CN117645417A - 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 - Google Patents
镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 Download PDFInfo
- Publication number
- CN117645417A CN117645417A CN202311454088.XA CN202311454088A CN117645417A CN 117645417 A CN117645417 A CN 117645417A CN 202311454088 A CN202311454088 A CN 202311454088A CN 117645417 A CN117645417 A CN 117645417A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- protective layer
- glass substrate
- coated glass
- physical thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 168
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 423
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 87
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 73
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 70
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 64
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 claims abstract description 18
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 129
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 33
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 31
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 17
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims description 16
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 11
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 10
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 9
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 8
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 15
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 48
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 38
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 11
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910007717 ZnSnO Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本申请涉及一种镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃。上述镀膜玻璃包括第一玻璃基板以及设置在第一玻璃基板表面的镀膜层；镀膜层包括至少一个功能叠层以及一个顶层保护层，每个功能叠层包括一个金属层和两个介质层，金属层位于两个介质层之间，顶层保护层为镀膜层中最远离第一玻璃基板表面的一层，顶层保护层的材料包括SiZrOx或SiZrMOx，1＜x＜3，M包括与Zr不同的金属元素，顶层保护层的折射率n值为1.50~1.60，消光系数k值为0.00001~0.001。上述镀膜玻璃能够提高表面硬度、抗划伤及耐加工能力。
Description
技术领域
本申请涉及玻璃技术领域，特别是提供一种镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃。
背景技术
镀膜玻璃是指利用气相沉积技术在玻璃基板的表面上形成特殊功能的涂层或膜层，气相沉积技术又分为化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。在实际产品中，可以利用物理气相沉积技术制造包含1-4个银层的镀膜玻璃，由于银层具有反射红外线和导电性好等特点，包含银层的镀膜玻璃可以用作隔热玻璃或电加热玻璃。隔热玻璃被安装到交通工具上时可以防止太阳光中的可见光之外的光线、特别是红外线进入内部空间，进而明显降低空调能耗以及提高驾驶员和乘客的热舒适性。电加热玻璃的温度可随着通过电流而升高，进而实现防止起雾或除雾、除霜、除冰等功能，提高驾驶安全性。
