CS253715B2 - Light sensitivity mixture and process for preparing active component - Google Patents

Light sensitivity mixture and process for preparing active component Download PDF

Info

Publication number
CS253715B2
CS253715B2 CS846926A CS692684A CS253715B2 CS 253715 B2 CS253715 B2 CS 253715B2 CS 846926 A CS846926 A CS 846926A CS 692684 A CS692684 A CS 692684A CS 253715 B2 CS253715 B2 CS 253715B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
compound
formula
group
oder
carbon atoms
Prior art date
Application number
CS846926A
Other languages
English (en)
Inventor
Reinhard Doenges
Hans Ruckert
Ulrich Geissler
Hartmut Steppan
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of CS253715B2 publication Critical patent/CS253715B2/cs

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/04Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D215/10Quaternary compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/10Indoles; Hydrogenated indoles with substituted hydrocarbon radicals attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D209/12Radicals substituted by oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/12Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/08Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D277/12Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/60Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D277/62Benzothiazoles
    • C07D277/64Benzothiazoles with only hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals attached in position 2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/60Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D277/84Naphthothiazoles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D293/00Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and selenium or nitrogen and tellurium, with or without oxygen or sulfur atoms, as the ring hetero atoms
    • C07D293/10Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and selenium or nitrogen and tellurium, with or without oxygen or sulfur atoms, as the ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D293/12Selenazoles; Hydrogenated selenazoles
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/675Compositions containing polyhalogenated compounds as photosensitive substances
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295Photolytic halogen compounds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/122Sulfur compound containing
    • Y10S430/123Sulfur in heterocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)
  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)

