CZ20021199A3 - Způsob výroby struktury z hydrofilních a hydrofobních oblastí na povrchu k tisku a tiskařská forma, ústrojí a stroj - Google Patents
Způsob výroby struktury z hydrofilních a hydrofobních oblastí na povrchu k tisku a tiskařská forma, ústrojí a stroj Download PDFInfo
- Publication number
- CZ20021199A3 CZ20021199A3 CZ20021199A CZ20021199A CZ20021199A3 CZ 20021199 A3 CZ20021199 A3 CZ 20021199A3 CZ 20021199 A CZ20021199 A CZ 20021199A CZ 20021199 A CZ20021199 A CZ 20021199A CZ 20021199 A3 CZ20021199 A3 CZ 20021199A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- printing
- printing form
- hydrophilic
- oxidizing agent
- treatment
- Prior art date
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 84
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 title claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 54
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 11
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical group OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 6
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 claims description 4
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 claims description 4
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- 238000003854 Surface Print Methods 0.000 claims 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 claims 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 18
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- RFSUNEUAIZKAJO-VRPWFDPXSA-N D-Fructose Natural products OC[C@H]1OC(O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-VRPWFDPXSA-N 0.000 description 1
- RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N Fructose Chemical compound OC[C@H]1O[C@](O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N argon hydrofluoride Chemical compound F.[Ar] ISQINHMJILFLAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000012822 chemical development Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1041—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Rotary Presses (AREA)
- Liquid Developers In Electrophotography (AREA)
Description
Vynález se týká způsobu výroby struktury z hydrofilních a hydrofobních oblastí na povrchu k tisku, který vykazuje v prvním, v podstatě neuspořádaném stavu polymerní materiál s imidovými skupinami. Dále se vynález týká tiskařské formy, zejména pro použití jako tiskařská forma v ofsetovém tisku, s povrchem na tisknutí, tiskařského ústrojí a tiskařského stroje k provádění tohoto způsobu.
Dosavadní stav techniky
Litografický tisk spočívá, zjednodušeně vyjádřeno, na využití nemísitelnosti oleje a vody na povrchu, tzv. tiskařské formě, přičemž lipofilní (hydrofobní) roztok nebo inkoust nebo barva je zadržována oblastmi tvořícími obraz a voda nebo hydrofilní roztok oblastmi netvořícími obraz tiskařského povrchu. Když je vhodným způsobem připravený tiskařský povrch pokryt hydrofilní a lipofilní látkou nebo roztokem, zejména vodou a inkoustem nebo barvou, tak si podrží oblasti netvořící obraz přednostně hydrofilní látku nebo roztok a odpuzují lipofilní látky, zatímco oblasti tvořící obraz přijímají lipofilní roztok nebo inkoust a hydrofilní látky odpuzují. Následně se pak lipofilní látka vhodným způsobem přenese na povrch materiálu, na kterém se má fixovat obraz, například na papír, látku, polymery apod.
Řadu let se používá hliník jako materiál na tiskařské formy. Obvykle se hliník nejprve podrobí zrnění a následné anodizaci. Anodizace slouží k tomu, aby se připravila anodická vrstva oxidu, jejíž ulpívání se zlepší zrněním. Zrněním se zesílí hydrofilní vlastnosti podkladu tiskařské desky. Při anodizaci se obvykle použije silná kyselina, jako je kyselina sírová nebo kyselina fosforečná, aby se následně dalším způsobem, jako
+ *·<*«
4 4 • 4 444 • 4 4
4 *
444 • 4 JI · 444· · 4
4 4 4 · • 4 4
4444 například tepelným křemíkováním nebo tzv. elektrokřemíkováním povrch učinil hydrofilní.
K výrobě výše popsané tiskařské formy je znám velký počet materiálů citlivých na záření, které jsou vhodné k vytváření obrazů s použitím litografické tiskařské techniky, do té míry, v jaké po osvětlení a popřípadě potřebném vyvíjení a fixování dávají k dispozici obrazovou oblast, která se dá použít k tisku. Například se k tomu dají použít fotopolymerovatelné látky
Výše popsané uspořádání se podrobí osvětlení vytvářejícímu obraz, tím, že se místně selektivně přivádí energie. Dá se to provést například pomocí osvětlení skrz masku ultrafialovým zářením nebo přímým zápisem laserem.
Litografické tiskařské formy výše popsaného druhu jsou obvykle ošetřeny vývojkou, kterou je zpravidla vodný alkalický nebo zásaditý roztok s organickými přísadami.
