CN220299708U - 一种硅片取片装置及硅片取片设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片取片装置及硅片取片设备，其中，硅片取片装置包括输送机构和上料机构，输送机构包括输送单元和吸附单元，吸附单元设置在输送单元的取片端，吸附单元为长条形且沿输送单元的输送方向延伸，吸附单元的吸附面低于输送单元的输送面；上料机构设置在输送单元的取片端，并被配置为将硅片释放至输送单元的取片端；吸附单元被配置为非接触地吸附释放至取片端的硅片，以将硅片吸靠在输送单元的取片端；输送单元被配置为将位于取片端的硅片向后道输送。通过吸附单元的吸附，增大了硅片与输送单元之间的摩擦力，大大降低了硅片输送时发生打滑的概率，提高了取片装置的取片效果。

Description

一种硅片取片装置及硅片取片设备

技术领域

本实用新型属于硅片生产技术领域，尤其涉及一种硅片取片装置及硅片取片设备。

背景技术

随着分选机整机产能的不断提高，对分选机上料区的取片装置的取片速度提出了更高的要求。

目前，取片装置将硅片从花篮中取出继续向后道输送的过程中，由于硅片一开始在花篮中是静止的，当取片装置以较高的速度取片时，硅片容易发生打滑，从而产生皮带印，影响硅片的后续使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅片取片装置，以解决现有技术中硅片取片装置在以较高的速度取片时，存在硅片容易打滑的问题，另外，本实用新型还提供一种包括该硅片取片装置的硅片取片设备。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种硅片取片装置，其包括输送机构和上料机构，其中，

输送机构包括输送单元和吸附单元，吸附单元设置在输送单元的取片端，吸附单元为长条形且沿输送单元的输送方向延伸，吸附单元的吸附面低于输送单元的输送面；

上料机构设置在输送单元的取片端，并被配置为将硅片释放至输送单元的取片端；

吸附单元被配置为非接触地吸附释放至取片端的硅片，以将硅片吸靠在输送单元的取片端；

输送单元被配置为将位于取片端的硅片向后道输送。

通过在输送单元的取片端设置吸附单元，由吸附单元将位于取片端的硅片吸靠在输送单元上，以增大硅片与输送单元之间的摩擦力，大大降低了输送单元在以较高速度输送硅片时发生打滑的概率，提高了取片装置的取片效果，并使取片后在取片装置上向后输送的硅片之间的片间距保持一致；同时吸附单元为长条形且沿输送单元的输送方向延伸，使吸附单元的吸附力沿输送单元的输送方向分布，在吸附时不容易造成硅片变形。

可选的，输送单元包括第一输送带、第二输送带、第一支撑板和第二支撑板，第一输送带和第二输送带平行间隔设置且分别设置在第一支撑板和第二支撑板上；

吸附单元包括第一吸附组件和第二吸附组件，第一吸附组件贴近第一输送带设置，第二吸附组件贴近第二输送带设置。

通过将输送单元设置为平行间隔的第一输送带和第二输送带，提供了一种结构简单，成本低和便于安装和调试的输送单元；同时第一吸附组件和第二吸附组件分别贴近第一输送带和第二输送带设置，使得第一输送带和第二输送带的取片端均能够形成沿输送单元的输送方向延伸的吸附区域，在实现吸附时不容易造成硅片变形的同时，有利于提高硅片输送的平稳性。

可选的，第一吸附组件包括第一引流件，第一引流件与第一支撑板之间具有第一气腔，第一引流件上设置有第一进气口，第一引流件与第一支撑板之间形成与第一气腔连通的出气端，压缩气体经第一进气口进入第一气腔，再经第一气腔从出气端流出以形成基于伯努利效应的负压将硅片吸靠在第一输送带上；

第二吸附组件包括第二引流件，第二引流件与第二支撑板之间具有第二气腔，第二引流件上设置有第二进气口，第二引流件与第二支撑板之间形成与第二气腔连通的出气端，压缩气体经第二进气口进入第二气腔，再经第二气腔从出气端流出以形成基于伯努利效应的负压将硅片吸靠在第二输送带上。

