CS235977B2 - Equipment for continuous coating of a plate,high temperature hot,by means of solid coat - Google Patents

Equipment for continuous coating of a plate,high temperature hot,by means of solid coat Download PDF

Info

Publication number
CS235977B2
CS235977B2 CS829554A CS955482A CS235977B2 CS 235977 B2 CS235977 B2 CS 235977B2 CS 829554 A CS829554 A CS 829554A CS 955482 A CS955482 A CS 955482A CS 235977 B2 CS235977 B2 CS 235977B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
nozzle
nozzles
substrate
glass
reactant
Prior art date
Application number
CS829554A
Other languages
English (en)
Inventor
Reinhard Kalbskopf
Otto Baumberger
Serge Masson
Original Assignee
Siv Soc Italiana Vetro
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siv Soc Italiana Vetro filed Critical Siv Soc Italiana Vetro
Publication of CS235977B2 publication Critical patent/CS235977B2/cs

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/453Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating passing the reaction gases through burners or torches, e.g. atmospheric pressure CVD

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Carbon Steel Or Casting Steel Manufacturing (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Aerodynamic Tests, Hydrodynamic Tests, Wind Tunnels, And Water Tanks (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Description

Vy^niez se týká zařízení pro kontinuální o vrstvování podložky zahřáté na vysokou teplotu pevným povlakem.
Byly Již navrženy rozličné způsoby a zařízení určené pro ovrstvování podložky, například skleněné desky, vrstvou polovodičového maateiálu, například vrstvou oxidu cíničitého, přičemž tato vrstva musí mít současně obdobnou transparenci jako podložka, relativně nižší měrný elektrický odpor a zvýěenou mechanickou odolnost.
Proto bylo ze známých postupů zkoušeno za tímto účelem zejména pouuití techniky známé pod anglcckým označením CHemical Vapor Beepsition nebo C.VD. Zejména z článku H. Kocha „Elektrische Untersuchungen an Zinndioxydschichten (viz Phys. Stát. 1963, sv. 3, str. 1 05) a následující) jsou známy způsob a zařízení pro svritvování skleněné destičky tenkou vrstvou oxidu cíničitého reakcí chloridu cíničitého a vody přiváděných do kontaktu s povrchem skleněné destičky, která byla předběžně zahřáta na teplotu 200 až 400° C, přičemž obě reakční složky (SnCl^ a HgO) jsou zředěny nosným plynem, například vzduchem. Obě uvedené plynné reakční složky jsou vrhány na povrch skleněné destičky prostřednictvím trysky, tvořené dvěmi koaxiálními trubkami, přičemž střední trubkou je přiváděn nosným plynem zředěný chlorid cíničitý á vnější trubkou je přiváděna nosným plynem zředěná voda.
Podobný způsob a zařízení jsou navrženy zejména v německém patentovém spise DOS č.2-123-274; zde popsaný způsob navíc umooňuje dopovat vrstvu oxidu cíničitého, deponovanou na podložku, tvořenou například rovněž destičkou ze skla, antimonem, a to za účelem snížení elektrického odporu uvedené vrstvy. K tomuto účelu bylo použito chloridu antimonitého zředěného nosným plynem, který byl v daném případě tvořen dusíkem, a takto zředěný chlorid antimonitý se přivádí do styku s chloridem ciničitým a vodou v mstě nacházejícím se nad povrchem podložky prostřednictvím trysky tvořené třemi koaxiálními trubkami, přičemž každá z těchto trubek slouží pro přívod jedné z výše uvedených reakčnich složek. Sloučení uvedených třech složek se takto provádí v blízkosti podložky a v určité vzdálenosti od ústí uvedených třech trubek trysky.
Jak v prvním, tak i v druhém z uvedených případů se jedná o způsob a zařízení určené výhradně pro ověřování pom^né malých destiček vrstvou oxidu ciničitého, která je nebo není dopována, přičemž ověřování celé destičky se provádí postupným vzáemnniým laterálním posuvem uvedené trysky vzhledem k destičce. Získaný povlak má tedy formu pásu oxidu ciničitého, jehož transparence je v různých místech tohoto pásu nestejná. To je způsobeno tím, že směs reakčních složek sposSttéíií trysky výše popsaného typu není dokonale homogeemí, takže získaný povlak má oblasti proměnné tloušťky a proměnného složení ve formě žeber, probíhajících rovnoběžně s osou, podél které se ověřovací tryska pohybuje vůči ověřované podložce.
K výše uvedenému lze poznamennt, že výše uvedené způsoby a zařízení lze přes všechny nedootatky pouuít v případech, kdy se jedná o svrstieni podložek s poměrně malými rozměry; tyto způsoby a zařízení jsou však prakticky oepouSitelné v případech, kdy jde o průmyslové vycítí zahrnusíií ovrstvování například prakticky nekonečných skleněných pásů, které mohou mít šířku i několika mmerů a které se získají například postupem známým pod označením „Tloat. .
pásů přece jenom použilo sebe po celé šířce skleJestliže by se k uvedenému ovrstvování .Širokých nekonečných výše uvedených zařízení, potom by bylo zapotřebí uspořádat vedle něného pásu mnžinu trysek popsaného typu, přičemž si lze představit jak by takové zařízení bylo složité, nebo pouuít pouze omezeného počtu těchto trysek ovládaných mechanismem, který by tyto trysky vodil nad povrchem ovrstvovaného skleněného pásu navíc ještě ve směru příčném k ose, podél které probíhá hlavní pohyb skleněného pásu pod ověřovacími tryskami. Je zřejmé, že ani jedno z těchto řešení neumožňuje získat dostatečně homogeiuií povlak oxidu ciničitého, který by měl jak vysokou elektrCckou vodivost a transparenci, tak i požadovanou dobrou kvalitu finálního produktu. A jestliže se jedná o sklo určené pro výrobu oken nebo dveří budov a výrobu oken nebo ochranných skel vozidel všech typů, potom je zřejmé, že výše uvedené požadavky jsou zcela oprávněné.
K těmto požadavkům je třeba jeětě připojit požadavek spooč-vaHící v tom, že získaný povlak oxidu ciničitého by neměl být na závadu následného. meehanického nebo tepelného zpracování, kterému mohou být skleněné desky vystaveny. Zejména je nezbytné, aby tyto skleněné desky ovrstvené nedopovanou nebo .dopovanou vrstvou oxidu ciničitého mohly být řezány diamantem z jedné nebo druhé strany, aniž by byla dotčena kvvaita povlaku oxidu ciničitého. Stejně tak je třeba, aby takto rozřezané skleněné desky mohly být potom podrobeny tvrzení aniž by se přitom zhoošily mechanické nebo optické vlastnosti povlaku oxidu ciniditého. Konečně je žádoucí, aby takové desky mohly být za tepla vyklenuty, zejména za účelem výroby ochranných skel a zadních oken vozidel, a to také beze změny výše uvedených vlastností zahrnujících nízký elektrický odpor, dobré mechanické chování, dobrou transparenci a reflexi světla, přičemž by tyto vlastnosti měly mít pokud možno homogenní charakter v celé rozloze skleněné desky.
Těchto požadavků nemůže být dosaženo použitím výše popsaných způsobů a zařízení, které αωο^υ^ pouze ovrstvení podložek relativně malých rozměrů.
To bylo zřejmě příčinou toho, že začlo být používáno způsobů a zařízení popsaných jak v patentech US 3.850.679 a 3.888.649, tak i v patentu GB 1.507.996»
V těchto patentech je v poddtatě popsáno distribuční zařízení předběžně připravených reakčních'plynů, ve kterém jsou tyto plyny vedeny na povrch skleněného pásu simultánně v celé jeho šířce ve formě'dvou následných clon (v případě dvou . prvních patentových spisů) nebo ve formě plynného výtoku přiváděného tangenciálně k povrchu skla ve stanovené délce skleněného pásu (v případě třetího z uvedených patentových spisů).
Tato zařízení však nemohou být použita pro.provádění ovrstaoaání metodou C.V.D., která byla popsána v předcházejícím textu, za účelem nanesení dopované nebo nedopované .vrstvy oxidu ciničitého, nebot již na vstupu plynné směsi chloridu ciničitého a vody do distribučního otvoru uvedených zařízení by došlo k prudké předčasné.reakci uvedených reakčních složek, a to v důsledku vysoké teploty (která je prakticky rovna teplotě ovrstvovaného skla a činí 5°° až 6°0 °C), na kterou jsou zahřátý stěny uvedeného distrtoučního otvoru. To má za následek další dva nedostatky, které spočívají v tom, že dochází jednak v menší či větší míře k ucpávání ejekčních otvorů distribučníht zařízení, a jednak k depozici nehomogenního povlaku oxidu ciničitého na skle, jehož kvanta po stránce elektrických, ‘ mechanických a fyzikálních vlastností je velmi proměnná.