Description

Předložený vynález se týká směsi citlivé na světlo, která obsahuje l-alkyl-2-karbonylmethylenheterocyklické sloučeniny, které obsahují na substituentu v poloze 2 alespoň jednu trichlormethylovou skupinu. Dále se vynález týká způsobu výroby těchto nových sloučenin.
Je již známo používat heterocyklické sloučeniny, které obsahují trichlormethylové skupiny, jako iniciátory různých fotochemických reakcí.
z DE-A 22 43 621 jsou známy s-triaziny, které jsou substituovány jednou nebo dvěma trichlormethylovými skupinami a jednou chromoforovou skupinou a které jsou vhodné jako fotoiniciátory v fotopolymerisovatelných směsích, jakož i jako látka uvolňující kyselinu ve směsi s acetaly, které jsou štěpitelné kyselinou.
Podobné sloučeniny, ve kterých je jakožto chromoforová skupina vázán alespoň jeden dvojjaderný aromatický zbytek bezprostředně na triazinový kruh, jsou známé z DE-A 27 18 259 (americký patentový spis 4 189 323).
V DE-A 28 51 472 se popisují směsi citlivé na světlo, které obsahují jako fotoiniciátory 2-halogenmethyl-5-vinyl-l,3,4-oxadiazolové deriváty.
Z DE-A 30 21 590 a 30 21 599 jsou známy halogenoxazoly substituované trichlormethylovými skupinami, které jsou rovněž jako shora uvedené sloučeniny vhodné jako· fotoiniciátory.
Z DE-B 27 17 778 jsou dále známy směsi citlivé na světlo na bázi nenasycených sloučenin nebo polymerních azidů, které obsahují jako sensibilizátory 2-heteroylkarbonylmethylen-benzthiazoly nebo -benzselenazoly.
Známé fotoiniciátory mají následující nevýhody:
Reakční podmínky к výrobě těchto sloučenin jsou poměrně drastické, takže výtěžek je relativně nízký a tyto podmínky rovněž nepříznivě ovlivňují tvorbu nežádoucích vedlejších produktů (srov. např. DE-A 22 43 621, 27 18 259 nebo 28 51 772). Dále pak použití určitých katalyzátorů dovoluje pouze přítomnost jen několika málo určitých funkčních skupin v molekule (srov. např. DE-A 27 18 259).
U četných známých iniciátorů vyžaduje pak nedostatečná citlivost, aby se různé systémy iniciátorů navzájem kombinovaly.
Jako zvláště nevýhodné se přitom ukázalo, že právě nejcitlivější známé iniciátory nevyhovují požadavkům praxe, pokud jde o odpovídající skladovatelnost ve směsích citlivých na světlo, zejména ve styku 8 měděnými povrchy.
Okolem předloženého vynálezu bylo tudíž připravit nové sloučeniny citlivé na světlo, které by se daly používat v nejrůznějších materiálech citlivých na světlo, které by byly dostupné jednoduchým způsobem a které by poskytovaly značnou šíři variačních možností tak, aby se mohly přizpůsobit požadavkům v nejrůznějších aplikačních oblastech vždy v optimální míře.
Takové sloučeniny by měly mít například široký spektrální rozsah citlivosti, .tj. měly by být citlivé zejména v blízkosti ultrafialového a krátkovlnného viditelného rozsahu světla. Navíc by měly tyto sloučeniny při použití ve směsích citlivých na světlo pro reprografii, například u tiskových desek, skýtat již po osvětlení jasně viditelný kontrastní obraz ve vrstvě citlivé na světlo.
Dále mají mít směsi citlivé na světlo, které obsahují nové iniciátory, vysokou stálost při skladování a to nezávisle na materiálu nosiče vrstvy, na kterém se nacházejí.
Předmětem předloženého vynálezu je směs citlivá na světlo, obesaijící jako účinnou látku na světlo chtivou heterocyklickou organickou sloučeninu s alespoň jednou t^jrh^ěio^c^enmmthylovou skupinou jako substiuueneem a reakční složku, která reaguje s produktem fotochemické reakce heterocyklické organické sloučeniny za vzniku produktu, který má ve vývojce absorpci světla nebo rozpustnost odlišnou od reakční složky, vyzn^ču^cí se tím, že jako na světlo citl^ou heterocyklickou organickou sloučeninu s alespoň jednou trίtalogenmeehylovou skupinou jako substiuuentem, obsahuje sloučeninu obecného vzorce I
Q (I) němž zna^^ná atom vodíku nebo skupinu obecného vzorce CO-(r1) (CX_) , n 3 m znamená popřípadě atomy halogenu, karboxyskupinou, sulfoskupinou, nitroskupinou, kyanoskupinou, karbo^^vou skupinou, alkylovou skupinou, arylovou skupinou, alk^yskupinou, trijlюrmethylovou skupinou nebo alkoKykarbonylovou skupinou substituovaný alkylenový zbytek nebo alkenylenový zbytek s celkem 1 až 15 atomy uhlíku nebo 1,2-trylenlvý zbytek s celkem 5 až 14 atomy uhlíku, atom síry, atom selenu nebo atom kyslíku ditlkylmethyeenovlu skupinu 13 atomy-uuiíku, tlken-1,2-ylenovlt skupinu se 2 až 5 atomy uhlíku, zna^^ná se 3 až 1,2-fenylenovou skupinu nebo skupinu N-R, přičemž M + Q společně tvoří 3 nebo 4 členy kruhu, znamená alkylovou nebo trtlkylovlu skupinu se tlklxytlkylovot skupinu s 1 7 až 10 atomy uhlíku, až 10 atomy uhlíku nebo
R· net>o aromatickou skupinu se znamená k^arbocyklickou nebo heterocyklickou trlmaticklu skupinu se 2 až 8 obsahuje jako heteroatomy dusík, síru nebo kyslík, až 10 atomy uhlíku atomy uhlíku, která znamená atom chloru, atom bromu nebo atom jodu a znamená číslo 0 a m znamená Čísoo 1 nebo znamená čísoo lam znamená Čís! 1 nebo 2!.
je rovněž způsob výroby účinné látky obecného vzorce I, který spočívá že se na sloučeninu obecného vzorce II
Předmětem vynálezu tom
C = ch2 (II) němž
Q, M a R maj výše uvedený význam, nebo na její iminiovou sůl obecného vzorce lil
v němž
Q, M a R mají výše uvedený význam a (-) znamená aniont iminiové soli, působí halogenidem karboxylové kyseliny obecného vzorce IV
C-(R1)
(IV) v němž
X, R1, n a m mají výše uvedený význam.
Sloučeniny podle vynálezu tvoří působením aktinického záření volné radikály, které jsou schopné к zahajování chemických reakcí, zejména polymeračních reakcí iniciovaných radikály. Tyto sloučeniny odštěpují dále při ozáření halogenovodík a mohou uvádět do chodu reakce katalysované kyselinami, například štěpením acetalových vazeb nebo tvorbou solí, například změnou barvy indikátorových barviv.
V obecném vzorci I znamená L výhodně atom vodíku. M znamená výhodně 1,2-fenylenovou skupinu, která je popřípadě substituována atomy halogenu, karboxyskupinou, sulfoskupinou, nitroskupinou, kyanoskupinou, karbonylovou skupinou, alkylovou skupinou, arylovou skupinou, alkoxyskupinou, trifluormethylovou skupinou nebo alkoxykarbonylaikylovou skupinou a obsahuje až 14 atomů uhlíku, nebo je výhodně nesubstituována.
Znamená-li M vícejaderný arylový zbytek, pak může tento zbytek obsahovat dva nebo tři, výhodně dva benzenové kruhy a nejvýše 14 atomů uhlíku. M může znamenat také 1,2- nebo
1,3-alkenylenový zbytek, který je popřípadě substituován atomy halogenu, karboxyskupinou karbonylovou skupinou, sulfoskupinou, nitroskupinou, kyanoskupinou, alkylovou skupinou, arylovou skupinou, alkoxyskupinou, trifluormethylovou skupinou nebo alkoxykarbonylaikylovou skupinou s celkem 1 až 15 atomy uhlíku. M může znamenat dále 1,1-, 1,2- nebo 1,3-alkylenový zbytek, který může popřípadě obsahovat substituenty shora uvedeného druhu.
Q znamená výhodně atom síry, skupinu NR nebo dialkylmethylenovou skupinu se 3 až 13 atomy uhlíku, výhodně se 3 až 7 atomy uhlíku a zejména se 3 atomy uhlíku. Q může znamenat také atom kyslíku nebo atom selenu, 1,2-alkenylenovou skupinu se 2 až 5 atomy uhlíku nebo
1,2-fenylenovou skupinu.
Jestliže Q znamená dialkylmethylenovou skupinu se 3 až 13 atomy uhlíku, mohou být alkylové skupiny navzájem spojeny za vzniku 5 nebo 6Členného kruhu. Zvláště výhodně znamená symbol Q síru, zejména jako součást 5členného kruhu.
Jestliže R znamená alkylovou skupinu nebo alkoxyalkylovou skupinu, pak může tato skupina obsahovat obecně 1 až 10 atomů uhlíku, výhodně 1 až 6 atomů uhlíku. Může mít ‘ přímý nebo rozvětvený nebo popřípadě uzavřený za vzniku cykloaliaatického zbytku, například cyklohexylového zbytku. Jako příklady aralkylových skupin se 7 až 10 atomy uhlíku l^ze uvést skupinu benzylovou, tolylmethyoovou a fenylethylovou. R znamená zvláště výhodně alkylovou skupinou s 1 až 3 atomy uhlíku.
R1 znamená jednojaclernou nebo dvoj jadrnou, výhodně jednojadernou arommaickou skupinu, která je výhodně karbocyya dosahuje 2 až 8 atomů uhlíku. Jako příklady ztytku RR lze uvést benzenové, naftalenovk, triazooovk, pyrimidinovk, pyridinové, oxazolovk, imidazolovk, thiazolovk, oxdiazolovk, diadiazolovk, furanovk, thioeenovk, pyrrolovk a isoxazolovk kruhy.
X znamená výhodně atom chloru nebo atom bromu, zejmkna atom chloru. Obecně jsou výhodnk sloučeniny s n = 1.
Sloučeniny obecnkho vzorce I se dají vyrábět výhodně analogicky podle známých postupů srov. nappíklad A. Mistr, V. Laznicka a M. Vavra, Cod. Czech. Chem. Com^i^n. 36 150 (1971) Tak se při postupu podle vynálezu vychází z mmthhyenderivátu obecnkho vzorce
II nebo z fdpřfídaiící iminiovk sod obe^kho vzorce III a halogenidu karboxylovk kyseliny obe^kho vzorce IV podle následujícího reakčního sómatu:
ch2
(III)
O
II , + C-(R)n(CCJ)m I n j m
X (IV)
p^eemž
A znamená anorganický aniont, aniont, řerilhllrátlvý aniont nebo organický aniont, výhodně sulfonátový aniont výhodně nebo alkylsulfátový aniont, halogenidový aniont, tetrafjfoobcrátcvý a ostatní symboly maj shora uvedený význam.
Reakce se provádí výhodně za působení dusíkatých bází, nappíklad trtehУyiarinj, dimeehhlb^i^j^í^íLamLnu, diethy^enzy^mu, N-ethyldicykfoУtxylariou, N-eehhУpřpetidiou, ( N-πmtУhlpřpřtidinu, N-mlthhlmlrfcOiou, N-etУylrofroliou, N-eeУylřyrrflidoou, 1,8-diazaaócyk.lo-(5,4,0)-undec-7-tou, 1,4-diazaiOcyУlo-(2,2,2)-oktiou nebo pyridinu, p^eemž tato báze samotná slouží jako rozpouštědlo nebo se přidává inertní organickk roz^ouutědlo, nappíklad benzen, toluen, dimethylformamid, tttrahydrffurao, diethylether, disscpropylether nebo m^n^h^y-ei^c^l^h.orid.
Reakce. se provádí výhodně při tejot^ meei 0 °C a 100 °C ičemž mnn^sví hal.ogenidu karboxylovk kyseeiny se obecně pohybuje meei 1 a 4, výhodně meei 1 a 1,5 pro výrobu produktů, ve kterých L = H a pro výrobu ^oduktů ve kterých L - CO (RR ^(C^)^ mmei 2 a 3 mol na 1 mol sloučeniny vzorce II popřípadě III.
i
Sloučeniny podle vynálezu jsou vhodné jako fotoiniciátory pro fotopolymerisovatelné vrstvy, které jako podstatné složky obsaauji monomery, pojidla a iniciátory.
Fotopolymeeisovatelné monomery upoořebitelné pro tuto aplikaci jsou známé a jsou popsány například v ameeickýcU patentových spisech 2 760 863 a 3 030 023.
Výhodnými příklady jsou estery kyseeiny akrylové a mmehakrylové -odvozené od vícemocných alkoholů, jako je diglycerindiakrylát, řolyrtUylrnglykoldieerhuakyУlrt/ akryláty a meehhkkyyáty t^rmet^hyl^ol^e^-^l^anu, trieetUylořyrřpanj a pe πΟη^^Ι^Κώ a vícemocných alicyklických alkoholů.
Výhodně se používá také rea^ních produktů diiookyanátů s parciálními estery vícemoc- .
ných alkoholů. Takovéto monornmry se popisní ^ρ^Η^ v DE-A 20 64 079, 23 61 041 a 28 22 190.
Poddl monommrů ve vrstvě činí obecně asi 10 až 80, výhodně 20 až 60 % ^^^οε^ί^.
Jako řOjidlk se mohou používat četné rozpustné organické polymery. Jako příkaady lze uvést: polyamidy, polyvinylestery, ^oy viny l^cea ay, lolyviοylrtUrry, epoxidové pryskyřice, estery ^^akrylové kyseeiny, estery polymeehakrylové kyseeiny, polyestery, alkydové pryskyřice , ^^a^ylam^, polyvinylalkohoo, ^^г^у^псх!. polvdimethylakrylamid, řolyvioylřyrydlidon, polyvinylmethyformmamid, polyvinyleetUylacetamid, jakož i kopolymery monommeů, které tvoří uvedené UomodPdymery.
