CN218984572U - 真空吸附平台 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空吸附平台，涉及真空吸附平台技术领域。真空吸附平台包括基台和真空吸附组件，基台上设有通孔。真空吸附组件包括吸附管和伸缩管，吸附管滑设于通孔内，吸附管包括吸附端，吸附端设置有吸附待吸附件的吸盘，吸附管远离吸盘的一端与伸缩管连接，伸缩管与真空发生装置连接；吸附管在伸缩管的作用下凸出基台设置，真空发生装置向伸缩管和吸附管内抽真空，伸缩管能收缩，带动吸附管向靠近伸缩管的方向移动至吸附端与基台的上表面齐平，以将待吸附件吸附于基台。本实用新型提供的真空吸附平台能够有效避免因异物堵塞造成的真空吸附异常，提高了吸附效率。

Description

真空吸附平台

技术领域

本实用新型涉及真空吸附平台技术领域，尤其涉及一种真空吸附平台。

背景技术

液晶面板一般应用于液晶显示器或手机等液晶显示装置中，这些装置在制造和组装的过程中，必须要将液晶面板良好地定位，才能确保产品的质量。

目前，通过真空吸附平台吸附定位液晶面板，在真空吸附平台上设置多个真空吸附孔，以吸附液晶面板。但是这样的真空吸附平台上的真空吸附孔容易被异物堵塞，造成真空吸附异常。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种真空吸附平台，该真空吸附平台能够有效避免因异物堵塞造成的真空吸附异常。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

真空吸附平台，其中，包括：

基台，其上设有通孔；

真空吸附组件，所述真空吸附组件包括吸附管和伸缩管，所述吸附管滑设于所述通孔内，所述吸附管包括吸附端，所述吸附端设置有吸附待吸附件的吸盘，所述吸附管远离所述吸盘的一端与所述伸缩管连接，所述伸缩管与真空发生装置连接；所述吸附管在所述伸缩管的作用下凸出所述基台设置，所述真空发生装置向所述伸缩管和所述吸附管内抽真空，所述伸缩管收缩，带动所述吸附管向靠近所述伸缩管的方向移动至所述吸附端与所述基台的上表面齐平，以将所述待吸附件吸附于所述基台。

作为真空吸附平台的一个可选方案，所述伸缩管包括波纹管和弹簧，所述弹簧套设于所述波纹管，所述波纹管的一端与所述吸附管连接，另一端连通所述真空发生装置，所述真空发生装置向所述波纹管和所述吸附管内抽真空，所述弹簧受力收缩，使所述波纹管带动所述吸附管向靠近所述波纹管的方向移动至所述吸附端与所述基台的上表面齐平。

作为真空吸附平台的一个可选方案，所述吸盘由硅胶制成。

作为真空吸附平台的一个可选方案，所述基台上还设置有排气通道，所述吸附管上设置有控压孔，当所述吸附端移动至与所述基台的上表面齐平时，所述控压孔通过所述吸附管所在的所述通孔与所述排气通道连通。