Do značné míry řeší tyto nedostatky způsob a zařízení popsané v brisském patentovém spise č. 2.044.137, jehož předmětem je způsob a zařízení pro kontinuální ovrstvování povrchu podložky zahřáté na vysokou teplotu vrstvou pevného maatriálu, rezuutující z reakce alespoň dvou plynných reakčních složek případně zředěných plynem.
Tento způsob spočívá v tom, že uvedené toky reakčních složek maaí formu přímočarých plynných clon, přičemž příčný profil ·každé z těchto clon konverguje k fiktivní zarážce společné pro všechny toky a tyto clony a/nebo podložka jsou vzájemně uspořádány tak, že uvedená fiktivní zarážka je v poddtatě obsažena v rovině povrchu uvedené podložky, přičemž. se podložka a uvedené clony relativně posouval ve sm^iru, který je v poddtatě. kolmý k uvedené fiktivní zarážce, přičemž se dbá toho, aby uvedená fiktivní zarážka se stále nacházela v rovině povrchu uvedené podložky a aby plyny z reakce, rezuutující jako důsledek kontaktu uvedených clon na podložku, odcházely rovnoběžně s předem stanovenou částí podložky a na jednu i druhou stranu od uvedené fiktivní zarážky, načež se tyto plyny odsávají na konci uvedené předem stanovené části podložky situovaném proti uvedené fiktivní zarážce uvedených clon.
Při výhodném způsobu provedení tohoto způsobu jsou dvě ze tří clon tangenciální, přičemž střední clona je tvořena první reakční složkou a dvě laterální clony jsou tvořeny druhou reakční složkou.
V případě, že se tohoto způsobu použije pro ovrstvování podložky, zejména skleněné desky, zahřáté na vysokou teplotu, například na teplotu okolo 600 °C, vrstvou oxidu ciničitého vytvořenou reakcí kapalného SnCl^ a vodní páry, které jsou zředěny nosným plynem, jakým je například dusík, potom je střední plynná clona tvořena plynem zředěným SnCl^ a obě bočn^ plynné clony jsou tvořeny plynem zředěnou vodní parou.
Zařízení к provádění výše uvedeného způsobu zahrnuje:
- zdroj první plynné nebo zředěné reakční složky neředěné případně nosným plynem,
- zdroj druhé plynné nebo zředěné reakční složky, neředěné případně nosným plynem,
- trysku se třemi hubicemi majícími otvor tvořený přímočarou štěrbinou, přičemž boční stěny, vymezující roviny podélných hran každé štěrbiny, se sbíhají к fiktivní čáře společné pro všechny hubice, přičemž první z těchto hubic je první podélnou hranou svého ejekčního otvoru přilehlá к podélné hraně ejekčního otvoru druhé hubice a druhou podélnou hranou uvedeného ejekčního otvoru je přilehlá к podélné hraně ejekčního otvoru třetí hubice,
- první a druhý vodicí povrch, které vybíhají na předem stanovenou vzdálenost na jednu i druhou stranu od uvedených hubic počínaje od druhé podélné hrany ejekčního otvoru druhé a třetí hubice, přičemž uvedené vodicí povrchy jsou koplanární vzájemně a s podélnými hranami ejekčních otvorů hubic trysky a jsou vytvořeny jako kinematický celek s uvedenou tryskou,
- první distribuční rozvod spojující zdroj první reakční složky s první hubicí trysky,
- druhý distribuční rozvod spojující zdroj druhé reakční složky s druhou a třetí hubicí trysky,
- prostředky к dosažení vzájemného pohybu podložky a trysky ve směru v podstatě kolmém к uvedené fiktivní čáře,
- prostředky pro udržení konstantní vzdálenosti mezi rovinou, ve které leží ejekční otvory uvedených hubic trysky a uvedené vodicí povrchy, a povrchem podložky během uvedeného relativního pohybu podložky vůči trysce,
- alespoň jedno zařízení pro odtahování reakčního plynu, vznikajícího v prostoru mezi uvedenými vodícími povrchy a povrchem podložky, z konce tohoto prostoru, který je na vzdálenější straně od ejekčních otvorů hubic uvedené trysky.
Výše popsaný způsob a zařízení skutečně umožňuj s vysokou rychlostí ovrstvovat tabulové nebo deskové sklo vrstvou oxidu ciničitého s dostatečnou homooeeitou elektrických, mechanických a optických vlastnootí.
Kromě výše uvedených skutečnootí zahrnuje známý stav techniky.v daném oboru ještě následující patenty:
Evropská patentová přihláška EP-A-0 023 471 popisuje způsob a zařízení, které jsou podobné způsobu a zařízení popsaným v brisském patentu č. 2 044 137, přičemž základní rozdíl mezi druhým a prvním z těchto dokumentů spočívá v tom, že nosný plyn, použitý pro aplikaci metody C.V.D., obsahuje vysoký poddl redukčního činidla.
Francouzská patentová přihláška FR-A-2 288 068 zejména popisuje způsob a zařízení pro nanášení pomocí rozprašování kapaliny tenké vrstvy na povrch lisoového matteiálu. Takové zařízení obsahuje rozprašovací komoru, která obsahuje rozprašovací otvor nasměrovaný proti ovrstvovanému listu, a prostředky pro přivádění, jednak rozprašované kapaliny a jednak tlakového plynu pro vytlačování rozprašované kapaliny, do rozprašovací komory, přičemž je zařízení charakterizováno tím, že rozprašovací komora a její rozprašovací otvor probíhájí v převážně podélném směru a že prostředky pro přivádění kapaliny do rozprašovací komory zahrnuj ústící v této komoře štěrbinou probíhájcí ' podél komory paralelně s výše uvedeným směrem.
Francouzská patentová přihláška FR-A-2 068 937 popisuje způsob a zařízení pro vytváření povlaku z kovu nebo sloučeniny kovu na jedné straně skleněného pásu podélným posuvem. Popsané zařízení zejména obsahuje prostředky pro nesení horkého pásu skla, který se kontinuálně posouvá v podélném směru a prostředky pro vypouštění kapalného média na uvedený pás skla, přičemž uvedené vypooutěcí prostředky jsou uspořádány pro vypouutění alespoU jednoho proudu kapalného média na uvedenou stranu pásu, a to ve směru, který je šikmý vzhledem k povrchu uvedené strany, tak, že uvedený proud má složku rychlosti ve směru posunu pásu a že ostrý úhel dopadu nebo střední ostrý úhel dopadu uvedeného proudu na uvedený povrch pásu,.měřený k rovině, ve které probíhá podélný pohyb skleněného pásu, nepřesahuje 60 °C.
Britská patentová přihláška GM-2 068 937 popisuje způsob a zařízení pro nanášení vrstvy kovu nebo kovové sloučeniny na povrch zahřáté skleněné podložky. Toto zařízení zejména zahrnuje prostředky pro zajištění posuvu uvedené podložky vůči ostřkoovacímu otvoru, ze kterého jsou rozstřkkovány kapičky ovrstvovacího produktu, a prostředky pro ofukování ovrstvovaného povrchu plynem, přičemž proudění uvedeného plynu je st^řídí^e^vě souhlasné a nesouhlasné se ' směrem pohybu podložky.
Konečně evropská patentová přihláška EP-A-0 029 809 popisuje trysku pro současné dmýchání na podložku třech proudů plynných reakčních složek, jejichž smíšení se provádí v bezprootřední blízkosti povrchu podložky, přiěemž reakční produkt se deponuje na podložku ve formě povlaku. Obecně se tato tryska velmi podobá trysce popsané v britkkém patentu č. 2 044 137.
Přes všechna zlepšení přinesená zlepšeními z poslední doby byla ještě snaha zlepšit zařízení popsané v briskkém patentu ě. 2 044 137 a to zejména pokud jde o pravidelnost tloušťky naneseného povlaku a hžmoženitš jeho transparence. . PoddaUo se to moodfikací tvaru ejekčních otvorů a reakčních složek na výstupu hubic. Zařízení podle vynálezu pro kontinuální ovrstvování podložky zahřáté na vysokou teplotu pevným povlakem, vytvořeným kontaktem alespoU dvou reakčních složek v plynné fázi, zahrnuje zdroj první plynné reakční složky nebo první reakční složky zředěné nosným plynem; zdroj druhé plynné reakční složky nebo druhé reakční složky zředěné nosným plynem; trysku se třemi hubicemi majcími otvor tvořený přímočarou štěrbinou, přičemž směr bočních stěn, vymcenu^!