Dále přicházejí jako v úvahu přírodní látky nebo přeměněné přírodní látky, ^dUklad želatina a ethery celuJ-osy.
S výhodou se používá která jsou nerozpustná ve vodě, která však jsou ve vodné alkalických roztocích rozpustná nebo alespoň botnatelná, vzhledem k tomu, že se vrstvy s takovýmito lojidly dají vyvvjet výhodně pomocí vodně alkalických vývojek. Takováto lojidla mohou obsahovat ^dUklad nássedduící skupiny: -COOH, -PO^R, -SO^H, -SO2NH-, -^SO2NHS^<ja -SO2-NH-OO-.
Jako příklady těchto látek l^ze uvést: maaeinátové pryskyřice, polymery z (beta-methakryloxyloxyGt^^est-eru N-(-ř-tolyijudfonyl)karbamové kyseeiny a kopolymery těchto a podobných monommrů s dalšími monomme^, jakož i kopodymery styrenu a ^bydíT-idu eearinové kyseeiny.
Výhodné jsou kopolymery alkylmethakrylátu a meehakryddvé kyseliny a kopolymery z methakrylové kyseeiny, alkylmethakrylátů a eeehhl·eeehukky’dátu nebo/a styrenu, kklylodOirilu apod., jak se řOdřs^UÍ. v De-A 20 64 080 a 23 63 806.
Mnodživí lojiilk činí obecně 20 až 90, výhodně 40 až 80 % heodnodtních složek vrstvy.
Fotopodymeeovateloé smě^i mohou obsahovat vždy podle plánovaného účelu potUžtí a podle požadovaných vlastností různé látky jako přísady.
Jako přísady lze uvést:
inhibitory k zabránění termické polymerisace monomme-á, donory vodíku, látky mo^ffJ^uiící senoStomarrické vlastnostmi takovýchto vrstev, barviva, barevné a bezbarvé pigmenty, barvotvorné látky, indikátory, zmměčovadlk atd.
Fotopolymerisovatelná směs se může používat pro nejrůznější aplikace, například к výrobě bezpečnostního skla, laků, které se vytvrzují světlem nebo korpuskulárním zářením, například elektronovým zářením, v dentální oblasti a zejména kopírovacího materiálu citlivého na světlo v oblasti reprodukční techniky.
Jako aplikační možnosti v této oblasti lze uvést kopírovací vrstvy pro fotochemickou výrobu tiskových forem pro tisk z výšky, tisk z plochy, hlubotisk, sítotisk, reliéfních kopií, například к výrobě textů ve slepeckém písmu,jednotlivých kopií, obrazů při činění, obrazů pomocí pigmentů atd.
Dále jsou tyto směsi použitelné pro fo.tomechanickou výrobu leptu reserv, například pro výrobu jmenných štítků, kopírovacích obvodů a pro leptání tvarových tělísek.
Průmyslové zhodnocení směsi pro uvedené účely použití se může provádět ve formě kapalného roztoku nebo disperze, například ve formě fotoresistentního roztoku, který spotřebitel sám aplikuje na individuální nosič, například к leptání tvarových tělísek, pro výrobu tištěných obvodů, sítotiskových šablon apod.
Tato směs se může vyskytovat také ve formě pevné vrstvy citlivé na světlo na vhodném nosiči ve formě skladování schopného předem vrstvou citlivou na světlo opatřeného kopírovacího materiálu, například pro výrobu tiskových forem. Rovněž tak je uvedená směs vhodná pro výrobu suchých chránidel.
Obecně je příznivé chránit uvedené směsi během fotopolymerace před vlivem kyslíku. V případě použití směsi ve formě tenkých kopírovacích vrstev je možno doporučit nanášení vhodného krycího filmu, který je málo propustný pro kyslík.
Tento film může být samonosný a před vyvíjením kopírovací vrstvy se odejme. Pro tento účel jsou vhodné například polyesterové filmy. Krycí film může také sestávat z materiálu, který se ve vyvíjecí kapalině rozpouští nebo se dá alespoň na nevytvrzených místech při vyvíjení odstranit. Materiály vhodnými pro tento účel jsou například vosky, polyvinylalkohol, cukry, atd.
Jako nosiče vrstev pro kopírovací materiály vyráběné se směsí podle vynálezu se hodí například hliník, ocel, zinek, měd a fólie z plastické hmoty, například z polyethylentereftalátu nebo acetátu celulózy, jakož i nosiče pro sítotisk, jako je perlonová gáza.
Sloučeniny citlivé na záření jsou jako fotoiniciátory účinné již v koncentracích od asi 0,1 % z celkové hmotnosti hmoty. Koncentrace nad 15 % hmotnostními je obecně neúčelná. Výhodně se používá koncentrací od 0,2 do 5 %.
Dále se mohou sloučeniny podle vynálezu používat také v takových směsích citlivých na záření, u nichž se změny vlastnosti dosahuje kyselými katalyzátory, které vznikají při .fotosyntéze. Uvést lze například kationickou polymeraci systémů, které obsahují vinylethery, N-vinylderiváty, jako N-vinylkarbazol nebo speciální vůči účinku kyselin labilní laktony, přičemž není vyloučeno, že na některých z těchto reakcí se podílí také radikálové pochody.
Jako hmoty tvrditelné kyselinami lze uvést dále aminoplasty, jako močovinoformaldehydové pryskyřice, melaminformaldehydové pryskyřice a další N-methylolderiváty, jakož i fenolformaldehydové pryskyřice.
Jestliže se také vytvrzování epoxidových pryskyřic provádí obecně působením Lewisových kyselin popřípadě takových kyselin, jejichž anionty mají nižší nukleofilii než chlorid a fcromid, tedy než anionty halogenovodíkových kyselin, které vznikají při fotolýze za použití nových sloučenin, pak se přesto vytvrzují vrstvy, které sestávají z epoxidových pryskyřic a novolaků hladce při ozáření v přítomnosti sloučenin podle vynálezu.
Další výhodná vlastnost nových sloučenin spočívá v jejich schopnosti vyvolávat v barevných systémech při fotolýze barevný přechod; z předchůdců barev, napníklad z leukoddeivátů, indukují vznik barvy nebo způsoobjí bathochromní posuny barev a zintenzivnění barev ve směsích, které obsaauuí cyaninové, merocyaninové nebo styrylové báze barviv.
Také je možno napňíklad ve směs^h, které jsou popsány v DE-A 15 72 080 a které sbsaaují barevnou bázi, N-vinylkarbazol a halogenovaný uhlovodík nahhaait halogennlerivát tetaabsommetUanu částí jeho mn^s^í sloučeninou podle vynálezu.
Barevné přechody jsou v technice žádoucí nap^kl-ad také při výrobě tsskových forem, aby se mohl po ozáření ještě před vyvíjením poscou^ výsledek kopírování.
Místo látek uvoSήujíiíiU kyselinu, které jsou uvedeny v DE-A 23 31 377 a 26 41 100, se výhodně pouuSvvIí sloučeniny podle předloženého vynálezu.
Zvláště výhodnou oblastí aplikace pro sloučeniny podle vynálezu jsou směěs, které vedle jóných složek obsaahiuí jako podstatnou složku sloučeninu s alespoň jedním seskupením C-O-C, které je štěpitelné kyselinou. Jako sloučeniny, které jsou štěpitelné kyselinou lze uvést především:
A) takové sloučeniny s alespoň jednou skupinou esteru ortUskarbsxylsvé kyseeiny nebo/a skupinou lmidaacraluklrboxylové kyseHny, přčeemž sloučeniny maj také polymerní charakter a uvedená seskupení se mohou vyskytovat jako spojovací prvky v hlavním řetězci nebo jako ^Ьэ^^г^у v postranním řetězci;
B) polymerní sloučeniny s opaakuícími se acetalovými nebo/a k^alovými seskupeními.
. Sloučeniny typu A štěpitelné kyselinou jako složky směsí citliiý^c^h na svěělo jsou podrobně popsány v DE-A 26 10 842 nebo 29 28 636. Směěs, které o^í^č^a^hiuí sloučeniny typu B jsou předmětem DE-C 27 18 254.
Jako sloučeniny štěpitelné kyselinou lze uvést například také speciální aryla^y^^ta^ a -aminaly popsané v DE-C 23 06 248, které se rovněž sdbostávvlí produkty fotolýzy sloučenin podle vynálezu.
Takové . sim^s, ve kterých se působením aktinčckého záření nepřímé nebo bezprostřední mooekuly přem^Ť^uují na mmnnš, maj na ozářených místech obecně zvýšenou rozpustnost, lepivost nebo těkavost; Tyto části se mohou vhodnými opatřeními, napníklae rozpuštěním vyvíječí kapaiUnou, sditrannt. U kopírovacích maateiálů se v těchto případech Uovooí o nositivnS prac^ících systémech.
Novolakové kondenzační pryskyřice osvědčené v případě četných pozz^vních kopírovacích maateiálů se ukázaly jako zvláště dobře upoSřrbitrlné a výhodné jako přísada také při p^t^usití sloučenin podle vynálezu ve těěěícU jako přísada také při p^v^ust^:í sloučenin podle vynálezu ve těěěícU se sloučeninami, které jsou štěpitelné kyselinou.
Vyzaadui značnou diferenciaci mmei osvětlenými a neosvětlenými částmi vrstvy při vyvíjení, zvláště v případě výše kondenzovaných pryskyřic se substituovanými fenoly jako složkami formlldrUyesvéUo kondenzátu. Druh a muni^s^! novolakové pryskyřice může být různé podle účelu psouSi!.
Výhodně se poddl novolaku pohybuje meei 30 a 90 % ^monGo^ími zvláště výhodně mm z i a- 85 % hmoSnostήíěi, vztaženo na celkový poddl pevné látky.
Navíc se mohou současně používat ještě četné další pryskyřice, výhodně vinylové polymery, jako polyvinylacetáty, ' polyaarryáty, nolyvinylrtUriy a p>lyvinylnyrislidsny, které se sami mohou ěoSiiirsvat rsmonoměey.
Nejpříznivější podíl těchto pryskyřic se řídí podle aplikačně technických požadavků a podle vlivu podmínek vyvíjení a činí obecně ne více než 20 i, vztaženo na novolak. V malých mnnožSvích může směs citlivá na světlo za účelem speeiálních požadavků, pako pe ohebnost, dobrá adheze a lesk, obsahovat ještě kromě toho látky, pako psou polyglykoly, deriváty celulosy, pako ethylcelulosa, smááeeda, barviva a pemně dispergované pigmenty, pakož i podle potřeby absorbéry UV-sséěla.
Vyvvpení se provádí výhodně pomocí vodnněslkalických vývopek, které psou v technice obvyklé a které mohou obsahovat malé mnnžžtví organických rozpouštědel, nebo také organická rozpouštědla.
Nosiče uvedené piž v souuíssossi s fotopolymerizovatelnými směsmi, přicházeeí rovněž v úvahu pro pozitivně pracující kopírovací materály, a navíc se mohou používat v mikroelektronice obvyklé křemíkové povrchy a povrchy na bázi oxidu křemičitého.
Mnnožsví sloučenin, které se používvií podle vynálezu pako fstdiniiSátdrv, může být v pnouuících si^ělch podle látky a podle vrstvy velmi rozdílné. Příznivých výsledků se dosahupe za p^oužtí asi 0,1 až 10 %, vztaženo na celkový podíl pevné látky, výhodně za řosžítí asi 0,2 až 5 ». Pro · vrstvy s toovišťkou nad 10/um se doporučupe používat relativně malé шпо^^1 látky, která uvolňupe kyselinu.
Zásadně pe k ozřování vhodné elektoomagnetické záření s vlnovými délkami až do asi 600 nm. Výhodný rozsah vlnových délek činí 250 až 500 nm.
Rosmiaitost sloučenin podle vynálezu, pepich absorpční maxima se částečně nachááeeí peště daleko ve vSíSteiné čáási spektra a pepcch absorpční rozsah může přesáhnout přes 500 nm, dovooupe přizpůsooit fstsiiiiSátor optimálně v závíslossi na použítý zdrop světla. Jako zdrope světla lze uvést nap^kl-ad: trubkové žárovky, xenonové impulsové žárovky, vysokotlaké rtuťové výbopky s halogenidem kovu a uhlíkové obloukovky.
Kromě toho pe v případě smmsí citových na světlo možné ozařování obvyklými propekeníii přistroopí a zvětšovacími řřjtstroSpS světeem žárovky s vláknem z kovu a kontaktním ozařováním obvyklými žárovkami. Ozařování se může provádět také koherentním světeem laseru. Vhodné pro tyto účely předloženého vynálezu psou výkonné krátkovlnné lasery, nep^klad argonový laser, laser s ionty kryptonu, iaser s barvivém a heliuiskldJnium-Saser, které zepména e^msi^upí v rozsahu mezi 250 a 500 nm. Záření laseru se regulupe pomocí předem naprogramovaného pohybu v čarách nebo/a rastru.
