CN102786231B - 一种可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及玻璃镀膜领域，特别是涉及高可见光透过率、可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品。膜层结构自玻璃基板向上依次包括：玻璃基板、第一介质层、红外反射层和第二介质层，其特征在于：所述第二介质层包括：第二介质膜，选自ZrO2和ZrOxNy中的至少一种；沉积在所述第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金属的氧化物中的至少一种，或者选自Ti、Al、Ta、Nb、Fe、Hf、Ni、Cr等金属的氮化物或其氮氧化物中的至少一种。优点在于：该低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品的机械稳定性和高温热处理稳定性好。

Description

一种可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品
技术领域：
本发明涉及玻璃镀膜领域，特别是涉及高可见光透过率、可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品，尤其适用于交通工具上面的单银镀膜夹层玻璃。
背景技术：
低辐射薄膜(low-e膜)玻璃具有透过可见光和反射红外线的优点，因此作为一种绿色环保产品在建筑和交通工具上面有巨大的市场需求。低辐射薄膜的核心材料是一层或者多层的银层(9纳米～15纳米)，由于银层容易被腐蚀和氧化，所以必须在银层的上、下方都沉积能够透过可见光的透明介质层；这些介质层能够保护银层在后续加工，特别是高温热处理(如钢化和烘弯成型)过程中不被破坏；此外，银层上、下方的介质层还起到减反射的作用，能够提高低辐射镀膜玻璃的可见光透过率。在具有至少一层银层的低辐射薄膜结构中，沉积在最远离玻璃基片的银层上方的介质层或者介质层组合必须具有优良的氧原子阻隔能力、优良的化学稳定性和机械稳定性。表1列举了专利文献中披露的常见的沉积在最远离玻璃基片的银层上方的上介质层膜层搭配结构，主要的膜层材料选自Si3N4、ZnSnOx、SnO2等，同时在银层的上、下方设置ZnO膜层以增强热稳定性，在最外层设置保护涂层例如TiO2、SiOxNy、ZrO2、Zn2TiO4、TiN等改善膜层的机械和化学耐久性。
表1专利文献中披露的部分上介质层结构
表1披露的现有技术存在若干缺点，例如：专利US6495251和CN1209489C公开了ZnSnOx作为上介质层的一种膜层结构，但ZnSnOx基材料偏软；专利CN100349819C、US6159621、US8142622和US7897260公开了SnO2作为上介质层的一种膜层结构，但SnO2偏软、致密性和O阻隔能力较差；专利CN1906136B公开了ZnO作为上介质层，Si3N4作为保护层的一种膜层结构，但Si3N4和ZnO之间的界面稳定性不够。专利US5450238公开了TiO2作为上介质层的一种膜层结构，但以TiO2作为上介质层的主体的高温热处理稳定性不足，同时Ti金属靶材的溅射效率低，不能满足大批量高效的生产。因此需要获得氧原子阻隔能力强、致密、硬度高、化学稳定性好和镀膜生产过程中溅射速度快的上介质层，以改善low-e镀膜产品的特性。
ZrO2或者ZrOxNy膜层具有很高的硬度，而且难溶于普通的酸、碱溶液，常用为low-e膜的最外保护层，其作用类似于TiO2，如专利US7314668所描述的；鉴于Zr对氧原子的高亲和能力，ZrO2作为银层的牺牲层保护银层不被氧化，其作用类似于Ti和NiCr，如US7713587所描述的；ZrO2作为封闭层直接沉积在玻璃表面，如专利WO2008060453A2所描述的；此外专利US7951473还披露了…|ZrO2或ZrOxNy|ZnO|Ag|…的叠层结构，其中ZrO2或者ZrOxNy作为力学稳定性增强层。