镀膜玻璃在制造用作机动车上的隔热玻璃或电加热玻璃时，还需要经过至少500℃的高温热处理和弯曲成型，例如汽车玻璃的烘弯工艺、压制弯曲工艺等，这就要求镀膜玻璃上的涂层或膜层不仅要满足光学性能和外观质量的要求，还要具有较高的机械性能、热稳定性和化学稳定性。传统的包含银层的镀膜玻璃的机械性能较差，特别是包括3-4个银层的镀膜玻璃的膜层的硬度较低，在后续的运输、储存、搬运、加工过程中容易被硬物划伤，使得耐加工能力较差。
发明内容
基于此，本申请一些实施例提供一种能够提高表面硬度、抗划伤及耐加工能力的镀膜玻璃及其制备方法。
此外，本申请又一些实施例还提供一种包括上述镀膜玻璃的夹层玻璃。
第一方面，本申请提供一种镀膜玻璃，包括第一玻璃基板以及设置在所述第一玻璃基板表面的镀膜层；
所述镀膜层包括至少一个功能叠层以及一个顶层保护层，每个所述功能叠层包括一个金属层和两个介质层，所述金属层位于两个所述介质层之间，所述顶层保护层为所述镀膜层中最远离所述第一玻璃基板表面的一层，所述顶层保护层的材料包括SiZrOx或SiZrMOx，1＜x＜3，M包括与Zr不同的金属元素，所述顶层保护层的折射率n值为1.50~1.60，消光系数k值为0.00001~0.001。
在一些实施例中，所述顶层保护层的折射率n值为1.50~1.57，消光系数k值为0.00003~0.0008。
在一些实施例中，M元素选自W、Nb、Ta、Y、Hf及Al中的一种或几种。
在一些实施例中，所述顶层保护层的物理厚度为15nm~80nm。
在一些实施例中，所述镀膜层的铅笔硬度≥8H。
在一些实施例中，所述功能叠层的数量为2~5个，在相邻两个所述功能叠层之间还设有中间层。
在一些实施例中，所述镀膜层还包括设置在所述第一玻璃基板与所述至少一个功能叠层之间的最内附着层，所述最内附着层与所述第一玻璃基板表面直接接触。
在一些实施例中，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
(1)各所述金属层的材料独立地选自银、金、铜、铝及铂金中的任意一种金属或金属合金；
(2)各所述金属层的物理厚度独立地为5nm～20nm；
(3)各所述介质层的材料独立地选自Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物；
(4)各所述介质层的物理厚度独立地为5nm～30nm；
(5)各所述中间层的材料独立地选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；
(6)各所述中间层的物理厚度独立地为20nm~100nm；
(7)所述最内附着层的材料选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；
(8)所述最内附着层的物理厚度为10nm~50nm。
在一些实施例中，所述镀膜层还包括设置在所述顶层保护层和所述至少一个功能叠层之间的第一保护层，所述第一保护层的折射率为2.0~2.75，所述第一保护层的物理厚度为5nm~20nm。
在一些实施例中，所述镀膜层还包括设置在所述第一保护层和所述顶层保护层之间的第二保护层，所述第二保护层的折射率为1.8~2.4，所述第二保护层的物理厚度为5nm~30nm。
在一些实施例中，所述第一保护层的折射率大于所述第二保护层的折射率，所述第一保护层的物理厚度小于或等于所述第二保护层的物理厚度，所述第二保护层的物理厚度小于所述顶层保护层的物理厚度。
第二方面，本申请提供一种镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：
提供第一玻璃基板：
在所述第一玻璃基板的至少一个表面上通过磁控溅射工艺沉积镀膜层；
所述镀膜层包括至少一个功能叠层以及一个顶层保护层，每个所述功能叠层包括一个金属层和两个介质层，所述金属层位于两个所述介质层之间，所述顶层保护层为所述镀膜层中最远离所述第一玻璃基板表面的一层，所述顶层保护层的材料包括SiZrOx或SiZrMOx，1＜x＜3，M包括与Zr不同的金属元素，所述顶层保护层的折射率n值为1.50~1.60，消光系数k值为0.00001~0.001。
在一些实施例中，所述顶层保护层的溅射靶材为SiZr合金靶或SiZrM合金靶，以质量百分比计，所述SiZr合金靶包含50%-70%的Si和30%-50%的Zr，所述SiZrM合金靶包含50%-75%的Si、10%-40%的Zr和0.1%-15%的M。
在一些实施例中，M选自W、Nb、Ta、Y、Hf及Al中的两种以上的组合，所述组合中的含量最多的元素与含量最少的元素之间的质量比为1-2。
在一些实施例中，所述顶层保护层的靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源，磁控溅射所述顶层保护层的工作电压为550V-1200V、工作电流为200A-1000A、占空比为5%-15%。
第三方面，本申请提供一种夹层玻璃，包括第二玻璃基板、粘合层和如上所述的镀膜玻璃，所述粘合层设置在所述镀膜玻璃和所述第二玻璃基板之间，所述镀膜层较所述第一玻璃基板更靠近所述粘合层。