Ozařování elektonnovým zářením pe další možnost diferenciace. Elektronová záření mohou směs, které obsahují některou ze sloučenin podle vynálezu a sloučeninu, která pe štěpitelná kyselinou, stepně pako četné další organické iaaeerVlv pronikavě rozkládat a zesíťovat, tak aby vznikl negaUvní obraz, jestliže se neozářené čáási odíSraňuží rozpouštědlem nebo ozářením bez předlohy a vyv^ením.
PPi malé intenzitě nebo/a při vyšší rychlosti pohybu elektoonového paprsku způsobuje nappodi tomu elektronové záření diferenciaci ve směru vyšší rozpužSnnsSi, tp. ozářené čássi vrstev se mohou sáds^^i vývojkou. Příznivé podmínky se mohou zjistit předběžnými pokusy.
Výhodné ^^^1 nacHázeí smměi citové na světlo obsaahžPcí · některou ze sloučenin podle vynálezu při výrobě taškových forem, tp. zejména forem pro ofsetový tisk, ^^typický hlubotisk a sítotisk, v roztocích fotochránidel a v tzv. suchých chránidlech.
NNáseeduící příklady slouží k blž^íím^u objasnění vynálezu. Needříve se uvádí popis výroby různých sloučenin podle vynálezu, načež psou přípopeny aplikační m^Sž^ooti někodika těchto sloučenin ve simělch na světlo.
V příkladech uvádění díly hmotnostní a díly objemové jsou ve vzájemném poměru jako g:ml. Údaje procent a množství se, pokud není uvedeno jinak, vztahují na hmotnost.
Tabulkal
Sloučeniny vzorce I s Q = S; R1 = benzenový kruh
Sloučenina
) R M L n (CX..) 3 m
1 C2H5 1,2-fenylen H 1 4-ccl 3
la C2H5 5-CH3~l,2-fenylen H 1 4_CC13
lb CH2C6H5 1,2-fenylen H 1 4-ccl3
2 C2H5 1,2-fenylen RX 1 4-CCl3
3 C2H5 1,2-fenylen H 1 •3-CCl3
4 ch3 1,2-fenylen H 1 4-CCl3
5(V) C2H5 1,2-fenylen H 1 4-CF 3
6 c2h5 1,2-fenylen И 0 CC13
6a CH3 1,2-fenylen H 0 CC13
6b C2H5 5-CH3-l,2-fenylen H 0 CC13
6c CH2C6H5 1,2-fenylen H 0 cci3
7 C2H5 1,2-fenylen H 1 3,5-(cci3:
8 C2H4OCH3 1,2-fenylen H '1 4-ccl 3
8a (CH2)5CH3 1,2-fenylen H 1 4 ccl3
9 (V) C2H5 1,2-fenylen H 1 4-ccl 3
(V) = srovnávací sloučenina
Ph = fenylen
RX = CO-Ph-CCl3(p)
Tabulka II
Sloučeniny vzorce I s Q = S, M = 1,2-naftylen a R = CH3
Sloučenina
č. R1 L n (CX-J m
1,4-fenylen 1 CC13 pokračování tabulky II
Sloučenina
č. r1 L n (CX3'm
10a 1,3,5-feettiyl H 1 (CC132
11 (V) 1,4-fenylen H 1 CF3
12 (V) 2-furyl 2-furyl karbonyl 1 -
13 - H 0 CC13
14(V) fenyl H 1 -
Ta b u lka III
Sloučeniny vzorce I s Q = C(CH3)2r L = Η, X = Cl, R = CH3
Sloučenina
č. M r1 n ΙΠ
15 1,2-fenylen 1,4-f.enylen 1 1
15a' 5-C1-1,2-fenylen 1,4-fenylen 1 1
15b 1,2-fenylen 1,3-f^enyl^en 1 1
16 1,2-fenylen 1,3-fenylen 0 1
16a 5-C1-1,2-fenylen 1,3-fenylen 0 1
17 1,2-fenylen 1,3,5-fenttiyl 1 2
Tabulka IV
Sloučeniny vzorce I s Q = S, I . = η x - еъ r1 = 1,4- fenylen, R = C2H5
Sloučenina
číslo M n
18 CoHc0C0-C2 5 |1 CH3“C- 1
19 C-HÍCO-Cz 5 11 CH3-C- 0
20 fenyíCII fenyl-C- 1
20a fenyl-C- * 1
H-C;i pokračování tabulky IV
Sloučenina
číslo M n
21 fenyl-C- 0 1. fenyl-C-
21a fenyl-C- 0 II H-C-
Tabulka V
Sloučeniny vzorce I í 5 Q = ethen-1,2-ylen, M - 1,2-fenylen, R = CH3, n = 0, X Cl
Sloučenina
číslo L
22 H
23 trichloracetyl
Tabulka VI
Sloučeniny vzorce I s Q = Se, L = Η, X = Cl, R1 = 1,4-fenylen, R = C2H^, m = 1
Sloučenina
číslo M n
24 1,2-fenylen 1
25 5-CH3“l,2-fenylen 1
26 5-CH^O-l,2-fenylen 1
27 1,2-fenylen 0
Příklady provedení:
Příklad 1
Výroba sloučeniny 1
A) 3-ethyl-2-methylbenzthiazolium-p-toluensulfonát
Za míchání se zahřívá 300 g (2 mol) 2-methylbenzthiazolu a 440 g (2,2 mol) ethylesteru p-toluensulfonové kyseliny (nebo směs ethylesteru o- a p-toluensulfonové kyseliny) na teplotu 150 °C, přičemž v důsledku exothermní reakce vystoupí teplota na asi 200 °C. Po 10 minutách se reakční směs vylije do 2 litrů acetonu, vyloučený produkt se odfiltruje a vysuší se ve vakuu.
Výtěžek 730 g (98 % teorie).
B) 2-(p-trichlormethylbenzoylmethylen)-3-ethylbenzthiazolin (sloučenina 1) g (0,1 mol) 3-ethyl-2-methylbenzthiazolium-p-toluensulfonátu se suspenduje ve 300 ml toluenu, k získané suspenzi se přidá 28 g (0,11 mol) p-trichlormethylbenzoylchloridu a při te^otjě 15 °c se přikape 23 g (O,23 mol; 31,5 mM triethylarinu.
Po 3 až 4 todináit při teplotě místnoisi se vyloučený poodukt odfiltruje a poomyje se malým mnoostvím meehanolu.
Produkt se překrystaluje z ethanolu, ettylacetátu, acetonu nebo a^ietoHLti-l^u.
Výtěžek: 34 g (85 % ^Ο!·ϋ .
Teplota tání 174 až Ш °c.
Analýza poo: ClgH14Cl3NOS molekulová ^0^0^: 39 8,74 vypočteno 54,22 % C, 3,54 % H, 3,51 % N, 26,67 % Cl; nalezeno 54,2 % C, 3,4 % H, 3,5 % N, 26,4 % Cl.
UV spektrum v dioethyHornuridu: 396 nm (30 900).
OOd°oíddiícír způsobem se vyrobí následující sloučeniny:
Sloučenina la:
2- (p-trithloroittylbioz<lyloreiiylen)-3-ettyl-5-oeihylbeeoZhtazzlio
Teplota tsní: 181 až 183 °C.
Analýza pro: C цИсс^С jO°S
M^oeJ^i^^lovS hrnoonoot: 412,77 vypočteno 55,29 % C, 3,91 % H, 3,39 % N, 25,77 % Cl;
nalezeno 55,0 % C, 4,0 % H, 3,3 % N, 25,6 % Cl.
UV spektrum (v dioethyilormamidu): 398 nm (32 800).
Sloučenina 1b:
2- (°-trithlcmmithylbiozllloeihylin)-3-binozlbeioZtialzlin
Teplota tání: 182 az 185 oC >
Analýza pro: C22H 16 C13NOS
Molekulová hmoonoot: 460,81 vypočteno 59,95 % C, 3,50 % H, 3,04 % N, 23,68 % Cl;
nalezeno 59,8 % C, 3,5 % H, 3,0 % N, 23,0 % Cl.
UV spektrum (v dioettylforramiduu: 395 nm (31 5000.
Sloučenina 3:
2-(m-trictloroittllbinzoolImihhlei)-ЗзeihtlbeizZtiazzlio
Teptoto tá°í: 157 až 159 °C t
Analýza pro: C^gH^^ClN^C^S , Mzlekulová hmoonoot: 398,74 vypočteno 54,22 % C, 3,54 % H, 3,51 % N, 26,67 0 Cl; nalezeno 54,3 % C, 3,6 % H, 3,5 % N, 26,4 % CL.
UV spektrum (v dioethylforramiduu: 388 nm (46 9000.
Sloučenina 4:
2-(p-trichlorrnethylbenzoy1methylen)-3-methylbenzthiazolin (z 2, 3-dimethtlbetzthiazQLium-p-toluensulfonátu)
Teplota tání: 194 až 196 °C.
Analýza pro:
Molekulová tmoOnoot: 384,71 vypočteno 53,08 % C, 3,14 % H, 3,64 % N, 27,65 % Cl;
nalezeno 54,0 % C, 3,4 % H, 3,6 % N, 27,2 % Cl.
UV spektrum (v dimettylformamidu): 395 nm (32 200).
Sloučenina 5:
2-(p -trif 1 o o rie eth ybe e n toyl me Ь. li у l e n )-3-e ethy lben г t h iaz o li n (srovnávací sloučenina)
Teplota tání: 179 až 180 °C
Analýza pro: C^gH-^F^NOS
Mooekulová immonoot: 349,37 vypočteno 61,8.8 % C, 4,04 % H, 4,01 % N;
nalezeno 62,1 % C, 4,1 % H, 4,1 % N.
UV spektrum (v dimettyHormamidu): 392 nm (31 300).
Sloučenina 6a:
2- (triуh0rrazelylmttУylto)-3mttУylbtnoZhiazo0io
Teplota tání: 189 až 190 °C
Analýza pro: C^^Cl^NOS ,
Mooekulová tmmonoot: 308,62 vypočteno: 42,81 % C, 2,61 % H, 4,45 % N-34,46 % Cl;
nalezeno : 42,5 % C, 2,5 % H, 4,3 % N, 34,5 % Cl.
UV spektrum (v dimettyHormamidu): 369 nm (28 700).
Sloučenina 7:
^f3,5-bis--(triihOorrbtуyl)benzzolImthуleeJ-ЗзeetУlbbbzztiaгoOin
Teplota tání 180 až 183 °C
Analýza pro: C^H-iC^NOS
Mooekulová tmoonoot: 516,10 vypočteno 44,22 % C, 2,54 % H, 2,71 % N, 41,22 % C;
nalezeno 44,2 % C, 2,4 % H, 2,7 % N, 40,6 % Cl.
UV spektrum (v dimettyHormamidu): 399 nm (30 7000.
Sloučenina 8: 2- (p-triуhOrmtthylbentoylrethylenn-3- (2-rettуoyУthtl)bbeoZtiazz0io (z 2-гг^у1-3- bbtoZtiazzOifm-p-tolutosulionátu)
Teplota tání 162 až 165 °C
Analýza pro: C19H16C13 NO2S
Mooekulová hmoOnoot: 428,77 vypočteno 53,22 % C, 3,76 % H, 3,27 % N, 24,81 % Cl;
nalezeno 53,4 % C, 3,9 % H, 3,2 % N, 24,9 % Cl.
UV epektruo (v dioethylforoamidu): 396 nm (31 000).
Sloučenina 8a:
2-(p-trichOoroethylbenzoyloeehhlen)-3-n-hexylbeezZhiazolin
Teplota tání: 111 až 113 °C
Analýza pro: C22H22C1gNOS
Molekulová hmotnost: 454,85 vypočteno 58,10 % C, 4,88 % H, 3,08 * N, 23,38 % CL;
nalezeno 58,4 % C, 4,9 % H, 3,0 % N, 23,1 % CL.
UV spektrum (v dioethylforoamidu): 397 nm (32 100).
Sloučenina 9:
2-benzoolLnrthhlee-ЗзeehylbbnzZhiazolin (srovnávací sloučenina)
Teplota tání: 139 až 140 °C
Aialýza pro: C^H^NOS
Mooekulová hrnoonnot: 281,38 vypočteno 72,57 % C, 5,37 % H, 4,98 % N;
nalezeno 72,6 % C, 5,6 % H, 5,0 % N.
UV spektruo (v dioethylforoaoidu): 381 no (36 600)
Sloučenina 10:
2-(p-trOchOormethylbenzoylorthylen)-3-oethylnafto [1,2-d]thiazolin (z 2,3-dioethylnafto [1,2-dJ thiazolixo-p-toluensulfonátu)
Teplota tání: 239 až 242 °C
Analýza pro: C2Hi 1C'-LN^°S
Mooekulová hrnoonoot: 434,77 vypočteno 58,01 % C, 3,25 % H, 3,22 % N, 24,46 4 CLj nalezeno 57,7 % C, 3,3 % H, 2,9 % N, 24,3 4 CL.
UV spektrírn (v dimethylformamidu): 412 nm (35 200).
Sloučenina 10a:
2-(3,5-bisttrichlormttlybeonooylrethylen)-3-mrthylLMfto [1,2-d] thiazolin
Teplota tání: 241 až 242 °C
Aialýza pro: C^^gClgNOS ,
Mooekulová hmooncot: 552,14 vypočteno 47,86 % C, 2,37 % H, 2,54 % N, 38,53 4 CL| nalezeno 47,6 % C, 2,3 % H, 2,2 4 N, 38,5 I CL.
UV spektruo (v dίoethylformamidu): 415 nn ' (33 400).
Sloučenina 11:
2- (p-trifluormethylbenzoylmethylen) -3-methylnafto[ 1,2-d] thiazolin (srovnávací sloučenina) (z 2,3-dijnathtlnaato 4,2~dJ tyi^azonf^r-p-ton^i^tas^].toaát:.f)
Teplota tání: 252 až 254 °C.
Analýza’ pro: C21H14F3NOS:
Molekulová trnoonoot: 385,41
Vypočteno 65,45 % C, 3,66 % H, 3,63 % N;
nanezeno 64,7 % C, 3,8 % H, 3,6 % N.
UV spektrum (v dioettynforraoiduf: 409 nm (34 200)
Sloučenina 13:
2-triyhlloaaceyylnttyylta-3-orf 1,2-dlthiazol.in (z 2 l·dί.mthyln^aat(^l 1,2--d]tyiazllfur-p-Уofutasflloaátu)
Teplota tání: 263 °C
Analýza pro: C^gíH^0ClgNOS ’
Mooekulová hmoonoot: 358,67 vypočteno 50,23 % C, 2,81 % H, 3,91 % N, 29,65 % Cl;
nanezeno 50,2 % C, 2,9 % H, 3,9 % N, 30,2 % Cl.
UV spektrum (v dioettylforoaoidu): 387 nm (35 100).
Sloučenina 14:
2·-lenaollmrthyletaЗ-mrtthyyaaaoll, ^-fltoiazolin (srovnávací sloučenina) Teplota toni^:220 až 222 °C
Analýza pro: C20H15N°S
Mooekulová hmoonoot: 317,41 vypočteno 75,68 % C, 4,76 % H, 4,41 % N;
nalezeno 75,4 % C, 4,8 % H, 3,9 % N.
UV spektrum (v dimetУylforoamidu): 331 nm (4 9000, 399 nm (38 9000.
Sloučenina 24:
2- (p-triyhl<mmeУhylbeazoyloetУylta)-3-ttУylbtazlstltaazolia Teplota tání: 175178 °C
Aaalýza pro: C^gH ^ClgNOSe
Molekulová hroonoot: 445,77 vypočteno: 48,51 % C, 3,17 % H, 3,14 % N, 23,87 % Cl;
aanezeal 48,3 % C, 3,2 % H, 3,1 % N, 23,6 % Cl.
UV spektrum (v dimettYlf omamiánu: 399 nm (29 9000.
Sloučenina 25:
2- (p·-triynlormeУyylteazlyloetУyltn)-3-ttУy-5-mlttУylbtazostltaazolia
Teplota tání: 195 až 197 °C
Analýza pro: ci9H16cl3NOSe
Molekulová hmotnost: 495,66 vypočteno 49,65 % C, 3,51 % H, 3,05 % N, 23,14 % Cl;
nalezeno 49,9 % C, 3,7 % H, 3,1 % N, 23,0 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 401 nm (30 800).
Sloučenina 26:
2-(p-trichlormethlybenzoylmethylen)-3-ethyl-5-methoxybenzoselenezolin
Teplota tání: 174 až 176 °C
Analýza pro: ClgH16Cl3NO2Se
Molekulová hmotnost: 475,66 vypočteno 47,98 % C, 3,39 % H, 2,94 % N, 22,36 % Cl;
nalezeno 48,0 % C, 3,4 % H, 2,9 % N, 22,1 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 407 nm (30 100).
Sloučenina 27:
2-trichloracetylmethylen-3-ethylbenzoselenazolin
Teplota tání: 139 až 140 °C
Analýza pro: ci2H10C13NOSe
Molekulová hmotnost: 369,54 vypočteno 39,00 % C, 2,73 % H, 3,79 % N, 28,78 % Cl;
nalezeno 39,0 % C, 2,8 % H, 3,8 % N, 28,5 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 371 nm (29 500).
Příklad 2
Výroba sloučeniny 15:
2-(p-trichlormethylbenzoylmethylen)-1,3,3-trimethylindolin
К 13,48 g (80 mmol) 1,3,3-trimethyl-2-methylenindolinu (tribáze) a 26 ml (188 mmol) triethylenaminu rozpuštěným ve 300 ml bezvodého toluenu, se při teplotě 0 až 5 °C přikape
10,3 ml (16,6 g; 92 mmol) trichloracetylchloridu.