尽管ZrO2在溅射镀膜和low-e薄膜领域是公知的材料，然而依据本领域技术人员的一般认识，ZrO2是一种优良的氧离子导体，不适合于作为low-e膜层的上介质层来阻隔氧原子的扩散。但是令人惊讶的，ZrO2膜层作为low-e膜层的上介质层的主体而不是常规的最外层保护层，在ZrO2膜层上增加一层保护层之后，在高温热处理过程中有效的保护了银层不被氧化。此外，以ZrO2膜层作为low-e膜的上介质层，体现出了优异的机械稳定性。
发明内容：
本发明的目的在于克服上述缺陷，提供一种具有改进的机械稳定性和高温热处理稳定性的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品。
本发明采用的技术方案是：一种可热处理的低辐射镀膜玻璃，膜层结构自玻璃基板向上依次包括：玻璃基板、第一介质层、红外反射层和第二介质层，其特征在于：所述第二介质层包括：1)第二介质膜，选自ZrO2和ZrOxNy(0<y<x<2)中的至少一种；2)沉积在所述第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金属的氧化物中的至少一种。
优选地，所述第二介质层还包括沉积在所述第二介质膜之下的第一介质膜，所述第一介质膜包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc等元素中的至少一种。
优选地，所述第二介质层的第二介质膜的几何厚度为5～50nm，所述第二介质层的第三介质膜的几何厚度为5～100nm。
优选地，红外反射层和第一介质层之间还设置有第一阻隔层，所述第一阻隔层材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种。
优选地，红外反射层和第二介质层之间还设置有第二阻隔层，所述第二阻隔层材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种。
优选地，第一介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物。
优选地，所述红外反射层为银层或含银的合金层。
优选地，第一介质层的几何厚度为20～70nm，红外反射层的几何厚度为8～20nm，第二介质层的几何厚度为20～120nm。
本发明还提供一种夹层玻璃制品，包括两块玻璃和两块玻璃之间的夹层聚合物，两块玻璃中至少一块选自以上任一所述的低辐射镀膜玻璃，所述低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜与所述夹层聚合物相邻。
与现有技术相比，本发明能够提供机械稳定性改善、热稳定性和光学质量合格的低辐射镀膜玻璃，体现出了如下主要优点：
第一，ZrO2和ZrOxNy膜层折射率高，利于获得中性外观的镀膜产品；
第二，ZrO2和ZrOxNy的化学稳定性和机械性能均优于ZnSnOx、SnO2等常规膜层；
第三，与Si3N4相比，ZrO2在和ZnO等膜层接触时能够保持热处理过程中的界面稳定性，不会出现热处理时的界面破坏，或者在构成产品后的膜层之间或者膜层最外层和夹层聚合物之间粘结力不够造成产品不合格；
第四，在采用同种溅射靶材(金属靶或者陶瓷靶)的情况下，ZrO2和ZrOxNy的溅射速率高于TiO2，保证了足够的生产效率。
附图说明：
图1为本发明所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃的第一种膜系结构示意图；
图2为本发明所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃的第二种膜系结构示意图；
图3为本发明所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃的第三种膜系结构示意图；
图4为本发明所述的夹层玻璃制品的一种结构示意图；
图5为本发明所述的夹层玻璃制品的另一种结构示意图。
图中：1为玻璃基板；2为第一介质层，21为第一介质层下层，22为第一介质层上层；3为阻隔层，31是第一阻隔层，32是第二阻隔层；4为红外反射层；5为第二介质层，51为第二介质层的第一介质膜，52为第二介质层的第二介质膜，53为第二介质层的第三介质膜；6为外层玻璃板；7为内层玻璃板；8为夹层聚合物；9为低辐射薄膜。