通过第一进气口、第一气腔和出气端的配合，能够在第一输送带的输送方向上产生形成基于伯努利效应的负压，通过负压实现将硅片非接触地保持在第一输送带上；通过第二进气口、第二气腔和出气端的配合，能够在第二输送带的输送方向上产生形成基于伯努利效应的负压，通过负压实现将硅片非接触地保持在第二输送带上；同时将第一引流件和第二引流件分别直接安装在第一支撑板和第二支撑板上，以形成基于伯努利效应的负压的第一吸附组件和第二吸附组件，简化了第一吸附组件和第二吸附组件的结构，占用空间小，降低了成本。

可选的，第一支撑板包括第一支撑部和第一台阶部，第一支撑部用于支撑第一输送带，第一台阶部凸出于第一支撑部设置，第一台阶部位于第一输送带侧边且与第一输送带所输送的硅片之间形成间隙；

第二支撑板包括第二支撑部和第二台阶部，第二支撑部用于支撑第二输送带，第二台阶部凸出于第二支撑部设置，第二台阶部位于第二输送带侧边且与第二输送带所输送的硅片之间形成间隙。

通过在第一支撑板和第二支撑板上分别设置第一支撑部和第二支撑部，实现了对第一输送带和第二输送带的支撑，以保证第一输送带和第二输送带输送的平稳性，通过在第一支撑板和第二支撑板上分别设置第一台阶部和第二台阶部，以满足第一输送带和第二输送带的安装间隙，而且能进一步提高第一输送带和第二输送带输送的平稳性。

可选的，输送单元包括第一输送带、第二输送带、第一支撑板和第二支撑板，第一输送带和第二输送带平行间隔设置且分别设置在第一支撑板和第二支撑板上；

吸附单元包括第三吸附组件和第四吸附组件，第三吸附组件和第四吸附组件设置在第一输送带和第二输送带之间，且第三吸附组件与第一输送带之间的距离、第四吸附组件与第二输送带之间的距离相等。

通过将输送单元设置为平行间隔的第一输送带和第二输送带，提供了一种结构简单，成本低和便于安装和调试的输送单元；同时在第一输送带和第二输送带之间设置第三吸附组件和第四吸附组件，使得在第一输送带和第二输送带之间的取片端形成沿输送单元的输送方向延伸的吸附区域，在实现吸附时不容易造成硅片变形的同时，有利于提高硅片输送的平稳性，便于吸附单元的安装和调试。

可选的，硅片取片装置还包括两套皮带规整组件，两套皮带规整组件分别设置在输送单元沿输送方向的两侧，且位于输送单元的取片端的后道，每套皮带规整组件包括规整驱动件、规整皮带、主规整轮和多个从规整轮，规整皮带套设在主规整轮和多个从规整轮上，规整驱动件通过驱动主规整轮转动带动规整皮带转动，进而对从输送单元的取片端流出的硅片进行规整。

通过设置两套皮带规整组件，实现了对输送单元的取片端后道的硅片进行规整，避免输送单元向取片端后道输送的硅片发生偏移；同时采用皮带规整的方式，能够大大减少对硅片的损伤，避免因硅片被规整组件卡住，而造成输送单元上的硅片的片间距不一致。

可选的，硅片取片装置还包括堆料检测件，堆料检测件设置在两套皮带规整组件的进料端，堆料检测件用于检测两套皮带规整组件的的进料端是否发生堆料。

通过在两套皮带规整组件的进料端设置堆料检测件，实现了对两套皮带规整组件的进料端是否发生堆料的自动检测，当堆料检测件长时间感应到硅片时，说明硅片在两套皮带规整组件的进料端发生了堆料，以及时进行干预，防止影响片间距。

可选的，硅片取片装置还包括叠片检测组件，叠片检测组件包括发射部和接收部，发射部和接收部中的一个被设置在输送单元的上方，另一个被设置在输送单元的下方，用于检测输送单元输送的硅片是否为叠片。

通过发射部和接收部的配合，当输送单元上的硅片穿过发射部和接收部时，能够检测取出的硅片中是否存在两张及两张以上叠片的情况。

一种硅片取片设备，其包括底座、第一硅片取片装置、第二硅片取片装置、第一驱动机构和第二驱动机构，第一硅片取片装置为上述的硅片取片装置，第二硅片取片装置为上述的硅片取片装置；

