CN218055979U - 硅片保护层自动放置装置 - Google Patents

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强嘉杰
卓远
李博
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Abstract

本实用新型涉及一种硅片保护层自动放置装置,用于在硅片叠的上下表面分别放置保护层。该装置包括保护层上料机构、保护层搬运机构、保护层升降机构及硅片叠输送机构;保护层搬运机构将第一张保护层放置到保护层升降机构上;硅片叠输送机构接收待热封的硅片叠,并将硅片叠运输到保护层升降机构上方;保护层升降机构带动第一张保护层上升,并顶升待热封的硅片叠,使硅片叠与第一张保护层脱离硅片叠输送机构的输送面后再下降,以使硅片叠与第一张保护层落在硅片叠输送机构上;保护层搬运机构将第二张保护层从保护层上料机构搬运并放置到硅片叠输送机构上的硅片叠上。通过在硅片叠的上下表面分别放置保护层,避免了热缩膜污染硅片,保证了硅片的质量。

Description

硅片保护层自动放置装置
技术领域
本实用新型涉及光伏行业中的硅片生产加工设备,具体地说是一种硅片保护层自动放置装置。
背景技术
为了防止硅片在生产流转过程中出现损伤,需要对硅片进行保护。常用的保护方法是采用热塑封设备对硅片叠直接进行热塑封。这种硅片保护方式,热塑封时使用的热缩膜直接与硅片接触,容易对硅片造成污染。
实用新型内容
本实用新型针对现有的硅片保护方式容易污染硅片的问题,提供一种可避免硅片污染的硅片保护层自动放置装置。
本实用新型的技术方案如下:一种硅片保护层自动放置装置,用于在待热封的硅片叠的上下表面分别放置保护层,该硅片保护层自动放置装置包括保护层上料机构、保护层搬运机构、保护层升降机构及硅片叠输送机构;其中:
保护层上料机构被配置为储存整叠的保护层;
保护层搬运机构被配置为将第一张保护层从保护层上料机构搬运并放置到保护层升降机构上;
保护层升降机构被配置为吸附第一张保护层并下降至硅片叠输送机构的输送面以下;
硅片叠输送机构被配置为接收待热封的硅片叠,并将待热封的硅片叠运输到保护层升降机构上方;
保护层升降机构还被配置为带动第一张保护层上升,并顶升待热封的硅片叠,使硅片叠与第一张保护层脱离硅片叠输送机构的输送面后再下降,以使硅片叠与第一张保护层落在硅片叠输送机构上;
保护层搬运机构还被配置为将第二张保护层从保护层上料机构搬运并放置到硅片叠输送机构上的硅片叠上。
通过在硅片叠的上下表面分别放置保护层,在硅片叠热封时,保护层与热缩膜接触,避免了硅片直接与热缩膜相接触,从而避免了热缩膜污染硅片,保证了硅片的质量。
可选地,保护层上料机构包括料篮及料篮升降部,料篮安装在料篮升降部的活动部件上;料篮升降部被配置为带动料篮升降。
通过料篮升降部使料篮内的保护层上升到预定位置,便于保护层在预定位置上料,增加保护层上料的精确性。
可选地,保护层上料机构还包括规整部,规整部安装在料篮的相对两侧;规整部用于规整并挤压料篮内储存的整叠的保护层。
通过规整部对整叠的保护层进行规整,在保护层被上料前使保护层的位置精确,便于上料。
可选地,保护层上料机构还包括分离部及检测部,分离部安装于料篮的相对两侧,检测部安装于料篮的另外的相对两侧;检测部用于检测保护层是否到达预定高度,分离部被配置为使最上层的保护层单张分离。
通过检测部检测保护层是否到达预定高度,通过分离部使最上层的保护层单张分离,可确保每次单张上料,避免了保护层材料的浪费。
可选地,分离部包括安装在料篮的相对两侧的两组吹气装置,每组吹气装置包括一对吹气组件,每个吹气组件包括吹气板及固定板,吹气板安装在固定板上,吹气板与固定板的接触面上布置有吹气通道,吹气通道与气源相连通。
通过吹气装置使保护层单张分离,结构简单,成本低,便于操作。
可选地,保护层搬运机构包括吸盘、吸盘升降部及吸盘平移部,吸盘安装在吸盘升降部上,吸盘升降部安装在吸盘平移部上;吸盘被配置为从保护层上料机构中吸附,吸盘升降部被配置为带动吸盘下降至保护层上料机构中吸附单张保护层,以及带动吸盘从保护层上料机构中升起,吸盘平移部被配置为带动吸盘升降部在保护层上料机构与保护层升降机构之间来回移动。
通过吸盘吸附保护层,通过吸盘升降部与吸盘平移部带动吸盘移动到预定位置,可实现保护层的上料与转移。
