CZ466599A3

CZ466599A3 - Způsob výroby tenkovrstvého systému s transparentní stříbrnou vrstvou, sklo opatřené takovým tenkovrstvým systémem, dvousklo ho obsahující a způsob povlékání skla

Info

Publication number: CZ466599A3
Application number: CZ19994665A
Authority: CZ
Inventors: Axel Nöthe; Michael Rissman; Thomas Paul
Original assignee: Flachglas Aktiengesellschaft
Priority date: 1997-06-25
Filing date: 1998-06-24
Publication date: 2000-07-12
Also published as: PL187951B1; US6572940B1; ATE276380T1; PL337610A1; WO1999000528A1; CA2294991C; EP1007756A1; CA2294991A1; EP1007756B1; DE69826291T2; BR9810299A; DE69826291D1; CZ299337B6; AU8800998A; DE19726966C1

Description

Způsob výroby tenkovrstvého systému s transparentní stříbrnou vrstvou, sklo opatřené takovým tenkovrstvým systémem, dvousklo ho obsahující a způsob povlékání skla

Oblast techniky

Vynález se týká způsobu výroby tenkovrstvého systému s transparentní stříbrnou vrstvou magnetrjonovým katodovým rozprašováním, dále skla s takovým transparentním tenkovrstvým systémem, obsahujícím stříbrnou vrstvu nanesenou magnetrono!

vým katodovým rozprašováním, a dvouiskla (izolačního’ skla), obsahujícího takové sklo. ΐ

Dosavadní stav techniky

Skleněné tabule s tenkovrstvými systémy jsou používány ve vzrůstající míře pro žasklívání budov a vozidel za účelem ovlivňování jejich přenosových a odrazivých vlastností. Zde mají přídavně k pyrolyticky nanášejným vrstvovým systémům, založeným na polovodivým oxidům kč>vů, v prvé řadě význam vrstvové systémy s nejmene jednou transparentní vrstvou i

stříbra. Tyto vrstvové systémy iríají v typickém případě strukturu, v níž jsou po sobě uloženy sklo, spodní antireΪ flexní vrstva, vrstva stříbra a vněpší antireflexní vrstva. Používají se v široké míře v průmyslovém měřítku na nanášením pomocí magnetronového katodového rozprašování (US 4 166

018 ).

Ve vrstvových systémech tohoto typu stříbrná vrstva slouží v prvé řadě jako vrstva odrážející infračervené záření, zatímco antireflexní vrstvy jsóu použity se specificky vhodnou volbou materiálu a tloušťky jpro ovlivňování přenosových a odrazových vlastností ve viditelném pásmu spektra,

VOJ·'

-2Uf¹ »í«ip»Ll· I ·· ·· ·· ···· ·· ·· ···· · · · · · · · ···· ·· · ···· • ·· ··· · ··· · · · podle případu použití. Obecně je sledována snaha dodat sklu s povlakem vysokou hodnotu činitele propustnosti světla, jakož i maximální neutralitu, pokud jde o propustnost a vnější vzhled.

Vývoj vrstvového systému spočívá v použití více než jedné stříbrné vrstvy, přičemž.mezi stříbrnými vrstvami jsou uloženy přídavné transparentní vrstvy. Stříbrné vrstvy a oddělovací vrstvy potom tvoří typ Fabryho a Pérotova interferenčního filtru. Tyto systémy s několika vrstvami stříbra dovolují odborníkovi dále zlepšovat jemné ladění optických vlastností skel, opatřených povlakem tohoto typu. Vrstvové systémy se dvěma nebo více stříbrnými vrstvami jsou používány v prvé řadě jako povlaky pro ovládání průniku slunečního světla s vysokou selektivitou. Selektivita je poměr propustnosti světla k celkové propustnosti energie.

i

Tenkovrstvé systémy s pouze jednou vrstvou stříbra jsou používány v praxi v prvé řadě jako velkoplošné tepelně izolační povlaky, které mohou být : vytvářeny při relativně nízkých nákladech, přičemž význam je v prvé řadě přiřazován vysoké propustnosti světla a vysoké ^odrazivosti v dlouhovlnném infračerveném pásmu, odpovídající vysoké emisivitě. Ze skleněných tabulí s takovými tenkoVrstvými systémy je možné vytvářet kombinací s normálně nepoýlečenou druhou skleněnou tabulí tepelně izolační sklo, které může být v prvé řadě použito ve stavebnictví, které mají hodnotu součinitele k menší než 1,3 W/m²K.

Jako materiály pro antireflexní vrstvy jsou v případě běžných tržních výrobků v prvé řadě používány oxidy kovů,

jako SnO₂, ZnO a Bi₂0₃, které mohou být efektivně nanášeny magnetronovým katodovým rozprašováním. Pro tento účel byla již navržena řada jiných materiálů.! Při volbě materiálů pro jednotlivé složkové vrstvy tenkovrs'tvého systému musí specialista vžít v úvahu značné množství podmínek. Pro vlastnosti tenkovrstvého systému tak hrajjí významnou roli nejen indexy lomu jednotlivých složkových j vrstev a jejich tlouštka, krystalická struktura, velikost krystalů, drsnost, póroí vitost, povrchová energie atd., podlé procesu, jímž jsou nanášeny, a podle toho, jaká složková vrstva byla nanesena í

před tím. Jak je známo, jsou vlastnosti tenkých vrstev, které často sestávají z pouze několika atomových vrstev, určovány velmi výrazně podmínkami epitaxie, a v jejich hraničních oblastech.

V minulosti odborný svět věnoval obzvláštní pozornost zdokonalování vlastností stříbrných j vrstev. Stříbrné vrstvy jsou citlivé na celé řady fyzikálních vlivů při výrobě tenkovrstvých systémů, a po té při dalším zpracovávání a dopravě povlečených skleněných tabulí, !a nakonec během jejich použití pro zamýšlený účel. Je již známou praxí chránit stříbrnou vrstvu během nanášení vnější antireflexní vrstvy i

tenkovrstvého systému s nízkou emisívitou reaktivním katodovým rozprašováním proti korozní pévlékací atmosféře, a to

I použitím tenké kovové vrstvy nebo tenké vrstvy z oxidu kovu (EP 0 104 870, EP 0 120 408). Je také známou praxí chránit stříbrné vrstvy proti vlivu kyslíků během tepelného zpracování, například během ohýbání nebo tvrzení skleněných tabulí, nanášením speciálních pomocných vrstev větší tlouštky, než mají výše uvedené ochranné vrstivy, na stříbrnou vrstvu, které brání difúzi kyslíku do stříbrné vrstvy (EP 0 233

I ««ΙΙΟΙϋΙΙΙ

• ·l · · · · ····

-4003). Jak nejprve uvedené ochranné j vrstvy, tak i posledně jmenované pomocné vrstvy, jsou s výhodou navrženy tak, že i

jsou oxidované v hotovém výrobku v maximální míře, takže co možná nejméně snižují propustnost syětla, a stávají se jako transparentní dielektrické vrstvy ^dílčími částmi vnějších antireflexních vrstev na stříbrných ýrstvách.