本申请提供的镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃，采用SiZrOx或SiZrMOx作为镀膜层的顶层保护层，不仅能够提高镀膜层的膜层硬度，提升镀膜玻璃的抗划伤能力和耐加工性能，还更有利于进行膜系设计以及调节镀膜层对不同波长光线的透过率、反射率、吸收率等光学性能。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本申请一些实施例中的镀膜玻璃的一种结构示意图；
图2为本申请一些实施例中的镀膜玻璃的另一种结构示意图；
图3为本申请一些实施例中的镀膜玻璃的又一种结构示意图；
图4为本申请一些实施例中的夹层玻璃的一种结构示意图。
附图标记：
镀膜玻璃10、第一玻璃基板100、镀膜层200、最内附着层201、第一介质层202、第一金属层203、第二介质层204、第一中间层205、第三介质层206、第二金属层207、第四介质层208、第二中间层209、第五介质层210、第三金属层211、第六介质层212、第三中间层213、第七介质层214、第四金属层215、第八介质层216、第一保护层220、第二保护层230、顶层保护层240、粘合层300、第二玻璃基板400。
具体实施方式
为了便于理解本申请，下面将结合具体实施方式对本申请进行更全面的描述。具体实施方式中给出了本申请的较佳的实施例。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另外说明或存在矛盾之处，本申请中使用的术语或短语具有以下含义：
本申请中，“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。
本申请中，“一种或几种”指所列项目的任一种、任两种或任两种以上。其中，“几种”指任两种或任两种以上。
化学式中x的取值：有明确定义的，以定义的范围为准。未明确定义的，可以根据磁控溅射工艺中以化学计量方式、亚化学计量方式或超化学计量方式沉积等进行确定。
高温热处理：至少500℃的高温热处理，例如生产汽车玻璃的自重弯曲工艺或压制弯曲工艺等。
本申请的第一方面提供一种镀膜玻璃，包括第一玻璃基板以及设置在所述第一玻璃基板表面的镀膜层；
所述镀膜层包括至少一个功能叠层以及一个顶层保护层，每个所述功能叠层包括一个金属层和两个介质层，所述金属层位于两个所述介质层之间，所述顶层保护层为所述镀膜层中最远离所述第一玻璃基板表面的一层，所述顶层保护层的材料包括SiZrOx或SiZrMOx，1＜x＜3，M包括与Zr不同的金属元素，所述顶层保护层的折射率n值为1.50~1.60，消光系数k值为0.00001~0.001。
可选地，顶层保护层的折射率n值可以但不限于为1.50、1.51、1.52、1.53、1.54、1.55、1.56、1.57、1.58、1.59、1.6或这些取值中任意两者所组成的范围。可选地，顶层保护层的折射率n值为1.50~1.57。
可选地，顶层保护层的消光系数k值可以但不限于为0.00001、0.00002、0.00005、0.0001、0.00015、0.0002、0.00025、0.0003、0.00035、0.0004、0.00045、0.0005、0.00055、0.0006、0.00065、0.0007、0.00075、0.0008、0.00085、0.0009、0.00095、0.001或这些取值中任意两者所组成的范围。可选地，顶层保护层的消光系数k值为0.00003~0.0008。
在一些实施例中，顶层保护层的物理厚度为15nm~80nm。可选地，顶层保护层的物理厚度可以但不限于为15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm或这些取值中任意两者所组成的范围。从提高镀膜层的表面硬度和控制生产成本等方面考虑，优选顶层保护层的物理厚度为20nm~60nm。
在一些实施例中，M包括W（钨）、Nb（铌）、Ta（钽）、Y（钇）、Hf（铪）及Al（铝）中的一种或几种。例如，M仅为Al，或者M包括Al和W，或者M包括Al和Ta，或者M包括Nb和Y，或者M包括Al、W和Nb。
在一些实施例中，功能叠层的数量为1个、2个、3个、4个、5个或更多个。多个功能叠层层叠设置，在相邻两个所述功能叠层之间还设有中间层。
在一些实施例中，所述镀膜层还包括设置在所述第一玻璃基板与所述至少一个功能叠层之间的最内附着层，所述最内附着层与所述第一玻璃基板表面直接接触。
其中，金属层具有反射红外线和导电性好等特点，各所述金属层的材料独立地选自银、金、铜、铝及铂金中的任意一种金属或金属合金；具体可举例为Ag、AgCu合金、AgIn合金、AgCuAl合金等。包含金属层的镀膜层使镀膜玻璃及夹层玻璃具有隔热功能，进而明显降低空调能耗以及提高驾驶员和乘客的热舒适性。进一步地，镀膜层也可以使夹层玻璃在通电后具有电加热功能，因此能够升高夹层玻璃的温度，进而实现防止起雾或除雾、除霜、除冰等功能，提高驾驶安全性。示例性的，夹层玻璃的通电电压可以是12V～380V。
其中，各所述金属层的物理厚度独立地为5nm～20nm。例如，各金属层的物理厚度独立地为5nm、8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm、20nm或这些取值中任意两者所组成的范围。
可选地，在金属层和任一介质层之间还可以沉积有阻挡层(未示出)，阻挡层的材料为Ti、NiCr、Nb等金属或金属的氧化物，阻挡层的物理厚度小于或等于5nm，阻挡层与金属层直接接触，主要用于防止金属层在磁控溅射过程中与氧化反应气体接触以及改进镀膜层的光学性能等。