具体实施方式：
以下结合附图对本发明的内容作进一步说明。
如图1至图3所示，本发明所述的一种可热处理的低辐射镀膜玻璃，膜层结构自玻璃基板向上依次包括：玻璃基板1、第一介质层2、红外反射层4和第二介质层5，其特征在于：所述第二介质层5自玻璃基板向上依次包括：1)第二介质膜52，选自ZrO2和ZrOxNy(0<y<x<2)中的至少一种；2)沉积在所述第二介质膜52上的第三介质膜53，所述第三介质膜53选自Ti、Al、Si、Ta、Hf、Nb、Cr、Ni、Fe、Mo、W、Y等金属的氧化物中的至少一种。
其中，ZrO2和ZrOxNy膜层具有优良的化学、力学耐久性；ZrO2和ZrOxNy膜层折射率高，利于获得中性外观的镀膜产品；在采用同种溅射靶材(金属靶或者陶瓷靶)情况下，ZrO2和ZrOxNy(0<y<x<2)的溅射速率高于TiO2，保证了足够的生产效率。上介质层中包含…|ZrO2或ZrOxNy|第三介质膜的叠层结构，第三介质膜53和ZrO2或ZrOxNy膜层52直接接触，ZrO2或ZrOxNy膜层作为low-e膜层的上介质层的主体而不是常规的最外层保护层，在其上沉积第三介质膜53作为保护层后，能够在高温热处理过程中有效地保护银层不被氧化。其中，ZrO2或ZrOxNy膜层52的几何厚度为5～50nm，第三介质膜53的几何厚度为5～100nm。
优选地，所述第二介质层5还包括沉积在所述第二介质膜52之下的第一介质膜51，所述第一介质膜51包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc等元素中的至少一种。ZnO膜层中的掺杂元素利于提高膜层溅射过程中的稳定性和减少膜层缺陷，可以为银层提供有利的生长界面，提高银层的导电性，降低辐射率。同时，ZrO2在和ZnO等膜层接触时能够保持热处理过程中的界面稳定性，不会出现热处理时的界面破坏，或者在构成产品后的膜层之间或者膜层最外层和夹层聚合物之间粘结力不够造成产品不合格。本发明的实施例中第二介质层5的厚度不限制本发明的保护范围，并且可以选择，第二介质层5的优选几何厚度为20～120nm。
在本发明所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃中，如图1所示，在所述第一介质层2和所述红外反射层4之间设置第一阻隔层31以增强膜层的力学和高温热稳定性，在所述红外反射层4和所述第二介质层5之间设置第二阻隔层32以防止红外反射层4在后续膜层沉积以及高温热处理过程中受到氧化破坏；图2和图3中，仅在所述红外反射层4和所述第二介质层5之间设置第二阻隔层32；进一步地，以上所述的阻隔层材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta等金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种。
在本发明中，所述红外反射层4主要功能是用于反射红外线，减少红外线从低辐射镀膜玻璃中透射，所以所述红外反射层4的膜层材料可以选用能够反射红外线的任何材料，例如(但不局限于)银、金、铜、铝等，在本发明中优选为银或含银的合金，其中含银的合金在本发明中优选为银与金、铝、铜中至少一种的合金。在本发明的实施例中均选用了银，能够有效地降低辐射率，提高隔热和保温性能。实施例中银的厚度不限制本发明的保护范围，并且可以选择，以提供低辐射系数的镀膜玻璃。本发明的实施例中优选几何厚度为8～20nm的银作为红外反射层。