^ podélné hrany každé štěrbiny, konverguje ke společné fiktivní čáře a první hubice tvořící centrální hubici je obklopena ostatními dvěmi hubicemi a navazuje jednak na druhou hubici v místě spojení jejich přileh235977 lých stěn a jednak na třetí hubici rovněž v místě spojení jejich přilehlých stěn tak, že plynné reakční složky opouštějící uvedené hubice směřují ke společné fiktivní čáře; první a druhý vodicí povrch, které tvoří s tryskou jeden celek a probíhají na jednu i druhou stranu od uvedených hubic vycházeje z krajních podélných hran ejekčních otvorů druhé a třetí hubice; první distribuční rozvod spojující zdroj první reakční složky s první huhubicí trysky, druhý distribuční rozvod spojující zdroj druhé reakční složky a s druhou a/nebo třetí hubicí trysky, prostředky pro zajištění vzájemného pohybu podložky vůči trysce ve směru, který je v podstatě kolmý к uvedené společné fiktivní čáře; prostředky pro udržení konstantní vzdálenosti mezi ejekčními otvory hubic trysky a vodícími povrchy a povrchem podložky během uvedeného vzájemného pohybu podložky vůči trysce, a alespoň jedno zařízení pro odtahování reakčního plynu, vznikajícího v prostoru mezi uvedenými vodícími povrcjiy a povrchem podložky, z konce tohoto prostoru, který se nachází na vzdálenější straně od ejekčních otvorů uvedené trysky, přičemž podstata zařízení podle vynálezu spočívá v tom, že ten z obou vodicích povrchů, který vybíhá opačným směrem než je směr posunu podložky vůči trysce, je kolmý ke střední rovině trysky a hrana, kterou tento povrch tvoří v ostrém úhlu s vnější prodlouženou stěnou třetí hubice, je transverzálně přesazena ve směru uvedeného posunu vůči střední rovině trysky, přičemž druhý vodicí povrch tvoří naopak s odpovídající podélnou stěnou druhé hubice zaoblenou hranu tak, že skutečný otvor trysky, nacházející se mezi uvedenou ostrou a zaoblenou hranou, je vyhnut tak, že plyny opouštějící tento skutečný otvor trysky jsou odchylovány ve směru posunu podložky a v podstatě ve směru paralelním se směrem tohoto posunu.
Výhodou zařízení podle vynálezu je, že umožňuje ještě znatelně snížit turbulenci plynů opouštějících hubice, zlepšit jejich vzájemné promíšení difúzí a zoptimalizovat průběh reakce. Důsledkem toho je zlepšení homogenity transparence získaného povlaku.
Na připojených výkresech je velmi schematicky zobrazena příkladná forma zařízení podle vynálezu.
Na obr. 1 je zobrazen celkový pohled na zařízení podle vynálezu.
Na obr. 2 je zobrazen detailně, perspektivně a ve vertikálním^ řezu jeden podstatný prvek zařízení podle vynálezu.
Na obr. 3 je prvek z obr. 2 zobrazen ještě více zvětšen.
Na obr. 4 je schematicky zobrazena jedna varianta zařízení z obr. 1, kde je pouze jedna z bočních hubic spojena s jedním ze zdrojů reakčních složek, zatímco druhá boční hubice je spojena prostřednictvím třetího distribučního rozvodu se zdrojem nosného plynu.
Zařízení zobrazené na obr. 1 je určené к ovrstvování podložky, která je v tomto konkrétním případě tvořena tabulí skla V udržovanou na vysoké teplotě, vrstvou oxidu ciničitého použitím techniky C.V.D. podle následující chemické reakce:
К tomuto účelu obsahuje zařízení především množinu válečků na kterých spočívá skleněná tabule V a po kterých se tato tabule pohybuje ve směru F, přičemž tyto válečky J_ jsou poháněny elektromotorem (který není znázorněn) tak, že se otáčí ve směru proti směru otáčení hodinových ručiček a jsou rozmístěny v délce potřebné pro požadovaný posun skleněné tabule. Rychlost otáčení válečků je nastavena tak, že se skleněná tabule V posouvá lineární rychlostí několika metrů za minutu, zejména lineární rychlostí 1 až 20 metrů za minutu.
Nad množinou uvedených válečků se nachází tryska 2t jejíž profil je zobrazen na obr. 2 a 3· Tato tryska zahrnuje tři hubice J, laj, které probíhají tryskou paralelně s osami uvedených válečků 1 v délce odpovídající šířce skleněné tabule V. Délka těchto trubic může být takto rovna i několika metrům. Jak je to vidět na obr. 3, jsou hubice J, 4 a £ tvořeny sestavou podélných profilů (эа, 6b, 7a a 7b, které jsou všemi možnými adekvátními prostředky připevněny ke dvěma párům profilů 9a, 9b a 1Qa, I Ob, které mezi sebou vymezují průchody 11 , 12 a 1 3, navazující na hubice A 4 a
Boční stěny 3a a 3b, 4a a 4b a 5a a 5b hubic j4 a 5, konverfují ke společné fiktivní čáre, nacházející se za spodním okrajem profilu 7b ale ještě v zóně ústí trysky 2, Výstupní otvory hubic .4 a nající tvar tří obdélníkových štěrbin probíhajících po celé délce uvedených profilů, mají šířku několika desetin milimetrů, například 0,-1 mm nebo 0,8 mm.
Šířka spodního povrchu profilů 6a a 6b činí s výhodou 10 až 20-násobek celkové šířky výstupních štěrbin hubic .1, 4 a j>.
S výhodou (avšak nikoliv bezpodmínečně) je tento spodní povrch profilů 6a a 6b povlečen vrstvou kovu, který je chemicky inertní, nebo slitinou takových kovů nebo vrstvou chemicky inertního oxidu. Jako příklad takového kovu lze uvést zlato nebo platinu. Jako oxidů lze použít oxidů ze skupiny zahrnující SnOg, SiOg a AlgO^.
Ve skutečnosti totiž obvykle používané kovy a slitiny, jako například ocel nebo mosaz, vykazují v přítomnosti některých složek nosného plynu, zejména vodíku, katalytický účinek rušící průběh požadované reakce, vedoucí к získání vrstvy oxidu ciničitého s požadovanými mechanickými, fyzikálními a optickými vlastnostmi.
Je samozřejmé, že uvedená sestava profilů tvořících trysku 2. je na obou bočních stranách uzavřena neznázorněnými uzávěrovými deskami zajištujícími celkovou těsnost trysky a dotvářejícími takto hubice Д a a průchody 11. 12 a 13. kterou jsou uvedenými deskami bočně uzavřeny. Kanály 14a, 14b, 14c a 14d, provedené v profilech 10a, 10b, 6a a 6b v celé jejich délce, umožňují cirkulaci kapaliny, například oleje, tryskou za účelem udržování trysky 2 na optimální provozní teplotě (100 až 160 °C).
Jiná deska 15 překrývá vrchní povrch trysky 2_ v celém-jeho rozsahu za účelem vzduchotěsného oddělení průchodů 11 , 12 a 13«
Rovněž je třeba poznamenat, že profil a jemnost opracování povrchu stěn, vymezujících jak hubice 4 a tak i průchody 11. 12 a 13 (obr. 2), stejně jako uvedených bočních desek jsou takové, že při průtoku plynu rychlostí 3 až 6 1/h na centimetr délky trysky má proudění plynu na výstupu z hubic laminární charakter.
Po stranách trysky 2 a po celé její délce se ve znázorněném zařízení nacházejí dva odsávací kanály 16 a 17 (obr. 1 a 2), které mají čtvercový nebo jiný vhodný profil a které jsou uspořádány vedle dříve popsaných podélných profilů přibližně ve stejném odstupu od podložky jako tyto podélné profily 6a a 6b. Každý z těchto kanálů má jeden nebo dva podélné otvory, a to podélné otvory 16a a 16b v případě odsávacího kanálu 16, a podélné otvory 17a a 17b v případě odsávacího kanálu 17. Tyto odsávací kanály jsou spojeny přes systém vedení 18 se vstupem do odsávacího čerpadla 19. které je svým výstupem připojeno ke spodku promývací věže 20, naplněné žáruvzdorným materiálem (Raschigovy kroužky).
Zařízení zobrazené na obr. 1 navíc obsahuje dvě termostatované probublávací nádoby 21 a 22 obsahující jednak kapalný chlorid ciničitý (první nádoba) a jednak vodu (druhá nádoba), dva ,průtokoměry 23 a 24 s regulačními hradítky 23a a 24a, napájené směsí dusíku a vodíku ve stanoveném poměru, například v poměru 60/40, a dva ventily 25 a 26 umístěné na trubkách 27 .a 28, spojujících uvedené průtokoměry s uvedenými probublávacími nádobami.
Dvě vedení 29 8 30 spojuj výstupy z probublávacích nádob 21 a 22 s průchodem 11 a s průchody 12 a 13 trysky 2, to znamená's hubicí 2 této trysky (vedení , , 291 a s hubicemi 2 a (vedení J0) téže trysky.
Vedení 29 a 30 prochází ohraničeným prostorem , který je na obr. 1 schematicky vymezen čercho.vanou čárou a který obsahuje ohřívací kapalinu, například olej, udržovaný na konstantní teptotě asi I00 až 130 °C · v závislosti na nastaveni reakcích podmínek.
Jak je to patrné zejména z obr. 3, je vodicí povrch 51 podélného profilu 6b. který ‘ se nachází před tryskou, uvažováno vzhledem k posuvu podložky vůči této trysce, rovnoběžný s podložkou a žebro, tvořené hranou £3 společnou pro uvedený vodicí povrch 51 a vnější stěnou 5b třetí hubice 2> Je příčně přesazeno ve směru posunu podložky vzhledem ke střední axiální rovině trysky. Naopak vodicí povrch 52 podélného profilu 6a tvoří se stěnou 4b druhé hubice zaoblenou hranu £4. Z tohoto uspořádání vyplývá, že skutečný výstupní otvor trysky, n^<^l^h^2^ze^Lcí se za mst^e^m kontaktu plynů a mezi hranou 53 a zaoblenou hranou 54. je vyhnut., směrem dopředu a že tedy plyny výstupu jící z tohoto -ýstupního otvoru trysky jsou odchylovány ve směru posunu skleněné desky V a v podstatě paralelně s touto deskou. Takto odchýlený plyn naráží na podložku určenou k ovrstvení mírnněl, než tomu bylo u dosud známých uspořádání; v důsledku toho je turbulence proudění, což má zase za následek zmennení počtu chyb v nanesené vrstvě, ke kterým příležitostně docházelo v dosud známých uspořádáních. Je třeba rovněž . poznamennt, že druhý vodicí povrch 52 bůtetoýt skloněn vzhledem k podložce ve směru jejího posunu, přičemž tento sklon má za účel urychlení pohybu plynů opooššějících trysku. ‘
