CN220975463U - 一种硅片输送装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片输送装置，包括安装支架、输送带和吸附块，输送带至少为两条，至少两条输送带平行设置在安装支架的下侧，且输送带的下输送面位于同一平面；吸附块安装在相邻的两条输送带之间，吸附块的下表面高于输送带的下输送面，吸附块的下表面开设有吸附槽，吸附槽沿输送带的输送方向设置，吸附块的侧面开设有负压孔，负压孔与吸附槽连通。采用开设有长条形吸附槽的吸附块代替吸盘对硅片进行吸附，使得在任意位置均可对硅片提供稳定的吸附力，保证了硅片输送的稳定性，避免了硅片的掉落损坏；通过遮挡条或阀门与子腔体的配合可对吸附槽的作用长度进行调节，可使用不同硅片的输送作业，减小气源的浪费，降低了生产成本。

Description

一种硅片输送装置

技术领域

本实用新型涉及硅片分选设备技术领域，尤其涉及一种硅片输送装置。

背景技术

硅片作为重要的工业原材料，被广泛用于太阳能电池、电路板等产品的生产制造中。为保障太阳能电池、电路板等产品的质量，在硅片生产出厂之前需要对其进行检测，并根据检测结果通过搬运组件分选至不同的收纳盒中。

授权公告号为CN219296597U的实用新型专利公开了一种硅片收片装置及分选机，包括主输送线、吸取输送机构及下料输送线，其中，吸取输送机构包括安装支架、至少两条输送带及吸盘组件，吸盘组件安装在安装支架上并位于相邻两条输送带之间，用于向上吸取位于下料工位的硅片，使得硅片吸附在输送带的下侧输送面上。然而，由于吸盘组件之间存在间隙，当硅片传输至吸盘组件之间时，输送机构对硅片的吸附力降低，在高速传送硅片的情况下易发生硅片掉落，造成硅片的破损。

基于上述技术问题，本申请人提出一种硅片输送装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种硅片输送装置，以解决背景技术中提到的技术问题，本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：

一种硅片输送装置，包括安装支架、输送带和吸附块，输送带至少为两条，至少两条输送带平行设置在安装支架的下侧，且输送带的下输送面位于同一平面；吸附块安装在相邻的两条输送带之间，吸附块的下表面高于输送带的下输送面，吸附块的下表面开设有吸附槽，吸附槽沿输送带的输送方向设置，吸附块的侧面开设有负压孔，负压孔与吸附槽连通。

进一步地，吸附块为矩形结构，吸附块的内部开设有空腔，吸附槽、负压孔均与空腔连通。

进一步地，空腔内设置有挡板，挡板将空腔分隔为多个沿吸附块长度方向分布的子腔体，每个子腔体分别开设有负压孔，负压孔处安装有阀门。

进一步地，吸附槽为长条形，吸附槽平行于输送带的输送方向，吸附槽外侧的口径小于吸附槽内侧的口径。

进一步地，吸附槽处可拆卸的安装有遮挡条，遮挡条的长度小于吸附槽的长度。

进一步地，遮挡条的截面与所述吸附槽的截面仿形设置。

本申请实施例提供的技术方案，至少具有如下技术效果或优点：

1、采用开设有长条形吸附槽的吸附块代替吸盘对硅片进行吸附，使得在任意位置均可对硅片提供稳定的吸附力，保证了硅片输送的稳定性，避免了硅片的掉落损坏；

2、吸附槽采用横截面呈梯形设置的结构，既保证力对硅片的吸附力，又扩大了吸附槽的作用范围；

3、通过遮挡条或阀门与子腔体的配合可对吸附槽的作用长度进行调节，可使用不同硅片的输送作业，减小气源的浪费，降低了生产成本。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。

图1为本申请实施例1主视图；

图2为本申请实施例1仰视图；

图3为本申请实施例2前侧轴测图；

图4为本申请实施例2下侧轴测图；

图5为本申请实施例1吸附块结构示意图；

图6为本申请实施例1遮挡条结构示意图；

图7为本申请实施例2吸附块爆炸示意图。

附图中标识：1、安装支架；2、输送带；21、输送支架；22、输送辊；23、皮带；24、输送电机；25、驱动辊；3、吸附块；31、吸附槽；32、负压孔；33、箱体；34、箱盖；35、挡板；4、遮挡条；41、磁体。

具体实施方式

为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图和具体实施方式对上述技术方案进行详细的说明，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本实用新型及其应用或使用的任何限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

如图1、图2所示的一种硅片输送装置，包括安装支架1、输送带2和吸附块3。安装支架1由铝合金板材拼装而成，用于承载输送带2和吸附块3。四条输送带2两两平行地安装在安装支架1的下端，每条输送带2均由五段组成，中间一端输送带2可双向运行，用于将硅片向两侧的输送带2输送，实现硅片的分选下料。每段输送带2均包括输送支架21，输送支架21固定安装在安装支架1的下端，输送支架21的两端分别安装有四个输送辊22，四根皮带23分别绕设在对应的四个输送辊22之间，四个输送辊22共用同一转轴，使得四个输送辊22能够同步转动。安装支架1上安装有输送电机24，输送电机24的输出轴与任一输送辊22连接，从而驱动四根皮带23同步转动。其中，五段输送机2的下输送面均位于同一平面，即每段输送机2的四根皮带23的下表面均位于同一平面，且皮带23的下表面低于安装支架1的下表面。