Je také známé, že odolnost sýříbrné vrstvy proti korozi může být zlepšena vhodnou volibou materiálů pro dolní antiref lexní vrstvu. Spis DE 39 41 0j27 Al, od něhož je vynález odvozen jako od obecného stavu techniky, navrhuje v této souvislosti, aby byla dolní antirefilexní vrstva uspořádána jako sendvičový povlak, přičemž -dílčíi(složková) vrstva, přilehlá ke stříbrné vrstvě, bude opatřena vrstvou oxidu zinečnatého s maximální tloušťkou 15j nm. Dolní antireflexní vrstva má být podle tohoto spisu dpatřena nejméně jednou další dílčí (složkovou) vrstvou, prd niž se uvádějí oxid cínu, oxid titanu a oxid vizmutu. Přednostním řešením, popisovaným výlučně v provedeních dle uvedeného spisu, je vrstvová struktura, kde spodní antireflexní ýrstva obsahuje tři dílčí vrstvy, přičemž podle uvedeného spis'u je první 2-14 nm tlustá vrstva z oxidu titanu, druhá 15-25 nm tlustá vrstva je z oxidu cínu, a třetí vrstva z oxidu zinečnatého maximální tloušťky 15 nm. Na přilehlou vrstvú stříbra se podle tohoto spisu nanáší vnější antireflexní vrsítva, sestávající z kovové vrstvy speciálně zvolených kovů,' dovolující ohýbání nebo tvrzení, při současném oxidování během tepelného zpracovávání, jakož i z jedné nebo více přídaivných vrstev z oxidu kovu. !

Podobné uspořádání je znázorněno ve spisu EP

I mmi mni

-5»· ···· « «i

O 773 197, v němž se uvádí, že proj dosažení vysoké úrovně propustnosti světla a snížené emisivjity je třeba vrstvu oxidu zinečnatého, přilehlou k vrstvě jstříbra, nanést v minimální tloušťce 16 nm. Jako materiál^ pro nejméně jednu další vrstvu spodní antireflexní vrstvy jisou uváděny oxidy kovů, jako oxid vizmutu, oxid cínu nebd nitrid ktřemičitý, Oba uvedené spisy hovoří po nanášení jed.né požadované vrstvy'pomocí magnetronového katodového rozprašování, přičemž se rozprašují kovové terče zavedením stejnosměrného napětí a způsob je označován jako stejnosměrné katodové rozprašování.

Autoři vynálezu důkladně vyšetřovali výše uvedené i jiné dosud známé tenkovrstvé systémy a zjistili, že mohou být dále zdokonaleny z hlediska dosažitelných vlastností.

i

Zejména se zabývali tím problémem, ze se transparentní stříbrné vrstvy podle stavu techniky vyznačují měrnou vodivostí, která je značně pod hodnotou, která by byla dosažitelná v případě bezkazové stříbrné vrstvý odpovídající rovnoměrné , . J . , · tlouštky. Toto sníženi měrné vodivosti je zvlast patrné i

v případě relativně tenkých stříbrných vrstev.

Bylo tak pozorováno, že se j v případě tenkovrstvých systémů, vyrobených a konstruovaných podle stavu techniky, objevovala se měřitelná elektrická vodivost pouze u tlouštěk stříbrné vrstvy 4 nm nebo vyšších, přičemž vodivost vzrůstala se vzrůstem tloušťky, přičemž yšak stále zůstávala pod

I teoreticky dosažitelnou hodnotou ,í U stříbrných vrstev v tloušťkovém rozmezí 10 - 15 nm, obzvláště zajímavých v případech použití pro tepelnou izolaci a ochranu proti slunečnímu záření, bylo se známými a běžně konstruovanými strukturami vrstev možné dosáhnout jv nejlepším případě hod u-IMJMi»- .... J WIBii

-6» · · • · · • ·· • · · · ► · · ·· ···· not vodivosti přibližně 2.10⁵ S/cm.

Aby se dosáhlo konkrétního elektrického povrchového odporu nebo konkrétní emisivity, odborník musel použít výrazně tlustší vrstvy stříbra, než jak bylo teoreticky potřebné. To vedlo k problémům s regulací barvy ve vnějším vzhledu a k nežádoucímu snížení propustnosti světla tenkovrstvého systému. Ve stavu techniky jsou samozřejmě známé způsoby následného zlepšování vodivosti vrstev stříbra, například tepelným zpracováním nebo ozářením (DE 42 39 355, DE 43 23 654, DE 44 12 318 a EP 0 585 166). Tyto způsoby však značně zvyšují výrobní náklady na takové výrobky a neměly by se proto pokud možno používat.

Podstata vynálezu

Vynález se založen na řešení technického problému zlepšování známých tenkovrstvých systémů s nejméně jednou stříbrnou vrstvou, a jejich výrobě tak, aby taková stříbrná vrstva měla obzvláště vysokou vodivost a/nebo nízkou emisivitu. Autoři zjistili, že se toho dá dosáhnout rozprašováním stříbrné vrstvy přes vrstvu oxidu titanu, nanesenou rozprašováním při střední frekvenci (medium frequency sputtéring).

Vynález přináší způsob výroby tenkovrstvého systému s transparentní stříbrnou vrstvou prostřednictvím magnetronového katodového rozprašování, při kterém se mezi substrátem a vrstvou stříbra ukládá spodní antireflexní vrstva, obsahující dílčí vrstvu oxidu titanu, uloženou přímo na substrát, jakož i dílčí vrstvu oxidu zinečnatého, přilehlou k vrstvě stříbra, přičemž podstata způsobu spočívá v tom, že 15-50 nm tlustá vrstva oxidu titanu se nanáší rozprašováním

w. i

ΒϋΒ·ϋ β^,.^. ι.ιμΜ^ριΙΙ,μι,ι * ·· ·· ·· ···· ·· « • ••999 9 9 4 4

9 44 · · · · 9 « • · · « 9 ;. · » « * · · ·

-7- · ·· « * 9 4 9 9 při střední frekvenci na substrát ze dvou titanových katod v atmosféře obsahující kyslík, přičemž vrstva oxidu zinečna: i tého o tloušťce 2-18 nm se nanáší přímo na vrstvu oxidu titanu .