Dále je třeba · pozname^t, že průtok plynů je rovněž regulován porézním materiálem 55 (například tvořeným uhlíkovými vlákny nebo tefonnovými vlákny) v průchodech 11,.12 a 13.
Výše popsaným zařízením je možné owstvit například skleněnou desku povlakem oxidu ciničitého tloušťky asi 0,5 Mm, který má současně velmi dobrou transparenci, relativně dobrou elektrickou vodivoot, pozoruhodnou adhezi ke sklu a zvýšenou odolnost, vůči meehanickému poškození účinkem kyselin.
Expprjmenném zařízení tohoto typu vybavené tryskou délky 20 cm a otvory hubic 3» 4 a £ o šířce 0,2, 0 1 a 0,1 mm umoobuje zpracovat skleněnou desku širokou 20 cm a silnou 4 mm, která je zahráta na teplotu 600 °C a posouvána ve směru F (obr. 1 a 2) rychlostí 1,2 m/min. Vzzááenost oddSěující spodní povrch trysky od povrchu skla je rovna 3 mm. Rychlost nárůstu povlaku je asi 0,3 fim/s.
Bylo použito probublávacích nádob 21 a 22 s objemem asi 200 až 300 ml kapalného SnCl^ v nádobě 21 a týmž objemem vody v nádobě 22. Tyto probublávací nádoby byly zahřívány na takovou teplotu, že při průtoku nosného plynu probublávací nádobou 21 60 1/h a probublávací nádobou 22 120 1/h, přičemž tyto průtoky jsou nastaveny regulačními hraditky 23a a 24a. se dosáhne průtoku reakční složky zředěné v nosném plynu 2 mooy/h chloridu ciničitého a 1 moo/h vody. Kromě toho se tryska udržuje na teplotě 120 °C cirkulací oleje v kanálech 14a, 14b, 14c a 14d.
Vzhledem k danému profilu hubic i, 4 a £ trysky 2 zejména s ohledem na skutečnost, že stěny těchto hubic konverguj k uvedené společné fiktivní čáře vstupují proudy plynů, a sice proud SnCl^ z hubice 1 a vodní pára z hubic _4 a £, které jsou laminární, do vzájemného kontaktu tak, že se nejdříve dotýkají tangenciálně a potom stále více přímo tou měrou, jak se blíží podložce určené k ovrstvení. Je samozřejmé, že proudění složené ze tří plynných toků je tím více·turbulentní, čím prudší je vzájemná penetrace těchto tří toků, pročež je tato vzájemná penetrace pomocí ·vodicích povrchů 51 a 52 retardována a probíhá zvolna na povrchu skla V, který je oftřát na teptotu asi 600 °C, takže na tomto povrchu prohne následující reakce:
SnC^ + 2 H20
Je třeba také poznamenat, že je možné použít i jin,ých opatření pro zmírnění reakčních podmínek a zabránění tomu, aby se na výstupu hubic 4 a £ tvořila v některých případech velká množství oxidu ciničitého (Sn02) a hydrátů typu SnO2.H2O, což by vedlo к částečnému nebo úplnému ucpání uvedených hubic, a aby se oxid ciničitý ukládal na sklo v podobě bílého povlaku a nikoliv ve formě požadované polovodivé transparentní vrstvy.
Za tímto účelem je možné к oběma plynným proudům SnCl^ a H20 přidat redukční činidlo. Toto Činidlo je tvořeno vodíkem přimíšeným к nosnému plynu. Vodík je plyn, který nereaguje s chloridem ciničitým ani 8 vodou. Je tedy také použitelný jako inertní nosný plyn.
К výše uvedené slučovací reakci nedochází pouze ve střední zóně trysky 2t tj. v blízkosti části této trysky, do které ústí hubice 4 a % Ve skutečnosti tato reakce mezi chloridem ciničitým a vodou probíhá i mimo tuto střední část, nebol odsávací Čerpadlo 19 funguje tak, že přes odsávací kanály 16 a 17 uspořádané na jedné i druhé straně trysky vytváří v le.v.é i pravé části prostoru mezi skleněnou deskou JZ a spodním povrchem podélných profilů 6a a 6b trysky podtlak. V důsledku toho v tomto prostoru dochází к plynnému proudění směřujícímu ze střední části tohoto prostoru do odsávacích kanálů 16 а 1 7. Tento proud plynů zahrnuje zejména část chloridu ciničitého a vody, které jsou dispergovány v nosném plynu a které dosud nezreagovaly, již vytvořené páry HC1, stejně jako i určité množství nosného plynu oproštěného od reakčních složek, které již zreagovaly. Proto tedy reakce mezi oxidem ciničitým a vodou pokračuje i v určité vzdálenosti na obě strany od fiktivní společné čáry, ke které konvergují uvedené hubice. Je samozřejmé, že v důsledku odchýlení plynů ve směru posunu podložky jímá odsávací kanál 1 6 více spalin než odsávací kanál 17.
Intenzita odsávání přes odsávací kanálky 16 a 17 se volí tak, že reakční složky opouštějící trysku 2 se zdrží v uvedeném prostoru pouze na dobu, která je nezbytně nutná к vytvoření povlaku na skíe, přičemž tento povlak má formu transparentní vrstvy a nikoliv formu práškovitého nárůstu. Je samozřejmé, že uvedené odsávání zase nesmí být příliš intenzivní, nebol by reakční složky opouštějící trysku neměly Čas dosáhnout povrchu skla. Intenzita odsávání je tedy rozhodující pro kvalitu a rychlost nárůstu povlaku. Rovněž je třeba poznamenat, že díky tomuto odsávání se prostor mezi tryskou a povrchem skla, ve kterém dochází к uvedené reakci, odizoluje od okolní atmosféry, takže se zabrání jednak případnému pronikání do tohoto prostoru dodatečné vlhkosti, která by mohla ovlivnit průběh slučovací reakce a jednak unikání do atmosféry škodlivých plynů, například HC1, nebo vodíku, nebol okolní vzduch má tendenci přitékat ke štěrbinám 16a a 16b nebo ke štěrbinám 17a a 17b procházejíc mezi kanálem 16 nebo 17, skleněnou deskou V a tryskou 2^.
Plynné produkty nasávané odsávacím čerpadlem 19 jsou vedeny do promývací věže 20, kde dochází ke stržení těkavých podílů kyselin, které jsou jako kyselý roztok oddělovány od plynů a odtahovány odtahovacím vedením 20a, ePři dodržení výše popsaných reakčních podmínek činil výtěžek reakce asi 60 %. Sklo bylo ovrstveno po célém povrchu vrstvou oxidu ciničitého, mající tloušlku 0,5 pm, transparenci 80 až 90 % a průměrný odpor RQ = 100Ώ,
Kromě toho se ukázalo, že takto získaná vrstva oxidu ciničitého má zvýšenou tvrdost, a to vyšší než je tvrdost skla, na kterém je tato vrstva nanesena. Získaná vrstva se ukázala také odolnou i vůči velmi intenzivnímu mechanickému namáhání, například vůči rázovému namáhání, jakož i vůči působení kyselin. Toto sklo mohlo být po zahřátí na teplotu 600 až 700 °G podrobeno vydutí s poloměrem zakřivení 15 cm, a to bez zhoršení kvality povlaku oxidu ciničitého. Rovněž bylo možné toto sklo tvrdit za obvyklých podmínek pro normální sklo. Konečně je třeba poznamenat, že toto sklo ovrstvené vrstvou oxidu ciničitého za výše popsaných podmínek může být řezáno diamantem na lícní nebo rubové straně aniž by přitom došlo к odlupování vrstvy oxidu ciničitého.
V následujícím textu bude popsána varianta zařízení podle vynálezu zobrazeného na obr^, 1 , která je určena zejména pro průmyslové aplikace. Tato varianta je schematicky zobrazena na obr. 4, kde je použito stejných vztahových značek jako na obr. 1 v případě, že jde na obou obrázcích o odpovídající prvky zařízení.
Zařízení z obr. 4 obsahuje kromě trysky 2 určené к vedení reakčních složek к povrchu skleněné desky V, jak to již bylo popsáno v případě obr. 1 , a odsávacích kanálů 16 a 1_7 pro odsávání plynných spalin, také první napájecí rozvod chloridu ciničitého zahrnující nádobu 21 s chloridem ciničitým, odpařovák 101 vyhřívaný na teplotu 120 až 150 °C a.dávkovači čerpadlo 102, umožňující nastavení kalibrovaného průtoku chloridu ciničitého. Skrze odpařovák 101 rovněž proudí proud nosného plynu (N2 nebo směs N2 H2), jehož průtok je regulován ventily 103 a 1 04 a měřen rotametrem 105* Krčmě toho umožňuje rezervní zásobník 106 s obsahem HF přidávat do proudu chloridu ciničitého fluor otevíráním hradítka 107. Tento první napájecí rozvod je spojen se střední hubicí Д vedením 29.
Uvedené zařízení také obsahuje druhý napájecí rozvod vody připojený к hubici Д vedením 30; tento rozvod obsahuje zásobník vody 22, odpařovák 111, čerpadlo 112, ventily 11 3 a 114 a průtokoměr 115«
Konečně obsahuje zařízení ještě třetí napájecí rozvod samotného nosného plynu, který zahrnuje ventily 123 a 124» průtokoměr JJ2.5 a přívodní vedení 126 spojené s hubicí Zbývající prvky zařízení, které jsou nebo nejsou znázorněny na obr. 4 jsou analogické s prvky popsanými na obr. 1 až 3«