Již nějakou dobu se vyvíjejí snahy, vyrábět tiskařské formy, u kterých je možno se zříci vytváření obrazu přes mokrý chemický vyvíjecí proces. K tomu se mohou použít oxidové keramiky, které jsou k dispozici například ve formě vrstev na tiskařské desce.
V EP 0 911 154 Al se jako materiály na povrch desek navrhuje oxid titaničitý (TÍO2) a oxid zirkoničitý (ZnO2) , které se mohou vyskytovat v keramické formě jak čisté, tak i s jinými kovovými příměsemi v rozličných směsných poměrech. Tento povrch je v nenabuzeném stavu hydrofobní a může být převeden ozářením ultrafialovým světlem do hydrofilního stavu. Nyní nastane opatření obrazem tím, že se celý povrch desky osvítí ultrafialovým světlem a oblasti, které mají při tisku vést barvu, se zakryjí maskou, popřípadě fólií.
Při nejmenšímu vrstev z oxidu titaničitého se ukazuje jako zvlášt nevýhodné, že vrstvy z oxidu titaničitého se sice dají • · • ·
- 3 přepínat pomocí ultrafialového světla, ale vykazují malou stabilitu co se týče časového průběhu přepínání. Kromě toho se u vrstev z oxidu titaničitého stále ukazuje, že se dostačující přepnutí nebo postačující zdvih, tj. dostatečné přepnutí z hydrofilního do hydrofobního stavu dá docílit jen v nedostatečné síle. Dále představuje úplné vyčištění substrátu po provedeném tisku v praxi problém, který se nedá podceňovat.
Z US 4 568 632 je známo strukturování polymerních povrchů nebo polymérních fólií, které vykazují v odpovídajícím monomeru z něj vzniklého polymeru nejméně jednu imidovou skupinu, buď v hlavním řetězci nebo ve vedlejším řetězci. Zveřejňuje se způsob leptání nebo snášení polyimidu bez chemických kroků úpravy. Polyimid se vystaví ultrafialovému světlu s vlnovou délkou, která je kratší než 220 nm, například z argon-fluorid excimerového laseru, takže dochází k fotokatalytickému rozkladu, přičemž se vhodným prostředkem odstraňují těkavé produkty. K podpoře, zejména k urychlení procesu se reakce koná v atmosféře, která má kyslík. Strukturování se dá dosáhnout například použitím velkoplošně osvětlené masky nebo ohmatáním povrchu osvětlujícím paprskem k prostorově selektivní reakci. Toto strukturování může být dosaženo bez podstatného ovlivnění polyimidu, který zůstává na povrchu. Nedá se tedy dosáhnout strukturování povrchu na hydrofobní a hydrofilní oblasti, které umožňuje zejména použití strukturovaného povrchu na tiskařský proces litografickým způsobem nebo ofsetovým způsobem.
Podstata vynálezu
S ohledem na tento stav techniky spočívá úkol předmětného vynálezu v tom, navrhnout stabilní a jednoduše zapojitelné povrchy pro tiskařské povrchy.
- 4 Tento úkol se podle vynálezu způsobem výroby struktury z hydrofilních a hydrofobních oblastí na povrchu s vlastnostmi podle nároku 1, jakož i pomocí tiskařské formy s vlastnostmi podle nároku 11.
Podle vynálezu se vyrábí hydrofobní a hydrofilní oblasti na polyimidovém povrchu, potřebné pro litografický tiskařský způsob tak, že se tyto povrchy popřípadě po chemické inicializaci opatří obrazem, popřípadě strukturalizují tím, že se opatření obrazem provede elektromagnetickým zářením a ukončí se další chemickou reakcí. Po provedení tisku se může provést vymazání obrazem opatřené struktury další chemickou reakcí.
Způsobem podle vynálezu je k dispozici tiskařská forma, která se dá použít k tisku konvenčním mokrým ofsetovým způsobem. Kromě toho se tiskařská forma podle vynálezu hodí také na tisk s bezpřísadovým zvlhčovadlem, jako je čistá voda, tj. například bez běžně používaného isopropanolu.
Zvláště výhodné je, že strukturovaný polyimidový povrch se dá vymazat dalším chemickým způsobem. Jinými slovy řečeno, způsob podle vynálezu dává k dispozici vratně popisovatelný a opět mazatelný povrch.
V souvislosti se způsobem podle vynálezu a tiskařskou formou podle vynálezu se pod polyimidem rozumí polymerní materiál, jehož příslušný monomer vykazuje níže uvedenou funkční skupinu imidu.
