CN217265466U

CN217265466U - 一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃

Info

Publication number: CN217265466U
Application number: CN202221032562.0U
Authority: CN
Inventors: 吴斌; 陈波; 黄辉; 庄宇
Original assignee: Shanghai Yaopi Glass Research Institute; Shanghai Yaohua Pilkington Glass Group Co ltd
Current assignee: Shanghai Yaopi Glass Research Institute; Shanghai Yaohua Pilkington Glass Group Co ltd
Priority date: 2022-04-29
Filing date: 2022-04-29
Publication date: 2022-08-23
Anticipated expiration: 2032-04-29

Abstract

本实用新型提供了一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，所述含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃包括依次层叠的低辐射镀膜玻璃、胶层和玻璃原片；所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基底，所述玻璃基底的表面依次层叠有至少四层连续的复合膜层以及保护层，所述保护层与胶层相贴合，所述复合膜层包括沿所述玻璃基底向外的方向依次层叠的第一介质层、晶态银层、第二介质层和金属阻挡层，所述玻璃基底和复合膜层之间、相邻所述复合膜层之间、以及所述复合膜层和保护层之间均设置有晶态介质层。本实用新型中低辐射镀膜玻璃具有较低的表面电阻和辐射率，较高的后续弯钢化再夹层成品率；同时由其制成的夹层玻璃具有较高的可见光透过率。

Description

一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃

技术领域

本实用新型属于汽车用镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃。

背景技术

夹层玻璃是由两片或多片玻璃之间夹了一层或多层有机聚合物中间膜，经过特殊的高温预压(或抽真空)及高温、高压工艺处理后，使玻璃和中间膜粘合为一体的复合玻璃产品。夹层玻璃是一种安全玻璃产品，夹层玻璃即使碎裂，碎片也会被粘在薄膜上。此外，低辐射镀膜玻璃具有透过可见光和反射红外线的优点，能够实现调控光线、阻挡太阳热量以及改善环境的效果。因此，结合夹层玻璃和低辐射玻璃制备得到的低辐射夹层玻璃在建筑和汽车领域具有广泛的应用。

通过在夹层玻璃表面镀制低辐射膜层，或直接采用低辐射玻璃来制备低辐射夹层玻璃是目前常用的制备方法。由于车用玻璃都具有一定的弯弧度，无法在夹层玻璃表面再镀制低辐射膜层，因此车用的低辐射夹层玻璃都是使用低辐射镀膜玻璃再夹层，这就对低辐射镀膜层在夹层工艺中的稳定性提出了非常高的要求，因此低辐射镀膜玻璃在后续弯钢化再夹层工序中成品率较低制约着低辐射夹层玻璃的应用。另外随着汽车电气化程度的增加，尤其是电动车方面，前挡风电加热除雾功能以及车内空调制冷效率等因素的影响，对镀膜玻璃表面低电阻的性能和车窗玻璃的节能性能的要求越来越高。为了降低镀膜玻璃表面电阻，同时进一步阻挡太阳热量进入车内，就需要通过不断增加金属银层的厚度来实现，但是膜层厚度增加就会导致可见光透过率的降低、无法满足工艺要求，从而制约了低辐射夹层玻璃的发展。

CN114057407A公开了一种镀膜玻璃及夹层玻璃，所述镀膜玻璃包括第一玻璃基板、低辐射层、金属吸收层以及减反射层；低辐射层沉积于第一玻璃基板的一表面，所述低辐射层包括至少一个透明导电氧化物层；金属吸收层沉积于所述低辐射层；减反射层沉积于所述金属吸收层。采用该镀膜玻璃制备得到的夹层玻璃辐射率值、可见光反射率均有所降低。

CN108582927A公开了一种双银低辐射先镀膜后夹层玻璃及其制备方法，本夹层玻璃包括外夹层、胶层、基片和镀膜层，所述夹层和基片之间通过胶层压合，所述镀膜层自所述基片向外依次复合有十三个膜层，实现了先镀膜后夹层的生产方式，提高了夹层镀膜产品的成品率。

CN103073196A公开了一种低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品，所述的低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板和低辐射薄膜，所述低辐射薄膜包括至少两个介质层和至少一个红外反射层，每个红外反射层位于两个介质层之间，在所述玻璃基板表面和所述低辐射薄膜之间增设高折射率层和低折射率层。通过设置高折射率层和低折射率层，在保证可见光透过率基本保持不变的情况下提高了近红外区域反射率。