; i

Vynález dále navrhuje sklo s transparentním tenkovrstvým systémem, naneseným magnetronoyým katodovým rozprašováním, přičemž systém sestává ze spodní antireflexní vrstvy, obsahujícího dílčí vrstvu oxidu titanu, nanesenou přímo na i

substrát, jakož z i dílčí vrstvu oxidu zinečnatého, přilehlou k vrstvě stříbra, z transparentní vrstvy stříbra, a popřípadě z alespoň jedné dvojice vrstev sestávající z distanční vrstvy a další transparentní vrstvy stříbra, a dále z vnější antireflexní vrstvy, přičemž podstata řešení spočívá v tom, že vrstva oxidu titanu je vrstva oxidu titanu o tloušťce 15-50 nm, nanesená na substrát rozprašováním při střední frekvenci ze dvou titanových katod v atmosféře obsahující kyslík, přičemž vrstva oxidu titanu přímo přiléhá k vrstvě oxidu zinečnatého s tloušťkou 2 až 18 nm, a vrstva stříbra, přilehlá ke spodní antireflexní vrstvě, má tloušťku 7 až 20 nm.

Vynález dále přináší způsob (opatřování skla povlakem obsahujícím alespoň jednu vrstvu stříbra a vnitřní a vnější antireflexní vrstvy magnetronovým rozprašováním, přičemž vnitřní antireflexní vrstva obsahuje vrstvu oxidu titanu, nanesenou rozprašováním pri střední ifrekvenci.

í >

Při použití vynálezu je možné dosáhnout měrné vodivosti alespoň 2,1 x 10⁵ S/cm a obecně mohou být nanášeny vrstvy stříbra, které mají vysokou elektrickou vodivost ř

• to •to ····

9 9 9

9 9

9 9 9

-8• · · · · to • · · · · a tedy nízkou emisivitu. Vynález dále umožňuje, jak je popisováno níže, nanášet pokud možno bar-evně neutrální tenkovrstvé systémy pro dvouskla, přičemž v případě tepelně izolačních skel se může dosáhnout vysoka propustnost světla při požadované emisivitě, nebo v případě skel pro protisluneční ¹ i .

ochranu s obzvláště vysokou selektivitou,; s výhodou 2 a více. Při vhodném použití vynálezu se; dá takových vlastností ί !

dosáhnout bez použití následných tepelných zpracování nebo jiných nákladných a časově ,náročných procesů následného zpracovávání tenkovrstvého systému.

Překvapivě je možné vytvořit ! stříbrné vrstvy s mimoX „ i· ' řádně vysokou měrnou vodivosti tím, ze se použije v uspořai dání řady vrstev sklo/oxid ;titanu, okid zinku speciální spodní dvousložková antireflexní vrstva!, a první z těchto i :

složkových vrstev se vytvoří použitím rozprašovacího procesu při střední frekvenci (medium-frequency šputtering). Odborník, který je obeznámen s výše uvedeným stavem techniky, by ve skutečnosti neměl očekávat, že tato řada vrstev povede k takovým mimořádným výsledkům, pokud jde brné vrstvy.

o vlastnosti stříJak ukázaly pokusy autorů, !je možné dosáhnout nejpříznivějších hodnot pro konkrétní -vodivost stříbrné vrstvy se spodní antireflexní vrstvou ve fOrmě souvrství, obsahujícího dílčí vrstvu oxidu titanu a dílčí vrstvu oxidu zinečnatého. Méně příznivých hodnot se dosáhne! při použití jedné podkladní antireflexní vrstvy, například oxidu titanu, oxidu cínu, oxidu zinečnatého nebo oxidu vizmutu, nebo při jiných dvouvrstvých strukturách. Rozprašování při střední frekvenci, použité podle vynálezu pro výrobu první dílčí (složkové)

I

·· ···· ··

-9vrstvy z oxidu titanu vede k dalšímu výraznému zlepšení v kvalitě vrstvy stříbra vůči běžně nanášeným vrstvám na bázi oxidu titanu.

To je tím překvapivější v tom, že v případě přednostní vrstvové struktury podle vynálezu je takto nanesena mezi vrstvou oxidu titanu a vrstvou stříbra také vrstva oxidu zinku o tloušťce až 18 nm, takže takový jasný účinek výrobního postupu na kvalitu vrstvy stříbra se u první vrstvy oxidu titanu, nanesené na sklo, nedá očekávat. Je překvapující nejen to, že povaha rozprašovacího postupu, použitého pro nanášení oxidu titanu, má takový účinek na následně uloženou vrstvu stříbra, ale že tento účinek má i při použití spolu se uplatňující vrstvy oxidu kovu. Použití vrstvy oxidu zinečnatého, nanesení přes vrstvu oxidu titanu, skutečně vede k mnohem lepším vlastnostem stříbrné vrstvy, než při použití se samotnou vrstvou oxidu titanu, nanesenou rozprašováním při střední frekvenci.

Rozprašování při střední frekvenci je popsáno například ve spisu DD 252 205 a V J.Vac.Sci.Technol. A 10(4), Jul/Aug 1992. Může pracovat při použití dvojice magnetronových katod s terči uspořádanými ve frontě, které zpravidla sestávají oba ze stejného materiálu, který se rozprašuje, přičemž polarita katod se periodicky mění při frekvenci v kilohertzovém pásmu. V rámci vynálezu je výhodné pracovat při frekvenci přibližně 5 - 100 kHz, zejména 10 - 40 kHz. Rozprašování při střední frekvenci dovoluje reaktivní použití vrstvy oxidu titanu ze dvou titanových terčů při vysoké rychlosti povlékání, přičemž použití tohoto procesu zjevně vede ke speciální mikroskopické struktuře a/nebo k povrchové 'Af-10· ·· ·· > ftft <

ft · · 4 » · · 4 charakteristické vlastnosti vrstvy oxidu titanu, která také nakonec ovlivňuje vlastnosti vrstvy stříbra, o níž je usilováno .

Vrstva oxidu zinečnatého, nanesená přes vrstvu oxidu titanu, se také výhodně vytváří rozprašováním při střední frekvenci, i když však do rámce tohoto znaku vynálezu také spadá vytváření vrstvy oxidu zinečnatého pomocí běžného stejnosměrného katodového rozprašování.