在本发明中，第一介质层2用于减少可见光区域的反射、阻止热处理过程中玻璃表面的破坏性原子(例如Na和O原子)向红外反射层4的扩散以及引导红外反射层4的结晶。第一介质层2的膜层材料选自Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr等金属或其合金的氧化物中的至少一种，或者选自Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta等金属或其合金的氮化物、氮氧化物中的至少一种。优选地，第一介质层2至少包含第一介质层下层21和第一介质层上层22，其中第一介质层上层22直接和红外反射层4接触或者在第一介质层上层22和红外反射层4之间设置第一阻隔层31，第一介质层上层22的优选材料是ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc等元素中的至少一种，这些掺杂元素用于提高红外反射层的结晶质量、降低镀膜产品的方块电阻和可见光吸收。本发明的实施例中第一介质层2的厚度不限制本发明的保护范围，并且可以选择，第一介质层2的优选几何厚度为20～70nm。
本发明的实施例中，所述第一介质层2和第二介质层5中的膜层是由本领域技术人员所公知的磁控溅射技术沉积到玻璃基板上的，其中，第二介质层5的第二介质膜52的膜层材料选用ZrO2或ZrOxNy膜层，第二介质层5的第三介质膜53的膜层材料选用SiO2或TiO2膜层。所述ZrO2膜层采用Zr金属靶在Ar/O2流量比例为3/1～1/1的气氛下中频反应溅射沉积，或者采用ZrOx陶瓷靶在O2的流量为1～10％的Ar、O2混合气氛中中频溅射沉积的；所述ZrOxNy(0<y<x<2)膜层是采用Zr金属靶在Ar/O2/N2混合气氛下中频反应溅射沉积的，其中N2占总气体流量的比例不超过20％；所述SiO2膜层采用SiAl合金靶在Ar/O2流量比例为1/1～1/2的气氛下中频溅射沉积，所述TiO2膜层是采用TiOx靶在O2的流量为1～10％的Ar、O2混合气氛下中频溅射沉积的。
如图4和图5所示的本发明所述的夹层玻璃制品，包括外层玻璃板6、内层玻璃板7、夹层聚合物8和低辐射薄膜9，所述外层玻璃板6是指装配在汽车上时面向车外的玻璃；所述内层玻璃板7是指装配在汽车上时面向车内的玻璃；所述夹层聚合物8是指PVB膜片；在图4中，低辐射薄膜9位于内层玻璃板7的上面，且位于内层玻璃板7上靠近夹层聚合物8的一面，即此夹层玻璃制品的内层玻璃为低辐射镀膜玻璃；图5中，低辐射薄膜9位于外层玻璃板6的上面，且位于外层玻璃板6上靠近夹层聚合物8的一面，即此夹层玻璃制品的外层玻璃为低辐射镀膜玻璃；可以理解的是，本发明保护的夹层玻璃制品，包括两块玻璃和两块玻璃之间的夹层聚合物，其中，两块玻璃中至少一块选自以上所述的低辐射镀膜玻璃，所述可热处理的低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜与所述夹层聚合物相邻。
以下为了更详细地说明和更具说服力地支撑本发明的发明点，现列举一些实施例进行详细阐述。
实施例1～5：
以厚度为2.1毫米的钠钙硅酸盐浮法白玻或者绿玻为基片，经过了切割、磨边、洗涤、烘干后，进入磁控溅射镀膜线进行沉积，本底真空度高于9×10-4Pa。根据如表2所示不同膜系结构在玻璃上依次沉积。Si3N4采用SiAl合金靶在Ar/N2流量比例为1/1的混合气氛下中频反应溅射沉积，ZnSnOx采用Zn50Sn50合金靶材在Ar/O2流量比例为1/1的混合气氛下中频反应溅射，ZnO为采用Zn98Al2合金靶材在Ar/O2流量比例为2/3的混合气氛下中频反应溅射沉积，Ag和Ti在Ar气氛下直流溅射沉积，ZrO2采用Zr金属靶在Ar/O2流量比例为3/1的混合气氛下中频反应溅射沉积，ZrOxNy采用Zr金属靶在Ar/O2/N2流量比例为6/2/1的混合气氛下中频反应溅射沉积，TiO2采用TiOx陶瓷靶在Ar和含有微量O2(Ar与O2的重量百分比分别为95％和5％)的气氛中中频溅射沉积。
表2：对比例1～2和实施例1～5膜系结构及烘弯热处理前后的外观和关键技术指标比较
真空镀膜完成后，按照汽车玻璃烘弯工艺进行配片、烘弯，检查和测试光学、电学的主要技术指标以及烘弯热处理前后的外观如上表2所示。在对比例1中，采用ZnO|Si3N4作为第二介质层的膜层结构；在对比例2中，采用ZnO|ZrO2作为第四介质层的膜层结构，ZrO2上方无覆盖保护层；在实施例1～5中，采用…|ZnO|ZrO2或ZrOxNy|TiO2作为第二介质层的膜层结构，在保持ZrO2或ZrOxNy和TiO2层总厚度不变的情况下，逐渐改变ZrO2或ZrOxNy和TiO2的厚度。