其中，各介质层使镀膜层能够承受后续至少500℃的高温热处理和其他弯曲成型工艺，并且得到的镀膜玻璃的光学性能、机械性能等均能够满足车辆玻璃的使用标准。各所述介质层的材料独立地选自Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物；具体可举例为AZO、NbOx、TiOx、ZnAlOx、ZnOx、SnOx、ZnSnOx等。
其中，各介质层的物理厚度独立地为5nm~30nm。例如，各介质层的物理厚度独立地为5nm、8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm、20nm、24nm、27nm、30nm或这些取值中任意两者所组成的范围。
其中，各所述中间层分别位于相邻两个功能叠层之间，可以提高镀膜层的平整度以及改善反射颜色，各所述中间层的材料独立地选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；具体可举例为ZrNx、SiOx、SiOxNy、SiAlZrNx、SiZrNx、SiNx、SiZrOx、SiAlZrOx、ZnSnOx、AZO、ITO等。
其中，各所述中间层的物理厚度独立地为20nm~100nm；例如，各中间层的物理厚度独立地为20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm或这些取值中任意两者所组成的范围。可选地，各所述中间层的物理厚度独立地为30nm~70nm。
其中，最内附着层直接沉积在第一玻璃基板的表面上，用于减少或防止碱金属离子从第一玻璃基板扩散到镀膜层中，还可以增加镀膜层与第一玻璃基板的表面之间的附着力，以及有助于调节镀膜层的机械性能、光学性能和高温热处理性能。所述最内附着层的材料选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；具体可举例为SiAlZrNx、NbOx、SiNx、ZnSnOx、SiZrNx等。
其中，最内附着层的物理厚度为10nm~50nm。例如，最内附着层的物理厚度可以但不限于为10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm或这些取值中任意两者所组成的范围。
在一些实施例中，所述镀膜层还包括设置在所述顶层保护层和所述至少一个功能叠层之间的第一保护层，所述第一保护层有利于使镀膜层具有更优的热延展性能，在高温热处理过程中能够保证镀膜层不开裂。其中，所述第一保护层的折射率为2.0~2.75；具体可举例为2.0、2.05、2.1、2.2、2.3、2.4、2.5、2.6、2.7、2.75或这些取值中任意两者所组成的范围。其中，所述第一保护层的物理厚度为5nm~20nm；例如，第一保护层的物理厚度可以但不限于为5nm、8nm、10nm、12nm、15nm、18nm、20nm或这些取值中任意两者所组成的范围。
在一些实施例中，所述镀膜层还包括设置在所述第一保护层和所述顶层保护层之间的第二保护层，所述第二保护层有利于使镀膜层具有更优的热延展性能，在高温热处理过程中能够保证镀膜层不开裂。其中，所述第二保护层的折射率为1.8~2.4；具体可举例为1.8、1.9、2.0、2.05、2.1、2.2、2.3、2.4或这些取值中任意两者所组成的范围。其中，所述第二保护层的物理厚度为5nm~30nm；例如，第二保护层的物理厚度可以但不限于为5nm、8nm、10nm、12nm、15nm、18nm、20nm、25nm、30nm或这些取值中任意两者所组成的范围。
其中，所述第一保护层和所述第二保护层的材料各自独立地选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；例如，所述第一保护层的材料为TiOx，所述第二保护层的材料为ZnSnOx。可选地，所述第一保护层的折射率大于所述第二保护层的折射率，具体可举例为所述第一保护层的折射率为2.4~2.75，所述第二保护层的折射率为1.8~2.2。可选地，所述第一保护层的物理厚度小于或等于所述第二保护层的物理厚度，所述第二保护层的物理厚度小于所述顶层保护层的物理厚度。
以下结合附图对功能叠层为2个、3个或4个的情况分别进行说明，功能叠层为其他数量时，镀膜玻璃的具体结构可以根据功能叠层为2个、3个或4个的情况得到，不再赘述。
请参阅图1，功能叠层有2个。镀膜玻璃10包括第一玻璃基板100以及设置在第一玻璃基板100的表面上的镀膜层200。镀膜层200包括依次层叠的最内附着层201、第一介质层202、第一金属层203、第二介质层204、第一中间层205、第三介质层206、第二金属层207、第四介质层208、第一保护层220、第二保护层230及顶层保护层240。其中，最内附着层201直接沉积在第一玻璃基板100的表面上，第一介质层202、第一金属层203和第二介质层204构成第一功能叠层，第三介质层206、第二金属层207和第四介质层208构成第二功能叠层，第一中间层205位于第一功能叠层和第二功能叠层之间。
请参阅图2，功能叠层有3个。镀膜玻璃10包括第一玻璃基板100以及设置在第一玻璃基板100的表面上的镀膜层200。镀膜层200包括依次层叠的最内附着层201、第一介质层202、第一金属层203、第二介质层204、第一中间层205、第三介质层206、第二金属层207、第四介质层208、第二中间层209、第五介质层210、第三金属层211、第六介质层212、第一保护层220、第二保护层230及顶层保护层240。其中，最内附着层201直接沉积在第一玻璃基板100的表面上，第一介质层202、第一金属层203和第二介质层204构成第一功能叠层，第三介质层206、第二金属层207和第四介质层208构成第二功能叠层，第五介质层210、第三金属层211和第六介质层212构成第三功能叠层，第一中间层205位于第一功能叠层和第二功能叠层之间，第二中间层209位于第二功能叠层和第三功能叠层之间。