可选地,保护层升降机构包括顶升吸附板及顶升部,顶升吸附板安装在顶升部的活动部件上;顶升部被配置为带动顶升吸附板上升至超出硅片叠输送机构的输送面后吸附保护层搬运机构搬运来的保护层,以及带动保护层下降至硅片叠输送机构的输送面的下方。
通过顶升吸附板吸附保护层,通过顶升部带动保护层升降,从而可避免保护层随着硅片叠输送机构移动位置而不能放置在硅片叠的上下表面,使保护层能正确地位于硅片叠的上下表面。
可选地,硅片叠输送机构包括两根平行间隔布置的输送带、驱动辊及电机,两根输送带均安装在驱动辊上,驱动辊安装在电机的输出端;电机通过驱动辊驱动两根输送带同步转动。
通过一个驱动辊同时驱动两根输送带,可保证两根输送带同步转动,使硅片叠能位置精确地输送。
可选地,硅片叠输送机构还包括间距调节部,间距调节部被配置为调整两根输送带之间的间距。
通过间距调节部调整两根输送带的间距,使硅片叠输送机构能适应多种不同规格的硅片叠的输送,增加了硅片叠输送机构的使用范围。
可选地,间距调节部包括正反丝杆及丝杆转动组件,两根输送带的安装板分别安装在正反丝杆上,正反丝杆安装在丝杆转动组件上;丝杆转动组件带动正反丝杆旋转,从而带动两块安装板靠近或者远离。
通过正反丝杆来调节间距,结构简单,成本低,精确度高。
可选地,间距调节部还包括导向组件,导向组件包括滑轨及滑块,输送带的安装板上安装有滑块,滑块滑动配合在滑轨上。
通过导向组件对间距调节时的安装板进行导向,使安装板能平稳地移动,避免安装板错位。
附图说明
图1为本实用新型的一种可选实施例的立体结构示意图。
图2为图1的主视图。
图3为图2的俯视图。
图4为图1所示实施例中的保护层上料机构的立体结构示意图。
图5为图4的主视图。
图6为图4中的规整部和分离部的立体结构示意图。
图7为图1所示实施例中的保护层搬运机构的立体结构示意图。
图8为图1所示实施例中的保护层升降机构和硅片叠输送机构的立体结构示意图。
图9为图8的主视图。
图10为图8中的保护层升降机构的立体结构示意图。
图11为图10的主视图。
图12为图8中的硅片叠输送机构的立体结构示意图。
图13为图12的主视图。
图14为图13的俯视图。
图15为图12中的间距调节部的立体结构示意图。
图1~图15中,包括:
硅片保护层自动放置装置1;
保护层上料机构10、料篮11、料篮升降部12、规整部13、规整板131、气缸132、分离部14、吹气装置141、吹气组件142、吹气板143、固定板144、检测部15;
保护层搬运机构20、吸盘21、吸盘升降部22、吸盘平移部23;
保护层升降机构30、顶升吸附板31、顶升部32;
硅片叠输送机构40、输送带41、安装板411、过渡轮412、张紧轮413、驱动辊42、电机43、间距调节部44、正反丝杆441、正反螺母442、丝杆转动组件443、导向组件444、滑轨445、滑块446;
保护层101、硅片叠102。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1~图3所示,本实用新型是一种硅片保护层自动放置装置1,用于在待热封的硅片叠102的上下表面分别放置保护层101。保护层101常常采用硫酸纸,硫酸纸纸张纯净、强度高、耐高温、抗老化等,成本相对较低。
该硅片保护层自动放置装置1主要包括保护层上料机构10、保护层搬运机构20、保护层升降机构30及硅片叠输送机构40。
其中:保护层上料机构10被配置为储存整叠的保护层101;
保护层搬运机构20被配置为将第一张保护层101从保护层上料机构10搬运并放置到保护层升降机构30上;
保护层升降机构30被配置为吸附第一张保护层101并下降至硅片叠输送机构40的输送面以下;
硅片叠输送机构40被配置为接收待热封的硅片叠102,并将待热封的硅片叠102运输到保护层升降机构30上方;
保护层升降机构30还被配置为带动第一张保护层101上升,并顶升待热封的硅片叠102,使硅片叠102与第一张保护层101脱离硅片叠输送机构40的输送面后再下降,以使硅片叠102与第一张保护层101落在硅片叠输送机构40上;
保护层搬运机构20还被配置为将第二张保护层101从保护层上料机构10搬运并放置到硅片叠输送机构40上的硅片叠102上;这样,就自动地在硅片叠102的上下表面分别放置有保护层101;
接着,硅片叠输送机构40将带有保护层101的硅片叠102输送至下一道工序,比如输送到热封机进行热封。