• to · · • toto · toto·· · ··· to · · • · · · ······· · to • totototo toto · ······ to · · · · · • to • to
- 5 Přitom se může tato skupina vyskytovat v hlavním řetězci nebo v bočním řetězci poyimidu. V první, upřednostňované formě provedení vynálezu, se používá jako polyimid látka, která se dále zkráceně nazývá polybenzolimid (PBDI), níže uvedeného strukturního vzorce.
Tato látka je prodávána firmou Dupont pod názvem Kapton.
V druhé formě provedení se jako polyimid používá látka, která se dále zkráceně nazývá polyamidimid (PAI), níže uvedeného strukturního vzorce.
Z hlediska vynálezu je fyzikální chování polyimidů v podstatě stejné. Detailně uvedené formy provedení představují jen příklady. Způsob podle vynálezu se dá použít i s jinými látkami, které vykazují imidové skupiny. Použitý polymer je v původním stavu silně hydrofobní a tím také vede barvu.
Způsob podle vynálezu z výrobě struktury z hydrofilních a hydrofobních oblastí na povrchu, který v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu, vykazuje polymerní materiál s imidovými • fc
ΟΧ- //93 • 9 ··
9 9 ·
- 6 skupinami, je charakteristický tím, že se po místně selektivním osvitu místním ozářením elektromagnetickou energií provádí časově následné chemické ošetření povrchu oxidačním prostředkem. Elektromagnetická energie je s výhodou vytvářena zdrojem ultrafialového záření v rozmezí 200 a 440 nm, s výhodou 220 až 460 nm. .Jako oxidační prostředek se může s výhodou použít peroxid vodíku (H2O2) , kyslík (O2), ozon (O3) nebo manganistan draselný (KMnO4) nebo kombinace těchto oxidačních prostředků. Vedle oxidačního prostředku může být použita vedle oxidačního prostředku i v časově následném chemickém ošetření navíc kapalina s iontovými tenzidy. K místně selektivnímu osvětlení se může navíc časově před tím provést velkoplošné chemické ošetření povrchu silnou zásadou. U silné zásady se jedná s výhodou o vodný roztok hydroxidu draselného (KOH) anebo hydroxidu sodného (NaOH).
Pomocí přídavného, časově následného kroku způsobu je možné povrch převést do prvního, v podstatě nestrukturovaného stavu. K tomu se provede velkoplošné chemické ošetření povrchu silnou kyselinou. U silné kyseliny se jedná s výhodou o vodný roztok kyseliny sírové (H2SO4) anebo kyseliny solné (HCl) anebo kyseliny dusičné (HNO3) anebo jim podobných. Velkoplošné chemické ošetření povrchu se může například provést vhodným odpovídajícím čistícím činidlem na desky. Vrácením povrchu do prvního, v podstatě nestrukturovaného stavu je možné opakovat kroky způsobu. Jinými kroky je možné opětovné popsání plochy strukturami se střídající se topografií.
Tiskařská forma podle vynálezu, která se zvlášť hodí pro použití jako tiskařská forma pro ofsetový tisk, zahrnuje povrch k tištění, který má polymerní materiál s imidovými skupinami, s výhodou PBDI nebo PAI. Taková plocha je strukturovatelná způsobem podle vynálezu, zejména jednotlivými výše popsanými
4·· 4 • 4 · ·4 ·· ··· 4 · · 4444 • •444 · 4 · · ·· · • · · · 4 ······· 4 4
9 4 444 444 • 4 494 44 4 44 4444
- 7 možnostmi. Z toho vyplývá, že pomocí vynálezu se vytvoří tiskařská forma která je opakovatelně popisovatelná.
Tiskařská forma podle vynálezu se dá zvláště výhodně použít v tiskařském ústrojí nebo tiskařském stroji. Pro takové tiskařské ústrojí je charakteristické to, že je opatřeno tiskem pomocí tiskařské formy podle vynálezu. Tiskařský stroj, zejména ofsetový tiskařský stroj, s nejméně jedním samonakládačem, tiskařským ústrojím a vykladačem vykazuje pak nejméně jedno tiskařské ústrojí, které je opatřeno k tisknutí s tiskařskou formou podle vynálezu.