请参阅图3，功能叠层有4个。镀膜玻璃10包括第一玻璃基板100以及设置在第一玻璃基板100的表面上的镀膜层200。镀膜层200包括依次层叠的最内附着层201、第一介质层202、第一金属层203、第二介质层204、第一中间层205、第三介质层206、第二金属层207、第四介质层208、第二中间层209、第五介质层210、第三金属层211、第六介质层212、第三中间层213、第七介质层214、第四金属层215、第八介质层216、第一保护层220、第二保护层230及顶层保护层240。其中，最内附着层201直接沉积在第一玻璃基板100的表面上，第一介质层202、第一金属层203和第二介质层204构成第一功能叠层，第三介质层206、第二金属层207和第四介质层208构成第二功能叠层，第五介质层210、第三金属层211和第六介质层212构成第三功能叠层，第七介质层214、第四金属层215和第八介质层216构成第四功能叠层，第一中间层205位于第一功能叠层和第二功能叠层之间，第二中间层209位于第二功能叠层和第三功能叠层之间，第三中间层213位于第三功能叠层和第四功能叠层之间。
本申请的第二方面提供一种镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：
提供第一玻璃基板：
在所述第一玻璃基板的至少一个表面上通过磁控溅射工艺沉积镀膜层；
所述镀膜层包括至少一个功能叠层以及一个顶层保护层，每个所述功能叠层包括一个金属层和两个介质层，所述金属层位于两个所述介质层之间，所述顶层保护层为所述镀膜层中最远离所述第一玻璃基板表面的一层，所述顶层保护层的材料包括SiZrOx或SiZrMOx，1＜x＜3，M包括与Zr不同的金属元素，所述顶层保护层的折射率n值为1.50~1.60，消光系数k值为0.00001~0.001。
在一些实施例中，所述顶层保护层的溅射靶材为SiZr合金靶或SiZrM合金靶。以质量百分比计，所述SiZr合金靶包含50%-70%的Si(硅)和30%-50%的Zr(锆)，具体举例为包含55%的Si和45%的Zr、或包含58%的Si和42%的Zr、或包含60%的Si和40%的Zr、或包含62%的Si和38%的Zr、包含64%的Si和36%的Zr。以质量百分比计，所述SiZrM合金靶包含50%-75%的Si、10%-40%的Zr和0.1%-15%的M。具体举例为包含50%的Si、40%的Zr和10%的M、或包含54%的Si、38%的Zr和8%的M、或包含56%的Si、30%的Zr和14%的M、或包含58%的Si、37%的Zr和5%的M、或包含60%的Si、28%的Zr和12%的M、或包含65%的Si、30%的Zr和5%的M。可以理解的是，所述SiZr合金靶或SiZrM合金靶中还可能存在不可避免的杂质元素，例如Fe(铁)、Cr(铬)、Ca(钙)、Ti(钛)、Cu(铜)、Mn(锰)、O(氧)、N(氮)等，所述杂质元素的含量小于0.1%，更优选小于0.01%。
从考虑平衡SiZrMOx层的硬度和折射率的角度出发，优选所述SiZrM合金靶中的M含量为0.1%-15%，具体可举例为0.1%、0.5%、1%、2%、3%、4%、5%、6%、7%、8%、9%、10%、11%、12%、13%、14%、15%等，更优选为1%-14%，或为2%-12%，或为5%-10%。可以理解的是，当M选自W、Nb、Ta、Y、Hf、Al中的两种以上的组合时，M的含量为所述两种以上的组合的含量之和。例如M的含量为10%，当M仅为一种元素时，可以为10%的Al，或为10%的W，或为10%的Nb；当M为两种元素的组合时，可以为8%的Al和2%的W，或为5%的Al和5%的Ta，或为4%的Nb和6%的Y；当M为三种元素的组合时，可以为3%的Al、3%的W和4%的Hf，或为2%的Ta、3%的Y和5%的Al；当M为四种元素的组合时，可以为4%的Al、2%的W、2%的Hf和2%的Nb。
优选地，当M选自W、Nb、Ta、Y、Hf、Al中的两种以上的组合时，所述组合中的含量最多的元素与含量最少的元素之间的质量比为1-2，具体可举例为1、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、1.7、1.8、1.9、2；例如M为5%的Al和7%的Ta，则Ta与Al的质量比为1.2；又例如M为3%的Al、3%的W和4%的Hf，则Hf与Al或W的质量比为1.33；更优选所述质量比为1-1.5。
其中，所述顶层保护层的靶材电源优选为高功率脉冲磁控溅射电源(HiPIMS电源)，利用HiPIMS电源可以在溅射沉积过程中实现在短脉冲内向溅射靶材供应几百千瓦甚至兆瓦级别的瞬时高功率，进而提高溅射靶材的离化率，使SiZrOx层和SiZrMOx层具有更多的化学键结合，增强了顶层保护层的附着力，提高了顶层保护层的表面硬度；同时使SiZrOx层和SiZrMOx层沉积得较为疏松，进一步降低顶层保护层的折射率。优选地，磁控溅射所述顶层保护层的工作电压为550V-1200V、工作电流为200A-1000A、占空比为5%-15%。所述工作电压可举例为550V、600V、650V、700V、750V、800V、850V、900V、950V、1000V、1050V、1100V、1150V、1200V等；更优选地，所述工作电压为600V-1000V。所述工作电流可举例为200A、300A、400A、500A、600A、700A、800A、900A、1000A等；更优选地，所述工作电流为500A-900A。所述占空比可举例为5%、6%、7%、8%、9%、10%、11%、12%、13%、14%、15%等。