通过在硅片叠102的上下表面分别放置保护层101,在硅片叠102热封时,保护层101与热缩膜接触,避免了硅片直接与热缩膜相接触,从而避免了热缩膜污染硅片,保证了硅片的质量。
下面对本实用新型中的各个组成部分做进一步详细的说明。
如图4、图5所示,作为一种可选的实施方式,保护层上料机构10包括料篮11及料篮升降部12,料篮11安装在料篮升降部12的活动部件上;料篮升降部12被配置为带动料篮11升降。可选地,料篮11为长方体框架结构,其上部是开口的;料篮升降部12可以采用气缸、液压缸或者电动推杆。
通过料篮升降部12使料篮11内的保护层101上升到预定位置,便于保护层101在预定位置上料,增加保护层101上料的精确性。
在该实施方式中,可选地,保护层上料机构10还包括规整部13,规整部13安装在料篮11的相对两侧;规整部13用于规整并挤压料篮11内储存的整叠的保护层101,使保护层101整齐,同时对保护层101会有部分挤压变形,方便顶层的那张保护层101脱离。
通过规整部13对整叠的保护层101进行规整,在保护层101被上料前使保护层101的位置精确,便于上料。
如图6所示,在其中的一个实施例中,规整部13包括规整板131和气缸132,规整板131安装在气缸132的活塞杆上。料篮11的相对两侧的规整板131在各自气缸132的带动下相互靠近,抵靠在保护层叠的相对的两个侧面上,使其整齐;而后,再相互远离。
可选地,规整板131上安装有摩擦材料,可以增大与保护层101的摩擦力,让保护层101更好地脱离。
如图4、图5所示,在该实施方式中,可选地,保护层上料机构10还包括分离部14及检测部15,分离部14安装于料篮11的相对两侧,检测部15安装于料篮11的另外的相对两侧;检测部15用于检测保护层101是否到达预定高度,分离部14被配置为使最上层的保护层101单张分离。
通过检测部15检测保护层101是否到达预定高度,通过分离部14使最上层的保护层101单张分离,可确保每次单张上料,避免了保护层101材料的浪费。
如图6所示,在其中的一个实施例中,可选地,分离部14包括安装在料篮11的相对两侧的两组吹气装置141,每组吹气装置141包括一对吹气组件142,每个吹气组件142包括吹气板143及固定板144,吹气板143安装在固定板144上,吹气板143与固定板144的接触面上布置有吹气通道,吹气通道与气源相连通。可选地,每组吹气装置141中的括一对吹气组件142分别位于规整部13的气缸132的两侧。
通过吹气装置141使保护层101单张分离,结构简单,成本低,便于操作。
如图4所示,在其中的一个实施例中,可选地,检测部15包括两个安装在料篮11相对两侧的光电传感器。通过光电传感器感应保护层101的高度,结构简单,成本低,精度高。
如图7所示,作为一种可选的实施方式,保护层搬运机构20包括吸盘21、吸盘升降部22及吸盘平移部23,吸盘21安装在吸盘升降部22上,吸盘升降部22安装在吸盘平移部23上;吸盘21被配置为从保护层上料机构10中吸附,吸盘升降部22被配置为带动吸盘21下降至保护层上料机构10中吸附单张保护层101,以及带动吸盘21从保护层上料机构10中升起,吸盘平移部23被配置为带动吸盘升降部22在保护层上料机构10与保护层升降机构30之间来回移动。可选地,吸盘21采用伯努利吸盘,吸盘升降部22与吸盘平移部23可采用电缸、直线模组、直线电机等等。
通过吸盘21吸附保护层101,通过吸盘升降部22与吸盘平移部23带动吸盘21移动到预定位置,可实现保护层101的上料与转移。
如图8、图9所示,作为一种可选的实施方式,保护层升降机构30与硅片叠输送机构40安装在一起,保护层升降机构30安装在硅片叠输送机构40的中间。
在该实施方式中,如图10、图11所示,可选地,保护层升降机构30包括顶升吸附板31及顶升部32,顶升吸附板31安装在顶升部32的活动部件上;顶升部32被配置为带动顶升吸附板31上升至超出硅片叠输送机构40的输送面后吸附保护层搬运机构20搬运来的保护层101,以及带动保护层101下降至硅片叠输送机构40的输送面的下方。顶升吸附板31上开有吸附孔,当顶升吸附板31与负压气源相连时,顶升吸附板31产生负压,从而吸附住保护层101。可选地,顶升部32采用气缸、液压缸或者电动推杆等等。
通过顶升吸附板31吸附保护层101,通过顶升部32带动保护层101升降,从而可避免保护层101随着硅片叠输送机构40移动位置而不能放置在硅片叠102的上下表面,使保护层101能正确地位于硅片叠102的上下表面。