Přehled obrázků na výkrese
Další výhody a výhodná provedení a další zdokonalení vynálezu budou popsána za pomocí následujících výkresů a dále uvedeného popisu. Přitom jednotlivé obrázky znázorňují následující:
obr. 1 schéma průběhu způsobu podle vynálezu s chemickým iniciačním stupněm, který zahrnuje ošetření zásaditou látkou, obr. 2 schéma průběhu způsobu podle vynálezu s přímou strukturalizací polyimidového povrchu elektromagnetickým zářením, obr. 3 schématické znázornění strukturování tiskařské formy, jejíž povrch vykazuje polyimid, prostřednictvím způsobu podle vynálezu, včetně chemického inicializačního kroku a obr. 4 schématické znázornění strukturování tiskařské formy, jejíž povrch vykazuje polyimid, prostřednictvím způsobu podle vynálezu bez chemického inicializačního kroku ošetřením zásaditou látkou.
Příklady provedení vynálezu
Obr. 1 znázorňuje schéma průběhu způsobu podle vynálezu s chemickým iniciačním krokem, který zahrnuje ošetření zásaditou * · to toto to » · · » · · ·♦ • to · ·· ·· • · · to · · · • · · to ·· · • · · ·· to · · · · ·· · ··· • to · 9 9 · · · · látkou. Diagram průběhu slouží k objasnění jednotlivých kroků způsobu a jejich pořadí. Polymerní materiál použitý ve způsobu podle vynálezu je látka, která je v prvním, původním stavu silně hydrofobní, tedy současně dobře vede barvu.
Polymerní materiál je podroben ošetření 10 zásadou. Například je na určitý časový interval v oblasti minut vystaven vodnému roztoku silné zásady, jako například hydroxidu draselnému nebo hydroxidu sodnému. Tímto ošetřením se stane polymerní materiál hydrofilní. Pomocí velkoplošného ošetření 10 se tak stane povrch velkoplošně hydrofilní. V tomto stavu se provede vlastní strukturalizace.: Stanoví se oblasti, které vedou barvu a oblasti které nevedou barvu, tedy oblasti které patří k obrazu a oblasti které nepatří k obrazu. Provede se místní osvětlení 12 elektromagnetickým zářením, s výhodou v ultrafialové oblasti. Jako další krok následuje oxidace 14. Oxidační prostředek, například peroxid vodíku, manganistan draselný nebo podoblé látky, zapíná nebo vyvíjí vlastnost povrchu, který byl vystaven elektromagnetickému záření. Jinými slovy: před osvětlením 12 a následné oxidaci 14 hydrofilních oblastí budou jen hydrofobní. Popřípadě následuje po oxidačním procesu ošetření povrchu polysacharidem nebo směsí polysacharidů, s výhodou D-arbinózou anebo D-fruktózou. Tento přídavný případný krok zlepšuje stabilizaci hydrofobních, respektive hydrofilních oblastí. Takto strukturovaný povrch je nyní připraven k tisku Po tisku 16 se může prostřednictvím ošetření 18 kyselinou strukturování povrchu vymazat. K tomu se povrch velkoplošně vystaví silné kyselině, například vodnému roztoku kyseliny sírové, kyseliny solné, kyseliny dusičné a podobným kyselinám nebo čistícímu prostředku na desky. V důsledku tohoto kroku způsobu se stane povrch znovu hydrofobní. Je možné provést iteraci 110 uvedeného sledu kroků způsobu. V obnoveném místním osvětlení 12 se může
4
4 • 4 »4 4444 • 4 vyrobit struktura s jinou obecně odchylnou topografií na povrchu.
Obr. 2 je schéma průběhu způsobu podle vynálezu s přímým strukturováním polyimidové plochy elektromagnetickým zářením. Toto schéma průběhu slouží k vysvětlení jednotlivých kroků způsobu a jejich pořadí. V této formě provedení způsobu podle vynálezu se použitý polymerní materiál, který se vyskytuje v prvním, původně hydrofobním stavu, vystaví místnímu osvětlení 20. Časově uspořádanou oxidací 22 se dosáhne strukturování: Místně osvětlené oblasti jsou nyní hydrofilní. Tímto strukturovaný povrch se může použít k tisku 24. Ošetřením 26 kyselinou je možné vymazat strukturu hydrofilních a hydrofobních oblastí. Povrch se převede ošetřením 26 kyselinou do prvního, hydrofobního stavu. Je tedy opět možné provést opakování 28 kroků způsobu podle vynálezu.