第一硅片取片装置的输送机构和第二硅片取片装置的输送机构并行设置在底座上，第一驱动机构固定设置在底座上，且第一驱动机构的驱动端与第一硅片取片装置的输送机构连接，用于驱动第一硅片取片装置的输送机构朝向或远离第二硅片取片装置的输送机构运动；第二驱动机构固定设置在底座上，且第二驱动机构的驱动端与第二硅片取片装置的输送机构连接，用于驱动第二硅片取片装置的输送机构朝向或远离第一硅片取片装置的输送机构运动。

通过第一硅片取片装置、第二硅片取片装置、第一驱动机构和第二驱动机构的配合，实现了第一硅片取片装置的输送机构和第二硅片取片装置的输送机构的相互靠近和远离，以实现对不同尺寸规格的硅片进行取片；同时第一硅片取片装置和第二硅片取片装置的输送单元的取片端均设置吸附单元，由吸附单元将位于取片端的硅片吸靠在输送单元上，以增大硅片与输送单元之间的摩擦力，大大降低了输送单元在以较高速度输送硅片时发生打滑的概率，提高了取片设备的取片效果，同时能够使取片后在取片装置上向后输送的硅片之间的片间距一致，并在吸附时不容易造成硅片变形。

可选的，第一硅片取片装置的输送机构朝向或远离第二硅片取片装置的输送机构运动的运动路径上设置有第一止动件和/或第二止动件；

第二硅片取片装置的输送机构朝向或远离第一硅片取片装置的输送机构运动的运动路径上设置有第三止动件和/或第四止动件。

通过在第一硅片取片装置和第二硅片取片装置的输送机构的运动路径上设置止动件，实现了对第一硅片取片装置和第二硅片取片装置的输送机构的运动行程的限位。

可选的，第一硅片取片装置的输送单元的承载区域大小可调，第二硅片取片装置的输送单元的承载区域大小可调；

和/或，第一硅片取片装置的两套皮带规整组件的规整区域大小可调，第二硅片取片装置的两套皮带规整组件的规整区域大小可调。

通过调节第一硅片取片装置和第二硅片取片装置的输送单元的承载区域和规整区域的大小，提高了第一硅片取片装置和第二硅片取片装置的兼容性，能够兼容整片、半片、不同尺寸大小的硅片。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的硅片取片装置的立体结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的输送单元的立体结构示意图；

图3是本实用新型实施例提供的输送单元的俯视示意图；

图4是本实用新型实施例提供的吸附单元的安装示意图；

图5是本实用新型实施例提供的第一吸附组件的安装示意图；

图6是本实用新型实施例提供的第一引流件的第一视角的立体结构示意图；

图7是本实用新型实施例提供的第一引流件的第二视角的立体结构示意图；

图8是本实用新型实施例提供的硅片取片设备的立体结构示意图。

图1至图8中包括如下附图标记：

输送机构10，输送单元11、第一输送带110、第二输送带111、第一支撑板112、第一支撑部1120、第一台阶部1121、第二支撑板113、第二支撑部1130、第二台阶部1131、吸附单元12、第一吸附组件120、第一引流件1200、第一气腔1201、第一进气口1202、出气端1203、第二吸附组件121、第二引流件1210；

上料机构20；

硅片30；

皮带规整组件40，规整皮带41、主规整轮42、从规整轮43；

堆料检测件50；

发射部60，接收部61；

底座70，第一硅片取片装置71、滑动板710、支撑架711、连接板712、规整安装板713、第一调节孔714、腰型孔715、第二硅片取片装置72、第一驱动机构73、第一止动件74。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

随着分选机整机产能的不断提高，对分选机上料区的取片装置的取片速度提出了更高的要求。

目前，取片装置将硅片从花篮中取出继续向后道输送的过程中，由于硅片一开始在花篮中是静止的，当取片装置以较高的速度取片时，硅片容易发生打滑，从而产生皮带印，影响硅片的后续使用。