对比例1采用Si3N4作为第二介质层的主体，Si3N4层下方设置ZnO层，然而Si3N4层和ZnO层接触时界面热稳定性不够，膜面上容易出现非均匀氧化点。而实施例1～4采用ZrO2作为第二介质层的主体，银层上方设置ZnO层；实施例5采用ZrOxNy作为第二介质层的主体，银层上方设置ZnO层；在实施例1～5中，特别是实施例2、3、5中都没有出现这种由于界面不稳定而导致的氧化点。因此ZrO2或ZrOxNy|ZnO界面相对于Si3N4|ZnO界面具有更高的界面热稳定性。
对比例2中采用ZrO2作为第二介质层的主体，ZrO2上方无覆盖保护层，膜层在烘弯过程中不能充分阻隔氧原子向银层的扩散，在高温热处理之后膜面呈现非均匀雾度、方阻较大和透过率下降等缺陷；然而在ZrO2层上覆盖薄层TiO2层(例如实施例1中的5nm厚度TiO2)即开始明显改善氧原子的阻隔性能。此时TiO2还不能为ZrO2层提供足够保护，表现为镀膜玻璃的雾度过高。继续增大TiO2保护层的厚度，ZrO2|TiO2叠层的氧原子阻隔能力上升，使得烘弯热处理之后的方阻、可见光透过率和雾度达到最佳，如实施例2、3和5。然而ZrO2不可过薄，TiO2不可过厚，如实施例4中第二介质层所采用的ZnO|ZrO210nm|TiO230nm的膜层结构的氧原子阻隔能力出现了下降，导致方阻、雾度上升。
下面通过对比例3和实施例2的刷洗试验的比较说明ZrO2介质层相对于ZnSnOx介质层在机械稳定性上的改进。对比例3叠层结构为：玻璃|ZnSnOx35nm|ZnO8nm|Ag11.6nm|Ti1nm|ZnO8nm|ZnSnOx35nm|TiO25nm。其区别在于：实施例2采用ZnO|ZrO2|TiO2作为第二介质层，而对比例3采用ZnO|ZnSnOx|TiO2作为第二介质层。参照标准ISO11998:2006，利用Erichsen494刷洗试验机比较对比例3和实施例2的机械耐久性，其结果如表3所示。
表3：对比例3和实施例2的刷洗试验及其结果
从表3结果可以看出，在同等刷洗试验条件下，ZrO2膜层相对于ZnSnOx膜层具有更好的力学耐久性，以ZrO2膜层作为银层上方介质层的主体，能显著改善产品的机械稳定性，尤其是经过了高温热处理的膜层，机械稳定性的改善更为明显。这种以ZnO|ZrO2|TiO2为第二介质层的单银膜系结构的机械稳定性超过以ZnO|ZnSnOx|TiO2为第二介质层的单银膜系结构。
实施例6～9：
以厚度为2.1毫米的钠钙硅酸盐浮法白玻或者绿玻为基片，经过了切割、磨边、洗涤和烘干后，进入磁控溅射镀膜线进行沉积，本底真空度高于9×10-4Pa。根据如表4所示不同膜系结构在玻璃上依次沉积：ZnSnOx、ZnO、Ag、Ti、ZnO、ZrO2和SiO2层。其中ZnSnOx采用Zn50Sn50合金靶材在Ar/O2流量比例为1/1的混合气氛下中频反应溅射，ZnO为采用Zn98Al2合金靶材在Ar/O2流量比例为2/3的混合气氛下中频反应溅射沉积，Ag和Ti在Ar气氛下直流溅射沉积，ZrO2采用Zr金属靶在Ar/O2流量比例为3/1的混合气氛下中频反应溅射沉积，SiO2采用SiAl合金靶在Ar/O2流量比例为1/1的混合气氛下中频溅射沉积。
表4：对比例2和实施例6～9膜系结构以及烘弯热处理前后的外观和关键技术指标比较(其中的厚度数值单位是nm)
真空镀膜完成后，按照汽车玻璃烘弯工艺进行配片、烘弯，检查和测试光学、电学的主要技术指标如表4所示。对比例2中ZrO2介质层上方无覆盖保护层，膜层在烘弯过程中不能充分阻隔O原子的向银层扩散；而在实施例6～9中，ZrO2层上覆盖SiO2层可改善O原子阻隔性能。从表4看到，以…|ZnO|ZrO2|SiO2作为第二介质层构建了含有一层红外反射层的低辐射薄膜，在ZrO2层厚度不变的情况下改变SiO2层的厚度，获得了热处理之后的光学指标和外观质量优异的低辐射薄膜，均优于以…|ZnO|ZrO2或ZrOxNy为第二介质层的低辐射薄膜。在适量范围内持续增加SiO2保护层的厚度，利于增强…|ZnO|ZrO2|SiO2叠层的O阻隔能力，获得热稳定性显著改善的镀膜玻璃。
实施例10～12：