Funkce této varianty zařízení je až na málo totožná s funkcí již popsaného zařízení, přičemž se toto zařízení hodí к průmyslovým aplikacím v důsledku možnosti nezávislé regulace průtoků reakčních složek (.čerpadly 102 a 112) a průtoku nosného plynu. Samostatný přívod nosného plynu hubicí Д umožňuje ještě zlepšit pravidelný průběh reakce.
V zařízení, které bylo právě popsáno, byl zpracován skleněný pás „floať* široký 3 m cirkulující rychlostí 11,5 m/min v zóně umístěné mezi výstupem z lázné roztaveného cínu a vstupem chladící pece. Zařízení má 5 trysek, které jsou obdobné s tryskou 2 a mají rozpětí 1 metru, přičemž jsou uspořádány v sérii a jsou přesazeny tak, že zabírají celou šířku skla. Hubice jsou napájeny následujícím způsobem:
Hubice Д: celkový průtok SnCl^: 1,44 Nm3/h; nosný plyn (N2/H2, 60/40): 1,6Nm3/h.
Hubice j£: celkový průtok vody (5 % HF): 0,92 Nm3/h; nosný plyn (N2/H2): 1,58 Nm3/h.
Hubice Д: nosný plyn (N2/H2): 2,5 Nm3/h.
/
Celkový průtok byl tedy 0,5 Nm3/h/hubfcce; šířka štěrbiny byla 0,4 mm. Za výše uvedených podmínek/oyl získán povlak oxidu ciničitého tloušlky 0,14 pm, mající střední odpor = Rq = = 90П a 90% transparenci ve viditelné oblasti spektra.
Zařízení, které bylo popsáno s odkazy na obrázky 1 až 3, může být rovněž použito pro nanesení vrstvy TiO2 na skleněnou desku metodou C.V.D.. Za tímto účelem stačí nahradit v probublávací nádobě 21 chlorid ciničitý chloridem titaničitým. Rovněž je možné použít nosného plynu tvořeného výlučně dusíkem.
Na výstupu z trysky £ bude potom probíhat následující reakce:
TiCl4 + 2 H2O ---> TiO2 + 4 НС1Г
1
Při jednom konkrétním provedení má skleněná deska šířku 20 cm a tloušťku 4 mm, je zahřátá na teplotu 600 °C a je posouvána v po^lném směru před tryskou 2 rychlost 1,2 pm/min, přičemž se nachází ve vzdálenooti 3 mm od této trysky. Regulačními hradítky 23a a 24a se průtok nosného plynu nastaví na 60 1/h v průtokoměru 23 a na 120 1/h v průtokoměru 24. Probublávací nádoby 21 a 2_2 jsou zahřívány na takovou teplotu, že se nastaví následující průtoky reakčních složek: 0,2 mol/h chloridu titaničitého a 0,01 moo/h vody.
Tímto způsobem se získá vrstva oxidu titaničiíého tlouštky 0,01 pm, mající 75% transparenci ve viditelné oblasti světla a vyšší odrazivost ve viditelné obb^í^f^ti světla ·než sklo, na kterém je tato vrstva nanesena. Odoonost vůči mechanickému namáhání je srovnatelná s odolností povlaku oxidu tit^s^ni^čiLé^h^o, který byl získán předešle popsaným způsobem.
Obecně může být odolnost, odrazivost a transparence vrstev oxidu na skle tlouštíky vyšší než 0,5 jum výrazně zlepšena tak, že se tyto vrstvy dopují fluorem. Za tímto účelem se s výhodou pouuije zařízení popsané na obr. 1, doplněné zásobníkem 41 obsahujícím plynný fluorovodík a vedením 42, spojujícím tento zásobník s vedením 30. přičemž oba tyto doplňky jsou na obr. 1 zobrazeny přerušovanou čarou.
Sklo tlouštky 4 mm a zabité na tep.lotu okolo 600 °C bylo ov^^eno 0,75 pm silnou vrstvou oxidu ciničitého dopovanou fluorem, přičemž toto sklo se vůči trysce pohybovalo rychlostí 1,2 m/min a nacházelo se ve vzdálenooti 3 mm od této trysky. Průtoky nosného plynu (směs N2 a 40 % ^) byly: 60 1/h pro chlorid ciničitý a pro vodní páru. Průtok fluorovodíku byl 0,1 1/min.
Ukázalo se, že vrstva oxidu cin^ilého dopovaná fluorem má vynikající vlastnooti. Její odpor Rq = 6£>, její odrazivost ve viditelné ^^Í^í^í^Ilí světla je vyšší než odrazivost skla, které tuto vrstvu nese a její odrazivost v infračervené je poddtatně zvýšená a dosahuje hodnoty 75 %· Kromě toho transparence této vrstvy ve viditelné ob^sti světla je 85 %· Rovněž meehanická odolnost se výrazně zvýšila: sklo ovrstvené vrstvou oxidu ciničitého dopovanou fluorem může být tepelně tvrzeno steňným způsobem, jakým se tradičně tvrdí autom^o^iiLová skla, například boční skla. Rovněž je možné takové sklo tepelně vydout (při teplo asi 65° °C) s polom^em zakHve^ 15 ^, aniž by ioom došlo к mo.Hfitoaci vlastností vrstvy oxidu ciničitého dopované fluorem. Navíc může být toto sklo zpracováno tradičním způsobem (řezání, formování a podobně), · a to bez poškození dopované vrstvy. Vrstva oxidu cin^ilého dopovaná fluorem má vyšší tvrdost než sklo, které jí nese, a nemůže být proto poškrábána; kromě toho byla dopováním vrstvy zlepšena i odolnost vůči účinku kyselin a odolnost vůči rázovému namáhání.
Vrstvu oxidu ciničitého je rovněž možné dopovat antimonem a za tímto účelem je možné' bučí přimísit chlorid antimoničný k chloridu ciničitému v probublávací nádobě 21 anebo připojjit k přívodnímu vedení 29 vedoucímu ke střední hubici J trysky £ dodatkovou probublávací nádobu obsahuuící chlorid antimonitý.
Je třeba 'poznamennt, že vrstva oxidu ^ničitého dopovaná fluorem nebo antimonem a nanesená na sklo za dodržení výše uvedených podmínek může být ještě překryta střbbrem nebo stMbnným nátěrem, naneseným při teplotě 600 C, napríklad za účelem vytvořeM ehttriclýM kontaktů. Takový stříbrný povlak má dobrou adhezi k povrchu vrstvy oxidu ctnič^tého.
Podle kladených požadavků mohou být v zařízení podle vynálezu zpracovány skleněné desky nebo pásy všech rozměrů a vyrobeny vrstvy oxidu ^ničitého nedoprané nebo· dopované antimonem nebo fluorem. Jedné se o požadavky fyzikální a zejména elektrické.
Přestože má vrstva oxidu ciničitého, která nebyla dopována, relativně vysoký odpor ve srovnání s odporem obdobné vrstvy dopované antimonem nebo fluorem, může být skleněná deska ovrstvená takovouto vrstvou použita například pro výrobu oken nebo skleněných dveří bytů, lodí nebo vlaků a to zejména vzhledem k dobré transparenci ve viditelné oblasti světla a relativně dobré odrazivosti v oblasti infračerveného světla.
Tato izolační schopnost je evidentně lepši, jestliže se jedná o sklo ovrstvené vrstvou oxidu ciničitého dopovanou antimonem nebo o sklo ovrstvené vrstvou oxidu ciničiéého dopovanou fluorem. Navíc jestliže je odpor takových vrstev doolti .snížen v případě vrstvy oxidu ciničiéého dopované a značně snížen v případě vrstvy dopované fluorem, potom je možná použít skla ovrstvená takto dopovanou vrstvou oxidu ciničitého jako vyhřívaných oken, například jako zadních skel vozidel.
Navíc bylo pozorováno, že jestliže se skleněná deska ovrství vrstvou oxidu ciničiéého dopovanou antimonem nebo fluorem nebo nedopovanou a poéom umlítí do atmooféry s vysokou vLhkoosí,' poéom se nepokrývá jednotnou vrstvou nekondenzované vodní páry, ale spíše mnooinou kapiček, která tolik nezhoršuje průhlednost takovéto skleněné desky.
Tato vlastnost je velmi výhodná u skleněných desek určených pro výrobu oken, zejména oken vozidel a obzvváště pro výrobu předních a zadních oken automoonů, autobusů a nákladních automooHů. t
Je třeba konečně poznamenat, že je rovněž možné pouužt vodíku jakožto kontrolního prostředku pro slučovací reakci chloridu ciničitého s vodou i v případě, kdy tato reakce probíhá v rámci jiného způsobu metody C.V.D., jako například v rámci způsobů popsaných H. Kochem v již ·zmíněném článku anebo způsobu popsaném v německém DOSu č. 2 123 274·
Příklad
Pouužje se zařízení, které je zobrazeno na se p^i^u^ž.je následujících reakčních a provozních obr. 1 a trysky zobrazené na obr. 3, přičemž podmínek:
Reakční teplota podložky:
590 °C
Provozní tlak:
atmooférický
Průtok vodní páry (vedení 30) ·
Kooacnarace HF ve vodě:
Složení nosného plynu:
Průtok plynu v nádobě 21 (SnCC^):
Teppota v nádobě 21 :
mol HgO/h
i. 250 1/h páry
2/98 (obj/obj.)
H2/N2 40/60 (o^j^./obj.)
370 1/h
120 °C
Průtok SnCl^:
Rycdost posunu skla V:
moo/h
1,2 m/min
Rycdost odsávání reakčních plynů:
500 1/h
Průtok nosného plynu:
500 1/h.
Tímto způsobem se získá vrstva maajcí násle^u^cí vlastnosti:
Tloušťka:
0, o pm
Odpor Ra :
Ω
Transparence:
Jestliže se ve výše uvedeném příkladě nahradí tryska s vyhnutým prouděním podle vynálezu známou tryskou podle britského patentu GB 2 044 137, u které dochází ke kolmému dopadu .proudu plynů na podložku, potom se získají obdobné výsledky, ale v některých místech povlaku je možné pozorovat stopy závojování.