如图2、图5所示，吸附块3为矩形结构，吸附块3分别安装在中间两条输送带2的外侧，且吸附块3平行于输送带2设置。吸附块3的下表面高于输送带2的下输送面，以避免硅片直接与吸附块3接触，造成对硅片的冲击，导致硅片损坏。

吸附块3的内部开设有空腔，吸附块3的下表面开设有吸附槽31，吸附槽31沿吸附块3的长度方向设置。吸附块3的侧面开设有负压孔32，吸附槽31、负压孔32均与空腔连通，负压孔32通过接头与负压发生器连接，从而在吸附槽31处形成负压，实现对硅片的吸附。负压孔32与负压发生器之间还可安装调节阀，以对吸附槽31处的负压进行调节，以适应不同规格硅片的输送。

作为本申请的一个优选实施例，如图5所示，吸附槽31处可拆卸的安装有遮挡条4，遮挡条4的截面与吸附槽31的截面相同，且遮挡条4的长度小于吸附槽31的长度。遮挡条4的两端分别固定有磁体41，遮挡条4通过磁体41固定在吸附槽31处，使遮挡条4对吸附槽31进行局部遮挡，以满足不同硅片的输送要求，同时避免负压气源的浪费。遮挡条4的下表面高于或等于吸附块3的下表面，以避免遮挡条凸出吸附块3的下表面干涉硅片的输送。

遮挡条4可以为多个，相邻的两个遮挡条4之间均匀留有间隙，使得吸附槽31呈均匀间隔设置的吸附孔，以提高吸附强度并保持吸附区域的连贯性。采用磁吸实现遮挡条4与吸附槽31的连接仅为示意性说明，也可采用螺接、卡接等其他方式实现，在此不再赘叙。

实施例2

如图3、图4所示的一种硅片输送装置，包括安装支架1、输送带2和吸附块3。安装支架1由铝合金板材拼装而成，用于承载输送带2和吸附块3。三条输送带2两两平行地安装在安装支架1的下端，每条输送带2均由两段组成，输送带2包括输送支架21，输送支架21固定安装在安装支架1的下端，输送支架21的两端分别安装有三个输送辊22，三根皮带23分别绕设在对应的两个输送辊22之间，三个输送辊22共用同一转轴，使得三个输送辊22能够同步转动。安装支架1上安装有输送电机24和驱动辊25，输送电机24的输出轴通过传动带与驱动辊25连接，皮带23绕设在驱动辊25上，输送电机24驱动驱动辊25旋转，从而驱动三根皮带23同步转动。其中，输送机2的下输送面位于同一平面，即三根皮带23的下表面位于同一平面，且三根皮带23的下表面低于安装支架1的下表面。

如图4所示，吸附块3为矩形结构，吸附块3安装在相邻的两条输送带2之间，吸附块3平行于输送带2设置，且吸附块3的下表面高于输送带2的下输送面，以避免硅片直接与吸附块3接触，造成对硅片的冲击，导致硅片损坏。具体来说，如图7所示，吸附块3由箱体33和箱盖34组成，箱体33为上部开口的空心结构，箱盖34密封固定在箱体33的上侧，从而在箱体33内形成密闭的空腔。吸附槽31开设在箱盖34上，箱体33内固定有挡板35，挡板35的顶部与箱盖34的下表面抵接，挡板35将箱体33的内部分隔为两个沿吸附块3长度方向分布的子腔体，每个子腔体的侧面均开设有负压孔32，负压孔32通过阀门与负压发生器连通。阀门可以为气动开关手阀、节流阀或电磁阀，用于实现子腔体的单独控制。当只需要使用吸附槽31的部分时，可关闭不需要使用的子腔体的阀门，避免负压气源的浪费。

其中，吸附槽31外侧的口径小于吸附槽31内侧的口径，使吸附槽31的截面呈直角梯形。该种结构的设置，既能够保证吸附槽31处负压的稳定，又能够增大吸附槽31的作用范围，提高硅片吸附的稳定性。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制：方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种硅片输送装置，其特征在于，包括安装支架、输送带和吸附块，所述输送带至少为两条，至少两条所述输送带平行设置在所述安装支架的下侧，且所述输送带的下输送面位于同一平面；所述吸附块安装在相邻的两条所述输送带之间，所述吸附块的下表面高于所述输送带的下输送面，所述吸附块的下表面开设有吸附槽，所述吸附槽沿所述输送带的输送方向设置，所述吸附块的侧面开设有负压孔，所述负压孔与所述吸附槽连通。

2.根据权利要求1所述的一种硅片输送装置，其特征在于，所述吸附块为矩形结构，所述吸附块的内部开设有空腔，所述吸附槽、所述负压孔均与所述空腔连通。

3.根据权利要求2所述的一种硅片输送装置，其特征在于，所述空腔内设置有挡板，所述挡板将所述空腔分隔为多个沿所述吸附块长度方向分布的子腔体，每个所述子腔体分别开设有所述负压孔，所述负压孔处安装有阀门。

4.根据权利要求1所述的一种硅片输送装置，其特征在于，所述吸附槽为长条形，所述吸附槽平行于所述输送带的输送方向，所述吸附槽外侧的口径小于所述吸附槽内侧的口径。

5.根据权利要求1所述的一种硅片输送装置，其特征在于，所述吸附槽处可拆卸的安装有遮挡条，所述遮挡条的长度小于所述吸附槽的长度。

6.根据权利要求5所述的一种硅片输送装置，其特征在于，所述遮挡条的截面与所述吸附槽的截面仿形设置。