本申请的第三方面还提供一种夹层玻璃，请参阅图4，夹层玻璃包括第二玻璃基板400、粘合层300和所述的镀膜玻璃10，所述粘合层300设置在所述镀膜玻璃10和所述第二玻璃基板400之间，所述镀膜层200较所述第一玻璃基板100更靠近所述粘合层300。
在本申请中，夹层玻璃可以安装到车辆上用作前挡风玻璃、边窗玻璃、后挡风玻璃或天窗玻璃等。
在一些实施例中，第一玻璃基板100可以为透明玻璃或超透明玻璃（超白玻璃），第二玻璃基板400可以为透明玻璃、超透明玻璃或着色玻璃。透明玻璃的总铁含量小于或等于0.1％，透明玻璃的可见光透过率大于或等于80％。超透明玻璃的总铁含量小于或等于0.015％，超透明玻璃的可见光透过率大于或等于90％。着色玻璃的总铁含量大于或等于0.5%，着色玻璃的可见光透过率小于或等于85％。
在一些实施例中，粘合层300用于连接镀膜玻璃10与第二玻璃基板400，以提高夹层玻璃的结构强度，使其满足更多场景的安全标准和法规要求。粘合层300的材质可以是聚乙烯醇缩丁醛（PVB）、乙烯醋酸乙烯酯（EVA）、热塑性聚氨酯弹性体（TPU）或离子型聚合物膜（SGP）等。示例性的，粘合层300可以为单层结构或多层结构，多层结构可以举例有双层结构、三层结构、四层结构、五层结构等。粘合层300还可以具有其他功能，例如设置至少一个着色区用作阴影带从而降低太阳光对人眼的干扰，或者增添红外线吸收剂从而具有防晒或隔热功能，或者增添紫外线吸收剂从而具有隔紫外线功能，又或者多层结构的至少一层的增塑剂含量更高从而具有隔音功能。
为了使本申请的目的以及优点更加清楚，以下结合具体实施例对本申请的镀膜玻璃及其效果做进一步详细的说明。
对比例1-5和实施例1-7
准备2.1mm厚的透明玻璃基板，通过磁控溅射工艺在透明玻璃基板的表面上沉积对比例1-5和实施例1-7的膜层结构，并测量对比例1-5和实施例1-7的镀膜玻璃测试样品在高温热处理前的铅笔硬度，以及测量对比例2-5和实施例1-7的顶层保护层在高温热处理后的折射率n和消光系数k，将测量结果计入表1中。
对比例1：透明玻璃基板/Ag层。
对比例2：透明玻璃基板/Ag层/Si3N4层；Si3N4层的溅射靶材为纯Si靶，靶材电源为MF电源（中频磁控溅射电源），占空比为100%，工艺气体为Ar和N2。
对比例3：透明玻璃基板/Ag层/SiO2层；SiO2层的溅射靶材为纯Si靶，靶材电源为MF电源，占空比为100%，工艺气体为Ar和O2。
对比例4：透明玻璃基板/Ag层/ZrO2层；ZrO2层的溅射靶材为ZrO1.4陶瓷靶，靶材电源为MF电源，占空比为100%，工艺气体为Ar和O2。
对比例5：透明玻璃基板/Ag层/SiZrOX层；SiZrOX层的溅射靶材为SiZr合金靶，SiZr合金靶包含64%的Si和36%的Zr。
实施例1-2：透明玻璃基板/Ag层/SiZrOx层；SiZrOx层的溅射靶材为SiZr合金靶，SiZr合金靶包含64%的Si和36%的Zr。
实施例3：透明玻璃基板/Ag层/SiZrAlOx层；SiZrAlOx层的溅射靶材为SiZrAl合金靶，SiZrAl合金靶包含58.5%的Si、36.5%的Zr和5%的Al。
实施例4：透明玻璃基板/Ag层/SiZrAlWOx层；SiZrAlWOx层的溅射靶材为SiZrAlW合金靶，SiZrAlW合金靶包含55%的Si、35%的Zr、5%的Al和5%的W。
实施例5：透明玻璃基板/Ag层/SiZrAlTaOx层；SiZrAlTaOx层的溅射靶材为SiZrAlTa合金靶，SiZrAlTa合金靶包含54%的Si、34%的Zr、5%的Al和7%的Ta。
实施例6：透明玻璃基板/Ag层/SiZrYNbOx层；SiZrYNbOx层的溅射靶材为SiZrYNb合金靶，SiZrYNb合金靶包含56%的Si、34%的Zr、5%的Y和5%的Nb。
实施例7：透明玻璃基板/Ag层/SiZrAlTaOx层；SiZrAlTaOx层的溅射靶材为SiZrAlTa合金靶，SiZrAlTa合金靶包含71%的Si、17%的Zr、5%的Al和7%的Ta。
其中，对比例1-5和实施例1-7的Ag层的溅射靶材为银金属靶，工艺气体为Ar，靶材电源为直流电源(DC)。
在实施例1-7的磁控溅射工艺中，SiZrOx层或SiZrMOx层的工艺气体为Ar和O2，靶材电源为HiPIMS电源，占空比为5%～15%。
表1：对比例1-5和实施例1-7的测试样品的测量结果
从表1中可以看出：对比例1的Ag层的硬度较差，对比例2-5均采用MF电源进行磁控溅射，对比例2的Si3N4层和对比例3的SiO2层的硬度均较低，无法对金属Ag层产生有效保护。对比例4的ZrO2层的硬度大幅提高，但ZrO2为高折射率材料，根据薄膜光学设计原理，作为镀膜层的顶层保护层时，相同物理厚度的高折射率材料层比低折射率材料层使镀膜层的可见光反射率变大且反射颜色偏红或偏黄。对比例5的SiZrOx层的硬度也大幅提高，且其折射率n≤1.6，但其消光系数k为0。