Obzvláště příznivých vlastností stříbrné vrstvy se dá dosáhnout tím, že se místo čisté vrstvy oxidu titanu použije vrstva dusíkatého oxidu titanu (někdy také nazývaná titan-oxid-nitridová vrstva) s obsahem dusíku N/N(N+0) ve vrstvě 5 až 50 atomových procent, která se nanáší v povlékací atmosféře obsahující argon, dusík a kyslík. Je žádoucí postupovat tak, že vrstva dusíkatého oxidu titanu se nanáší v atmosféře, obsahující argon a dusík v kvantitativním podílu 3:1 až 1.5, jakož i kyslík. Přidání dusíku do povlakové atmosféry během nanášení oxidu titanu dovoluje nejen práci při zvýšené rychlosti povlékání, ale také zlepšuje kvalitu následně nanášené vrstvy stříbra. Obsah ; dusíku v povlékací atmosféře je s výhodou omezen směrem nahoru tak, že vytvořená vrstva dusíkatého oxidu titanu ještě nevykazuje žádnou významnou absorpci ve viditelném pásmu spektra, jaká může být pozorována v případě vrstev z čistého nitridu titanu. Obsah kyslíku v povlékací atmosféře se nastavuje tak, že je k dispozici přiměřené množství kyslíku pro oxidování titanu a rychlost povlékání je co možná největší.

Tam, kde se ve spojení s vynálezem hovoří pro zjedno - —...._: w.w ,!;¹ ί-. -. ?·- · '-·,’ ·· ·· ·· ···· ·· ·· • · · · · · · ···· • · ·· · · · ···· • · · · ·· · ··· · · ·

-.11*···· · . · ·· · · ·· · J- -*- ·· ·· ·· ·· *· ·· dušení terminologie o oxidových vrstvách; budou v tom běžně zahrnuty vrstvy dusíkatého oxidu titanu, pokud se výslovně nehovoří o vrstvách čistého oxidu titanu.’

Způsob nanášení vrstvy oxidu titany by měl být prováděn tak, aby rychlost vytváření povlaku byla nejméně 50 nm/min. Pod pojmem rychlost povlékání še rozumí epitaxní rychlost na skleněném substrátu. Rychlost' povlékání má zjevný účinek na mikroskopické vlastnosti vrstvy oxidu titanu, přičemž vyšší rychlosti povlékání oxidu titanu vedou ke ' í zlepšeným vlastnostem vrstvy stříbra.

Zvlášt výhodná skla, získaná podle vynálezu, se vyznačují tím, že první vrstva podkladního antireflexního souvrství je s výhodou vrstva dusíkatého oxidu titanu s tloušťkou 15 - 50 nm, nanášená na skleněnou tabuli rozprašováním při střední frekvenci, přičemž k vrstvě oxidu titanu přiléhá vrstva oxidu zinečnatého o tloušťce 2 až 18 nm, přičemž vrstva stříbra má tloušťku 7 - 20 nm. Tloušťka vrstvy oxidu titanu je s výhodou od 18 do 40 nm, tloušťka vrstvy oxidu zinečnatého je s výhodou od 4 do 12 nm a tloušťka vrstvy stříbra je s výhodou od 8 do 15 nm.

I

Pro zajištění kompletního tenkovrstvého systému bylo shledáno jako výhodné, sestává-li vnější antireflexní vrstva z 2-5 nm tlusté ochranné vrstvy na Vrstvě stříbra, vytvořené z oxidu jednoho z kovů zahrnujících: In, Sn, Cr, Ni, Zn, Ta, Nb, Zr a Hf, zejména z In( 90 )Sn(10 )-oxidji, jakož i z vnější vrstvy materiálu, zvoleného z oxidů Sn, Zn, Ti, Nb, Zr a/nebo Hf a nitridu křemičitého, zejména oxidu ciničitého, s optickou tloušťkou 60-120 nm, s výhodou 80-100 nm. Může

444 4

-124 44 • 4 4

4 4

44

4 4 4

44 být výhodné, zejména pro systémy pro ochranu proti slunečnímu záření, je-li mezi vrstvou stříbra, přilehlou ke spodní antireflexní vrstvě, a vnější antiřeflexní vrstvou, alespoň jedna dvojice vrstev, sestávající z distanční vrstvy a další vrstvy stříbra. S takovými vrstvovými systémy je možné do1 sáhnout optimalizací tlouštěk jednotlivých vrstev kombinací .! I hodnot propustnosti světla, emisivity a něutrálnosti vnějšího vzhledu, jaké až dosud nebyly možné. j

Použití vynálezu však samozřejmě není omezeno na použití anorganických skleněných tabulí, zejména skla float. Pod pojmem skleněné tabule (sklo) se v rámci vynálezu rozumí všechny transparentní tabule z anorganického nebo organického skelného materiálu. Do rámce vynálezu spadá přidáváni malých množství jiných materiálů do jednotlivých vrstev tenkovrstvého systému, aby se zlepšily jéjich chemické nebo fyzikální vlastnosti, pokud jimi není způsoben významný pokles měrné vodivosti stříbrné vrstvy. Zejménat spadá do rámce vynálezu, použijí-li se jako oxidové složkové vrstvy místo čistých oxidů kovu vrstvy z dusíkatého oxidu kovu.

Vynález se také týká dvouskel se skleněnou tabulí s povlakem podle vynálezu, zejména tepelně izolačních dvoui skel, s tloušbkou obou skleněných tabulí 4 mm a mezerou mezi tabulemi o tlouštce 16 mm vyplněnou argonem, která mají v případě uspořádání tenkovrstvého systémů na povrchu vnitřního skla, obráceného do mezery, propustnost světla nejméně 76%, hodnotu součinitele k maximálně 1:,1 W/m K, emisivitu maximálně 0,04 a barevné souřadnicé vnějšího vzhledu a* od -2 do +1 a b* od -6 do -2.

ϋϋϋ

-13► · · 4 » · · 4 • · · ·

• ·· · ·· ·· * · · · • · · · • · · · • · · t ·· ··

Přehled obrázků na výkresech

Vynález je blíže vysvětlen v následujícím popisu na příkla’ I dech provedení s odvoláním na připojené výkresy, ve kterých znázorňuje obr.l graf závislosti měrné vodivosti vrstvového systému oxidu titanu, oxidu zinečnatého a;stříbra na tloušťce vrstvy stříbra, obr.2 graf závislosti elektrického odporu vrstvového systému podle obr.l s konstantní tloušťkou vrstvy stříbra na tloušťce vrstvy oxidu zinečnatého, obr.3 graf průběhu činitele odrazu a propustnosti v oblasti vlnových délek 400 až 2500 nm pro sklo s tepelně izolačním vrstvovým systéme podle vynálezu, obr.4 gráf podle obr.3 pro sklo s vrstvovým systém podle vynálezu pro ochranu proti sluneč: í nímu záření.