以厚度为2.1毫米的钠钙硅酸盐浮法白玻或绿玻为镀膜基板，经过切割、磨边、洗涤和烘干等工序后，进入磁控溅射镀膜线进行镀膜沉积，本底真空度高于9×10-4Pa，如表5所示，所沉积的膜层结构为表2中的实施例3，然后将该沉积有实施例3膜层结构的镀膜玻璃和2.1毫米厚度的白玻或者绿玻配片烘弯成型，在中间夹上一片0.76毫米厚度的无色PVB胶片，在高压釜中高压合片，最终制成夹层玻璃制品，其结构示意图如图4和图5所示。
表5实施例10～12结构及其主要技术指标
其中镀膜玻璃是作为外玻璃板6还是内玻璃板7取决于烘弯成型时镀膜玻璃和配片玻璃的上下相对位置。表5中列出了实施例10～12所述的夹层玻璃制品在烘弯处理后的光学技术指标和烘弯处理后的雾度，其可见光透过率(即可见光透射比)TL≧70％，满足GB9656-2003《汽车用安全玻璃》标准。
本发明以上所列举的实施例均在描述膜层结构及对应的膜层材料，而如具体的沉积工艺、参数以及将镀膜玻璃制作成夹层玻璃制品的具体工艺和参数均未描述，可以理解的是这些未描述的部分皆为本领域普通技术人员所熟知，故未描述的部分不影响本发明所要保护的范围。
以上所述是结合具体的较佳实施例对本发明所述的一种可热处理的低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品所作的进一步详细说明，但是本发明不受以上描述的具体实施方式内容和相应实施例的局限，所以凡依据本发明的技术要点进行的简单修改、等同变化和替换等，仍属于本发明保护的范围。

Claims (7)

1.一种可热处理的低辐射镀膜玻璃，膜层结构自玻璃基板向上依次包括：玻璃基板、第一介质层、红外反射层和第二介质层，其特征在于：所述第二介质层包括：1)第一介质膜，所述第一介质膜包括ZnO膜或掺杂的ZnO膜，所述掺杂的ZnO膜中的掺杂元素选自Al、Ga、In、Sn、Mo、Y、B、Si、Ge、Ti、Hf、Zr、F、Sc元素中的至少一种；2)沉积在所述第一介质膜之上的第二介质膜，选自ZrO2和ZrOxNy(0<y<x<2)中的至少一种；3)沉积在所述第二介质膜上的第三介质膜，所述第三介质膜为TiO2膜或SiO2膜；当所述第三介质膜为TiO2膜时，所述第二介质膜的几何厚度为10～35nm，所述第三介质膜的几何厚度为10～15nm；当所述第三介质膜为SiO2膜时，所述第二介质膜的几何厚度为5～50nm，所述第三介质膜的几何厚度为20～50nm。
2.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：红外反射层和第一介质层之间还设置有第一阻隔层，所述第一阻隔层材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：红外反射层和第二介质层之间还设置有第二阻隔层，所述第二阻隔层材料选自Ti、Zr、Zn、Ni、Cr、Nb、Ta金属、或其不完全氧化物、或其不完全氮化物中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一介质层包含至少一种Zn、Sn、Si、Al、Ti、Zr、Nb、Ta、Bi、Ni、Cr金属或其合金的氧化物，或者包含至少一种Si、Al、Zr、Ti、Nb、Ta金属或其合金的氮化物、氮氧化物。
5.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述红外反射层为银层或含银的合金层。
6.根据权利要求1所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：第一介质层的几何厚度为20～70nm，红外反射层的几何厚度为8～20nm，第二介质层的几何厚度为20～120nm。
7.一种夹层玻璃制品，包括两块玻璃和两块玻璃之间的夹层聚合物，其特征在于：两块玻璃中至少一块选自权利要求1～6任一所述的可热处理的低辐射镀膜玻璃，所述可热处理的低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜与所述夹层聚合物相邻。
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