Obr. 3 představuje schématicky strukturování tiskařské formy, jejíž povrch vykazuje polyimid, prostřednictvím způsobu podle vynálezu, včetně chemického inicializačního kroku. Na obr. 3 je znázorněno pět stavů tiskařské formy 30 v časovém sledu vyznačeném šipkami. Nejprve vykazuje tiskařská forma 30 povrch, který představuje velkoplošnou hydrofobní oblast 32. Chemickým inicializačním krokem ošetření povrchu silnou zásadou se povrch velkoplošně změní na hydrofilní oblast 34. Selektivním osvětlením se místně, ohraničeně inicializované oblasti prvního druhu 36 vyrobí na velkoplošně hydrofilní ploše 34. Pomocí následně nařízené oxidace vznikají hydrofobní oblasti 32 vedle hydrofilních oblastí 34. Tím se dosáhne strukturování povrchu tiskařské formy 30. Tato struktura se může vymazat tím, že se tiskařská forma 30 velkoplošně podrobí ošetření kyselinou. Po tomto kroku se vyskytuje tiskařská forma 30 opět s velkoplošně hydrofobní oblastí 32.
9 9 9 9 9 * * · <9 ··
9 9 9 9* 9 9 9 9 « 9 999 9 9 9 9 9 9 · • 9 999 9999999 9 9
9 999 999 • 9 999 99 9 99 9999
- 10 Příkladná forma provedení způsobu podle vynálezu tedy vypadá následovně:
Polymerní materiál, s výhodou PBDI nebo PAI, se umístí v tloušťce mezi ještě manipulovatelnou fólií kolem 25 mikrometrů až do tloušťky vrstvy několika milimetrů na vhodném nosiči, například na hliníkové desce. Povrch naneseného polymerního materiálu se následně podrobí úpravě zásadou, přičemž se s výhodou použije hydroxid sodný (NaOH) anebo hydroxid draselný (KOH). S odkazem na koncentrace se například u hydroxidu sodného použijí 0,5 až 1-molární roztoky, přičemž zbývá podotknout, že příliš vysoké koncentrace (zhruba od 5-molového roztoku) mohou polymerní materiál zničit. Polymerní materiál, který je ve svém prvním stavu původně zcela hydrofobní, se ošetřením zásadou, jehož trvání je v oblasti několika minut, s výhodou jedna minuta, v podstatě zcela hydrofiluje. Následuje opatření obrazem buď přes masku nebo místně selektivním osvitem světelným paprskem, který je místně namířen na tiskový povrch. Jako zdroj světla se s výhodou použije ultrafialový laser. Místně selektivní osvětlení je třeba považovat za inicializační reakci, na kterou se napojuje chemické ošetření povrchu. Osvětlený povrch se následně vystaví oxidačnímu prostředku, například peroxidu vodíku (H2O2) , kyslíku nebo ozonu. Dále se může použít také manganistan draselný (KMnO4) v kapalné fázi. Upřednostňovaná koncentrace peroxidu vodíku procentním roztoku peroxidu vodíku ve vodě draselného se s výhodou používá 0,02-molární roztok ve vodě. Ošetřením oxidačním prostředkem se stanou předtím místně ozářené oblasti hydrofobní, zatímco zbývající oblasti zůstanou hydrofilní. Je výhodné pro zlepšenou stabilizaci hydrofobních, popřípadě hydrofilních oblastí, povrch navíc podrobit ošetření, kterým je tzv. gumování polysacharidem.
spočívá v 15U manganistanu • 9 • 4 « «·9· 4 4
9 9 4 9 4
9 4 9 «·
999 99 9 >4 99·· a 4 • · • 444 * ί - //3.3 • 4 99
4 « »
4 ·
4 4 • 99
9499
- 11 Takto vyrobená polymerní tiskařská forma se použije k tisku. Po tiku může být tiskařská forma současně vymazána a vyčištěna, přičemž se o sobě mohou použít všechny obvyklé známé mechanické možnosti čištění: Povrch se vystaví silné kyselině, například kyselině sírové (H2SO4), kyselině solné nebo kyselině dusičné (HNO3) · Kyseliny mají přitom být všechny s výhodou v koncentraci 1-molárního roztoku.
Popřípadě se může použít na podporu mechanického čistícího procesu také chemický čistící prostředek, zejména komerční čistící prostředek na desky. Následně se může celý způsob opatřování obrazem opakovat pro nový tiskařský proces.
Na obr. 4 je schématicky znázorněno strukturování tiskařské formy, jejíž povrch má polyimid, pomocí způsobu podle vynálezu bez chemického inicializačního kroku ošetřením zásaditou látkou.