Příklady provedení vynálezu

Obr.l znázorňuje průběh měrné vodivosti vrstvy stříbra pro různé tloušťky vrstev pro uspořádání skleněné vrstvy, v případě dvou různě vytvořených spodních antireflexních vrstvách. Plná křivka znázorňuje charakteristiku měrné vodivosti při spodní antireflexní vrstvě, sestávajícím z vrstvy oxidu titanu, vyrobené podle vynálezu, která byla nanesena na skleněnou tabuli pomocí rozprašování při střední frekvenci, a vrstvy oxidu zinečnatého, přilehlé k vrštvě stříbra a vrstvě oxidu titanu. I pro tloušťku přibližně 3,5 nm je zřejmě patrná měřitelná vodivost. U tlustších ! vrstev stříbra se hodnota měrné vodivosti blíží k mezní hodnotě 3,5 x 10⁵S/cm.

Čárkovaná čára z obr.l znázorňuje průběh měrné vodivosti pro srovnávací příklad, kde byly vrstva oxidu titanu vytvořena běžným postupem stejnosměrného; katodového rozpra‘I '' WWW¹* rn/?·· ·« ·» ···· • · * · · · · • · ·· · · · „ „ · · · ··· · · — 14— · ·· · · ·· · · · · · 9 4 9 · • · • · • 9 9 9 šování. V tomto případě začíná měřitelná; vodivost teprve od tloušťky vrstvy větší než 4,0 nm. U tlustších vrstev stříbra se dosáhne mezní hodnoty pouze 2,5 χ 10⁵ S/cm, t.j. jednu třetinu pod hodnotou, dosaženou podle vynálezu.

Příčina této překvapivě vysoké měrné vodivosti vrstvy stříbra, vytvořené podle vynálezu, pravděpodobně spočívá ve zvlášť příznivých epitaxních podmínkách pro stříbro, které byly vytvořeny podkladním antireflexním souvrstvím podle vynálezu. Pokusy přihlašovatele ukazují, že nej lepších výsledků je možné dosáhnout vhodnou volbou materiálů dvou dílčích vrstev spodní antireflexní vrstvy, jakož i speciálním výrobním procesem, použitým pro vrstvu oxidu titanu. V případě rozprašování při střední frekvenci, používajícího dvě katody, je rychlost vytváření povlaku oxidu titanu značně vyšší, než při běžném stejnosměrném katodovém rozprašování. Pravděpodobně je v důsledku zvýšené rychlosti vytváření povlaku a změněných podmínek povlékání, spojených s použitím tohoto speciálního rozprašovacího procesu, ovlivňována požadovaným způsobem struktura vrstvy oxidu titanu a tím i nepřímo vrstva stříbra.

Skutečnost, že v případě, kdy se mají vyrábět stříbrné vrstvy nejvyšší kvality, je důležitý nejen způsob výroby vrstvy oxidu titanu, je znázorněna na obr.2. Tento obrázek znázorňuje průběh elektrického odporu (v libovolných jednotkách) vrstvy stříbra tloušťky 12,5 nm, nanesenou na spodní antireflexní vrstvu, sestávající z vrstvy oxidu titanu tloušťky 25 nm a vrstvy oxidu zinečnatého. Graf z tohoto obrázku je založen na řadě pokusů, kde tloušťka vrstvy stříbra a tloušťka vrstvy oxidu titanu byly obě udržovány konstantWliRIlilliilIliil ^sggw*jRg-’· '

-15·♦ ·· ♦ · · · · • ·· · · · • 4 9 9 9 · « · · · · · ·· ·· ·· ·· ·· • « 4 • · 4 ♦ · · · • 9 9 9 9

99 ní, zatímco tloušťka vrstvy oxidu zinečnatého se obměňuje.

Plná čára reprodukuje hodnoty elektrického odporu pro spodní antireflexní vrstvu s vrstvou oxidu titanu, která byla vytvořena rozprašovacím procesem při (Střední frekvenci.

* Λ X !

Carkovana cara znázorňuje hodnoty pro vrstvu oxidu titanu, která byla vytvořena běžným způsobem stejnosměrného katodového rozprašování. Je především patrné,¹ že hodnoty vrstvy oxidu titanu, vytvořené způsobem podle vynálezu, jsou zřetelně, t.j. až o 10%, pod hodnotami vrstvy oxidu titanu nanesené běžným způsobem. Dále je zřejmé,, že pro elektrický odpor se dosahuje zřetelné minimum při tlóuštce vrstvy oxidu zinečnatého přibližně 8 nm v případě vrstvy podle vynálezu, přičemž odpor je mezi přibližně ·2 nm a 18 nm pod hodnotami, dosažitelnými běžnou technologií.

Výrobní proces podle vynálezu a' povlečená skla, jím získatelná, budou nyní podrobně popsány pomocí příkladů.

PŘÍKLAD 1

Na tabuli sodno-vápenato-křemičitého sklá float o tlouštce 4 mm a rozměrech 40 x 40 cm se nejprve nanesla 25 nm tlustá vrstva oxidu titanu ve vakuové komoře při střední frekvenci a s podvojným uspořádáním katod. Pro tentó účel se do komory zavedla směs Ar/N₂/0₂ v objemovém poměru, takže se dosáhlo tlaku 2,2 x 10¹ Pa. Výstupní výkon podvojné katody byl 8,4 kW a střídavá frekvence napětí byly 25 kHz. Na vrstvu oxidu titanu se po té pomocí stejnosměrné katody nanesla 8 nm tlustá vrstva oxidu zinečnatého. Pro tento účel se zavedla do komory směs Ar/0₂, takže se dosáhlo tlaku 2,4 x 10^-1 Pa. Výstupní výkon katody byl 4,1 kW. Nakonec se nanesla vrstva

J

-1600 00 • · · ·

0 ·0 • e 0 0

0 0 0

00 •9 0000

0 0

0 0 0 0 0 • 0 0 0

00 '•0 «0

0 0 0

0 0 0 0

0 0 0

0« stříbra o tlouštce 12,5 nm. Pro tento účel se do komory zavedl argon, takže se dosáhlo tlaku 1,4 x\ 10^_1 Pa. Výstupní výkon katody byl 1,4 kW.