在该实施方式中,如图11、图13及图14所示,可选地,硅片叠输送机构40包括两根平行间隔布置的输送带41、驱动辊42及电机43,两根输送带41均安装在驱动辊42上,驱动辊42安装在电机43的输出端;电机43通过驱动辊42驱动两根输送带41同步转动。
通过一个驱动辊42同时驱动两根输送带41,可保证两根输送带41同步转动,使硅片叠102能位置精确地输送。
每根输送带41通过多个过渡轮412(图示为两个)安装在安装板411上。为了张紧输送带41,在输送带41的外侧还布置有安装在安装板411上的张紧轮413。每根输送带41环绕在驱动辊42和多个过渡轮412上,并由张紧轮413张紧。驱动辊42在电机43的带动下转动,从而带动输送带41运转。
在其中的一个实施例中,可选地,硅片叠输送机构40还包括间距调节部44,间距调节部44被配置为调整两根输送带41之间的间距。
通过间距调节部44调整两根输送带41的间距,使硅片叠输送机构40能适应多种不同规格的硅片叠102的输送,增加了硅片叠输送机构40的使用范围。
可选地,间距调节部44包括正反丝杆441及丝杆转动组件443,两根输送带41的安装板411分别通过正反螺母442(参见图15)安装在正反丝杆441上,正反丝杆441安装在丝杆转动组件443上;丝杆转动组件443带动正反丝杆441旋转,从而带动两块安装板靠近或者远离。
通过正反丝杆441来调节间距,结构简单,成本低,精确度高。
可选地,间距调节部44还包括导向组件444,导向组件444包括滑轨445及滑块446,输送带41的安装板411上安装有滑块446,滑块446滑动配合在滑轨445上。可选地,滑轨445有两根,滑块446有四个。每个安装板411分别通过两个滑块446滑动配合在两根滑轨445上。
通过导向组件444对间距调节时的安装板411进行导向,使安装板411能平稳地移动,避免安装板411错位。
如图15所示,可选地,丝杆转动组件443采用手摇机构,手摇机构包括手轮,手轮安装在正反丝杆441的一端。
通过手摇机构驱动正反丝杆441转动,结构简单,成本低。
可选地,丝杆转动组件443还可以采用电机驱动机构。通过电机驱动机构驱动正反丝杆441转动,操作方便,可实现自动化,节省人工成本。
如图1所示,下面以保护层101采用硫酸纸为例说明本实用新型的工作过程。
人工将硫酸纸整叠放入保护层上料机构10的料篮11中;
料篮升降部12上升,直到检测部15检测到首片硫酸纸,规整部13两侧同时推出对硫酸纸预压,同时分离部14上的吹气装置141将硫酸纸叠进行单张分离;
保护层搬运机构20下降,吸取上层单张硫酸纸,接着上升并移动到硅片叠输送机构40上方;
保护层升降机构30上升,同时保护层搬运机构20下降,将吸取的硫酸纸放置到保护层升降机构30的顶升吸附板31上,打开吸附固定硫酸纸后,顶升吸附板31下降到下方;
硅片叠102通过上序流线流至硅片叠输送机构40上,保护层升降机构30上升,将上方的硫酸纸及硅片叠102均脱离硅片叠输送机构40的输送带41后下降,此时硫酸纸和硅片叠102均落到输送带41上;
然后,保护层搬运机构20从保护层上料机构10吸取单张硫酸纸后放置于硅片叠输送机构40的输送带41上的硅片叠102的上部;
最后,硅片叠输送机构40驱动硅片叠102流转到下道工序。
本实用新型既可作为单独设备使用,也可集成到已有设备(例如热封机)中。
上文对本实用新型进行了足够详细的具有一定特殊性的描述。所属领域内的普通技术人员应该理解,实施例中的描述仅仅是示例性的,在不偏离本实用新型的真实精神和范围的前提下做出所有改变都应该属于本实用新型的保护范围。本实用新型所要求保护的范围是由所述的权利要求书进行限定的,而不是由实施例中的上述描述来限定的。

Claims (11)

1.一种硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述硅片保护层自动放置装置用于在待热封的硅片叠的上下表面分别放置保护层,所述硅片保护层自动放置装置包括保护层上料机构、保护层搬运机构、保护层升降机构及硅片叠输送机构;其中:
所述保护层上料机构被配置为储存整叠的保护层;
所述保护层搬运机构被配置为将第一张保护层从所述保护层上料机构搬运并放置到所述保护层升降机构上;