因此，本实用新型提供了一种硅片取片装置，请参阅图1和图2所示，本实用新型实施例提供的硅片取片装置包括输送机构10和上料机构20，输送机构10包括输送单元11和吸附单元12，吸附单元12设置在输送单元11的取片端，吸附单元12为长条形且沿输送单元11的输送方向延伸，吸附单元12的吸附面低于输送单元11的输送面；上料机构20设置在输送单元11的取片端，并被配置为将硅片30释放至输送单元11的取片端；吸附单元12被配置为非接触地吸附释放至取片端的硅片30，以将硅片30吸靠在输送单元11的取片端；输送单元11被配置为将位于取片端的硅片30向后道输送。

可见，通过在输送单元11的取片端设置吸附单元12，由吸附单元12将位于取片端的硅片30吸靠在输送单元11上，以增大硅片30与输送单元11之间的摩擦力，大大降低了输送单元11在以较高速度输送硅片30时发生打滑的概率，一方面减少了取片时皮带印的产生，提高了取片装置的取片效果，另一方面，由于打滑现象的减少，使取片后的硅片30在取片装置上稳定的进行输送，能够有效保证向后道输送的相邻的硅片与硅片之间的片间距一致，便于后道对硅片进行检测。此外，吸附单元12为长条形且沿输送单元11的输送方向延伸，使吸附单元12的吸附力沿输送单元11的输送方向分布，在吸附时不容易造成硅片变形。

作为一种实施方式，输送单元11包括第一输送带110、第二输送带111、第一支撑板112和第二支撑板113，第一输送带110和第二输送带111平行间隔设置且分别设置在第一支撑板112和第二支撑板113上；吸附单元12包括第一吸附组件120和第二吸附组件121，第一吸附组件120贴近第一输送带110设置，第二吸附组件121贴近第二输送带111设置。

可见，通过将输送单元11设置为平行间隔的第一输送带110和第二输送带111，提供了一种结构简单，成本低和便于安装和调试的输送单元11；同时第一吸附组件120和第二吸附组件121分别贴近第一输送带110和第二输送带111设置，使得第一输送带110和第二输送带111的取片端均能够形成沿输送单元11的输送方向延伸的吸附区域，在实现吸附时不容易造成硅片30变形的同时，有利于提高硅片30输送的平稳性。

请参阅图2及图4至图7所示，作为一种实施方式，第一吸附组件120包括第一引流件1200，第一引流件1200与第一支撑板112之间具有第一气腔1201，第一引流件1200上设置有第一进气口1202，第一引流件1200与第一支撑板112之间形成与第一气腔1201连通的出气端1203，压缩气体经第一进气口1202进入第一气腔1201，再经第一气腔1201从出气端1203流出以形成基于伯努利效应的负压将硅片吸靠在第一输送带110上；

第二吸附组件121包括第二引流件1210，第二引流件1210与第二支撑板113之间具有第二气腔，第二引流件1210上设置有第二进气口，第二引流件1210与第二支撑板113之间形成与第二气腔连通的出气端，压缩气体经第二进气口进入第二气腔，再经第二气腔从出气端流出以形成基于伯努利效应的负压将硅片吸靠在第二输送带111上。

具体的，第一气腔1201设置在第一引流件1200上，或第一气腔1201设置在第一支撑板112上，或第一引流件1200和第一支撑板112上均开设有腔体，两者装配后形成第一气腔1201；第二气腔设置在第二引流件1210上，或第二气腔设置在第二支撑板113上，或第二引流件1210和第二支撑板113上均开设有腔体，两者装配后形成第二气腔。

优选的，第一气腔1201设置在第一引流件1200上，第二气腔设置在第二引流件1210上。

可见，通过第一进气口1202、第一气腔1201和出气端1203的配合，能够在第一输送带110的输送方向上产生形成基于伯努利效应的负压，通过负压实现将硅片非接触地保持在第一输送带110上；通过第二进气口、第二气腔和出气端的配合，能够在第二输送带111的输送方向上产生形成基于伯努利效应的负压，通过负压实现将硅片非接触地保持在第二输送带111上；同时将第一引流件1200和第二引流件1210分别直接安装在第一支撑板112和第二支撑板113上，以形成基于伯努利效应的负压的第一吸附组件120和第二吸附组件121，简化了第一吸附组件120和第二吸附组件121的结构，第一吸附组件120和第二吸附组件121的整体占用空间小，成本低。