Claims (5)

PŘEDMĚT VYNÁLEZU
1. Zařízení pro kontinuální ovrstvování podložky zahřáté na vysokou teplotu pevným povlakem, vytvořeným uvedením do styku alespoň dvou reakčních složek v plynné fázi, zahrnujícízdroj první plynné reakční složky nebo první reakční složky zředěné nosným plynem; zdroj druhé plynné reakční složky nebo druhé reakční složky zředěné nosným plynem; * trysku se třemi hubicemi majícími otvor tvořený přímočarou Štěrbinou, přičemž směr bočních stěn, vymezujcích podél hrany každé štěrbiny, konverguje ke společné fiktivní čáře a první hubice tvořící centrální hubici je obklopena dvěmi zbývvjícími hubicemi a navazuje jednak .
na druhou hubici v místě spojení jejich přilehlých stěn a jednak na třetí hubici v místě spojení jejich přilehlých stěn tak, že plynné reakční složky opouušějící uvedené hubice smmřuuí ke společné fiktivní čáře; první a druhý vodicí povrch, který tvoří s tryskou jeden celek a probíhají do určité dané vzdálenooti na jednu i druhou stranu od uvedených hubic vycházeje od krajních podélných stěn ejekčních otvorů druhé a třetí hubice; první distribuční rozvod spc^;^i^;^3Lcí zdroj první reakční složky s první hubicí trysky; druhý distribuční rozvod spo^uící zdroj druhé reakční složky s druhou hubicí a/nebo třetí hubicí trysky; prostředky pro zajištění vzájemného pohybu podložky vůči trysce, který je v podstatě kolmý к uvedené společné fiktivní čáře; prostředky pro udení toonstyitní vzdáleno ti mezi ejekčními otvpry hubic trysky a vodícími povrchy a povrchem podložky během uvedeného vzájemného pohybu podložky vůči trysce; alespoň jedno zařízení pro odtahování reakčního plynu, vznikajícího v prostoru mezi uvedenými vodícími povrchy a povrchem podložky, z konce tohoto prostoru, který se nachází na vzdáleněěší straně od ejekčních otvorů uvedené trysky, vyznačené tím, že ten (51) z obou vodicích povrchů, který vybíhá opačným směrem než je směr (F) posunu podložky vůči, trysce (2), je kolmý ke střední rovině trysky a hrana (53), kterou tento povrch tvoří v ostrém úhlu s vnější podélnou stěnou (5b) třetí hubice, je transverzálně přesazena ve směru uvedeného posunu vůči střední rovině trysky, přičemž druhý vodicí povrch (52) tvoří naopak s odpovídaje! podélnou stěnou (4b) druhé trubice zaoblenou hranu (54) tak, že skutečný otvor trysky, nacháázeící se mezi uvedenými hranami (53, 54), je vyhnut tak, že plyny opoouštěící tento skutečný otvor trysky jsou odchylovány ve směru posunu podložky a v poddtatě ve směru paralelním se směrem tohoto posunu.
2. Zařízení podle bodu 1, vyznačené tím, že jedna z hubic (3) nebo (4) je spojena s druhým distríuučním rozvodem, přičemž zařízení obsahuje ještě třetí distribuční rozvod (123 až 126) spoUující zbýv^ící hubici se zdrojem nosného plynu.
3. Zařízení podle bodu 1 nebo 2, vyznačené tím, že druhý vodicí povrch (52) je skloněn vzhledem k podložce a ve směru reljtCvaíhu posunu této podložky za účelem pravidelného urychlení plynů postupuuících ve směru posunu podložky.
4. Zařízení ppode bodů nebo 2, vyznačené tím, ž^e šířka štěrbin tvořících ejekční otvory hubic (3, 4, 5) trykky ee rovna alspooň O11 mm a nejvýše rovna 0,8 mm.
* 5, ZaZázzní ipodde bodů 1 nebo 2, vyznačené tím, že první vodicí povrch (51) a druhý vodicí povrch( 52) vvrihajj na Izdnu i druhou srannu od hubic (4, 5)1 t^kty do vzdálenosti rovné 10 až 20 násobku příčných rozměrů štěrbin tvořících ejekční otvory hubic.
CS829554A 1981-12-22 1982-12-22 Equipment for continuous coating of a plate,high temperature hot,by means of solid coat CS235977B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH821181A CH643469A5 (fr) 1981-12-22 1981-12-22 Installation pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS235977B2 true CS235977B2 (en) 1985-05-15