上述文献均对夹层玻璃的光学性能进行了改进，但是均未能达到降低低辐射镀膜玻璃的表面电阻和辐射率，以及提高后续弯钢化再夹层的成品率，同时提高夹层玻璃可见光透过率的效果。因此，亟需设计一种可以兼顾多种性能的夹层玻璃

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，通过晶态银层、介质层和金属阻挡层之间的相互作用，能够实现降低低辐射镀膜夹层玻璃的表面电阻和辐射率，以及提高后续弯钢化再夹层成品率，同时提高夹层玻璃可见光透过率的效果。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供了一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，所述含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃包括低辐射镀膜玻璃、玻璃原片以及设置于所述低辐射镀膜玻璃和玻璃原片之间的胶层。

所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基底，所述玻璃基底的表面依次层叠有至少四层连续的复合膜层以及保护层，所述保护层与胶层相贴合，所述复合膜层包括沿所述玻璃基底向外的方向依次层叠的第一介质层、晶态银层、第二介质层和金属阻挡层，所述玻璃基底和复合膜层之间、相邻所述复合膜层之间、以及所述复合膜层和保护层之间均设置有晶态介质层。

本实用新型中低辐射镀膜玻璃中玻璃基底的表面依次层叠有至少四层连续的复合膜层，例如可以是4层、6层、8层或12层，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。此外，“至少四层连续”仅限定复合膜层，并非限定保护层。同时，连续的复合膜层指的是，相邻复合膜层之间通过金属阻挡层和第一介质层连接。本实用新型提供的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃包括弧形夹层玻璃。

本实用新型采用多层晶态银层能够显著降低辐射率，相比于普通银层，晶态银层的结晶度提高20～30％，从而使得玻璃基底表面膜层的辐射率可以降低20～30％；而采用两层介质层对晶态银层进行包裹，可以提高银层的平整度，进一步降低低辐射镀膜玻璃的表面电阻和辐射率；同时，在第二介质层后增设金属阻挡层，可以提高膜层的抗腐蚀性能以及后续的加工性，能够更加有效保护膜层，从而提高后续弯钢化再夹层工序的成品率。此外，晶态介质层具有较高的折射率，能够提升可见光透过率，保证最终的夹层玻璃透过率满足生产工艺需求。

本实用新型提供的低辐射镀膜玻璃，通过晶态银层、介质层和金属阻挡层之间的相互作用，能够同时实现降低表面电阻和辐射率，以及提高后续弯钢化再夹层成品率的效果，其中，低辐射镀膜玻璃的表面辐射率≤0.01；由其制成的夹层玻璃可见光透过率≥70％，可见光反射颜色的红绿值为+1～-5，可见光反射颜色的黄蓝值为0～-10。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述晶态银层的厚度为5～20nm，例如可以是5nm、6nm、8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述晶态介质层的厚度为10～40nm，例如可以是10nm、12nm、15nm、18nm、20nm、23nm、25nm、28nm、30nm、32nm、35nm、38nm或40nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

本实用新型中的晶态介质层可以提高膜层的致密度，对晶态银层起到一定的保护作用，同时其较高的折射率，能够提高膜层的透过率。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述晶态介质层包括晶态Zn₂SnO₄层和/或晶态Nb₂O₅层。

本实用新型中，晶态介质层可以是晶态Zn₂SnO₄层，也可以是晶态Nb₂O₅层，还可以是具有晶态结构的Zn₂SnO₄和Nb₂O₅混合层。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第一介质层的厚度为5～30nm，例如可以是5nm、8nm、10nm、12nm、15nm、18nm、20nm、23nm、25nm、28nm或30nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第二介质层的厚度为5～30nm，例如可以是5nm、8nm、10nm、12nm、15nm、18nm、20nm、23nm、25nm、28nm或30nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