Skleněná tabule, takto opatřená' povlakem, měla na povlečené straně povrchový odpor 2,9 Ohmů a odraz infračerveného záření 97% při vlnové délce 8 μιη. Měrná vodivost vrstvy stříbra byla 2,75 χ 10⁵ S/cm. |

SROVNÁVACÍ PŘÍKLAD 2 ;

Na sklo podle obr.l se nejprve nanesla vrstva oxidu titanu o tlouštce 25 nm, a to z dvojí katódy pří střední frekvenci ve vakuové komoře. Pro tento účel se do komory zavedla plynová směs Ar/0₂, takže se dosáhl tlak 2,1 χ 10^-3- Pa. Výstupní výkon katody byl 8,8 kW a střídavá frekvence napětí býla 25 kHz. Na vrstvu oxidu titanu se na rozdíl od příkladu 1 nanesla přímo vrstva stříbra. Pro tentoί účel se zavedl do komory zavedl argon, takže se:dosáhlo tlaku 1,4 χ 10^-1 Pa. Výstupní výkon katody byl 1,4 kW. Tlouštka vrstvy stříbra byla jako v prvním příkladě 12,5 nm.

Takto povlečené sklo mělo na povlečené straně povrchový odpor 3,9 Ohmů a vykazovalo odraz infračerveného záření 96,2% při vlnové délce 8 μιη. Měrná; vodivost stříbrné vrstvy byla 2,0 χ 10⁵ S/cm, a byla tak téměř 30% pod měrnou vodivostí vrstvy, vytvořené podle vynálezů podle příkladu 1.

' i

SROVNÁVACÍ PŘÍKLAD 3

Na sklo podle příkladu 1 se nejprve přímo; nanesla ve vakuové komoře vrstva oxidu zinečnatého o tlouštce 20 nm. Pro tento účel se zaváděla do komory směs Ar/0₂J takže se udržoval • · • ·

tlak 2,4 x 10^_1 Pa. Výstupní výkon katody byl 4,1 kW. Na vrstvu oxidu zinečnatého se přímo nanesla 13,0 nm tlustá vrstva stříbra. Pro tento účel se do komory zaváděl argon, takže se dosáhlo tlaku 1,4 x 10^-1 Pa. Výstupní výkon katody byl 1,4 kW.

Takto povlečené sklo mělo na povlečené straně povrchový odpor 3,6 Ohmů a vykazovalo odraz infračerveného záření 96,6% při vlnové délce 8 μιη. Měrná vodivost stříbrné vrstvy byla 2,1 x 10⁵ S/cm, a byla tak téměř o jednu, čtvrtinu pod měrnou vodivostí vrstvy, Vytvořené podle vynálezu podle příkladu 1.

SROVNÁVACÍ PŘÍKLAD 4

Na sklo podle obr.l se nejprve nanesla vrstva oxidu titanu o tlouštce 25 nm, a to pomocí běžného katodového nanášení stejnosměrným proudem. Pro tento účel se do komory zavedla plynová směs Ar/N₂/0₂ v poměrech složek 3:10:2, takže se dosáhl tlak 5,0 x 10¹ Pa. Výstupní výkon katody byl 10,0 kw. Na vrstvu oxidu titanu se po té nanesla vrstva oxidu zinečnatého o tlouštce 8 nm. Pro tento účel se do komory zavedla plynná směs Ar/0₂, takže se dosáhlo tlaku 6,8 x 10^-1 Pa. Výstupní výkon katody byl 8,3 kW. Nakonec se nanesla vrstva stříbra o tlouštce 12,6 nm. Pro tento účel se do komory při_ Ί váděl argon, takže se dosáhlo tlaku 1,4 x 10 Pa. Výstupní výkon katody byl 1,8 kW.

Takto povlečené sklo mělo na povlečené straně povrchový odpor 3,8 Ohmů a vykazovalo odraz infračerveného záření 96% při vlnové délce 8 μιη. Měrná vodivost stříbrné vrstvy byla 2,1 x 10⁵ S/cm, a byla tak téměř o jednu čtvrtinu

BR*’,

-18w?S»v₃yj

pod měrnou vodivostí vrstvy, vytvořené podle vynálezu podle příkladu 1.

Příklady l až 4 ukazují, že použitím antireflexní vrstvy, konstruované a vyrobené podle vynálezu, bylo možné dosáhnout povrchového odporu vrstvy stříbra nižšího než 3 Ohmy, při tloušťce vrstvy přibližně 12,5 až 13 nm. Měrná vodivost vrstvy stříbra byla ve všech třech srovnávacích příkladech zřetelně pod hodnotou vrstvy, získané podle vynálezu. To znamená, že při vrstvě stříbra konkrétní tlouštky a tím i směrem vzhůru omezené propustnosti světla, je vzhledem ke známým vztahům mezi elektrickou vodivostí vrstvy stříbra a její emisivitou, nebo odrazivostí infračerveného záření, podle vynálezu možné dosáhnout obzvláště vysoké odrazivosti infračerveného záření a tím i zvlášť nízké emisivity.

Výhodné účinky vynálezu pro praktická použití jsou obzvláště zřejmé ve spojení s popisem následujících dvou příkladů výroby skleněných tabulí s úplnými tenkovrstvými systémy. Ty mají, kromě základní struktury podle příkladu 1, nejméně jednu vnější antireflexní vrstvu, jakož i popřípadě nejméně jednu další vrstvu stříbra, oddělovanou od první vrstvy stříbra prostřednictvím distanční vrstvy. Údaje pro emisivitu a pro hodnotu součinitele k jsou založeny na výpočtových metodách podle normy ISO Standard 10292. Pro určení propustnosti světla a celkové propustnosti energie je možné se odvolat na normu ISO 9050, zatímco souřadnice a > a b* jsou určeny podle normy DIN 6174.