Family

ID=4336860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS829554A CS235977B2 (en) 1981-12-22 1982-12-22 Equipment for continuous coating of a plate,high temperature hot,by means of solid coat

Country Status (23)

Country Link
US (1) US4446815A (cs)
JP (1) JPS58114726A (cs)
KR (1) KR890000873B1 (cs)
AU (1) AU551974B2 (cs)
BE (1) BE895412A (cs)
BR (1) BR8207390A (cs)
CA (1) CA1197375A (cs)
CH (1) CH643469A5 (cs)
CS (1) CS235977B2 (cs)
DD (1) DD204907A5 (cs)
DE (1) DE3247345A1 (cs)
DK (1) DK161808C (cs)
ES (1) ES8400998A1 (cs)
FR (1) FR2518429B1 (cs)
GB (1) GB2113120B (cs)
IT (1) IT1155007B (cs)
LU (1) LU84539A1 (cs)
MX (1) MX157630A (cs)
NL (1) NL8204898A (cs)
PL (1) PL133525B1 (cs)
SE (1) SE451112B (cs)
TR (1) TR21862A (cs)
ZA (1) ZA829305B (cs)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU3994785A (en) * 1984-02-13 1985-08-27 Schmitt, J.J. 111 Method and apparatus for the gas jet deposition of conductingand dielectric thin solid films and products produced there by
JPS6169961A (ja) * 1984-09-13 1986-04-10 Agency Of Ind Science & Technol 霧化薄膜作製装置用ノズル
AT386762B (de) * 1985-05-08 1988-10-10 Zimmer Johannes Verfahren und vorrichtung zum impraegnierenden und/oder beschichtenden auftragen auf eine warenbahn
US5160543A (en) * 1985-12-20 1992-11-03 Canon Kabushiki Kaisha Device for forming a deposited film
US4928627A (en) * 1985-12-23 1990-05-29 Atochem North America, Inc. Apparatus for coating a substrate
US5391232A (en) * 1985-12-26 1995-02-21 Canon Kabushiki Kaisha Device for forming a deposited film
AT396340B (de) * 1986-11-17 1993-08-25 Zimmer Johannes Verfahren und vorrichtung zum impraegnierenden und/oder beschichtenden auftragen fluessiger, gegebenenfalls verschaeumter substanzen
US4793282A (en) * 1987-05-18 1988-12-27 Libbey-Owens-Ford Co. Distributor beam for chemical vapor deposition on glass
JPH0647073B2 (ja) 1988-07-08 1994-06-22 忠弘 大見 プロセス装置用ガス供給配管装置
US5906688A (en) * 1989-01-11 1999-05-25 Ohmi; Tadahiro Method of forming a passivation film
US5591267A (en) * 1988-01-11 1997-01-07 Ohmi; Tadahiro Reduced pressure device
US5313982A (en) * 1988-07-08 1994-05-24 Tadahiro Ohmi Gas supply piping device for a process apparatus
GB8824102D0 (en) * 1988-10-14 1988-11-23 Pilkington Plc Apparatus for coating glass
US5789086A (en) * 1990-03-05 1998-08-04 Ohmi; Tadahiro Stainless steel surface having passivation film
US5136975A (en) * 1990-06-21 1992-08-11 Watkins-Johnson Company Injector and method for delivering gaseous chemicals to a surface
US6379466B1 (en) * 1992-01-17 2002-04-30 Applied Materials, Inc. Temperature controlled gas distribution plate
GB9300400D0 (en) * 1993-01-11 1993-03-03 Glaverbel A device and method for forming a coating by pyrolysis
US5863337A (en) * 1993-02-16 1999-01-26 Ppg Industries, Inc. Apparatus for coating a moving glass substrate
US5599387A (en) * 1993-02-16 1997-02-04 Ppg Industries, Inc. Compounds and compositions for coating glass with silicon oxide
US5356718A (en) * 1993-02-16 1994-10-18 Ppg Industries, Inc. Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glasss and coated glass substrates
DE4325011A1 (de) * 1993-07-28 1995-03-02 Herlitz Michael Erweiterung von Entspiegelung wie bei Brillengläsern üblich auf Autoglasscheiben sowie weitere Kraftfahrzeuge und Verkehrsmittel, sowie alle anderen Silikat- und Kunststoffscheiben
US5425810A (en) * 1994-05-11 1995-06-20 Internation Business Machines Corporation Removable gas injectors for use in chemical vapor deposition of aluminium oxide
TW359943B (en) * 1994-07-18 1999-06-01 Silicon Valley Group Thermal Single body injector and method for delivering gases to a surface
US6200389B1 (en) 1994-07-18 2001-03-13 Silicon Valley Group Thermal Systems Llc Single body injector and deposition chamber
US6022414A (en) * 1994-07-18 2000-02-08 Semiconductor Equipment Group, Llc Single body injector and method for delivering gases to a surface
FR2724923B1 (fr) * 1994-09-27 1996-12-20 Saint Gobain Vitrage Technique de depot de revetements par pyrolyse de composition de gaz precurseur(s)
TW356554B (en) * 1995-10-23 1999-04-21 Watkins Johnson Co Gas injection system for semiconductor processing
US5698262A (en) * 1996-05-06 1997-12-16 Libbey-Owens-Ford Co. Method for forming tin oxide coating on glass
US6055927A (en) * 1997-01-14 2000-05-02 Applied Komatsu Technology, Inc. Apparatus and method for white powder reduction in silicon nitride deposition using remote plasma source cleaning technology
US5938851A (en) * 1997-04-14 1999-08-17 Wj Semiconductor Equipment Group, Inc. Exhaust vent assembly for chemical vapor deposition systems
US6103015A (en) * 1998-01-19 2000-08-15 Libbey-Owens-Ford Co. Symmetrical CVD coater with lower upstream exhaust toe
US20010040230A1 (en) * 1999-11-30 2001-11-15 Woo Sik Yoo Compact gate valve
US6302965B1 (en) * 2000-08-15 2001-10-16 Applied Materials, Inc. Dispersion plate for flowing vaporizes compounds used in chemical vapor deposition of films onto semiconductor surfaces
US6698718B2 (en) 2001-08-29 2004-03-02 Wafermasters, Inc. Rotary valve
JP4124046B2 (ja) * 2003-07-10 2008-07-23 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置
DE102006043542B4 (de) * 2006-09-12 2012-05-16 Innovent E.V. Verfahren zum Beschichten von Oberflächen
DE102006043543B4 (de) * 2006-09-12 2012-05-10 Innovent E.V. Homogenisator für der Beschichtung von Oberflächen dienende Gasströme
JP2008169437A (ja) * 2007-01-11 2008-07-24 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 製膜装置
KR20110014653A (ko) * 2008-05-19 2011-02-11 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 전자 소자에서 증기 코팅 장치 및 방법
US20100212591A1 (en) * 2008-05-30 2010-08-26 Alta Devices, Inc. Reactor lid assembly for vapor deposition
EP3471130A1 (en) * 2008-12-04 2019-04-17 Veeco Instruments Inc. Chemical vapor deposition flow inlet elements and methods
US8931431B2 (en) * 2009-03-25 2015-01-13 The Regents Of The University Of Michigan Nozzle geometry for organic vapor jet printing
US9540277B2 (en) * 2011-03-23 2017-01-10 Pilkington Group Limited Apparatus for depositing thin film coatings and method of deposition utilizing such apparatus
JPWO2013008895A1 (ja) 2011-07-12 2015-02-23 旭硝子株式会社 積層膜付きガラス基板の製造方法
TW201309838A (zh) * 2011-07-12 2013-03-01 Asahi Glass Co Ltd 附積層膜之玻璃基板之製造方法
CN104310796A (zh) * 2014-09-26 2015-01-28 蓝思科技(长沙)有限公司 一种玻璃材料表面as膜方法及其装置
DE102014117492A1 (de) * 2014-11-28 2016-06-02 Aixtron Se Vorrichtung zum Abscheiden einer Schicht auf einem Substrat
US11588140B2 (en) * 2018-01-12 2023-02-21 Universal Display Corporation Organic vapor jet print head for depositing thin film features with high thickness uniformity