作为真空吸附平台的一个可选方案，所述通孔设置有多个，多个所述通孔呈阵列排布，每个所述通孔内对应设置一个所述真空吸附组件。

作为真空吸附平台的一个可选方案，每行所述通孔对应设置一个与该行所有所述通孔均连通的所述排气通道；或，

每列所述通孔对应设置一个与该列所有所述通孔均连通的所述排气通道。

作为真空吸附平台的一个可选方案，所述排气通道与大气连通的一端设置有气压控制阀，通过所述气压控制阀控制所述排气通道的气压。

作为真空吸附平台的一个可选方案，所述基台的上方还设置有清扫组件，通过所述清扫组件对所述基台进行清扫。

作为真空吸附平台的一个可选方案，所述清扫组件包括多个喷气嘴，多个所述喷气嘴均朝向所述基台的上表面设置。

作为真空吸附平台的一个可选方案，所述清扫组件还包括支撑板，所述支撑板设于所述基台的一侧，多个所述喷气嘴均布于所述支撑板。

本实用新型的有益效果：

本实用新型提供的真空吸附平台，通过在基台上设有通孔，真空吸附组件包括吸附管和伸缩管，吸附管滑设于通孔。吸附管的吸附端设置有吸附待吸附件的吸盘，吸附管通过伸缩管与真空发生装置连接，吸附管在伸缩管的作用下凸出基台的上表面设置，通过真空发生装置向伸缩管和吸附管内抽真空，伸缩管收缩，带动吸附管向靠近伸缩管的方向移动至吸附端与基台的上表面齐平，以将待吸附件吸附于基台。在不吸附待吸附件时，吸附管的吸附端凸出基台设置，异物无法掉落至通孔，从而有效避免通孔堵塞，吸附端设置有吸附待吸附件的吸盘，从而也不存在异物堵塞吸附管造成吸附异常的问题。本实用新型提供的真空吸附平台能够有效避免因异物堵塞造成的真空吸附异常，提高了吸附效率。

附图说明

图1是本实用新型具体实施方式提供的真空吸附平台的结构示意图；

图2是本实用新型具体实施方式提供的基台的结构示意图；

图3是本实用新型具体实施方式提供的真空吸附组件的结构示意图；

图4是本实用新型具体实施方式提供的真空吸附组件未吸附待吸附件时的状态示意图；

图5是本实用新型具体实施方式提供的待吸附件被吸附至基台上时的状态示意图。

图中：

100、待吸附件；

1、基台；11、通孔；12、排气通道；

2、真空吸附组件；21、吸附管；211、吸盘；212、控压孔；22、伸缩管；221、波纹管；222、弹簧；

3、清扫组件；31、支撑板；32、喷气嘴；

4、真空发生装置。

具体实施方式

为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

图1是本实用新型具体实施方式提供的真空吸附平台的结构示意图；图2是本实用新型具体实施方式提供的基台的结构示意图；图3是本实用新型具体实施方式提供的真空吸附组件的结构示意图。如图1-图3所示，本实施例提供的真空吸附平台，包括基台1和真空吸附组件2，基台1上设有通孔11。真空吸附组件2包括吸附管21和伸缩管22，吸附管21滑设于通孔11内，吸附管21包括吸附端，吸附端设置有吸附待吸附件100的吸盘211，吸附管21远离吸盘211的一端与伸缩管22连接，伸缩管22与真空发生装置4连接；吸附管21在伸缩管22的作用下凸出基台1设置，真空发生装置4向伸缩管22和吸附管21内抽真空，伸缩管22收缩，带动吸附管21向靠近伸缩管22的方向移动至吸附端与基台1的上表面齐平，以将待吸附件100吸附于基台1。

图4是本实用新型具体实施方式提供的真空吸附组件未吸附待吸附件时的状态示意图，如图4所示，真空发生装置4未对真空吸附组件2抽真空时，吸附管21的吸附端凸出基台1设置，异物无法掉落至通孔11，从而有效避免通孔11堵塞，吸附端设置有吸附待吸附件100的吸盘211，从而也不存在异物堵塞吸附管造成吸附异常的问题。本实施例提供的真空吸附平台能够有效避免因异物堵塞造成的真空吸附异常，提高了吸附效率。

作为真空吸附平台的一个可选方案，伸缩管22包括波纹管221和弹簧222，弹簧222套设于波纹管221，波纹管221的一端与吸附管21连接，另一端连通真空发生装置4，真空发生装置4向波纹管221和吸附管21内抽真空，弹簧222受力收缩，使波纹管221带动吸附管21向靠近波纹管221的方向移动至吸附端与基台1的上表面齐平。

在本实施例中，弹簧222嵌于波纹管221的波纹之间，弹簧222可设于波纹管221的内壁，也可设于波纹管221的外壁。在不吸附待吸附件100时，波纹管221在弹簧222的弹性恢复力的作用下伸长，带动吸附管21在通孔11内向上移动，从而使得吸附端凸出基台1的上表面设置，异物无法掉落至通孔11内；而吸附端设置有吸盘，也不会导致吸附管21被异物堵塞。在真空发生装置4向波纹管221和吸附管21内抽真空时，波纹管221和弹簧222受负压力变形收缩，带动吸附管21向下移动至吸附端与基台1的上表面齐平，从而将待吸附件100吸附于基台1。