作为一种实施方式，第一支撑板112包括第一支撑部1120和第一台阶部1121，第一支撑部1120用于支撑第一输送带110，第一台阶部1121凸出于第一支撑部1120设置，第一台阶部1121位于第一输送带110侧边且与第一输送带110所输送的硅片之间形成间隙；

第二支撑板113包括第二支撑部1130和第二台阶部1131，第二支撑部1130用于支撑第二输送带111，第二台阶部1131凸出于第二支撑部1130设置，第二台阶部1131位于第二输送带111侧边且与第二输送带111所输送的硅片之间形成间隙。

可见，在第一支撑板112和第二支撑板113上分别设置第一支撑部1120和第二支撑部1130，实现了对第一输送带110和第二输送带111的支撑，以保证第一输送带110和第二输送带111输送的平稳性，通过在第一支撑板112和第二支撑板113上分别设置第一台阶部1121和第二台阶部1131，以满足第一输送带110和第二输送带111的安装间隙，同时，第一台阶部1121和第二台阶部1131还能够避免第一吸附组件120的出气端的气流直吹第一输送带110，以及第二吸附组件121的出气端的气流直吹第二输送带111，能进一步提高第一输送带110和第二输送带111输送的平稳性。

作为一种实施方式，输送单元11包括第一输送带110、第二输送带111、第一支撑板112和第二支撑板113，第一输送带110和第二输送带111平行间隔设置且分别设置在第一支撑板112和第二支撑板113上；

吸附单元12包括第三吸附组件和第四吸附组件，第三吸附组件和第四吸附组件设置在第一输送带110和第二输送带111之间，且第三吸附组件与第一输送带110之间的距离、第四吸附组件与第二输送带111之间的距离相等。

可见，通过将输送单元11设置为平行间隔的第一输送带110和第二输送带111，提供了一种结构简单，成本低和便于安装和调试的输送单元11；同时在第一输送带110和第二输送带111之间设置第三吸附组件和第四吸附组件，使得在第一输送带110和第二输送带111之间的取片端形成沿输送单元11的输送方向延伸的吸附区域，在实现吸附时不容易造成硅片变形的同时，有利于提高硅片输送的平稳性，便于吸附单元12的安装和调试。

请再次参阅图1和图2所示，作为一种实施方式，硅片取片装置还包括两套皮带规整组件40，两套皮带规整组件40分别设置在输送单元10沿输送方向的两侧，且位于输送单元10的取片端的后道，每套皮带规整组件40包括规整驱动件、规整皮带41、主规整轮42和多个从规整轮43，规整皮带41套设在主规整轮42和多个从规整轮43上，规整驱动件通过驱动主规整轮42转动带动规整皮带41转动，进而对从输送单元10的取片端流出的硅片30进行规整。

具体的，规整驱动件采用电机，规整驱动件的转轴与主规整轮42的轮轴同轴连接，两套皮带规整组件40的规整皮带41形成进料端大于硅片30宽度，出料端与硅片30大致等宽的规整区域。

可见，通过设置两套皮带规整组件40，实现了对输送单元10的取片端后道的硅片30进行规整，避免输送单元10向取片端后道输送的硅片30发生偏移；同时采用皮带规整的方式，能够大大减少对硅片30的损伤，避免因硅片30被规整组件碰撞或卡住，而造成输送单元10上的硅片30的片间距不一致，影响后道检测效果。

作为一种实施方式，硅片取片装置还包括堆料检测件50，堆料检测件50设置在两套皮带规整组件40的进料端，堆料检测件用于检测两套皮带规整组件40的进料端是否发生堆料。

可见，通过在两套皮带规整组件40的进料端设置堆料检测件50，实现了对两套皮带规整组件40的进料端是否发生堆料的自动检测，当堆料检测件50长时间感应到硅片30时，说明硅片30在两套皮带规整组件40的进料端发生了堆料，以及时进行干预，防止影响片间距。