PŘÍKLAD 5 • ·

Pro získání tepelně izolačního povlaku s Vysokou odrazivosti v dlouhovlnném infračerveném pásmu, vhodného pro získání vysoce účinného tepelně izolačního dvousklaí, s vysokou propustností světla, se použil magnetronový rozprašovací systém, kterým se nejprve nanesla na tabuli skla o tlouštce 4 mm a rozměrech 40 x 40 cm vrstva oxidu titahu o tlouštce 22,9 nm, a to pomocí dvojí katody při nanášení; střední frekvencí. Pro tento účel se do komory přivedla plynná směs Ar/N₂/0₂v podílech 6:20:3, takže se získal tlak 2,6 x 10“¹ Pa. Katodový výstupní výkon byl 8,4 kW a střídavá frekvence napětí byla 25 kHz. Rychlost nanášení povlaku vrstvy oxidu titanu byla 50 nm/min. Následně se pomocí stejnosměrné katody nanesla vrstva oxidu zinečnatého o tlouštce 5 nm. Pro tento účel se do komory zavedla plynná směs Ar/0₂, takže se dosáhl tlak 2,4 x 10^_1 Pa. Výstupní výkon katody byl 4,1 kW. Po té se nanesla stříbrná vrstva o tlouštce 11,8 nm. Pro tento : I účel se do komory přiváděl argon, takže še získal tlak 1,4 x 10^-1. '

Výstupní výkon katody byl 1,4 kW. Na stříbrnou vrstvu se nejprve nanesla 3 nm tlustá vrstva In(90)Sn(10) jako ochranná vrstva pro následné reakční nanášení vnější antireflexní vrstvy. Pro tento účel se zaváděla do komory plynná směs Ar/0₂, takže se dosáhlo tlaku 2,4 x 10^-1 Pa. Výstupní výkon katody byl 0,7 kW. Jako hlavní dílčí vrstva vnější antireflexní vrstvy se nakonec nanesla vrstva oxidu cínu o tlouštce 44,8 nm. Pro tento účel se do komory zaváděla plynná směs Ar/0₂, takže se získal tlak 4,4 x 10^-1 Pa. Výstupní výkon katody byl 4,7 kW. ¹

I

Sklo s takto vytvořeným povlakem bylo jednoduché sklo

-20s propustností světla 84,8%. Emisivita na povlečené straně byla 0,04. Povlečená tabule byla sestavena s další tabulí ze skla float o tloušťce 4 mm bez povlaku do tepelně izolačního dvouskla, v němž byla její povlečená strana uložena jako obrácená do mezery mezi skly, která měla tloušťku 16 mm a byla vyplněna argonem. V případě uložení skla š povlakem na vnitřní straně směrem do mezery (tenkovrstvý systém v poloze

3), vykazovalo dvousklo světelnou propustnost 76,3% a součio nitel k 1,1 W/m K. Křivka udávající vztahy ve spektru v odrazu na vnější straně byla definována barevnými souřadnicemi a*=0,l a b*=-4,4. Vnější vzhled tepelně izolačního dvouskla byl barevně téměř neutrální.

Na obr.3 je znázorněna plnou čarou spektrální charakteristika propustnosti povlečeného jednoduchého skla ve spektrálním rozmezí s blízkou infračervenou oblastí. Charakteristika odrazu povlaku na povlečené straně skla je znázorněna čárkovaně.

PŘÍKLAD 6 ’

Pro získání ochranného povlaku, vhodného pro výrobu protislunečního dvouskla s vysokou selektivitoú (poměrem světelné propustnosti k celkové energetické propustnosti), byl nejprve použit magnetronový katodový rozprašovací systém, a to pro nanesení vrstvy oxidu titanu o tloušťce 31,8 nm na tabuli skla float o tloušťce 6 mm a velikosti 40 x 40 cm, a to pomocí dvojí katody při střední frekvenci. Pro* tento účel se zaváděla do komory směs Ar/N₂/0₂ s poměrem složek 12:8:3, takže se získal tlak 2,2 x 10^_1 Pa. Výstupní výkon katody byl 8,4 kW a frekvence napětí byla 25 kHz. Po té se nanesla 5 nm tlustá vrstva oxidu zinečnatého. Pro tento účel se do

VMI «BS?

-21komory zaváděla směs Ar/0₂, takže se dosáhlo tlaku 2,4 x 10^-1 Pa. Výstupní výkon katody byl 4,1 kW. Po té následovala vrstva stříbra o tloušťce 11 nm. Pro tento účel se do komory zaváděl argon, takže se dosáhlo tlaku 1,4 x 10¹ Pa.

Výstupní výkon katody byl 1,4 kW.

·« ····

Na první vrstvu stříbra se nanesla 3 nm tlustá vrstva In(90)Sn(10) jako ochranná vrstva. Pro tento účel se do komory zavedla směs Ar/0₂, takže se dosáhlo tlaku 2,4 x 10^-1Pa. Výstupní výkon katody byl 0,7 kW. Po té se nanesla 84,9 nm tlustá vrstva oxidu cínu, sloužící jako distanční vrstva pro následující vrstvu stříbra. Pro tento účel se do komory zavedla směs Ar/02, takže se dosáhlo tlaku 4,4 x 10^-1. Výstupní výkon katody byl 4,7 kW. Na distanční vrstvě Sn02 byla nanesena druhá vrstva stříbra o tloušťce 14 nm. Pro tento účel se do komory přivedl argon, takže sě dosáhlo tlaku 1,4 x 10~³. Výstupní výkon katody byl 1,4 kW.

Na tuto druhou vrstvu stříbra se nanesla, jako na první vrstvu stříbra, a se stejnými parametry procesu, 3 nm tlustá vrstva In(90)Sn(10) oxidu. Nakonec se nanesla jako hlavní dílčí vrstva vnější antireflexní vrstvy 37,8 nm tlustá oxidová vrstva. Pro tento účel se do kómory zavedla plynná směs Ar/0₂, takže se získal tlak 4,4 x 10^-1 Pa. Výstupní výkon katody byl 4,7 kW.

Sklo s takto vytvořeným povlakem bylo jednoduché sklo s propustností světla 79,6%. Povlečená tabule byla sestavena s další tabulí ze skla float o tloušťce 6 mm bez povlaku do protislunečního izolačního dvouskla, s mezerou mezi skly 16 mm, vyplněnou argonem. V případě uložení skla s tenkovrstvým

WWW»

-22systémem na vnitřní straně vnější tabule směrem do mezery (v poloze 2), vykazovalo dvousklo světelnou propustnost 71,0% a dosáhla se celková energetická propustnost (hodnota g) 35,2%. U tohoto dvouskla se tak dosáhla se tak neobvykle vysoká selektivita 2,02. Vnější vzhled s barevnými souřadnícemi a = -0,3 a b =-1,15 byl mimořádně barevně neutrální.

Na obr.4 je znázorněna plnou čarou spektrální charakteristika propustnosti povlečeného jednoduchého skla ve spektrálním rozmezí s blízkou infračervenou oblastí. Charakteristika odrazu povlaku na povlečené straně skla je znázorněna čárkovaně.

