'Η: +2,47; +2,71
(ppm)
BisftrichlorsilyDphenylmethan:
4g (0,025mol) Benzalchlorid und 0,05mol HSiCI3 werden in 50ml Acetonitril mit 0,05mol (Me2N)3P = NMe umgesetzt. Die Reaktionszeit beträgt 4h. Das Lösungsmittel wird im Vakuum entfernt und das Phosphoniumsalz mit Pentan ausgefällt. Nach Abtrennen des Salzes werden alle flüchtigen Bestandteile des Filtrats im Vakuum entfernt. Das nicht destillierbare Silan bleibt als farblose, stark rauchende Flüssigkeit zurück:
Ausbeute: 77%
NMR-Daten: O29Si: -3,7 δ'Η: +2,05; +7,0-7,4
(ppm)
Tris(trichlorsilyl)methan:
3g (0,025mol) Chloroform und 0,075mol HSiCI3 werden in 50ml CH3CN mit 0,075mol (Me2N)3P = NMe umgesetzt. Nach einer Reaktionszeit von 4 h wird analog 3eispiel 5 aufgearbeitet.
Ausbeute: 68%
NMR-Daten: O29Si: -0,8 δ'Η: +2,28
(ppm)
(Trimethylsilylmethyl)methylcichlorsilan:
6,1 g (0,05mol) Chlormethyltrimethylsilan und 0,05mol HSiCI3 werden in Acetonitril mit 0,05mol (Me2N)3P = NME umgesetzt.
Die Aufarbeitung erfolgt nach einer Reaktionszeit von 3 h analog Beispiel
Kp: 16O0C Ausbeute: 71%
NMR-Daten: O29Si: +1,9; +29,2 δ'Η: -0,27; +0,07; +1,02 (ppm)
Boispieie
Benzyltriphenoxysilan:
6,3g (0,05mol) Benzylchlorid und 15,4g (0,05mol) HSi (OPh)3 werden in 100ml Acetonitril mit 0,05mol (Me2N)3P = NMe umgesetzt. Nach einer Reaktionszeit von 4h wird analog Beispiel 5 aufgearbeitet. Das Reaktionsprodukt enthält 5-10% unumgesetztes HSi(OPh)3, das nicht entfernt werden konnte, da bei Destillation stets Zersetzung eintritt.
Ausbeute: 75%
NMR-Daten: O23Si: -58,5 δ'Η: +3,63; +7,0-7,5
(ppm)
Gleichung 1 ^1SiIiX3n ι R2-C1 + (Me2N)3P=NMe
R1= Alkyl; R2= C6H5-CH2-, C1-H4N-CH2-,
Me3Si-CH2-
X= Cl, OPh; η= 0,
Gleichung 2 R3CCl0 . 2 HSiCl, + 2 (Me9N) P=NMe
2 2 J L J
-2 (Me2M)3P-NMeH Cl
J 2C(SiCl3)2
Gleichung 3 R3CCl3 + 3 HSiCl3 +
3 (Me2M)3P=NMe +Hl"
R3C(SiCl3)3
-3 (Me„N),P-NHMe Cl
R3= II, Ph
Claims (2)
- -1- 2C9 766 Patentansprüche:1. Verfahren zur Herstellung von funktioneilen Organochlor- und Organophenoxysilanen der allgemeinen FormelF^-CHnlSiR^Xa-ja-n, in der R1 = C6H6, C5H4N, Me2N, Me3Si, CH2=CH, H, P' = Alkyl und X = Cl, OPh sowie η = 0,1,2 und m = 0,1 sein können, gekennzeichnet dadurch, daß Trichlorsilan und andere funktionell Si-H-Silane mit organischen Halogeniden und Methyliminophosphorsäuretris (dimethylamid) in Akzeptorlösungsmitteln bei Raumtemperatur umgesetzt werden.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet dadurch, daß eis Akzeptorlösungsmittel vorzugsweise Acetonitril verwendet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD33530389A DD289766A5 (de) | 1989-12-06 | 1989-12-06 | Verfahren zur herstellung funktioneller organochlor- und organophenoxysilane |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD33530389A DD289766A5 (de) | 1989-12-06 | 1989-12-06 | Verfahren zur herstellung funktioneller organochlor- und organophenoxysilane |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DD289766A5 true DD289766A5 (de) | 1991-05-08 |
Family
ID=5614428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DD33530389A DD289766A5 (de) | 1989-12-06 | 1989-12-06 | Verfahren zur herstellung funktioneller organochlor- und organophenoxysilane |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DD (1) | DD289766A5 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014009156A1 (de) * | 2012-07-11 | 2014-01-16 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur herstellung von allylsilanen aus hydrosilanen und allylchloriden gekennzeichnet durch verwendung einer recylierbaren wasserunlöslichen hilfsbase |
WO2016162021A1 (de) | 2015-04-10 | 2016-10-13 | Johann Wolfgang Goethe-Universität | Silylverbindungen umfassend ein anion und ein kation, deren verfahren zum herstellen und deren verwendung |
-
1989
- 1989-12-06 DD DD33530389A patent/DD289766A5/de not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2014009156A1 (de) * | 2012-07-11 | 2014-01-16 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur herstellung von allylsilanen aus hydrosilanen und allylchloriden gekennzeichnet durch verwendung einer recylierbaren wasserunlöslichen hilfsbase |
WO2016162021A1 (de) | 2015-04-10 | 2016-10-13 | Johann Wolfgang Goethe-Universität | Silylverbindungen umfassend ein anion und ein kation, deren verfahren zum herstellen und deren verwendung |
DE102015105501A1 (de) | 2015-04-10 | 2016-10-13 | Johann Wolfgang Goethe-Universität | Silylverbindungen umfassend ein Anion und ein Kation, deren Verfahren zum Herstellen und deren Verwendung |
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