当然，在其他实施例中，伸缩管22也可以为其他可伸缩的软管制成。

作为真空吸附平台的一个可选方案，吸盘211由硅胶制成。

真空发生装置4通过伸缩管22向吸附管21内抽真空，在吸附端形成真空环境，从而使得吸盘211能够吸附待吸附件100。另外，硅胶制成的吸盘211为柔性材质，对待吸附件100的损伤小。待吸附件100的重力压在硅胶制成的吸盘211上，能够缓冲吸附管21在向下移动过程中待吸附件100的重力势能，避免待吸附件100受损。当待吸附件100搬走后，真空发生装置4停止抽真空，吸附管21在弹簧222的弹性恢复力的作用下向上移动，吸盘211也向上恢复形变，能将吸附端吸附的待吸附件100上的异物清空。

为了实现待吸附件100的有效吸附，通孔11设置有多个，多个通孔11呈阵列排布，每个通孔11内对应设置一个真空吸附组件2。通过多个真空吸附组件2同时对待吸附件100进行吸附，保证了待吸附件100吸附的稳定性。

本实施例中提供的真空吸附平台，用于吸附液晶面板，液晶面板包括上下两层玻璃基板，下层的玻璃基板上设置有沟槽结构，液晶分子沿着沟槽整齐排列。如果吸附液晶面板的负压力过大，会导致液晶分子渗漏至与其相邻的沟槽中，这样会导致液晶面板显示异常。

为了避免真空发生装置4供给的负压吸力过大，基台1上还设置有排气通道12，吸附管21上设置有控压孔212，当吸附端移动至与基台1的上表面齐平时，控压孔212通过吸附管21所在的通孔11与排气通道12连通。

图5是本实用新型具体实施方式提供的待吸附件100被吸附至基台上时的状态示意图，如图5所示，当吸附端移动至与基台1的上表面齐平时，此时液晶面板刚好吸附在基台1上，若此时负压吸力继续增加，则会造成液晶面板下凹，可能导致液晶面板破损造成液晶分子渗漏。此时，将控压孔212与排气通道12连通，即使继续增加负压，多余的负压会通过排气通道12与大气连通，而不会作用于液晶面板上。

关于控压孔212在吸附管21上的位置以及控压孔212的直径需根据待吸附件100所需的吸附力和弹簧222的弹性系数计算获得。

在本实施例中，基台1和吸附管21均由金属制成。由金属制成的基台1和吸附管21能够提高通孔11和吸附管21的配合精度，使得吸附管21既能滑设于通孔11内，又不会在控压孔212与排气通道12连通之前漏气，保证真空发生装置4与吸附管21和伸缩管22之间的气密性。

作为真空吸附平台的一个可选方案，每行通孔11对应设置一个与该行所有通孔11均连通的排气通道12；或，每列通孔11对应设置一个与该列所有通孔11均连通的排气通道12。由于基台1上的通孔11呈矩阵布置，对位于同一列的通孔11设置一个排气通道12，该排气通道12垂直于该列的每个通孔11的中心线设置，与每个通孔11均连通，使得位于该列中的所有通孔11中的吸附管21的控压孔212同时与该排气通道12连通。对位于同一排的通孔11设置一个排气通道12，该排气通道12垂直于该排的每个通孔11的中心线设置，与每个通孔11均连通。这样的设置，既便于加工，又能保证液晶面板吸附的平展性。

为了适应不同待附件的不同吸附力的需求，可通过调节排气通道12的出口的气压实现，增强真空吸附平台的通用性。

作为真空吸附平台的一个可选方案，排气通道12与大气连通的一端设置有气压控制阀(图中未示出)，通过气压控制阀控制排气通道12的气压。通过气压控制阀调节与排气通道12的出口连通的气压，使得吸附端的吸附压力满足不同待吸附件100的吸附力的需求。

由于基台1上的异物也可能造成待吸附件100靠近基台1的一侧损伤，为了清理基台1上的异物，基台1的上方还设置有清扫组件3，通过清扫组件3对基台1进行清扫。通过在基台1的上方设置清扫组件3，清扫组件3对基台1的上表面的异物进行清扫，以避免基台1的上表面的异物对待吸附件100造成损伤。