Použití vynálezu není omezeno na uspořádání podle příkladů 5a 6, které slouží pouze jako příklady toho, jakých vlastností lze dosáhnout u konečných výrobků při použití principů vynálezu.

Claims

PATENTOVÉ

NÁROKY

1. Způsob vytváření povlaku na;skle magnetronovým rozprašováním, přičemž povlak obsahuje alespoň jednu vrstvu stříbra, vnitřní antireflexní vrstvu a vnější antireflexní vrstvu, vyznačený tím, že vnitřní antireflexní vrstva obsahuje vrstvu oxidu titanu, nanášenou rozprašováním při střední frekvenci. i
2. Způsob podle nároku 1, vyznačený tím, že vnitřní antireflexní vrstva přídavně obsahuje vrstvu oxidu zinečnatého mezi vrstvou oxidu titanu a vrstvou stříbra.
3. Způsob podle nároku 2, vyznačený tím, že vnitřní antireflexní vrstva je tvořena souvrstvím dílčích vrstev, obsahujícím vrstvu oxidu titanu, nanesenou rozprašováním při střední frekvenci, a vrstvu oxidu zinečnatého.
4. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 3, vyznačený tím, že 15-50 nm tlustá vrstva oxidu titanu se nanáší na substrát rozprašováním při střední frekvenci ze dvou titanových katod v atmosféře obsahující kyslík; a 2-18 nm tlustá vrstva oxidu zinečnatého se nanáší přímo na vrstvu oxidu titanu . !
5. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 4, vyznačený tím, že se vrstva oxidu titanu nanáší při použití frekvence rozprašování 5 až 100 kHz, s výhodou 10 až 40 kHz.
6. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 5, vyznačený tím, že vrstva oxidu titanu se nanáší'jako dusíkatý oxid

titanu s obsahem dusíku N/(N+O) ve vrstvě 5 až 50 atomových procent v povlékací atmosféře obsahující argon, dusík a kyslík.
7. Způsob podle nároku 6, vyznačený tím, že dusíkatá vrstva oxidu titanu se nanáší v povlékací’atmosféře, obsahující argon a dusík, v kvantitativním poměru 3:1 až 1:5, jakož i přídavně kyslík.
8. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 7, vyznačený tím, že vrstva oxidu titanu se nanáší rychlostí povlékání minimálně 30 nm/min, s výhodou větší než 50 nm/min.
9. Způsob podle kteréhokoli z nároků 1 až 8, vyznačený tím, že se vrstva oxidu zinečnatého nanáší rozprašováním i

při střední frekvenci, a to ze dvou zinkových terčů v atmosI féře obsahující kyslík.

í
10. Sklo s transparentním tenkovrstvým systémem, naneseným magnetronovým katodovým rozprašováním při střední frekvenci, přičemž systém sestává ze spodní antireflexní vrstvy, obsahující dílčí vrstvu oxidu titanu, nanesenou přímo na substrát, jakož i dílčí vrstvu oxidu zinečnatého, přilehlou k vrstvě stříbra, z transparentní vrstvy stříbra, a popřípadě z alespoň jedné dvojice vrstev sestávající z distanční vrstvy a další transparentní vrstvy stříbra, i

a dále z vnější antireflexní vrstvy, vyznačené tím, že vrstva oxidu titanu je vrstva o tlouštce 15-50 nm, nanesená na substrát rozprašováním při střední frekvehci ze dvou titanových katod v atmosféře obsahující kyslík, přičemž vrstva oxidu titanu přímo přiléhá k vrstvě oxidu zinku o tlouštce l

ÍWRmMHlW¹

Ι·» ·· 99

9 · · ·

9 · ·· •

·· ···· • · · • · · • · · • 9 9 9 «· ··

2 až 18 nm, a vrstva stříbra, přilehlá ke spodní antireflexní vrstvě, má tloušťku 7 až 20 nm a měrnou vodivost nejméně 2,1 χ 10⁵ S/cm.
11. Sklo podle nároku 10, vyznačené tím, že vrstva oxidu titanu obsahuje dusík, přičemž obsah dusíku N/(N+0) ve vrstvě je 5 až 50 atomových procent.
12. Sklo podle nároku 10 nebo 11, vrstva oxidu titanu má tloušťku 18 - 40 nm.

vyznačené tím, že
13. Sklo podle kteréhokoli z nároků 10 až 12, vyznačené tím, že vrstva oxidu zinečnatého má tloušťku 4-12 nm.
14. Sklo podle kteréhokoli z nároků 10 až 13, vyznačené tím, že vrstva stříbra, přilehlá k antireflexní vrstvě, má tloušťku 8 až 15 nm.
15. Sklo podle kteréhokoli z nároků 10 až 14, vyznačené tím, že vnější antireflexní vrstva sestává z 2-5 nm tlusté ochranné vrstvy na vrstvě stříbra > vytvořené z oxidu jednoho z kovů zahrnujících In, Sn, Cr, Ni, Zn, Ta, Nb, Zr a Hf, zejména z In(90)Sn(10)-oxidu, jakož i z vnější vrstvy materiálu, zvoleného z oxidů Sn, Zn, Ti, Nb, Zr a/nebo Hf a nitridu křemičitého, zejména oxidu ciníčitého, s optickou tloušťkou 60-120 nm, s výhodou 80-100 nm.
16. Sklo podle kteréhokoli z nároků 10 až 15, vyznačené tím, že mezi stříbrnou vrstvou, přilehlou ke spodní antireflexní vrstvě, a vnější antireflexní vrstvou, je uložena nejméně jedna dvojice vrstev, sestávajících z distanční vrs

-26«« ·» ·» ··· • · · 9 9 9 + 9 99 9 9 9 • 9 9 9 9 9 9

9 9 9 9 9 9 9

99 99 99 99

99 99

9 9 9 9

9 9 9 · • · 9 9 ·♦ ·· tvy a další stříbrné vrstvy.
17. Dvousklo, obsahující sklo s povlakem podle kteréhokoli z nároků 10 až 16.
18. Dvousklo podle nároku 17, vyznačené tím, že sestává ze dvou skleněných tabulí a mezery o tlouštce 16 mm s argonovou výplní, přičemž na povrchu vnitřní tabule, obráceném do mezery, je tenkovrstvý systém s propustností světla nejméně 76%, s hodnotou součinitele k maximálně 1,1 W/m²K, s emisivitou maximálně 0,04 a s barevnými souřadnicemi vnějšího vzhledu a* od -2 do +1 a b* od -6 do -2.
19. Dvousklo podle nároku 18, vyznačené tím, že skleněné tabule mají každá tloušťku 4 mm.