Reakční směs se potom dále míchá po dobu 3 hodin při teplotě místnosti, sraženina se odfiltruje, filtrát se promyje vodou, vysuší se síranem sodným a zahustí se. Získaný produkt se dvakrát překrytsaluje z diisopropyletheru.
Výtěžek: 12,6 g (49 % teorie).
Teplota tání 170 až 171 °C.
Analýza pro: C2oH18C13NO
Molekulová hmotnost: 394,72 vypočteno 60,86 % C, 4,60 % H, 3,55 % N, 26,94 % Cl;
nalezeno 61,0 % c, 4,6 % H, 3,6 % N, 26,6 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 395 nm (26 300).
Analogickým způsobem se vyrobí následující sloučeniny:
Sloučenina 15a:
2-(p-trichlormethylbenzoylmethylen)-1,3,3-trimethyl-5-chlorindolin
Teplota tání: 164 až 171 °C
Analýza pro: C20H17C^4NO
Molekulová hmotnost: 429,18 vypočteno 55,97 % C, 3,99 % H, 3,26 % N, 33,04 % Cl;
nalezeno 55,6 % C, 3,9 % H, 3,2 % N, 33,2 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 394 nm (28 700).
Sloučenina 15b:
2-(m-trichlormethylbenzoylmethylen)-1,3,3-trimethylindolin
Teplota tání: 161 až 165 °C
Analýza pro: C20H18C13NO
Molekulová hmotnost: 394,72 vypočteno 60,86 % C, 4,60 % H, 3,55 % N, 26,94 % Cl; nalezeno 61,1 % C, 4,6 % H, 3,6 % N, 26,8 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 388 nm (28 100).
Sloučenina 16:
2-trichloracetylmethylen-l,3,3-trimethylindolin
Teplota tání: 101 °C
Analýza pro: C^H^Cl-^NO
Molekulová hmotnost: 318,63 vypočteno 52,77 % C, 4,43 % H, 4,40 % N, 33,38 % Cl; nalezeno 53,1 % C, 4,4 % H, 4,4 % N, 33,1 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 375 nm (25 900).
Sloučenina 16a:
2-trichloracetylethylen-l,3,3-trimethyl-5-chlorindolin
Teplota tání 163 až 165 °C
Analýza pro: C^H^d^NO
Molekulová hmotnost: 353,08 vypočteno 47,63 % C, 3,71 % H, 3,97 % N, 40,16 % Cl;
nalezeno 47,9 % C, 3,7 % H, 4,0 % N, 40,2 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 376 nm (28 000).
Sloučenina 17:
2-[3,5-bis-(trichlormethyl)benzoylmethylen]-l,3,3-trimethylindolin (z 2-methylen-l,3,3-trimethylindolinu)
Teplota tání: 185 až 186 °C
Analýza pro: C2iHi7C^6NO
Molekulová hmotnost: 512,09 vypočteno 49,26 % C, 3,35 % H, 2,74 « N, 41,54 % Cl; nalezeno 49,6 % C, 3,6 % H, 2,6 % N, 40,9 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 398 nm (24 600)
Příklad 3
Výroba sloučeniny 2.
2-[bis((pttr1clrarmt1hylennzoy)) me^ylenj -3-et1ylbenzt1itzoliru
K 7 g (20 mmol) 2-meehll--3-etlylbenzthitzolijιo-p-toluensulfonátu ve 30 ml absolutního pyr^inu se při teplotě 5 až 15 °C ořiktoe 12 g (46,5 mnml) o-trаlhlrrπet1llblnzoylаhllridu. Reakční směs se zahří^ po dobu 2 hodin na t^lo^ 100 ° pyridin odcdettluje ve vakuu a ke zbytku překrystaluje z tcаlOl0trilu.
C. Po ochlazení reakění smměi se se přidá 80 ml meehanolt. Vyloučený produkt se
Výtěžek: 7,5 g (60 % teorie).
Teplota tání: 205 až 207 °C. Analýza pro: C26H17( Molekulová hmoonoot: vypočteno 50,35 % C, nalezeno 50,6 % C, ,C16N—2S
620,21
2,76 % H, 2,26
3,0 % H, 2,3 % N, 34,30 % Cl;
% N, 34,4 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 372 nm (25 300).
—dooíddaícím způsobem se vyrob:! nássedduicí sloučeniny:
Sloučenina 12:
^[bis-U^uooyl)metliylenj^-methylnaí:to l,2-d tlitz^l.in (z 2 ^dimeU^ln^to [1,2-d t1iazoltum-o-totuensullonstt) (srovnávací sloučenina)
Tep^ta tání: 205 až 206 °C Analýza p^o: C23H15] Hc^kulová hrnconoot: vypočteno 68,82 % C, nalezeno 68,7 % C, —S
401,44
3,77 % H, 3,49 % N;
3,9 % H, 3,5' % N.
UV spektrum (v dimethylformtmidu): 408 nm (35 000}.
Příklad 4
Výroba sloučeniny 6:
2-t rác horaa c e t ylm et hyl en-3-ethylben z z li iaz o lin g (28,6 mnml) 2-melhll-3-etlylbenzZhizolium-0'-toluensulfonátu se suspenduje ve 6,8 g (67/2 mno^ tir^^y^minu a při te^otě 5 až 10 °C trCcllortcltllclllričU v malém mnoOžsví toluenu.
150 ml toluenu, potom se přidá se přikope roztok 6 g (33 mol)
Po 3 hodinách při teplotě místnoosi se o^fii^trují amcmiové soU, reakční roztok se promyje vodou, vysuší se síranem sodným a zahuusí se ve vakuu. Produkt se potom nechá ^krystalovat z diisoorooylltllru. 1
Výtěžek 7,2 g (78 % teorie).
Teplota tání: 136 až 139 °C.
Analýza pro: C12H10C13NOS
MoOekulová hmoOnoot: 322,64 vypočteno 44,67 % C, 3,12 % H, 4,34 % N, 32,97 % Cl;
nalezeno 44,8 % C, 3,2 % H, 4,2 % N, 33,1 * Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 369 nm (31 600).
Odpooídajícím způsobem se vyrob:! následující sloučeniny:
Sloučenina 6b:
2-trihhOrrccctylnethylen-3-ethyl-5-methylbenzZhiazoOin
Teplota tání: 199 až 200 °C.
Analýza pro: c^H^C^NOS
MoOekulová hmoOnoot: 336,67 vypočteno 46,38 % C, 3,59 % H, 4,16 % N, 31,59 % Cl;
nalezeno 46,4 % C, 3,7 % H, 4,0 % N, 31,3 % Cl.
UV spektrum (v pimethylformamidu): 370 nm (28 500).
Sloučenina 6c:
2-trichoorceey.lmethyeen-3-benzylbenzthiazolin
Teplota tání: 197 až 198 °C
Analýza pro: c^H^C^NOS
Mofekuloíá hmoOnoot: 384,71 vypočteno 53,80 % C, 3,14 % H, 3,64 % N, 27,65 % Cl;
nalezeno 53,2 % C, 3,2 % H, 3,6 % N, 27,5 % Cl.
UV spektrum (v pimethylformamidu): 369 nm (32 4000.
Příklad 5
Výroba sloučeniny 18:
2- (p“trichformdthylbdnooyloedhyldn)-3-dtCyl-4-mdtCy1-5-dtCoxykarbofnttlilazolin
A) 2,4-dioeetct-3--etCyl-5-etCoxtkarboontthir2oliuo-p-toluensujfonát
Ethylesteo 2-chloorcetoitoíé kyseliny se nechá kondenzovat s t^ho^i^(^€tam^a^(^m za vzniku
2,4-aioedhct-5-dtCoxykarboontthiroolinu a ten se analogicky jako v případu provedení 1 A) nechá oea^ooía,s ethylesteed o_ toluenluffonoíé kyseeiny . za vzniku p-t^oluensulfonátu kvarterní amcrniové báze.
B) Sloučenina 18:
Analogickým postupem jako je popsán v oříkraUu 1B) se nechá reagovat 2,4-Ρϊο€^1ί^-3-etCtl-5-eChoxykrrbonyttCirzoljuo-o_toluenlulfozát s 0”triclformeChylbezzoylcClorddem za vzniku 2- (o“trichforπetCylbdnzoylImdhctld)---edhct-4-oedtct-5-etCoxytarObfylttčaго^™.
Teplota tání 214 až 216 °C.
Analýza pro: C^gHigCl^NO^S
Molekulová hmotnost: 434,77 vypočteno 49,73 % C, 4,17 % H, 3,22 % N, 24,46 % Cl; nalezeno 49,7; % C, 4,2 % H 3,2 % N 24,1 % Cl. .
UV spektrum (v dioethylforoamidu): 317 nm (5 300), 402 nm (29 300).
Analogickým způsobem se vyrobí následující sloučeniny: .
Sloučenina 19: ‘
2-trihhtoacceУylπethylen-3-ethyl4 4-oethyl-5-ethtxykaabC)tyУthiazotin
Teplota tání: I44146 °C.
Analýza pro: C^HicC 3OOgS
Mooekulová ^оПо^: 3 58,6 7 vypočteno 40,19 % C, 3,93 % H, 3,91 % N, 29,65 % Cl;
nalezeno 40,0 % C, 3,9 % H, 3,7 % N, 29,6 % Cl.
UV spektrum (v dimethyl formami^): 295 nm (6 1000, 376 (26 7000.
Sloučenina 20:
2- (p-trChhtrrmethylbenzoylϊneehhlee)-Зз-ehhУ“4,5-difenylthiazolin
Teplota tání: 210 až 211 °C
Analýza pro: <-2gH20^1L3NOS
Mooekulová ^с±по£^: 500,88 vypočteno 62,35 % C, 4,02 % H, 2,80 % N, 21,23 % C;
nalezeno 62,2 % C, 4,2 % H, . 2,6 % N, 21,1 % C.
UV spektrum (v dimethyltormamidu): 322 nm (5 9000, 412 nm (27 4000.
Sloučenina 20a:
2- (p-trichtoroethylbenzotlLnθthylyn) -3-etřihl-S-feennhiazolin
Teplota tání: 172 až 175 cC.
Analýza pro: C2oHigC13NOS
Mooekulová hmoOnott: 424,78 vypočteno 56,55 % C, 3,80 % H, 3,30 % N, 25,04 % C;
nalezeno 56,2 % C, 3,7 % H, 3,1 % N, 24,8 % C.
UV spektrum (v dioethylforoamidu): 399 nm (22 7000.
Sloučenina 21:
2-trichtoroethylen-3-eehyí4,5-diee-ylthaizoliTeplota tání: 161 až l62 °C.
Analýza pro: C2QH16CI3NOS vypočteno 56,55 4 C, 3,80 % H, 3,30 % N, 25,04 % Cl;
nalezeno 56,8 % C, 3,8 i H, 3,2 % N, 24,8 % Cl.
UV spektrum (v di^m^tthyl^f^om^am-d^): 292 nm (S, 7 2000 , 380 nm (25 8000 .
Sloučenina 21a:
2-trichloracetylmethylen-3-ethyl-5-fenylthiazolin
Teplota táni: 144145 °C.
Analýza pro: С^Н^С^ОС^
Molekulová hmmlnoot: -48,68 vypočteno 48,2- % C, -,47 % H, 4,02 % N, -0,-0 % Cl; nalezeno 48,1 % C, -,7 % H, 4,0 % N, -0,2 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): -66 nm (24 400).
Příklad 6
Výroba sloučenin 22 a 2-:
A) 1,2-dimenthlchhnolinium-p-to].unysulfonát:
71,- g (0,- moD chinaldinu a 102, - g (0,-- mco) meetylesteru p-toluensulfonové kysstiny se zahřívá asi 10 minut na holotu 100 °C. Nast.ouuivší exothermní reakcí se reakčiní směs zahřeje na 180 °C. Po 10 minutách se reatání směs vylije na scetoy, směs se zfiltrujt, zbytek na filtru čt promyje acetonem a vysuší se.
Výtěžek: 1-1 g (0,46 mol = 92 %.
B) 2-hrCchloracnhyloethylern3-oenhyl-3,2-dihydrocihnoliy a 2-(bisetrChУSrsctetylmthУye , 2-diУydrochinoSiy
K 10 g (-0 ranc>l) 1,2-dioothhlchiУ01iySuo-i-tslutУtslfsyáhs vn 2- ml pyridinu sn při hti-ohě 0 až 5 °C přikape 6 g (33 mnml) hrccysorsctty-ch-srids. Po . 2 hodinách při h^np-^oh^ě místnossi sn k reakční směěi přiclá oottylenyClosid, roztok sn promyjn vodou, vysuší sn síranem sodným, zahussí sn a dvakrát sn chromáaoorafujt na tiliSagt-s za pouití soOsí cyklohexanu a nthylsintáts v poměru 1:1 jako tlučního činidla.
1. eluovaná zóna: -00 mg
Sloučenina 22:
2-trCchloracthy1-1-oethyl-3,2-dihydrocCinoSiy
Teploha hání: 228 až 2-0 °C
Analýza pro: ^-Η^^-ΝΟ
Molekulová himjonoot: -02,-9 vypočteno -1,60 % C, -,-- % H, 4,6- % N, --,1- % Cl; nalezeno -1,6 % C, 3,3 % H, 4,4 % .N, --,1 % Cl.
UV spektrum (v dimethylforosmidu): -0- nm (12 -000, 402 nm (S, 21 2000, 419 nm (-0 2000, 441 nm (2- 7000.
2. e-^uovaná zóna: 200 mg
Sloučenina 2-: 2- (bitetrCyhSosacttylottУyltn)-1-mothhl-3,2-dihydrocCinoSiy
Teplota tání: 17- až 176 °C.
Analýza pro: CigHgClgNOj
Mooekulová УmoSnost: 447,96 • vypočteno 40,22 % C, 2,0- % Η, -,1- % 'N, 47,49 % Cl;
nsl·eznyo 40,1 % C, 2,0 % H, 2,7 % N, 46,8 % Cl.
UV spektrum (v dimethylformamidu): 323 nm (13 900), 442 nm (7 100).
Příklady ilustrující aplikační možnosSi sloučenin popřípadě směsí podle vynálezu:
Příklad I
Na meehhnócky zdrsněnou hlOnkžovsu desku se odstřelováním nanese vrstva roztoku, který sestává z
0,5 dílu hmoSnostoího sloučeniny 1,
23,75 dílu hmoSnostníhs polyacetalu z trieUhyeeoglykslu a 2-ethylbutyraieehydu a
75,0 dílu hmoSnožtníhs kressl-Soomadduhydového novolaku (rozsah teplot tání 105 až 120 . °C podle kap^ároí metody DIN 53 181) ve
24,25 dílu hmoonootního 2-ethoxyethanolu a
375 dílech objemových meetihlethylketonu, a vysuŠÍ se při t^lotě 100 °C. Tato vrstva se ossíM přes šedý klío, u něhon se optici hustota jednoho stupně liší od stupně následujícího o faktor 2, a iožitiíní obraz se vyvolá pomocí roztoku, který sestává z
5,5 dílu hmoonootního natriumnoeapSlikátu . 9 H^O,
3,4 dílu hmoonootního tronatiuuofosfátu . 12 H2O,
0,4 dílu hmoonootního oatrjuodiUdrsgenfssfátu (bezvodého) a
90,7 dílu hmoonootního vody zbavené sooi.
Tabulka VII ukazuje, že počet vyvinutých stupňů šedého klínu narůstá vždy při zdvojnásobení doby osvitu o 2.
TabulkaVII
Doba osvitu Počet vyvolaných stupňů (minuty) Šedého klínu
0,53
5
Příklad II
Tento příklad ukazuje, že ze sloučenin podle vynálezu jsou zvláště citlvvé ty, které obsahuují i-trCchžormethyl·benzslžovsu skupinu. Triljsrrmethllbeozsyloeehylenthiazoll (sloučeniny 5 a 11) známé . z USA obranné publikace T 900011-Q a sloučeniny známé z DE-B 27 17 778, které neobsapují trhPaSoeonoethylovou skupinu, jsou oapioSi tomu neúčinné.
Pokus se provádí stejným způsobem jako je popsán v příkladu I, přčeemž ve smOěi používané pro vytvoření vrstvy je sloučenina 1 nahrazena stejný mooostvím některé ze sloučenin uvedených v tabulce VIII.
Tabulka VIII
Sloučenina číslo
Počet vyvolaných stupňů šedého klínu při době osvitu minut 4 minut
1 7 9
la 5 7
lb 5 8
2 1 3
3 0 1