作为真空吸附平台的一个可选方案，清扫组件3包括多个喷气嘴32，多个喷气嘴32均朝向基台1的上表面设置。通过多个喷气嘴32对基台1的上表面进行吹扫，以避免待吸附件100损伤。

在本实施例中，清扫组件3还包括支撑板31，支撑板31设于基台1的一侧，多个喷气嘴32均布于支撑板31。多个喷气嘴32均与气源连通，以为喷气嘴32提供正压气体。多个喷气嘴32均布于支撑板31上。支撑板31可以设置于基台1沿长度方向的一侧，也可以设置于基台1沿宽度方向的一侧，在本实施例中，对支撑板31的数量不作限定，本领域技术人员可根据实际情况设定。

关于真空发生装置的具体结构和工作原理已是现有技术，在此不再赘述。

以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.真空吸附平台，其特征在于，包括：

基台(1)，其上设有通孔(11)；

真空吸附组件(2)，所述真空吸附组件(2)包括吸附管(21)和伸缩管(22)，所述吸附管(21)滑设于所述通孔(11)内，所述吸附管(21)包括吸附端，所述吸附端设置有吸附待吸附件(100)的吸盘(211)，所述吸附管(21)远离所述吸盘(211)的一端与所述伸缩管(22)连接，所述伸缩管(22)与真空发生装置(4)连接；所述吸附管(21)在所述伸缩管(22)的作用下凸出所述基台(1)设置，所述真空发生装置(4)向所述伸缩管(22)和所述吸附管(21)内抽真空，所述伸缩管(22)收缩，带动所述吸附管(21)向靠近所述伸缩管(22)的方向移动至所述吸附端与所述基台(1)的上表面齐平，以将所述待吸附件(100)吸附于所述基台(1)。

2.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述伸缩管(22)包括波纹管(221)和弹簧(222)，所述弹簧(222)套设于所述波纹管(221)，所述波纹管(221)的一端与所述吸附管(21)连接，另一端连通所述真空发生装置(4)，所述真空发生装置(4)向所述波纹管(221)和所述吸附管(21)内抽真空，所述弹簧(222)受力收缩，使所述波纹管(221)带动所述吸附管(21)向靠近所述波纹管(221)的方向移动至所述吸附端与所述基台(1)的上表面齐平。

3.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述吸盘(211)由硅胶制成。

4.根据权利要求1所述的真空吸附平台，其特征在于，所述基台(1)上还设置有排气通道(12)，所述吸附管(21)上设置有控压孔(212)，当所述吸附端移动至与所述基台(1)的上表面齐平时，所述控压孔(212)通过所述吸附管(21)所在的所述通孔(11)与所述排气通道(12)连通。

5.根据权利要求4所述的真空吸附平台，其特征在于，所述通孔(11)设置有多个，多个所述通孔(11)呈阵列排布，每个所述通孔(11)内对应设置一个所述真空吸附组件(2)。

6.根据权利要求5所述的真空吸附平台，其特征在于，每行所述通孔(11)对应设置一个与该行所有所述通孔(11)均连通的所述排气通道(12)；或，

每列所述通孔(11)对应设置一个与该列所有所述通孔(11)均连通的所述排气通道(12)。

7.根据权利要求4所述的真空吸附平台，其特征在于，所述排气通道(12)与大气连通的一端设置有气压控制阀，通过所述气压控制阀控制所述排气通道(12)的气压。

8.根据权利要求1-7任一项所述的真空吸附平台，其特征在于，所述基台(1)的上方还设置有清扫组件(3)，通过所述清扫组件(3)对所述基台(1)进行清扫。

9.根据权利要求8所述的真空吸附平台，其特征在于，所述清扫组件(3)包括多个喷气嘴(32)，多个所述喷气嘴(32)均朝向所述基台(1)的上表面设置。

10.根据权利要求9所述的真空吸附平台，其特征在于，所述清扫组件(3)还包括支撑板(31)，所述支撑板(31)设于所述基台(1)的一侧，多个所述喷气嘴(32)均布于所述支撑板(31)。

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