所述保护层升降机构被配置为吸附所述第一张保护层并下降至所述硅片叠输送机构的输送面以下;
所述硅片叠输送机构被配置为接收所述待热封的硅片叠,并将所述待热封的硅片叠运输到所述保护层升降机构上方;
所述保护层升降机构还被配置为带动所述第一张保护层上升,并顶升所述待热封的硅片叠,使所述硅片叠与所述第一张保护层脱离所述硅片叠输送机构的输送面后再下降,以使所述硅片叠与所述第一张保护层落在所述硅片叠输送机构上;
所述保护层搬运机构还被配置为将第二张保护层从所述保护层上料机构搬运并放置到所述硅片叠输送机构上的所述硅片叠上。
2.根据权利要求1所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述保护层上料机构包括料篮及料篮升降部,所述料篮安装在所述料篮升降部的活动部件上;所述料篮升降部被配置为带动所述料篮升降。
3.根据权利要求2所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述保护层上料机构还包括规整部,所述规整部安装在所述料篮的相对两侧;所述规整部用于规整并挤压所述料篮内储存的整叠的保护层。
4.根据权利要求2所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述保护层上料机构还包括分离部及检测部,所述分离部安装于所述料篮的相对两侧,所述检测部安装于所述料篮的另外的相对两侧;所述检测部用于检测所述保护层是否到达预定高度,所述分离部被配置为使最上层的保护层单张分离。
5.根据权利要求4所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述分离部包括安装在所述料篮的相对两侧的两组吹气装置,每组所述吹气装置包括一对吹气组件,每个所述吹气组件包括吹气板及固定板,所述吹气板安装在所述固定板上,所述吹气板与所述固定板的接触面上布置有吹气通道,所述吹气通道与气源相连通。
6.根据权利要求1所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述保护层搬运机构包括吸盘、吸盘升降部及吸盘平移部,所述吸盘安装在所述吸盘升降部上,所述吸盘升降部安装在所述吸盘平移部上;所述吸盘被配置为从所述保护层上料机构中吸附,所述吸盘升降部被配置为带动所述吸盘下降至所述保护层上料机构中吸附单张所述保护层,以及带动所述吸盘从所述保护层上料机构中升起,所述吸盘平移部被配置为带动所述吸盘升降部在所述保护层上料机构与所述保护层升降机构之间来回移动。
7.根据权利要求1所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述保护层升降机构包括顶升吸附板及顶升部,所述顶升吸附板安装在所述顶升部的活动部件上;所述顶升部被配置为带动所述顶升吸附板上升至超出所述硅片叠输送机构的输送面后吸附所述保护层搬运机构搬运来的保护层,以及带动所述保护层下降至所述硅片叠输送机构的输送面的下方。
8.根据权利要求1所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述硅片叠输送机构包括两根平行间隔布置的输送带、驱动辊及电机,两根所述输送带均安装在所述驱动辊上,所述驱动辊安装在所述电机的输出端;所述电机通过所述驱动辊驱动两根所述输送带同步转动。
9.根据权利要求8所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述硅片叠输送机构还包括间距调节部,所述间距调节部被配置为调整两根所述输送带之间的间距。
10.根据权利要求9所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述间距调节部包括正反丝杆及丝杆转动组件,两根所述输送带的安装板分别安装在所述正反丝杆上,所述正反丝杆安装在所述丝杆转动组件上;所述丝杆转动组件带动所述正反丝杆旋转,从而带动两块所述安装板靠近或者远离。
11.根据权利要求10所述的硅片保护层自动放置装置,其特征在于,所述间距调节部还包括导向组件,所述导向组件包括滑轨及滑块,所述输送带的安装板上安装有所述滑块,所述滑块滑动配合在所述滑轨上。
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