与对比例3和5相比，实施例1-7的SiZrOx层和SiZrMOx层采用HiPIMS电源进行磁控溅射，利用SiZr合金靶或SiZrM合金靶得到折射率n=1.50-1.60的SiZrOx层或SiZrMOx层，1＜x＜3，利用HiPIMS电源可以在溅射沉积过程中实现在短脉冲内向溅射靶材供应几百千瓦甚至兆瓦级别的瞬时高功率，进而提高溅射靶材的离化率，使SiZrOx层和SiZrMOx层具有更多的化学键结合，增强了顶层保护层的附着力，提高了顶层保护层的表面硬度；同时使SiZrOx层和SiZrMOx层沉积得较为疏松，进一步降低顶层保护层的折射率，并且还能在保持低折射率的同时使SiZrOx层或SiZrMOx层的消光系数k提升至0.00001-0.001，使SiZrOx层或SiZrMOx层更适合于作为镀膜层的顶层保护层，不仅能够提高镀膜层的膜层硬度至≥8H，甚至≥9H，提升镀膜玻璃的抗划伤能力和耐加工性能，还更有利于进行膜系设计以及调节镀膜层对不同波长光线的透过率、反射率、吸收率等光学性能。可选地，作为顶层保护层的SiZrOx层或SiZrMOx层的折射率n为1.50-1.57，或为1.51-1.56，或为1.52-1.55等。可选地，作为顶层保护层的SiZrOx层或SiZrMOx层的消光系数k为0.00003-0.0008，或为0.00005-0.0007。
对比例6-7和实施例8-14
本申请准备2.1mm厚的透明玻璃基板，通过磁控溅射工艺在透明玻璃基板的表面上沉积对比例6-7和实施例8-14的镀膜层，该镀膜层具有两个功能叠层，具体如图1所示，包括依次层叠设置的最内附着层201、第一介质层202、第一金属层203、第二介质层204、第一中间层205、第三介质层206、第二金属层207、第四介质层208、第一保护层220、第二保护层230及顶层保护层240。
对比例6的顶层保护层：对比例2的Si3N4层；
对比例7的顶层保护层：对比例5的SiZrOx层；
实施例8的顶层保护层：实施例1的SiZrOx层；
实施例9的顶层保护层：实施例2的SiZrOx层；
实施例10的顶层保护层：实施例3的SiZrAlOx层；
实施例11的顶层保护层：实施例4的SiZrAlWOx层；
实施例12的顶层保护层：实施例5的SiZrAlTaOx层；
实施例13的顶层保护层：实施例6的SiZrYNbOx层；
实施例14的顶层保护层：实施例7的SiZrAlTaOx层；
测量对比例6-7和实施例8-9的镀膜玻璃在高温热处理前后的反射颜色、方块电阻、铅笔硬度和酒精擦拭结果，将测量结果计入表2中。
反射颜色：从镀膜层一侧，测量在0°入射角情况下，基于D65光源、10°视场角下，按照CIE Lab颜色模型计算L值、a值和b值，L值表示亮度，a值表示红绿值，b值表示黄蓝值；
铅笔硬度测试：根据GB/T 6739-2006对镀膜层进行铅笔硬度测试；
方块电阻：使用手持式方块电阻仪对镀膜层进行测量；
酒精擦拭测试：用蘸有酒精的无尘布，双手按压，用力进行擦拭镀膜层，观察镀膜层是否出现大片脱离或点状脱离。
表2：对比例6-7和实施例8-9的镀膜玻璃的测量结果
测量实施例10-14的镀膜玻璃在高温热处理前后的反射颜色、方块电阻、铅笔硬度和酒精擦拭结果，将测试结果计入表3中。
表3：实施例10-14的镀膜玻璃的测量结果
从表2和表3中可以看出：对比例6使用MF电源沉积Si3N4层作为顶层保护层，由于Si3N4为高折射率材料，根据薄膜光学设计原理，为了使其具有与低折射率材料层相同的光学厚度，Si3N4层的物理厚度大幅减小至小于15nm，不利于提高镀膜层的膜层硬度、抗划伤能力和耐加工性能；同时，其镀膜层在高温热处理后的铅笔硬度下降，说明其热处理稳定性较差，难以满足生产汽车玻璃的自重弯曲工艺或压制弯曲工艺等的使用要求。对比例7使用MF电源沉积SiZrOx层作为顶层保护层，其镀膜层在高温热处理后的铅笔硬度下降，说明其热处理稳定性较差，难以满足生产汽车玻璃的自重弯曲工艺或压制弯曲工艺等的使用要求。
实施例8-14的镀膜层在经过高温热处理后的方块电阻均能够降低至小于或等于2.0Ω/□，甚至小于或等于1.55Ω/□，且在高温热处理前后的酒精擦拭均满足要求，以及在高温热处理前后的铅笔硬度均≥8H，甚至实施例8-13在高温热处理后的铅笔硬度达到了大于9H，证明了使用HiPIMS电源不仅可以提高SiZr合金靶或SiZrM合金靶的离化率，使SiZrOx或SiZrMOx的折射率n更接近于SiO2的低折射率，进而增加了顶层保护层的物理厚度至≥20nm、甚至≥30nm，而且制备的消光系数k=0.00001-0.001的SiZrOx层或SiZrMOx层在高温热处理过程中表现得更稳定，具有更好的膜基结合力，从而避免在加工的过程中，由于膜层之间的连接强度较弱而与其他膜层分离，有利于提高镀膜层的膜层硬度、抗划伤能力和耐加工性能，进而提高镀膜层的整体机械稳定性。
对比例8-9和实施例15-21
本申请准备2.1mm厚的透明玻璃基板，通过磁控溅射工艺在透明玻璃基板的表面上沉积对比例8-9和实施例15-21的镀膜层，该镀膜层具有三个功能叠层，具体如图2所示，包括依次层叠设置的最内附着层201、第一介质层202、第一金属层203、第二介质层204、第一中间层205、第三介质层206、第二金属层207、第四介质层208、第二中间层209、第五介质层210、第三金属层211、第六介质层212、第一保护层220、第二保护层230及顶层保护层240。
对比例8的顶层保护层：对比例2的Si3N4层；
对比例9的顶层保护层：对比例5的SiZrOx层；
实施例15的顶层保护层：实施例1的SiZrOx层；
实施例16的顶层保护层：实施例2的SiZrOx层；
实施例17的顶层保护层：实施例3的SiZrAlOx层；
实施例18的顶层保护层：实施例4的SiZrAlWOx层；
实施例19的顶层保护层：实施例5的SiZrAlTaOx层；
实施例20的顶层保护层：实施例6的SiZrYNbOx层；
实施例21的顶层保护层：实施例7的SiZrAlTaOx层；
测量对比例8-9和实施例15-16的镀膜玻璃在高温热处理前后的反射颜色、方块电阻、铅笔硬度和酒精擦拭结果，将测量结果计入表4中。