作为一种实施方式，硅片取片装置还包括叠片检测组件，叠片检测组件包括发射部60和接收部61，发射部60和接收部61中的一个被设置在输送单元10的上方，另一个被设置在输送单元10的下方，用于检测输送单元10输送的硅片30是否为叠片。

可见，通过发射部60和接收部61的配合，当输送单元10上的硅片30穿过发射部60和接收部61时，能够检测取出的硅片30中是否存在两张及两张以上叠片的情况。

本实施例提供的一种硅片取片装置具有以下优点：

1)通过在输送单元的取片端增设吸附单元，由吸附单元将位于取片端的硅片吸靠在输送单元上，以增大硅片与输送单元之间的摩擦力，大大降低了输送单元在以较高速度输送硅片时发生打滑的概率，提高了取片装置的取片效果；

2)吸附单元为长条形且沿输送单元的输送方向延伸，使吸附单元的吸附力沿输送单元的输送方向分布，在吸附时不容易造成硅片变形；

3)将第一支撑板和第二支撑板作为第一吸附组件和第二吸附组件的底座，简化了吸附组件的结构，占用空间小，降低了成本；

4)通过两套皮带规整组件对位于输送单元的取片端的后道的硅片进行规整，避免输送单元向取片端后道输送的硅片发生偏移，同时能够大大减少对硅片的损伤，输送单元向后道输送硅片的片间距一致性好；

5)能够对两套皮带规整组件的进料端是否发生堆料进行自动检测，同时能够对输送单元输送的硅片是否为叠片进行自动检测。

本实用新型还提供了一种硅片取片设备，请参阅图8所示，本实用新型实施例提供的硅片取片设备包括底座70、第一硅片取片装置71、第二硅片取片装置72、第一驱动机构73和第二驱动机构(图中未绘示)，第一硅片取片装置71为上述的硅片取片装置，第二硅片取片装置72为上述的硅片取片装置；

第一硅片取片装置71的输送机构10和第二硅片取片装置72的输送机构10并行设置在底座70上，第一驱动机构73固定设置在底座70上，且第一驱动机构73的驱动端与第一硅片取片装置71的输送机构10连接，用于驱动第一硅片取片装置71的输送机构10朝向或远离第二硅片取片装置72的输送机构10运动；第二驱动机构固定设置在底座70上，且第二驱动机构的驱动端与第二硅片取片装置72的输送机构10连接，用于驱动第二硅片取片装置72的输送机构10朝向或远离第一硅片取片装置71的输送机构10运动。

具体的，第一驱动机构73和第二驱动机构的驱动件采用气缸，第一硅片取片装置71的输送机构10和第二硅片取片装置72的输送机构10均通过直线导轨和滑块组成的滑动副能滑动地装配在底座70上。

可见，通过第一硅片取片装置71、第二硅片取片装置72、第一驱动机构73和第二驱动机构的配合，实现了第一硅片取片装置71的输送机构10和第二硅片取片装置72的输送机构10的相互靠近和远离，以实现对不同尺寸规格的硅片进行取片；同时第一硅片取片装置71和第二硅片取片装置72的输送单元10的取片端均设置吸附单元12，由吸附单元12将位于取片端的硅片吸靠在输送单元10上，以增大硅片与输送单元之间的摩擦力，大大降低了输送单元在以较高速度输送硅片时发生打滑的概率，提高了取片设备的取片效果；同时能够使取片后在取片装置上向后输送的硅片之间的片间距一致，并在吸附时不容易造成硅片变形。

请再次参阅图2、图3和图8所示，作为一种实施方式，第一硅片取片装置71的输送机构10朝向或远离第二硅片取片装置72的输送机构10运动的运动路径上设置有第一止动件74和/或第二止动件(图中未绘示)；

第二硅片取片装置72的输送机构10朝向或远离第一硅片取片装置71的输送机构10运动的运动路径上设置有第三止动件(图中未绘示)和/或第四止动件(图中未绘示)。

具体的，第一止动件74、第二止动件、第三止动件和第四止动件采用止动螺栓或者止动块或能够对输送机构的运动产生阻碍的结构。

可见，通过在第一硅片取片装置71和第二硅片取片装置72的输送机构10的运动路径上设置止动件，实现了对第一硅片取片装置71和第二硅片取片装置72的输送机构10的运动行程的限位。