4 7 9
6 5 8
6a 5 7
6b 5 7
6c 5 8
7 0 1
8 6 8
8a 5 8
10 6 8
10a 0 2
13 5 7
15 5 7
15a 4 5
15b 0 0
16 2 4
16a 3 6
17 0 1
18 4 6
19 5 7
20 2 4
20a 3 5
21 2 3
21a 3 5
22 0 1
23 0 0
24 5 8
25 6 8
26 5 8
27 5 8
Srovnávací sloučeniny se skupinou CF3 Doba osvitu
8 minut 16 minut
5 0 0
11 0 0
Bez skupiny CX3 Doba osvitu
8 minut 16 minut
9 0 0
12 0 0
14 0 0
Se skupinou ccl3 Doba osvitu
2 minuty 4 minuty
A 6 9
В 7 9
C 6 8
А = 2-(p-methoxyfenyl)-4-chlor-5-(p-trichlormethylfenyl)oxazol
В = 2-(p-trichlormethylfenyl)-4-chlor-5-(p-methoxyfenyl)oxazol
C = 2,4-bis-(trichlormethyl)-6-(4-ethoxynaft-l-yl)-s-triazin
Příklad lil
Hliníková deska jednostranně mechanicky zdrsněná pomocí drátěného kartáče se opatří vrstvou za použití následujícího roztoku:
díly hmotnostní novolaku uvedeného v příkladu I, díl hmotnostní polymerního acetalu z 2-ethylbutyraldehydu a hexan-1,6-diolu,
0,001 dílu hmotnostního báze krystalové violeti a
0,02 dílu hmotnostního sloučeniny 10 v dílech hmotnostních směsi rozpouštědel sestávající z ethylenglykolmonoethyletheru a butylacetátu v poměru 4:1.
Vysušená vrstva měla plošnou hmotnost 2 g/m . Tato vrstva se osvítí pod pozitivní předlohou po dobu 100 sekund pomocí 5 kW žárovky s halogenidem kovu ve vzdálenosti 140 cm, přičemž vznikne kontrastní obraz zesvětlením svícených částí. Tyto části se vymyjí pomocí roztoku sestávajícího z
2,67 dílu hmotnostního natriummetasilikátu . 9 H2O,
1,71 dílu hmotnostního trinatriumfosfátu . 12 H2O a
0,12 dílu hmotnostního mononatrumfosfátu (bezvodého) v
95,45 dílu hmotnostního vody zbavené solí.
Poté se provede obvyklé opláchnutí vodou a pomocí 1% roztoku fosforečné kyseliny se deska stane přímo použitelnou pro tisk. Takto se získá výkonná deska pro tisk z plochy.
Příklad IV
Připraví se roztok sestávající z následujících složek:
6,5 dílu hmotnostního terpolymeru z n-hexylmethakrylátu, methakrylové kyseliny a styrenu (60:30:10) se střední molekulovou hmotností asi 35 000 a číslem kyselosti 195,
3,2 dílu hmotnostního dimethakrylátu polyethylenglykolu 400,
0,1 dílu hmotnostního sloučeniny 15 a
0,04 dílu hmotnostního azobarviva, vyrobeného kopulací 2,4-dinitro-6-chlorbenzendiazoniové soli s 2-methoxy-5-acetylamino-N-kyanethyl-N-hydroxyethylanilínem ve dílech hmotnostních methylethylketonu a dílech hmotnostních ethanolu.
Tento roztok pro vytvoření vrstvy se poté nanáší odstřelováním na biaxiálně protaženou a teroofixovaoou folii z polyethylentterftalátu o tloušťce 25 /im tak, aby se po vysuěení při 100 °C získala vrstva o plošné hmotoooto 45 g/o2.
Takto získaná za sucha resistentní fólie se laminuje na laoinátoru obvyklém na trhu při teplotě 120 °C oa íenolplastovou vrstvennou hmotu, která je kašírována s měděnou fólií o 'tloušťce 35 /um, a po dobu 40 sekund se'osvitne ' pod žebříčkovou deskou jakožto předlohou.
Po osvícení se polyesterová fólie odejme a neosvícené části vrstvy se vymývvai v postřikovač ím zařízení během 1 minuty pomocí 1% roztoku uhličitanu sodného.
Po opláchnutí vodou a naleptání 15% roztokem peroxydvvosíranu amonného se uvolněná místa galvannzuúí postupné v lesklé oOědcí lázni, niklovací lázni a zlaticí lázni, kteréžto lázně jsou běžné na trhu , vždy při proudových hustotách a tloušťkách vrstev doporučených výrobcem. Po odstranění resistentní šablony pommcí 5% roztoku hydroxidu draselného při teplotách 40 až 50 °C a odleptání takto uvolněné základní měděné vrstvy pomocí obvyklých leptacích prostředků se získá dobrá žebříčková deska.
PříkladV .
K výrobě positivní za sucha resisteotoí vrstvy se' připraví následující roztok:
64,75 dílu hmoCnol;tníhc oethhlethylketcnu,
21,2 cHuvi hoctoostnhho novoakuu popsaného v přkkaduu I, , dílů hootoostnchh bSs-(5-etУyl-0-eehhoxyoethyl-l,3-d0oxoЦo-2-yl)eserru 2-ethyl, l-propandúoluf
3,8 du lh0l10tnooíhC hopylyhthaíakrysrt u, níoVovíóknzhOho,
0,05 dílu hmoCnoctoího báze krystalové violeti a
0,2 dílu hmoCsoctníhc sloučeniny 4.
Pomooí tohoto roztoku se analogicky jako v příkladu IV nanáší vrstva na biaxiáloě dlouženou a teroofixovanou polyesterovou fólii c tloušťce 25 /um, která byla předtím upravena roztokem Srichlorcctcvé ksyelioy a polyvinyladícholr, nanesená vrstva se vysuší a oboustranně se laminuje na měděný plech. Po ochlazení, odejouuí nosné fólie a po krátkém dosušení v sušárně při teplotě 80 °C se plech opatřený vrstoou oboustranně osvítí páreo ' přeUdchy se tejným krycím motivem ve formě kapsy. ’
Ste,nýo postupem jako v příkladu I se potom odstraní osvětlené Části vrstvy, v tomto případě oboustranným postříkáním vývojkou. U resisSeíSoí vrstvy tlusté 25 /um se osvit provádí 40 sekund a vyvolávání 45 sekund, u resistentní vrstvy o tloušťce 12 /um postačí doba osvitu 25 sekund a doba vyvíjení 25 sekund. V případě obou resisteotoích vrstev různé tloušťky se desky po opláchnutí zbytků alkalické vývojky oboustranně leptají roztokem chloridu železi- * tého běžným na trhu tak dlouho až jsou čiště naleptány.
Získané naleptané části se mohou ještě pomocí asi 3% roztoku hydroxidu draselného nebo roztoku hydroxidu sodného nebo acetonu zbavit resisteotoí šablony.
Příklad VI .
X výrobě negativní za sucha resisteotoí vrstvy se na nosnou fólii jako v příkladu IV nanáší roztok následuřícího složení: .
68,5 dílu hmoCnoctníhc oeehhlethylketonr, , dílů Ьто^о^п!^ ^polymeru polymothylmeehyykylátu a oothakrylové kyseliny (98:2) s moCekulcvor hmoCtnctí asi 34 000, dílů hmoCtootních trioethylcdprcpanOtiakrylátr,
0,2 dílu hmotnostního sloučeniny 1,
0,2 dílu hmotnostoího ltuks-krystalsvé violeti,
0,1 dílu hmotnostního oaaachitové zeleně.
Získaná rsvooměroá fttspslyooeistvatelná vrstva s tlsušťct 38 yum se laminuje oa vrstvennsu desku s oaleptosu měděnsu fólií a pstom se ps dsbu 20 sekuod ssvití v ssvětl^c^x^a^c^:^o zařízení uvedeném v příkladu III.
Přitom se svёtltcitiivOπ) trichsoroethylfenylderíváteo iniciuje jak ftttptlyoerisace tak i vyvolání barevnosti u krystalcvé visleti z leuksslsučeniny.
Posžijee-i se místo slsučeniny 1 sddotídající trflltrroethyl-sCoučenina 5 stejným způssbem, pak na ssvitnutých místech nedochází k vůbec žádné reakci a to ani při prsdlsuieoé dsbě ssvitu. Nahrraí-li se naproti tomu sl^čenta 1 sloučenintu 2, pak se dssáhoe zřetelně menší citlivcstj vůči světlu.
Zatímcs za použití sl^s^učeni-ny 1 je šedý klín s odstupňovhnou spOictou hustotou kryt ai ds stupně 8, vykazuje sdpotídíjecí vrstva se slsučeniosu 2 při sterém ssvitu ps 1 minutě vyvíjení postřikem d^s^t^é^í5u^ji^<cí krytí psuzt ke stupni 2. Nahrad-li se sloučenina A (srsv. příklad II) pak se nezíská iádoý sbraz.
Psdsbný výsledek jato se sloučeninsu 1 jaksito iniciáuoteo se získá, jestliže se jaks srovnávací sltučenina pouuije 2-(4-ethosynjfh---yl)-4,6“bit-tricrlsroettrl--t·trihzij. □klαdtvatelnsst této rtsjsttjtjí vrstvy lhmioovhoé na mměd, je však podstatně horší.
Ts se ukazuje na pskusu urychlenéht skladsvání při ttplstě 40 °C. Zatímcs matná], se známým trichComttryltrazjteo jaks ijiciáSoteo skýtá ps 8 dnech skladsvání a ps následujícím tsvitu a vyvíjení oa šedém klínu s odstupňovhoou tpticktu hustotou s tři stupně kratší šedý klín, zkrátí se za jinak stejných psdmíntk šedý klín při pouuití tlsučtnίny 1 jen s asi 1 stupeň.
Ps stejné dsbě sklad^ání vykazuje neosvětlený maattiál se známým ijiciáSrteo zřetelné modré zbarvenO, zatímcs u maattiálu podle vynálezu je tsts zabarvení jen nepatrné.
Příklad VII
Roztok sestávající z dílů hInotnoctnícr osvcla^' uvedené^ v příkladu I, dílu hmotnoutoíro polymerního acetalu z 2-etrylbutyrаídehydu a triethyltoglykdu,
0,002 dílu ^(^πο^οΙ^ báze krystalsvé videti a
0,6 dílu rmotnoctního slsučeniny 1 v dílech rInoStoctních 2-ethtxyetrhnu a
19,4 dílu rmotnoutoírt butylacetátu, se odstřeдováním nanáší oa nosoou vrstvu z tltktšslyticky zdrsněném a anodicky txidtvaného dtoíku a získaná vrstva se vysuó. Plošná rmoOnost vrstvy Činí. 2,5 g/m2. ZÍskaná tiskcwá deska se ssvvtí jaks v příkladu III a pstom se vyvolává roztokem, ^ι^ζ tlužtjí je uvtdtno v příkladu I.
Příklad VIII
Roztok sestáve^cí z dílů hmoSnostních terpdymeru z butyloothaakylátu, moehyllneehrarylátu a mothaarylové kyseliny (78:20:2, mo se autová rmotnost asi 100 000), dílů hmotnostních dipentaerythrithexaakrylátu,
0,2 dílu hmotnostního sloučeniny 13 a
0,2 dílu hmotnostního leuko-krystalové violeti v
68,6 dílu hmotnostního butanonu, se odstřelováním' nanáší na fenoplastovou vrstvenou desku kašírovanou s měděnou fólií o tloušťce 35 /um tak, aby se po vysušení při teplotě 100 °C získala vrstva o tloušťce 25 /im. Tato deska se potom osvitne po dobu 30 sekund v osvětlovacím zařízení popsaném v příkladu III a vyvolá se postřikem trichlorethanem.
Příslušný obraz se dále zpracovává obvyklým způsobem galvanizací, odstraněním vrstvy a naleptáním základní měděné fólie.
P ř í к 1 a d IX
Roztok sestávající z
6,5 dílu hmotnostního terpolymeru, který je uveden v příkladu IV,
2/8 dílu hmotnostního polymerisovatelného diurethanu, který byl získán reakcí 1 mol 2,2,4-trimethylhexamethylendiisokyanátu se 2 mol hydroxyethylmethakrylátu,
2/8 dílu hmotnostního polymerisovatelného polyurethanů, který byl vyroben reakcí 11 mol 2,2,4-trimethylhexamethylendiisokyanátu s 10 ml bezvodého triethylenglykolu a další reakci reakčního produktu se 2 mol hydroxyethylmethakrylátu,
0/2 dílu hmotnostního sloučeniny 4,
0/1 dílu hmotnostního 2,4-dichloranilidu 3-merkaptopropionové kyseliny,
0,035 2/8 dílu hmotnostního modrého azobar.viva uvedeného v příkladu IV a dílu hmotnostního esteru 2,6-dihydroxybenzoové kyseliny s diethylenglykol-mono- -2-ethylhexyletherem ve
35 dílech hmotnostních methylethylketonu a
2 dílech hmotnostních ethanolu.
se odstředováním nanáší na biaxiálně dlouženou a thermofixovanou fólii z polyethylentereftalátu o tloušťce 25 /Um tak, aby se po vysušení při teplotě 100 °C získala vrstva o plošné hmotnosti 28 g/m2.
Takto získaná za sucha resistentní fólie se laminuje pomocí na trhu obvyklého laminovacího zařízení při teplotě 120 °C na fenoplastovou vrstvenou desku s nalepenou měděnou fólií o tloušťce 35 /um a potom se po dobu 20 sekund osvitne pomocí osvětlovacího zařízení běžného na trhu. Jako předloha sloužila předloha s čárovým motivem se šířkou čar a vzdálenostmi až do 80 /um.
Po osvětlení se polyesterová fólie odejme a vrstva se vyvolává v 0,8% roztoku uhličitanu sodného ve vyvolávacím zařízení umožňujícím postřik vývojkou po dobu 50 sekund. Deska se potom oplachuje 30 sekund vodovodní vodou, naleptává se 1 minutu ve 25% roztoku peroxodvojsíranu amonného a potom se postupně galvanizuje v lázních následujících elektrolytů:
1) 40 minut v lázni mědícího elektrolytu (běžného na trhu) proudová hustota: 2 A/dm nárůst kovu: asi 20 /um
2) 10 minut v niklovací lázni (běžné na trhu) 2 proudová hustota: 4 A/dm nárůst kovu: 6 /um a
3) 15 minut v zlaticí lázni (bezné na trhu) proudová hustota: 0,6 A/dm nárůst kovu: 2,5 /um.
Deska nevykazuje žádné stopy vedlejší migrace nebo poškození.
Tato deska se může teplotě 50 °C a odkrytá poté zbavit zbytků vrstvy v 5% roztoku hydroxidu draselného při měd se odleptá obvyklými leptacími prostředky.