示例性地，本实用新型中第一介质层和第二介质层均包括AZO层、Si₃N₄层、TiO₂层、ZnSnO_x层、ZrO₂层、NbO_y层或TaO层中的任意一种或至少两种的组合，其中0<x≤2，0<y≤2，例如x可以是0.1、0.2、0.5、1、1.5或2，y可以是0.1、0.2、0.5、1、1.5或2，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述金属阻挡层的厚度为1～5nm，例如可以是1nm、1.5nm、2nm、2.5nm、3nm、3.5nm、4nm、4.5nm或5nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述金属阻挡层包括NiCr层、Ti层或Nb层中的任意一种或至少两种的组合。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述保护层的厚度为5～20nm，例如可以是5nm、7nm、9nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

示例性地，本实用新型中保护层的材质包括ZrO₂层、NbO_a层、SiC_b层、Si₃N₄层、SiNC_c层或TiN_d层中的任意一种或者至少两种的组合，其中，0<a≤2，0<b≤4，0<c≤4，0<d≤4，例如a可以是0.1、0.2、0.5、1、1.5或2；b可以是0.1、0.5、1.0、1.5、2.0、2.5、3.0、3.5或4；c可以是0.1、0.5、1.0、1.5、2.0、2.5、3.0、3.5或4；d可以是0.1、0.5、1.0、1.5、2.0、2.5、3.0、3.5或4，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述低辐射镀膜玻璃的厚度为0.7～2.1mm，例如可以是0.7mm、1.1mm、1.6mm或2.1mm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用；

所述玻璃原片的厚度为0.7～3.2mm，例如可以是1.1mm、1.6mm、2.1mm或3.2mm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

本实用新型中低辐射镀膜玻璃的表面电阻≤0.7Ω。

示例性地，本实用新型所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃的制备方法包括：

采用真空磁控溅射法在玻璃基底上镀制晶态介质层、至少四层复合膜层以及保护层得到的低辐射镀膜玻璃，分别对玻璃原片和低辐射镀膜玻璃进行弯钢化处理，随后通过胶层对弯钢化处理后的玻璃原片和低辐射镀膜玻璃进行合片，得到含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃。

所述制备方法还包括对镀膜玻璃的热处理过程，所述热处理过程用于将镀制的材料由非晶态转变为晶态。所述热处理过程的温度为500～720℃，例如可以是500℃、520℃、550℃、580℃、600℃、620℃、650℃、680℃、700℃或720℃，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

本实用新型中所述热处理过程包括基底加热处理、钢化热处理、激光处理或辐照处理中的任意一种；其中，基底加热处理和钢化热处理均是对镀膜玻璃进行热处理，而激光处理和辐照处理均是对晶态介质层和晶态银层进行热处理；同时，基底加热处理是在镀制相应膜层之前进行的，激光处理、辐照处理和钢化热处理均是在镀制相应膜层之后进行的。

此外，本实用新型中采用真空磁控溅射法，按照膜层的层叠顺序在玻璃基底上依次镀制膜层得到低辐射镀膜玻璃；其中，晶态介质层通过交流圆靶在氩气和氧气混合气氛中镀制；同时，复合膜层的镀制过程为依次镀制第一介质层、晶态银层、第二介质层和金属阻挡层；其中，第一介质层和第二介质层通过交流圆靶在氩气气氛中镀制；晶态银层通过直流平靶在氩气气氛中镀制；金属阻挡层通过直流平靶在氩气气氛中镀制；所述保护层通过交流圆靶在氩气气氛中镀制。

需要说明的是，本实用新型所采用的材料均为本领域技术人员的公知材料。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

本实用新型提供的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，通过晶态银层、介质层和金属阻挡层之间的相互作用，能够实现降低其低辐射镀膜玻璃的表面电阻和辐射率，以及提高后续弯钢化再夹层成品率，同时提高夹层玻璃可见光透过率的效果。

附图说明

图1为本实用新型一个具体实施方式提供的一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃的结构示意图。

图2为本实用新型实施例1-3提供的一种低辐射镀膜玻璃的结构示意图。

其中，100-低辐射镀膜玻璃，110-玻璃基底，120-晶态介质层，130-第一复合膜层，131-第一介质层，132-晶态银层，133-第二介质层，134-金属阻挡层，140-第二复合膜层，150-第三复合膜层，160-第四复合膜层，170-保护层；200-胶层；300-玻璃原片。

具体实施方式

需要理解的是，在本实用新型的描述中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

需要说明的是，在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

在一个具体实施方式中，本实用新型提供了一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，如图1所示，所述含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃包括低辐射镀膜玻璃100、玻璃原片300以及设置于所述低辐射镀膜玻璃100和玻璃原片300之间的胶层200；