Obr. 4 ukazuje čtyři stavy tiskařské formy 30, jejichž časový sled je naznačen šipkami. Nejprve je k dispozici tiskařská forma 30 s velkoplošně hydrofobní oblastí 32. Pomocí místního osvětlení, zejména pomocí zdroje ultrafialového záření, se vytvoří na povrchu tiskařské formy 30 inicializované oblasti druhého druhu 38. Oxidací se z toho stanou hydrofilní oblasti 34. Povrch tím vykazuje strukturu z hydrofobních oblastí 32 a hydrofilních oblastí 34, takže se mohou použít k tisku. Po velkoplošném ošetření povrchu kyselinou se dosáhne toho, velkoplošně opět hydrofobní.
tiskařské formy 30 silnou že se stane tiskařská forma
Jinými slovy vyjádřeno: Bez ošetření 10 zásadou, jak je to uvedeno ve vývojovém schématu podle obr. 1, vede způsob popsaný pomocí obr. 4 k místnímu selektivnímu osvitu místním ozářením elektromagnetickou energií k obrácenému hydrofilnímu, respektive hydrofobnímu výsledku, když je tlaková forma časově následně vystavena chemickému ošetření oxidačním prostředkem.
- 12 Dále je třeba poznamenat, že se jako zvlhčovadlo pro ofsetový tisk tiskařskou formou podle vynálezu dá zvláště výhodně použít mýdlová voda. Tensidy ve vodě nechají při potisku silněji vyniknout oblasti opatřené obrazem.
• * • · • · • fc • fcfcfc • ♦ fc · « ·· fc • · fcfcfc • · · ·♦ fcfc
Claims (15)
1. Způsob výroby struktury z hydrofilních (34) a hydrofobních (32) oblastí na povrchu k tisku, který má v prvním, v podstatě nestrukturovaném stavu polymerní materiál s imidovými skupinami vyznačující se tím, že se provádí časově následně po místním selektivním osvětlení místním ozářením elektromagnetickou energií chemické ošetření povrchu oxidačním prostředkem.
2. Způsob podle nároku 1 vyznačující se tím, že se časově před místně selektivním osvětlením provádí velkoplošné chemické ošetření povrchu silnou zásadou.
3. Způsob podle nároku 1 nebo 2 s přídavným časově následným krokem způsobu převedení povrchu do prvního, v podstatě nestrukturovaného stavu, vyznačující se tím, že se provádí velkoplošné chemické ošetření povrchu silnou kyselinou.
jednoho z předchozích nároků vyznačující že se elektromagnetická energie vytváří světelným zdrojem, který vyzařuje světlo s mezi 200 a 440 nm.
4. Způsob podle se tím, ultrafialovým vlnovou délkou
5. Způsob podle jednoho z předchozích nároků vyznačující se tím, že oxidační prostředek je peroxid vodíku anebo kyslík anebo manganistan draselný.
6. Způsob podle jednoho z nároků 2 až 5 vyznačující se tím, že silnou zásadou je vodný roztok hydroxidu draselného anebo hydroxidu sodného.
7. Způsob podle jednoho z nároků 3 až 6 vyznačující se tím, že silná kyselina je vodný roztok kyseliny sírové anebo kyseliny solné anebo kyseliny dusičné.
• · * · • · • · • · ···· ··
8. Způsob podle jednoho z předchozích nároků vyznačující se tím, že se vedle oxidačního činidla během časově následného chemického šetření používá kapalina s iontovými tensidy.
9. Způsob podle jednoho z předchozích nároků vyznačující se tím, že polymerním materiálem s imidovými skupinami je polybenzolimid nebo polyamidimid.
10. Způsob podle jednoho z předchozích nároků vyznačující se tím, že se časově po chemickém ošetření povrchu oxidačním prostředkem povrch uvede ve styk s polysacharidem.
11. Tiskařská forma (30), zejména pro použití jako tiskařská forma (30) u ofsetového tisku, s povrchem pro tisk způsobem podle nároku 1, vyznačující se tím, že povrch obsahuje polymerní materiál s imidovými skupinami.
12. Tiskařská forma (30) s povrchem podle nároku 11, vyznačující se tím, že povrch obsahuje polybenzolimid nebo polyamidimid.
13. Tiskařská forma (30) s povrchem podle nároku 11 nebo 12, vyznačující se tím, že je povrch strukturovatelný způsobem podle nároku 1 až 10.
14. Tiskařské ústrojí způsobem podle nároku 1 vyznačující se tím, že je k tisku opatřeno tiskařskou formou podle nároku 11, 12 nebo 13.