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH544156A (de) * 1971-04-16 1973-11-15 Bbc Brown Boveri & Cie Verfahren zur Herstellung von oxydischen Halbleiterschichten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US3850679A (en) * 1972-12-15 1974-11-26 Ppg Industries Inc Chemical vapor deposition of coatings
US3888649A (en) * 1972-12-15 1975-06-10 Ppg Industries Inc Nozzle for chemical vapor deposition of coatings
US4088471A (en) * 1974-06-14 1978-05-09 Pilkington Brothers Limited Apparatus for coating glass
FR2288068A1 (fr) * 1974-10-15 1976-05-14 Boussois Sa Procede et dispositif pour deposer par pulverisation d'un liquide une couche mince a la surface d'un materiau en feuille, notamment pour le traitement a chaud d'une feuille de verre
GB1507996A (en) * 1975-06-11 1978-04-19 Pilkington Brothers Ltd Coating glass
GB1516032A (en) * 1976-04-13 1978-06-28 Bfg Glassgroup Coating of glass
GB1524326A (en) * 1976-04-13 1978-09-13 Bfg Glassgroup Coating of glass
CH628600A5 (fr) * 1979-02-14 1982-03-15 Siv Soc Italiana Vetro Procede pour deposer en continu, sur la surface d'un substrat porte a haute temperature, une couche d'une matiere solide et installation pour la mise en oeuvre de ce procede.
MX152941A (es) * 1979-07-31 1986-07-04 Siv Soc Italiana Vetro Mejoras en procedimiento para depositar sobre un substrato de vidrio ceramico u otra substancia mineral un revestimiento adherente de oxido de estano
IT1134153B (it) * 1979-11-21 1986-07-31 Siv Soc Italiana Vetro Ugello per depositare in continuo su un substrato uno strato di una materia solida
GB2068937B (en) * 1980-01-31 1984-02-29 Bfg Glassgroup Coating hot glass with metals or metal compounds especially oxides

Also Published As

Publication number Publication date
DE3247345A1 (de) 1983-06-30
SE8207254L (sv) 1983-06-23
DK161808B (da) 1991-08-19
KR890000873B1 (ko) 1989-04-12
NL8204898A (nl) 1983-07-18
FR2518429A1 (fr) 1983-06-24
BE895412A (fr) 1983-06-20
DK562382A (da) 1983-06-23
BR8207390A (pt) 1983-10-18
ZA829305B (en) 1983-09-28
DK161808C (da) 1992-01-20
IT8224840A0 (it) 1982-12-17
JPS58114726A (ja) 1983-07-08
MX157630A (es) 1988-12-07
GB2113120A (en) 1983-08-03
GB2113120B (en) 1985-11-20
AU551974B2 (en) 1986-05-15
ES518406A0 (es) 1983-12-01
US4446815A (en) 1984-05-08
JPH0435558B2 (cs) 1992-06-11
KR840002670A (ko) 1984-07-16
CH643469A5 (fr) 1984-06-15
LU84539A1 (fr) 1984-03-07
FR2518429B1 (fr) 1985-12-13
SE8207254D0 (sv) 1982-12-20
TR21862A (tr) 1985-10-01
ES8400998A1 (es) 1983-12-01
SE451112B (sv) 1987-09-07
AU9146982A (en) 1985-04-26
CA1197375A (en) 1985-12-03
PL133525B1 (en) 1985-06-29
IT8224840A1 (it) 1984-06-17
DE3247345C2 (cs) 1992-01-23
IT1155007B (it) 1987-01-21
DD204907A5 (de) 1983-12-14
PL239652A1 (en) 1983-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CS235977B2 (en) Equipment for continuous coating of a plate,high temperature hot,by means of solid coat
US4351267A (en) Apparatus for continuously depositing a layer of a solid material on the surface of a substrate heated to a high temperature
CA1092904A (en) Process of forming a metal or metal compound coating on a face of a glass substrate and apparatus suitable for use in forming such coating
JP2833797B2 (ja) 被層付着方法
EP0170216B1 (en) Chemical vapor deposition of a reflective film on the bottom surface of a float glass ribbon
CA1138725A (en) Glass coating
US4325987A (en) Process for the production of an electrically conducting article
US5022905A (en) Method and apparatus for coating glass
GB2026454A (en) Coating glass with tin oxide
GB2069992A (en) Coating hot glass with metals or metal compounds especially oxides
JPH0158133B2 (cs)
CA1159723A (en) Process for the production of an electrically conductive article
KR850000800Y1 (ko) 고온으로 가열된 썹스트레이트 표면에 고체물질의 층을 연속적으로 용착시키는 장치
IE893249L (en) Depositing a coating on hot glass from at least two gaseous¹reactants