作为一种实施方式，第一硅片取片装置71的输送单元11的承载区域大小可调，第二硅片取片装置72的输送单元11的承载区域大小可调；

和/或，第一硅片取片装置71的两套皮带规整组件的规整区域大小可调，第二硅片取片装置72的两套皮带规整组件的规整区域大小可调。

需要说明的是，本实施例中，第一硅片取片装置71和第二硅片取片装置72的结构相同，故在此仅对第一硅片取片装置71的输送单元11的结构详细说明：

具体的，第一硅片取片装置71还包括滑动板710、支撑架711、两块连接板712和两块规整安装板713，滑动板710通过直线导轨和滑块组成的滑动副可滑动地安装在底座70上，支撑架711固定安装在滑动板710上，第一支撑板112和第二支撑板113固定安装在支撑架711上，两块连接板712分别固定安装在第一支撑板112和第二支撑板113，两块规整安装板713分别沿硅片输送方向安装在两块连接板712上，每块规整安装板713上安装一套皮带规整组件。

具体的，支撑架711上沿硅片输送方向开设有若干组第一调节孔714，每组第一调节孔714包括沿垂直于硅片输送方向排布的至少三个第一调节孔714，通过将第一支撑板112和第二支撑板113安装在不同的第一调节孔714内，以调节第一输送带110和111的间距，实现第一硅片取片装置71的输送单元11的承载区域大小可调；在规整安装板713上开设有多个垂直于硅片输送方向的腰型孔715，通过腰型孔715来调节规整安装板713的在垂直于硅片输送方向上的安装位置，以实现两条规整皮带41的间距调节，进而实现第一硅片取片装置71的两套皮带规整组件的规整区域大小可调。

本实施例提供的硅片取片设备不仅具有上述硅片取片装置的优点，同时兼容性好，能够兼容整片、半片、不同尺寸大小的硅片。

以上实施例只是阐述了本实用新型的基本原理和特性，本实用新型不受上述事例限制，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还有各种变化和改变，这些变化和改变都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (11)

1.一种硅片取片装置，其特征在于，所述硅片取片装置包括输送机构和上料机构，其中，

所述输送机构包括输送单元和吸附单元，所述吸附单元设置在所述输送单元的取片端，所述吸附单元为长条形且沿所述输送单元的输送方向延伸，所述吸附单元的吸附面低于所述输送单元的输送面；

所述上料机构设置在所述输送单元的取片端，并被配置为将硅片释放至所述输送单元的取片端；

所述吸附单元被配置为非接触地吸附释放至所述取片端的硅片，以将所述硅片吸靠在所述输送单元的取片端；

所述输送单元被配置为将位于所述取片端的硅片向后道输送。

2.根据权利要求1所述的硅片取片装置，其特征在于，所述输送单元包括第一输送带、第二输送带、第一支撑板和第二支撑板，所述第一输送带和所述第二输送带平行间隔设置且分别设置在所述第一支撑板和所述第二支撑板上；

所述吸附单元包括第一吸附组件和第二吸附组件，所述第一吸附组件贴近所述第一输送带设置，所述第二吸附组件贴近所述第二输送带设置。

3.根据权利要求2所述的硅片取片装置，其特征在于，所述第一吸附组件包括第一引流件，所述第一引流件与所述第一支撑板之间具有第一气腔，所述第一引流件上设置有第一进气口，所述第一引流件与所述第一支撑板之间形成与所述第一气腔连通的出气端，压缩气体经所述第一进气口进入所述第一气腔，再经所述第一气腔从出气端流出以形成基于伯努利效应的负压将硅片吸靠在所述第一输送带上；

所述第二吸附组件包括第二引流件，所述第二引流件与所述第二支撑板之间具有第二气腔，所述第二引流件上设置有第二进气口，所述第二引流件与所述第二支撑板之间形成与所述第二气腔连通的出气端，压缩气体经所述第二进气口进入所述第二气腔，再经所述第二气腔从出气端流出以形成基于伯努利效应的负压将硅片吸靠在所述第二输送带上。

