CN219737999U - 一种触摸面板用黄光制程装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种触摸面板用黄光制程装置包括:涂胶部,用于在基板上涂覆光刻胶层;加热部,设有至少一个发热器,用于对所述光刻胶层固化,能够使所述光刻胶层的表面干燥;预烘部,用于对所述光刻胶层进行烘干;曝光部,能够将所述基板与所述掩膜版对齐,将所述基板上的图案转移到所述掩膜版上。本实用新型在预烘部前增加了加热部,能够在基板涂覆光刻胶层后对光刻胶层直接进行加热固化,避免了在预烘之前光刻胶外流,流到基板的侧面,影响后续的曝光以及基板与掩膜版的对位,保证了曝光后的图案与原需要的图案的一致性,提高了产品良率。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示面板加工技术领域,尤其涉及一种触摸面板用黄光制程装置。
背景技术
在触摸面板的加工过程和显示面板的良率息息相关,因此触摸面板的加工环节十分重要。现有的触摸面板的黄光制程工艺中,如图1~4所示,由于涂胶刀头10’与玻璃20’几乎齐边,在涂胶后玻璃20’的两个长边几乎布满光刻胶层30’。在涂胶后至预烘期间,光刻胶层30’会流到玻璃20’的侧面,玻璃20’进入曝光机后,曝光机内部需要将玻璃20’对齐定位,因此在玻璃20’的侧面设有定位柱40’,玻璃20’侧面的光刻胶会粘到定位柱上,由于光刻胶的主要成分是树脂和溶剂,长时间会导致溶剂挥发,光刻胶慢慢脆化而形成粉末,从而吸附到掩膜版导致定位偏差,以致曝光后的图案与原需要的图案不一致,影响产品外观甚至产品功能。
有鉴于此,急需对现有的触摸面板用黄光制程装置进行改进,避免在黄光制程时出现掩膜版定位偏差的问题。
实用新型内容
本实用新型公开一种触摸面板用黄光制程装置,用于解决现有技术中,由于光刻胶流到玻璃外侧导致曝光过程中掩膜版定位偏差的问题。
为了解决上述问题,本实用新型采用下述技术方案:
提供一种触摸面板用黄光制程装置,包括:
涂胶部,用于在基板上涂覆光刻胶层;
加热部,设有至少一个发热器,用于对所述光刻胶层固化,能够使所述光刻胶层的表面干燥;
预烘部,用于对所述光刻胶层进行烘干;
曝光部,能够将所述基板与所述掩膜版对齐,将所述基板上的图案转移到所述掩膜版上。
在上述方案中,所述发热器设有两个。
在上述方案中,所述光刻胶层在所述基板的长度方向至少部分区域能够完全覆盖。
在上述方案中,所述发热器对应设置在所述基板的宽边。
在上述方案中,所述涂胶部包括涂胶刀。
在上述方案中,所述涂胶刀的刀头与所述基板的一边齐平。
在上述方案中,所述曝光部内设有定位装置,用于将所述基板和所述掩膜版定位。
在上述方案中,所述定位装置为定位柱。
在上述方案中,所述定位柱设有多个分布在所述基板的四周。
在上述方案中,所述基板为玻璃。
本实用新型采用的技术方案能够达到以下有益效果:
在预烘部前增加了加热部,能够在基板涂覆光刻胶层后对光刻胶层直接进行加热固化,避免了在预烘之前光刻胶外流,流到基板的侧面,影响后续的曝光以及基板与掩膜版的对位,保证了曝光后的图案与原需要的图案的一致性,提高了产品良率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,构成本实用新型的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
图1为现有技术中涂胶刀头与玻璃的主视图;
图2为现有技术中涂胶刀头与玻璃的侧视图;
图3为现有技术中玻璃完成涂胶的结构示意图;
图4为现有技术中玻璃与定位柱的结构示意图;
图5为本实用新型实施例公开的触摸面板用黄光制程装置的整体结构示意图;
图6为本实用新型实施例公开的触摸面板用黄光制程装置的加热部的结构示意图;
图7为本实用新型实施例公开的触摸面板用黄光制程装置中基板和掩膜版的结构示意图。
具体包括下述附图标记:
现有技术中的涂胶刀头-10’;现有技术中的玻璃-20’;现有技术中的光刻胶层-30’;现有技术中的定位柱40’;涂胶部-10;基板-20;光刻胶层-30;加热部-40;发热器-41;预烘部-50;曝光部-60;掩膜版-70。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型具体实施例及相应的附图对本实用新型技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图5~图7所示,本实用新型提供的触摸面板用黄光制程装置,包括:
涂胶部10,用于在基板20上涂覆光刻胶层30;加热部40,设有至少一个发热器41,用于对光刻胶层30固化,能够加热使光刻胶层30的表面干燥,使光刻胶层30在基板20上不流动;预烘部50,用于对光刻胶层30进行烘干;曝光部60,能够将基板20与掩膜版70对齐,将基板20上的图案转移到掩膜版70上。
本实用新型在预烘部50前增加了加热部40,能够在基板20涂覆光刻胶层30后对光刻胶层30直接进行加热固化,避免了在预烘之前光刻胶外流,流到基板20的侧面,影响后续的曝光以及基板20与掩膜版70的对位,保证了曝光后的图案与原需要的图案的一致性,提高了产品良率。
本实施例优选的,发热器41设有两个。并对应所述基板20的边缘进行加热。
具体的,光刻胶层30在基板20的长度方向至少部分区域能够完全覆盖。即基板20的边缘处的部分区域覆盖了光刻胶层30,由于光刻胶层30为液体具有流动性,因此在基板上涂覆光刻胶层30后,基板20进入加热部40,优选的,发热器41对应设置在基板20的宽边,即边缘有光刻胶层30处。最大限度的对光刻胶层30进行固化,避免光刻胶流出基板20。
涂胶部10包括涂胶刀。优选的,涂胶刀的刀头与基板20的一边齐平。
在一个优选的实施例中,刀头的宽度与基板20的长度相同,在涂覆时,刀头沿基板20的宽度方向运动,完成涂覆。
曝光部60内设有定位装置,用于将基板和掩膜版70定位。优选的,定位装置为定位柱。
具体的,定位柱设有多个分布在基板20的四周。基板20各边的定位柱可以时均匀间隔分布的也可以是紧靠在一起的。
本实施例优选的,基板20为玻璃。
本实施例优选的,掩膜版70为铬版。
本实用新型在预烘部前增加了加热部,能够在基板涂覆光刻胶层后对光刻胶层直接进行加热固化,避免了在预烘之前光刻胶外流,流到基板的侧面,影响后续的曝光以及基板与掩膜版的对位,保证了曝光后的图案与原需要的图案的一致性,提高了产品良率。
上面结合附图对本实用新型的实施例进行了描述,但是本实用新型并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下,在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,均属于本实用新型的保护之内。
Claims (10)
1.一种触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,包括:
涂胶部,用于在基板上涂覆光刻胶层;
加热部,设有至少一个发热器,用于对所述光刻胶层固化,能够使所述光刻胶层的表面干燥;
预烘部,用于对所述光刻胶层进行烘干;
曝光部,能够将所述基板与掩膜版对齐,将所述基板上的图案转移到所述掩膜版上。
2.根据权利要求1所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述发热器设有两个。
3.根据权利要求2所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述光刻胶层在所述基板的长度方向至少部分区域能够完全覆盖。
4.根据权利要求3所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述发热器对应设置在所述基板的宽边。
5.根据权利要求1所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述涂胶部包括涂胶刀。
6.根据权利要求5所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述涂胶刀的刀头与所述基板的一边齐平。
7.根据权利要求1所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述曝光部内设有定位装置,用于将所述基板和所述掩膜版定位。
8.根据权利要求7所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述定位装置为定位柱。
9.根据权利要求8所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述定位柱设有多个分布在所述基板的四周。
10.根据权利要求1所述的触摸面板用黄光制程装置,其特征在于,所述基板为玻璃。
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