Claims (12)

PŘEDMĚT VYNÁLEZU
1. Směs citlivá na světlo, obsahující jako účinnou látku na světlo citlivou heterocyklickou organickou sloučeninu s alespoň jednou trihalogenmethylovou skupinou jako substituentem a reakční složku, která reaguje s produktem fotochemické reakce heterocyklické organické sloučeniny za vzniku produktu, který má ve vývojce absorpci světla nebo rozpustnost odlišnou od reakční složky, vyznačující se tím, že jako na světlo citlivou heterocyklickou organickou sloučeninu s alespoň jednou trihalogenmethylovou skupinou jako substituentem, obsahuje sloučeninu obecného vzorce I (I) v němž
L znamená atom vodíku nebo skupinu obecného vzorce CO-(R3) (CX_.) , n J m M znamená popřípadě atomy halogenu, karboxyskupinou, sulfoskupinou, nitroskupinou, kyanoskupinou, karbonylovou skupinou, alkylovou skupinou, arylovou skupinou, alkoxyskupinou, trifluormethylovou skupinou nebo alkoxykarbonylalkylovou skupinou substituovaný alkylenový zbytek nebo alkenylenový zbytek s celkem 1 až 15 atomy uhlíku nebo 1,2-arylenový zbytek s celkem 5 až 14 atomy uhlíku, Q znamená atom síry, atom selenu nebo atom kyslíku, dialkylmethylenovou skupinu se 3 až 13 atomy uhlíku, alke-1,2-ylenovou skupinu se 2 až 5 atomy uhlíku, 1,2-fenylenovou skupinu nebo skupinu N-R,
přičemž M + Q společně tvoří 3 nebo 4 členy kruhu
R znamená alkylovou nebo alkoxyalkylovou skupinu s 1 až 10 atomy uhlíku nebo aralkylovou skupinu se 7 až 10 atomy uhlíku, R1 znamená karbocyklickou nebo aromatickou skupinu se 6 až 10 atomy uhlíku nebo heterocyklickou aromatickou skupinu se 2 až 8 atomy uhlíku, která obsahuje jako heteroatomy dusík, síru nebo kyslík,
znamená atom chloru, atom bromu nebo atom jodu a znammein číslo 0 a m znamená číslo 1 nebo znammná číslo lam znamená číslo 1 nebo 2.
2. Směs podle bodu 1, vyrnačuúící se tím, že jako reakční složku, která reaguje s produktem fotochemické reakce heterocyklické organické sloučeniny obsahuje ethylenicky nenasycenou sloučeninu, která, umožňuje’rahájení polymerace vyvolané volnými radikály.
3. Směs podle bodu 1, .vyrnaa^ící se tím, ňe jako reakční složku, která reaguje s produktem fotochemické reakce heterocyklické organické sloučeniny obsahuje sloučeninu s alespoň jednou vazbou C-O-C, která je štěpitelná kyselinou.
4. Směs podle bodu 1, vyznačuje! se tím, ňe reakční složka, která reaguje s produktem fotochemické reakce heterocyklické organické sloučeniny, se aktivuje kyselinou za účelem kationické polymerace.
5. Směs podle bodu 1, vyzn^čujcí se tím, že reakční složka, která reaguje s produktem fotochemické reakce heterocyklické organické sloučeniny, je z^eíf^-it^el^ná působením kyseeiny.
6. Směs podle bodu 1, vyrnnaující se tím,.že reakční složka, která reaguje s produktem fotochemické reakce heterocyklické organické sloučeniny, mění působením kyseeiny svůj barevný odstín.
7. Směs podle bodu 1, vyzRna^^! se tím, že obsahuje sloučeninu vzorce I v mnnžžtví 0,1 až 15 % hmotnoU, vztaženo na hmoonost netěkavých podílů.
8. Směs podle bodu 1, vyzn^^ící se tím, že navíc obsahuje polymerní poo^í^ nerozpustné ve vodě.
9. Směs podle bodu 8, vyznaa^í^ se tím, že jako pooIíIo obsahuje ροό^^ rozpustné ve vodn^a akalických roztocích.
10. Způsob výroby účinné látky obecného vzorce I podle bodu 1, vyznaa^í^ se tím, že se na sloučeninu obecného vzorce II (II) v němž
Q, M a R mmjí výše uvedený význam, nebo na její iminiovou sůl obecného vzorce III (III) v němž
Q, M a R oají výše uvedený význam a
A (-) znamená aniont i-miniové soH, působí halogenidem karboxylové kyseliny obecného vzorce IV n(CX3>m (IV) v němž
X, R3, n a m výše uvedený význam.
11. Způsob výroby sloučeniny obecného vzorce I, v němž L znamená a ostatní symboly maaí význam uvedený v bodě 1, podle bodu 10, vyznnačjící se tím, že se na sloučeninu vzorce II nebo III působí jedním ekvivalentem sloučeniny vzorce IV.
12. Způsob výroby sllučl^n.ny obecného vzorce I, v němž L znamená skupinu CO(r3) n (CX^) m a ostatní subssituenty maaí význam uvedený v bodě 1, podle bodu 10, vyznaačuící se tím, že se na sloučeninu vzorce II nebo III působí dvěma ekvivalenty sloučeniny vzorce IV.
CS846926A 1983-09-16 1984-09-14 Light sensitivity mixture and process for preparing active component CS253715B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833333450 DE3333450A1 (de) 1983-09-16 1983-09-16 Trihalogenmethylgruppen enthaltende carbonylmethylenheterocyclen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindungen enthaelt