4.根据权利要求3所述的硅片取片装置，其特征在于，所述第一支撑板包括第一支撑部和第一台阶部，所述第一支撑部用于支撑第一输送带，所述第一台阶部凸出于所述第一支撑部设置，所述第一台阶部位于第一输送带侧边且与所述第一输送带所输送的硅片之间形成间隙；

所述第二支撑板包括第二支撑部和第二台阶部，所述第二支撑部用于支撑第二输送带，所述第二台阶部凸出于所述第二支撑部设置，所述第二台阶部位于第二输送带侧边且与所述第二输送带所输送的硅片之间形成间隙。

5.根据权利要求1所述的硅片取片装置，其特征在于，所述输送单元包括第一输送带、第二输送带、第一支撑板和第二支撑板，所述第一输送带和所述第二输送带平行间隔设置且分别设置在所述第一支撑板和所述第二支撑板上；

所述吸附单元包括第三吸附组件和第四吸附组件，所述第三吸附组件和所述第四吸附组件设置在所述第一输送带和所述第二输送带之间，且所述第三吸附组件与所述第一输送带之间的距离、所述第四吸附组件与所述第二输送带之间的距离相等。

6.根据权利要求1所述的硅片取片装置，其特征在于，所述硅片取片装置还包括两套皮带规整组件，两套所述皮带规整组件分别设置在所述输送单元沿输送方向的两侧，且位于所述输送单元的取片端的后道，每套所述皮带规整组件包括规整驱动件、规整皮带、主规整轮和多个从规整轮，所述规整皮带套设在主规整轮和多个从规整轮上，所述规整驱动件通过驱动所述主规整轮转动带动所述规整皮带转动，进而对从所述输送单元的取片端流出的硅片进行规整。

7.根据权利要求6所述的硅片取片装置，其特征在于，所述硅片取片装置还包括堆料检测件，所述堆料检测件设置在两套所述皮带规整组件的进料端，所述堆料检测件用于检测两套所述皮带规整组件的进料端是否发生堆料。

8.根据权利要求1所述的硅片取片装置，其特征在于，所述硅片取片装置还包括叠片检测组件，所述叠片检测组件包括发射部和接收部，所述发射部和所述接收部中的一个被设置在所述输送单元的上方，另一个被设置在所述输送单元的下方，用于检测所述输送单元输送的硅片是否为叠片。

9.一种硅片取片设备，其特征在于，所述硅片取片设备包括底座、第一硅片取片装置、第二硅片取片装置、第一驱动机构和第二驱动机构，所述第一硅片取片装置为权利要求1-8任意一项所述的硅片取片装置，所述第二硅片取片装置为权利要求1-8任意一项所述的硅片取片装置；

所述第一硅片取片装置的输送机构和所述第二硅片取片装置的输送机构并行设置在所述底座上，所述第一驱动机构固定设置在所述底座上，且所述第一驱动机构的驱动端与所述第一硅片取片装置的输送机构连接，用于驱动所述第一硅片取片装置的输送机构朝向或远离所述第二硅片取片装置的输送机构运动；所述第二驱动机构固定设置在所述底座上，且所述第二驱动机构的驱动端与所述第二硅片取片装置的输送机构连接，用于驱动所述第二硅片取片装置的输送机构朝向或远离所述第一硅片取片装置的输送机构运动。

10.根据权利要求9所述的硅片取片设备，其特征在于，所述第一硅片取片装置的输送机构朝向或远离所述第二硅片取片装置的输送机构运动的运动路径上设置有第一止动件和/或第二止动件；

所述第二硅片取片装置的输送机构朝向或远离所述第一硅片取片装置的输送机构运动的运动路径上设置有第三止动件和/或第四止动件。

11.根据权利要求9所述的硅片取片设备，其特征在于，所述第一硅片取片装置的输送单元的承载区域大小可调，所述第二硅片取片装置的输送单元的承载区域大小可调；

和/或，所述第一硅片取片装置的两套皮带规整组件的规整区域大小可调，所述第二硅片取片装置的两套皮带规整组件的规整区域大小可调。