所述低辐射镀膜玻璃100包括玻璃基底110，所述玻璃基底110的表面依次层叠有至少四层连续的复合膜层以及保护层170，所述保护层170与胶层200相贴合，所述复合膜层包括沿所述玻璃基底110向外的方向依次层叠的第一介质层131、晶态银层132、第二介质层133和金属阻挡层134，所述玻璃基底110和复合膜层之间、相邻所述复合膜层之间、以及所述复合膜层和保护层170之间均设置有晶态介质层120。

实施例1

基于上述具体实施方式，本实施例提供了一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其中，低辐射镀膜玻璃100的厚度为1.6mm，表面电阻为0.7Ω，聚乙烯醇缩丁醛胶层200的厚度为0.76mm，玻璃原片300的厚度为2.1mm；

如图2所示，所述低辐射镀膜玻璃100中玻璃基底110的表面依次层叠有四层连续的复合膜层以及保护层170，所述四层连续的复合膜层分别为第一复合膜层130、第二复合膜层140、第三复合膜层150和第四复合膜层160，所述第一复合膜层130、第二复合膜层140、第三复合膜层150和第四复合膜层160各自独立地包括第一介质层131、晶态银层132、第二介质层133和金属阻挡层；

其中，晶态介质层120是厚度为15nm的Zn₂SnO₄层，第一介质层131是厚度为15nm的AZO层，第二介质层133是厚度为15nm的AZO层，金属阻挡层134是厚度为3nm的NiCr层，第一复合膜层130中晶态银层132的厚度为8nm，第二复合膜层140中晶态银层132的厚度为10nm，第三复合膜层150中晶态银层132的厚度为10nm，第四复合膜层160中晶态银层132的厚度为12nm，保护层170是10nm的ZrO₂层。

本实施例提供的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃的制备过程如下：对玻璃基底110进行清洗和干燥后，采用真空磁控溅射镀膜机按照自玻璃基底110向外的膜层顺序进行镀制，具体的工艺参数如表1所示，其中，在镀制晶态材料层前，采用基底加热的方式将镀膜玻璃加热至650℃，将镀制的材料由非晶态转变为晶态，得到所述低辐射镀膜玻璃100，然后分别对所述玻璃原片300和所述低辐射镀膜玻璃100进行弯钢化处理，随后通过乙烯醇缩丁醛胶层200对弯钢化处理后的所述玻璃原片300和低辐射镀膜玻璃100进行合片，得到所述含有多晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃。

表1

实施例2

基于上述具体实施方式，本实施例提供了一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其中，低辐射镀膜玻璃100的厚度为2.1mm，表面电阻为0.6Ω，聚乙烯醇缩丁醛胶层200的厚度为0.76mm，玻璃原片300的厚度为2.1mm；

如图2所示，所述低辐射镀膜玻璃100中玻璃基底110的表面依次层叠有四层连续的复合膜层以及保护层170，所述四层连续的复合膜层分别为第一复合膜层130、第二复合膜层140、第三复合膜层150和第四复合膜层160，所述第一复合膜层130、第二复合膜层140、第三复合膜层150和第四复合膜层160各自独立地包括第一介质层131、晶态银层132、第二介质层133和金属阻挡层134；

其中，晶态介质层120是厚度为20nm的Zn₂SnO₄层，第一介质层131是厚度为12nm的AZO层，第二介质层133是厚度为12nm的AZO层，金属阻挡层134是厚度为5nm的NiCr层，第一复合膜层130中晶态银层132的厚度为8nm，第二复合膜层140中晶态银层132的厚度为12nm，第三复合膜层150中晶态银层132的厚度为12nm，第四复合膜层160中晶态银层132的厚度为15nm，保护层170是15nm的ZrO₂层。

本实施例提供的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃的制备过程与实施例1的区别在于，在镀制晶态材料层后，采用激光处理的方式加热晶态介质层120和晶态银层132至550℃，其余工艺参数和操作步骤与实施例1相同。

实施例3

基于上述具体实施方式，本实施例提供了一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其中，低辐射镀膜玻璃100的厚度为1.6mm，表面电阻为0.65Ω，聚乙烯醇缩丁醛胶层200的厚度为1.52mm，玻璃原片300的厚度为3.2mm；