15. Tiskařský stroj s nejméně jedním samonakladačem, jedním tiskařským ústrojím a jedním vykladačem způsobem podle nároku 1 vyznačující se tím, že má nejméně jedno tiskařské ústrojí podle nároku 14.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10121561A DE10121561A1 (de) | 2001-05-03 | 2001-05-03 | Bebilderung und Löschung einer Druckform aus Polymermaterial mit Imid-Gruppen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ20021199A3 true CZ20021199A3 (cs) | 2003-01-15 |
| CZ300557B6 CZ300557B6 (cs) | 2009-06-17 |
Family
ID=7683521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20021199A CZ300557B6 (cs) | 2001-05-03 | 2002-04-05 | Zpusob vytvárení struktury z hydrofilních oblastí a hydrofobních oblastí na povrchu pro tisk tiskarské formy a tiskarská forma |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6919165B2 (cs) |
| EP (1) | EP1254768B1 (cs) |
| JP (1) | JP4657563B2 (cs) |
| CN (1) | CN1264676C (cs) |
| AT (1) | ATE288830T1 (cs) |
| CZ (1) | CZ300557B6 (cs) |
| DE (2) | DE10121561A1 (cs) |
| DK (1) | DK1254768T3 (cs) |
| HK (1) | HK1053087B (cs) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10206938A1 (de) * | 2002-02-19 | 2003-09-04 | Oce Printing Systems Gmbh | Verfahren und Einrichtung zum Drucken, wobei eine hydrophile Schicht erzeugt und diese strukturiert wird |
| US6566039B1 (en) * | 2002-06-04 | 2003-05-20 | Gary Ganghui Teng | Variable data lithographic printing device and method |
| US6789478B1 (en) * | 2003-02-28 | 2004-09-14 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Device and method for controlling fluid delivery |
| US7879535B2 (en) * | 2004-03-26 | 2011-02-01 | Fujifilm Corporation | Pattern forming method, graft pattern material, conductive pattern forming method and conductive pattern material |
| DE102005046863A1 (de) * | 2005-09-30 | 2007-06-14 | Man Roland Druckmaschinen Ag | Druckform |
| US7709185B2 (en) | 2006-03-24 | 2010-05-04 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Method for imaging a lithographic printing form |
| US20100251914A1 (en) * | 2009-04-01 | 2010-10-07 | Xerox Corporation | Imaging member |
| CN112571697A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-03-30 | 安徽美阅文化发展股份有限公司 | 一种纸张印刷品深压纹凹凸版的生产工艺 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE103977C (cs) | ||||
| DD103977A1 (cs) * | 1973-04-11 | 1974-02-12 | ||
| US4568632A (en) * | 1982-10-07 | 1986-02-04 | International Business Machines Corporation | Patterning of polyimide films with far ultraviolet light |
| US4634659A (en) * | 1984-12-19 | 1987-01-06 | Lehigh University | Processing-free planographic printing plate |
| US4693958A (en) * | 1985-01-28 | 1987-09-15 | Lehigh University | Lithographic plates and production process therefor |
| US4999251A (en) * | 1989-04-03 | 1991-03-12 | General Electric Company | Method for treating polyetherimide substrates and articles obtained therefrom |
| US5051312A (en) | 1990-03-29 | 1991-09-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Modification of polymer surfaces |
| JPH04193956A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-14 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ポリイミド樹脂のエッチング法 |
| JPH04356387A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-10 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 付着フラグメントの除去方法 |
| US5288519A (en) * | 1992-04-27 | 1994-02-22 | General Electric Company | Method of producing modified polyimide layer having improved adhesion to metal layer thereon |
| JP3405473B2 (ja) * | 1994-03-31 | 2003-05-12 | 日立化成工業株式会社 | 耐熱性樹脂のレ−ザ加工法 |
| JPH08310148A (ja) * | 1995-05-16 | 1996-11-26 | Nippon Paint Co Ltd | 液体現像処理工程が不要のレーザーダイレクト製版用平版刷版材およびそれを用いる印刷方法 |
| DE69710867T2 (de) * | 1997-04-18 | 2002-10-31 | Eastman Kodak Co | Zylinder und Hülsen aus einer Zirconiumdioxidlegierung für lithografische Bilderzeugungs- und Druckverfahren |
