CN219727233U - 平衡环旋熔机 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于平衡环旋熔机技术领域，具体涉及平衡环旋熔机，包括化盐池、控制柜、水泵、旋熔机机架，所述旋熔机机架上固定安装有旋熔机控制柜，所述旋熔机机架上固定安装有旋转伺服电机，所述旋熔机机架内设置有供液装置，所述旋熔机机架内设置有工装，所述旋熔机机架内设置有顶升气缸，所述旋熔机机架内设置有沉淀池。本实用新型旋熔机采用伺服驱动控制，成品尺寸控制精度高，焊接牢固，所有可开启门设有安全门限开关，设备安全性高，旋转电机采用大功率伺服电机，顶升机构采用伺服电缸，可靠且便于后期维护，设备配有化盐池、沉淀池、灌液装置，可以实现自动灌液、旋熔。

Description

平衡环旋熔机

技术领域

本实用新型涉及平衡环旋熔机技术领域，具体为平衡环旋熔机。

背景技术

旋熔机是用于圆形塑胶产品旋转焊接的工艺设备，旋熔机是借高速振动旋转摩擦生热原理，使塑胶加工物熔接表面熔解而达到熔接的效果，适用于不易熔接塑胶，且韧性较高之圆形产品，如：脱水容器、汽机车滤油杯、喷水接头、热水瓶气胆、保温杯、球状玩具、油漆筒、保温锅、过滤心、浮标等。其中平衡环的熔接也是通过旋熔机进行加工的。现有的平衡环旋熔机在使用时，装置不能实现自动灌液、旋熔。因此，需要进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供平衡环旋熔机，解决了现有的平衡环旋熔机在使用时，装置不能实现自动灌液、旋熔的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：平衡环旋熔机，包括化盐池、控制柜、水泵、旋熔机机架，所述旋熔机机架上固定安装有旋熔机控制柜，所述旋熔机机架上固定安装有旋转伺服电机，所述旋熔机机架内设置有供液装置，所述旋熔机机架内设置有工装，所述旋熔机机架内设置有顶升气缸，所述旋熔机机架内设置有沉淀池，所述旋熔机机架内设置有灌液机构，所述灌液机构的管道和沉淀池固定连接。

优选的，所述化盐池上设置有溢水口，所述化盐池上设置有排污口。通过设置溢水口，使得化盐池内多余的水可以排出。

优选的，所述化盐池上设置有液位传感器，所述化盐池上设置有电热装置。通过设置液位传感器，可以直观了解化盐池内的液位高度。

优选的，所述化盐池上设置有搅拌电机，所述化盐池上设置有两路水泵。通过设置搅拌电机，使得化盐池内的盐融化更加快速。

优选的，所述顶升气缸的输出端和旋熔机机架滑动连接，所述顶升气缸的输出端和工装固定连接。通过设置顶升气缸，使得工装高度便于调节。

优选的，所述旋熔机机架的下端固定安装有多个支脚，多个所述支脚均匀分布在旋熔机机架上。通过设置支脚，对旋熔机机架进行支撑。

本实用新型的有益效果如下：

本实用新型旋熔机采用伺服驱动控制，成品尺寸控制精度高，焊接牢固，所有可开启门设有安全门限开关，设备安全性高，旋转电机采用大功率伺服电机，顶升机构采用伺服电缸，可靠且便于后期维护，设备配有化盐池、沉淀池、灌液装置，可以实现自动灌液、旋熔。

附图说明

图1为本实用新型整体结构立体图；

图2为本实用新型图1中的旋熔机机架内部结构立体图。

图中：1、化盐池；2、控制柜；3、水泵；4、旋熔机机架；5、旋熔机控制柜；6、旋转伺服电机；7、供液装置；8、工装；9、顶升气缸；10、沉淀池；11、灌液机构。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1、图2，平衡环旋熔机，包括化盐池1、控制柜2、水泵3、旋熔机机架4，化盐池1尺寸为1590mm×1190mm×1195mm，化盐池1上设置有溢水口，化盐池1上设置有排污口，通过设置溢水口，使得化盐池1内多余的水可以排出，化盐池1上设置有液位传感器，化盐池1上设置有电热装置，通过设置液位传感器，可以直观了解化盐池1内的液位高度，化盐池1上设置有搅拌电机，化盐池1上设置有两路水泵，通过设置搅拌电机，使得化盐池1内的盐融化更加快速。

请参阅图2，旋熔机机架4上固定安装有旋熔机控制柜5，旋熔机机架4上固定安装有旋转伺服电机6，旋熔机机架4内设置有供液装置7，旋熔机机架4内设置有工装8，旋熔机机架4内设置有顶升气缸9，顶升气缸9的输出端和旋熔机机架4滑动连接，顶升气缸9的输出端和工装8固定连接，通过设置顶升气缸9，使得工装8高度便于调节，旋熔机机架4内设置有沉淀池10，旋熔机机架4内设置有灌液机构11，灌液机构11的管道和沉淀池10固定连接，旋熔机机架4的下端固定安装有多个支脚，多个支脚均匀分布在旋熔机机架4上，通过设置支脚，对旋熔机机架4进行支撑。

本实用新型具体实施过程如下：供液装置7伸出到设定位置，对平衡环内外圈注规定液体，供液装置7退回初始位置，顶升气缸9动作到设定位置，旋转伺服电机6启动，上模芯旋转，继续顶升到设定位置后，旋转伺服电机6停止旋转，待冷却到一定时间后，顶升下降，取出工件，开始下一工作循环。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.平衡环旋熔机，包括化盐池(1)、控制柜(2)、水泵(3)、旋熔机机架(4)，其特征在于：所述旋熔机机架(4)上固定安装有旋熔机控制柜(5)，所述旋熔机机架(4)上固定安装有旋转伺服电机(6)，所述旋熔机机架(4)内设置有供液装置(7)，所述旋熔机机架(4)内设置有工装(8)，所述旋熔机机架(4)内设置有顶升气缸(9)，所述旋熔机机架(4)内设置有沉淀池(10)，所述旋熔机机架(4)内设置有灌液机构(11)，所述灌液机构(11)的管道和沉淀池(10)固定连接。

2.根据权利要求1所述的平衡环旋熔机，其特征在于：所述化盐池(1)上设置有溢水口，所述化盐池(1)上设置有排污口。

3.根据权利要求1所述的平衡环旋熔机，其特征在于：所述化盐池(1)上设置有液位传感器，所述化盐池(1)上设置有电热装置。

4.根据权利要求1所述的平衡环旋熔机，其特征在于：所述化盐池(1)上设置有搅拌电机，所述化盐池(1)上设置有两路水泵。

5.根据权利要求1所述的平衡环旋熔机，其特征在于：所述顶升气缸(9)的输出端和旋熔机机架(4)滑动连接，所述顶升气缸(9)的输出端和工装(8)固定连接。

6.根据权利要求1所述的平衡环旋熔机，其特征在于：所述旋熔机机架(4)的下端固定安装有多个支脚，多个所述支脚均匀分布在旋熔机机架(4)上。