其中，晶态介质层120是厚度为30nm的Zn₂SnO₄层，第一介质层131是厚度为20nm的AZO层，第二介质层133是厚度为20nm的AZO层，金属阻挡层134是厚度为3nm的NiCr层，第一复合膜层130中晶态银层132的厚度为8nm，第二复合膜层140中晶态银层132的厚度为10nm，第三复合膜层150中晶态银层132的厚度为12nm，第四复合膜层160中晶态银层132的厚度为15nm，保护层170是20nm的ZrO₂层。

本实施例提供的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃的制备过程与实施例1的区别在于，在镀制晶态材料层后，采用钢化热处理的方式加热晶态介质层120和晶态银层132至700℃，其余工艺参数和操作步骤与实施例1相同。

对比例1

本对比例与实施例1的区别在于，采用普通银层代替复合膜层中的晶态银层132，同时制备过程中省去热处理步骤，其余工艺参数和操作步骤与实施例1相同。

对比例2

本对比例与实施例1的区别在于，省去了复合膜层中的金属阻挡层134，其余工艺参数和操作步骤与实施例1相同。

对比例3

本对比例与实施例1的区别在于，省去了复合膜层中的第二介质层133，其余工艺参数和操作步骤与实施例1相同。

对比例4

本对比例与实施例1的区别在于，省去了低辐射镀膜玻璃100中的晶态介质层120，其余工艺参数和操作步骤与实施例1相同。

参照参考GB/T 18951.1对实施例1-3和对比例1-4所提供的低辐射镀膜玻璃100进行耐酸性和耐碱性实验，将镀膜玻璃分别浸泡在1mol/L的盐酸、1mol/L的氢氧化钠溶液中。

对实施例1-3和对比例1-4提供的低辐射镀膜玻璃100的性能测试结果见表2。

表2

	面电阻/Ω	辐射率	耐酸时间/h	耐碱时间/h
					实施例1	0.7	0.010	3	12
实施例2	0.6	0.008	4	12
					实施例3	0.65	0.009	3.5	12
对比例1	1.1	0.014	0.05	1
					对比例2	0.7	0.010	1	6
对比例3	0.8	0.011	3	12
					对比例4	0.8	0.011	0.05	0.5

对实施例1-3和对比例1-4提供的夹层玻璃的可见光透过率进行测试，结果见表3。

表3

由表2和表3的数据可得：

本实用新型提供的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，通过晶态银层132、介质层和金属阻挡层134之间的相互作用，能够实现降低其低辐射镀膜玻璃100的表面电阻和辐射率，以及提高后续弯钢化再夹层成品率，同时提高夹层玻璃可见光透过率的效果。其中，相比于普通银层，采用多层晶态银层132能够显著降低低辐射镀膜玻璃100的辐射率；而采用两层介质层对晶态银层132进行包裹，可以提高晶态银层132的平整度，进一步降低低辐射镀膜玻璃100的表面电阻和辐射率；同时，在第二介质层133后增设金属阻挡层134，可以提高膜层的抗腐蚀性能以及后续的加工性，能够更加有效保护膜层，从而提高后续弯钢化再夹层工序的成品率。此外，晶态介质层120可以提高膜层致密性，同时具有较高的折射率，能够提升可见光透过率。

申请人声明，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，所属技术领域的技术人员应该明了，任何属于本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，均落在本实用新型的保护范围和公开范围之内。

Claims

1.一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃包括低辐射镀膜玻璃、玻璃原片以及设置于所述低辐射镀膜玻璃和玻璃原片之间的胶层；

2.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述晶态银层的厚度为5～20nm。

3.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述晶态介质层的厚度为10～40nm。

4.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述晶态介质层包括晶态Zn₂SnO₄层和/或晶态Nb₂O₅层。

5.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述第一介质层的厚度为5～30nm。

6.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述第二介质层的厚度为5～30nm。

7.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述金属阻挡层的厚度为1～5nm。

8.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述金属阻挡层包括NiCr层、Ti层或Nb层中的任意一种或至少两种的组合。

9.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述保护层的厚度为5～20nm。

10.根据权利要求1所述的含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃，其特征在于，所述低辐射镀膜玻璃的厚度为0.7～2.1mm，所述玻璃原片的厚度为0.7～3.2mm。