| EP0911154B1 (en) | 1997-10-24 | 2002-05-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate making device and printer and printing system using the plate making device |
| DE19826377A1 (de) | 1998-06-12 | 1999-12-16 | Heidelberger Druckmasch Ag | Druckmaschine und Druckverfahren |
| US6162578A (en) | 1998-12-18 | 2000-12-19 | Eastman Kodak Company | Imaging member containing heat sensitive hyperbranched polymer and methods of use |
| US6410202B1 (en) * | 1999-08-31 | 2002-06-25 | Eastman Kodak Company | Thermal switchable composition and imaging member containing cationic IR dye and methods of imaging and printing |
-
2001
- 2001-05-03 DE DE10121561A patent/DE10121561A1/de not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-04-05 AT AT02007336T patent/ATE288830T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-04-05 DK DK02007336T patent/DK1254768T3/da active
- 2002-04-05 EP EP02007336A patent/EP1254768B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-04-05 DE DE50202196T patent/DE50202196D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-04-05 CZ CZ20021199A patent/CZ300557B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2002-04-15 US US10/122,817 patent/US6919165B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-27 CN CNB02118495XA patent/CN1264676C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-04-30 JP JP2002127910A patent/JP4657563B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-07-02 HK HK03104674.2A patent/HK1053087B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1254768B1 (de) | 2005-02-09 |
| EP1254768A3 (de) | 2003-09-03 |
| CZ300557B6 (cs) | 2009-06-17 |
| DE10121561A1 (de) | 2002-11-07 |
| CN1264676C (zh) | 2006-07-19 |
| DE50202196D1 (de) | 2005-03-17 |
| US20020177053A1 (en) | 2002-11-28 |
| ATE288830T1 (de) | 2005-02-15 |
| HK1053087A1 (en) | 2003-10-10 |
| HK1053087B (zh) | 2007-01-12 |
| CN1387998A (zh) | 2003-01-01 |
| EP1254768A2 (de) | 2002-11-06 |
| DK1254768T3 (da) | 2005-04-11 |
| JP2003011316A (ja) | 2003-01-15 |
| US6919165B2 (en) | 2005-07-19 |
| JP4657563B2 (ja) | 2011-03-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Nishimoto et al. | TiO2-based superhydrophobic–superhydrophilic patterns: Fabrication via an ink-jet technique and application in offset printing | |
| US8546067B2 (en) | Material assisted laser ablation | |
| US6079331A (en) | Plate making device and printer and printing system using the plate making device | |
| JP4679806B2 (ja) | 再使用可能な印刷版 | |
| TW201131288A (en) | Cleaning reticle, method for cleaning reticle stage, and method for manufacturing semiconductor device | |
| CZ20021199A3 (cs) | Způsob výroby struktury z hydrofilních a hydrofobních oblastí na povrchu k tisku a tiskařská forma, ústrojí a stroj | |
| EP0084444B1 (en) | Products and processes for use in planographic printing | |
| US6851366B2 (en) | Reusable printing form | |
| US6423468B1 (en) | Lithographic printing plate precursor and process for lithography | |
| CZ2001867A3 (cs) | Tiskařská forma a způsob změny jejích smáčecích vlastností | |
| KR20050032869A (ko) | 전기장에 의하여 반도체 소자의 미세패턴을 형성하는노광장치 및 그 방법 | |
| JP2003011316A5 (cs) | ||
| TW201348515A (zh) | 利用臭氧水之金屬或金屬氧化物之蝕刻方法、利用臭氧水之金屬或金屬氧化物表面之平滑化方法、及使用臭氧水之圖案化方法 | |
| US20030145749A1 (en) | Method for making a lithographic printing plate | |
| EP1321309A2 (en) | Method for making a lithographic printing plate | |
| US20050092198A1 (en) | Printing plate, fabricating method thereof, method of making a printing plate with a print image, method of reproducing the printing plate with a print image, and printing press | |
| JP3999459B2 (ja) | 光触媒膜の清浄化方法及び清浄化装置 | |
| JP2004085375A (ja) | 光触媒活性の評価方法及び評価装置、並びに光触媒を含む層 | |
| JPH11143055A (ja) | 平版印刷版の作成方法及び平版印刷用原版 | |
| JP2009233875A (ja) | 平版印刷原版 | |
| JPH11123804A (ja) | オフセット印刷装置 | |
| JPH11123806A (ja) | 製版装置および印刷システム | |
| JP3124264B2 (ja) | 印刷用版材の再生方法及び印刷機 | |
| JPH11174665A (ja) | オフセット印刷方法 | |
| JPH11138970A (ja) | オフセット印刷方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20120405 |