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS253715B2 true CS253715B2 (en) 1987-12-17

Family

ID=6209233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS846926A CS253715B2 (en) 1983-09-16 1984-09-14 Light sensitivity mixture and process for preparing active component

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4966828A (cs)
EP (1) EP0135863A3 (cs)
JP (1) JPS6089473A (cs)
KR (1) KR910007214B1 (cs)
AU (1) AU3306784A (cs)
CS (1) CS253715B2 (cs)
DE (1) DE3333450A1 (cs)
ES (1) ES8602715A1 (cs)
FI (1) FI81786C (cs)
HU (1) HU193590B (cs)
IL (1) IL72945A (cs)
ZA (1) ZA847165B (cs)

Families Citing this family (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8321813D0 (en) * 1983-08-12 1983-09-14 Vickers Plc Radiation sensitive compounds
DE3613632A1 (de) * 1986-04-23 1987-10-29 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE3717933A1 (de) * 1987-05-27 1988-12-08 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von hochwaermebestaendigen reliefstrukturen
DE3743455A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3743454A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US5216158A (en) * 1988-03-07 1993-06-01 Hoechst Aktiengesellschaft Oxadiazole compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-S-triazin-2-yl groups, process for their preparation
DE3807381A1 (de) * 1988-03-07 1989-09-21 Hoechst Ag 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende heterocyclische verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindung enthaelt
JP2589558B2 (ja) * 1988-11-11 1997-03-12 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3912652A1 (de) * 1989-04-18 1990-10-25 Hoechst Ag Lichtempfindliche bis-trichlormethyl-s-triazine, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
DE4006190A1 (de) * 1990-02-28 1991-08-29 Hoechst Ag Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
CZ288351B6 (en) * 1990-06-07 2001-05-16 Astrazeneca Ab Nitrogenous heterocyclic compound, process of its preparation and use as well as a medicament containing thereof
US5631307A (en) 1994-06-28 1997-05-20 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photopolymerization initiator composition and photopolymerizable composition
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5766012A (en) * 1997-04-28 1998-06-16 Rosenbaum; Michael Dental etchant and process of using
ES2263291T3 (es) * 1998-09-28 2006-12-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Quelatos que comprenden grupos quinoides como fotoiniciadores.
DE19845605A1 (de) 1998-10-05 2000-04-06 Agfa Gevaert Ag Konzentrat und daraus hergestellter wäßriger Entwickler für bildmäßig bestrahlte Aufzeichnungsmaterialien
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
JP4570857B2 (ja) 2003-03-31 2010-10-27 富士フイルム株式会社 感光性組成物及び平版印刷版原版
US7786151B2 (en) 2004-01-09 2010-08-31 Kinopharma, Inc. Therapeutic composition of treating abnormal splicing caused by the excessive kinase induction
US20060257798A1 (en) * 2004-05-10 2006-11-16 Agfa-Gevaert Alkaline developer for radiation sensitive compositions
WO2005118556A1 (ja) 2004-06-04 2005-12-15 Astellas Pharma Inc. プロパン-1,3-ジオン誘導体又はその塩
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
EP1701213A3 (en) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
CA2603185C (en) * 2005-03-31 2011-07-26 Astellas Pharma Inc. Propane-1,3-dione derivative or salt thereof
US20060257789A1 (en) * 2005-05-10 2006-11-16 Agfa-Gevaert Method for processing lithographic printing plates
US8841334B2 (en) * 2006-05-31 2014-09-23 Abbvie Inc. Compounds as cannabinoid receptor ligands and uses thereof
WO2007140439A2 (en) * 2006-05-31 2007-12-06 Abbott Laboratories Compounds as cannabinoid receptor ligands and uses thereof
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
WO2008063781A2 (en) * 2006-10-12 2008-05-29 Abbott Laboratories Chemical compounds as cannabinoid receptor ligands
EP1952998B1 (en) 2007-02-01 2011-04-06 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording device
US8541063B2 (en) 2007-02-06 2013-09-24 Fujifilm Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
EP1955850B1 (en) 2007-02-07 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording device having ink-jet head maintenance device and ink-jet head maintenance method
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP5241121B2 (ja) * 2007-03-16 2013-07-17 株式会社Adeka メロシアニン化合物及び該化合物を用いた光学記録材料
MX2009010363A (es) 2007-03-28 2009-12-04 Abbott Lab Compuestos de 1,3-tiazol-2(3h)-ilideno como ligandos del receptor canabinoide.
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
US7872033B2 (en) * 2007-04-17 2011-01-18 Abbott Laboratories Compounds as cannabinoid receptor ligands
US8735434B2 (en) * 2007-05-18 2014-05-27 Abbvie Inc. Compounds as cannabinoid receptor ligands
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
US9193713B2 (en) * 2007-10-12 2015-11-24 Abbvie Inc. Compounds as cannabinoid receptor ligands
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
US8846730B2 (en) * 2008-09-08 2014-09-30 Abbvie Inc. Compounds as cannabinoid receptor ligands
EP2428507B1 (en) * 2008-09-16 2015-10-21 AbbVie Bahamas Ltd. Cannabinoid receptor ligands
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
PA8854001A1 (es) * 2008-12-16 2010-07-27 Abbott Lab Compuestos novedosos como ligandos de receptores de canabinoides
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
US9050820B2 (en) 2012-12-29 2015-06-09 Atasheh Soleimani-Gorgani Three-dimensional ink-jet printing by home and office ink-jet printer
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB466269A (en) * 1935-08-15 1937-05-18 Eastman Kodak Co Improvements in the manufacture of intermediates for dyes
US2548685A (en) * 1946-12-21 1951-04-10 Alexander H Kerr & Co Inc Photopolymerization process and compositions
US2505067A (en) * 1947-09-29 1950-04-25 Alexander H Kerr & Co Catalytic photopolymerization process and compositions
US2641576A (en) * 1948-11-06 1953-06-09 Alexander H Kerr And Company I Photopolymerization process and compositions
US2732301A (en) * 1952-10-15 1956-01-24 Chxcxch
DE1119510B (de) * 1956-03-14 1961-12-14 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung unloeslicher, vernetzter hochmolekularer Polyester
US3453237A (en) * 1959-07-21 1969-07-01 Eastman Kodak Co Light-sensitive polymers having a linear chain containing the styryl ketone group
US3828032A (en) * 1971-06-09 1974-08-06 Eastman Kodak Co Process for preparing 3-alkyl-2-benzo-thiazolinylidene ketones
US3987037A (en) * 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
UST900011I4 (en) * 1971-09-13 1972-07-18 Defensive publication
JPS5522778B2 (cs) * 1972-08-21 1980-06-19
US3827957A (en) * 1973-01-12 1974-08-06 Scm Corp Photopolymerizable pigmented vehicles containing chlorosulfonated or alpha-haloalkylated polynuclear ketone initiators
JPS5148516B2 (cs) * 1973-02-07 1976-12-21
JPS5139025A (cs) * 1974-09-27 1976-04-01 Fuji Photo Film Co Ltd
US4040922A (en) * 1975-10-06 1977-08-09 Eastman Kodak Company Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing heterocyclic compound
US4062686A (en) * 1976-04-21 1977-12-13 Eastman Kodak Company Sensitizers for photocrosslinkable polymers
US4111692A (en) * 1976-06-04 1978-09-05 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Electrostatic printing plate
US4033952A (en) * 1976-07-19 1977-07-05 Shell Oil Company 1,1,1-Trichloro-3-nitro-3-(tetrahydro-2H-1,3-thiazin-2-ylidene)-2-propanone
US4189323A (en) * 1977-04-25 1980-02-19 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-sensitive copying composition
JPS5474728A (en) * 1977-11-28 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS5928328B2 (ja) * 1977-11-29 1984-07-12 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE3021599A1 (de) * 1980-06-09 1981-12-24 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt 2-(halogenmethyl-phenyl)-4-halogenoxazol-derivate, ein verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltende strahlungsempfindliche massen
DE3021590A1 (de) * 1980-06-09 1981-12-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt 4-halogen-5-(halogenmethyl-phenyl)-oxazol-derivate, ein verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltenden strahlungsempfindliche massen
GB8321813D0 (en) * 1983-08-12 1983-09-14 Vickers Plc Radiation sensitive compounds

Also Published As

Publication number Publication date
EP0135863A3 (de) 1985-05-15
ES535956A0 (es) 1985-12-01
ZA847165B (en) 1985-04-24
FI843594L (fi) 1985-03-17
FI81786C (fi) 1990-12-10
US4966828A (en) 1990-10-30
FI81786B (fi) 1990-08-31
FI843594A0 (fi) 1984-09-13
EP0135863A2 (de) 1985-04-03
AU3306784A (en) 1985-03-21
HU193590B (en) 1987-10-28
KR910007214B1 (ko) 1991-09-20
JPS6089473A (ja) 1985-05-20
HUT37134A (en) 1985-11-28
ES8602715A1 (es) 1985-12-01
KR850002123A (ko) 1985-05-06
IL72945A0 (en) 1984-12-31
IL72945A (en) 1989-05-15
DE3333450A1 (de) 1985-04-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CS253715B2 (en) Light sensitivity mixture and process for preparing active component
EP0444786B1 (en) Preparation and use of dyes
US6008265A (en) Fluorinated ionic sulfonylimides and sulfonylmethylides, process of preparing same and use thereof as photoinitiators
KR100548976B1 (ko) 비휘발성 페닐글리옥살산 에스테르
KR0139051B1 (ko) 가시광 감광성 전착 도료용 조성물 및 그것을 사용한 화상 형성 방법
HK1004553B (en) Titanocenes, their use and n-substituted fluoroanilines
EP0435531A2 (en) Photoacid generating composition and sensitizer therefor
JPS60260947A (ja) 画像形成方法
JPS62212401A (ja) 光重合性組成物
GB1584741A (en) Photosensitive compositions
EP0135348B1 (en) Improvements in or relating to radiation sensitive compounds
EP0572524A1 (en) Red sensitive photopolymerizable compositions.
JPH04251258A (ja) イミジル化合物の感光性ポリマーおよび写真記録材料として該ポリマーを使用する方法
JP2000510884A (ja) 重合性組成物
DE69917261T2 (de) Photoinitiatoren und ihre Verwendungen
JPH10500169A (ja) ビニルベンジルチミン単量体およびそれから造られた重合体および製品
EP0326424A2 (en) Photosensitive composition, photosensitive material, and image forming method
JPH08225617A (ja) ポリマー
JP2578839B2 (ja) 置換トリアジン誘導体、それらの製造法及び用途
JPH0228262A (ja) 置換ナフタセン―5,12―ジオン類及びその用途
EP0611754A1 (en) Dimerized thiourea derivatives, near-infrared absorbents comprising the same, and heat wave shielding materials comprising the same
KR940001555B1 (ko) 가시방사선 감광성 조성물
JPS6025061B2 (ja) 感光性シリコ−ン樹脂組成物
US5240811A (en) Photogenerated polycarbodiimides from poly(tetrazole-5-thiones) and use in the preparation of coatings and deep-UV photoresists
BRPI0615229A2 (pt) precursor de placa de impressço de fotopolÍmero e mÉtodo para produzir uma placa de impressço litogrÁfica