表4：对比例8-9和实施例15-16的镀膜玻璃的测量结果
测量实施例17-21的镀膜玻璃在高温热处理前后的反射颜色、方块电阻、铅笔硬度和酒精擦拭结果，将测试结果计入表5中。
表5：实施例17-21的镀膜玻璃的测量结果
从表4和表5中可以看出：对比例8使用MF电源沉积Si3N4层作为顶层保护层，由于Si3N4为高折射率材料，根据薄膜光学设计原理，为了使其具有与低折射率材料层相同的光学厚度，Si3N4层的物理厚度大幅减小至小于15nm，其镀膜层在高温热处理前后的铅笔硬度仅为4H，其镀膜层的膜层硬度较低且抗划伤能力和耐加工性能较弱。对比例9使用MF电源沉积SiZrOx层作为顶层保护层，其镀膜层在高温热处理后的铅笔硬度下降，说明其热处理稳定性较差，难以满足生产汽车玻璃的自重弯曲工艺或压制弯曲工艺等的使用要求。
实施例15-21的镀膜层在经过高温热处理后的方块电阻均能够降低至小于或等于1.0Ω/□，甚至小于或等于0.95Ω/□，且在高温热处理前后的酒精擦拭均满足要求，以及在高温热处理前后的铅笔硬度均≥8H，甚至实施例15-20在高温热处理后的铅笔硬度达到了大于9H，证明了使用HiPIMS电源不仅可以提高SiZr合金靶或SiZrM合金靶的离化率，使SiZrOx或SiZrMOx的折射率n更接近于SiO2的低折射率，进而增加了顶层保护层的物理厚度至≥30nm、甚至≥40nm，而且制备的消光系数k=0.00001-0.001的SiZrOx层或SiZrMOx层在高温热处理过程中表现得更稳定，具有更好的膜基结合力，从而避免在加工的过程中，由于膜层之间的连接强度较弱而与其他膜层分离，有利于提高镀膜层的膜层硬度、抗划伤能力和耐加工性能，进而提高镀膜层的整体机械稳定性。
对比例10-11和实施例22-28
本申请准备2.1mm厚的透明玻璃基板，通过磁控溅射工艺在透明玻璃基板的表面上沉积对比例10-11和实施例22-28的镀膜层，该镀膜层具有四个功能叠层，具体如图3所示，包括依次层叠设置的最内附着层201、第一介质层202、第一金属层203、第二介质层204、第一中间层205、第三介质层206、第二金属层207、第四介质层208、第二中间层209、第五介质层210、第三金属层211、第六介质层212、第三中间层213、第七介质层214、第四金属层215、第八介质层216、第一保护层220、第二保护层230及顶层保护层240。
对比例10的顶层保护层：对比例4的ZrO2层；
对比例11的顶层保护层：对比例5的SiZrOx层；
实施例22的顶层保护层：实施例1的SiZrOx层；
实施例23的顶层保护层：实施例2的SiZrOx层；
实施例24的顶层保护层：实施例3的SiZrAlOx层；
实施例25的顶层保护层：实施例4的SiZrAlWOx层；
实施例26的顶层保护层：实施例5的SiZrAlTaOx层；
实施例27的顶层保护层：实施例6的SiZrYNbOx层；
实施例28的顶层保护层：实施例7的SiZrAlTaOx层；
测量对比例10-11和实施例22-23的镀膜玻璃在高温热处理前后的反射颜色、方块电阻、铅笔硬度和酒精擦拭结果，将测量结果计入表6中。
表6：对比例10-11和实施例22-23的镀膜玻璃的测量结果
测量实施例24-28的镀膜玻璃在高温热处理前后的反射颜色、方块电阻、铅笔硬度和酒精擦拭结果，将测试结果计入表7中。
表7：实施例24-28的镀膜玻璃的测量结果
从表6和表7中可以看出：对比例10使用MF电源沉积ZrO2层作为顶层保护层，由于ZrO2为高折射率材料，根据薄膜光学设计原理，为了使其具有与低折射率材料层相同的光学厚度，ZrO2层的物理厚度大幅减小至小于10nm，其镀膜层在高温热处理前后的铅笔硬度仅为6H，其镀膜层的膜层硬度较低且抗划伤能力和耐加工性能较弱。对比例11使用MF电源沉积SiZrOx层作为顶层保护层，在高温热处理前后的铅笔硬度仅为7H，其镀膜层的膜层硬度较低且抗划伤能力和耐加工性能较弱。
实施例22-28的镀膜层在经过高温热处理后的方块电阻均能够降低至小于或等于0.8Ω/□，甚至小于或等于0.75Ω/□，且在高温热处理前后的酒精擦拭均满足要求，以及在高温热处理前后的铅笔硬度均≥8H，甚至实施例22-27在高温热处理后的铅笔硬度达到了大于9H，证明了使用HiPIMS电源不仅可以提高SiZr合金靶或SiZrM合金靶的离化率，使SiZrOx或SiZrMOx的折射率n更接近于SiO2的低折射率，进而增加了顶层保护层的物理厚度至≥20nm、甚至≥30nm，而且制备的消光系数k=0.00001-0.001的SiZrOx层或SiZrMOx层在高温热处理过程中表现得更稳定，具有更好的膜基结合力，从而避免在加工的过程中，由于膜层之间的连接强度较弱而与其他膜层分离，有利于提高镀膜层的膜层硬度、抗划伤能力和耐加工性能，进而提高镀膜层的整体机械稳定性。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，便于具体和详细地理解本申请的技术方案，但并不能因此而理解为对发明专利保护范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。应当理解，本领域技术人员在本申请提供的技术方案的基础上，通过合乎逻辑的分析、推理或有限的试验得到的技术方案，均在本申请所附权利要求的保护范围内。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求的内容为准，说明书及附图可以用于解释权利要求的内容。
Claims (16)
1.一种镀膜玻璃，其特征在于，包括第一玻璃基板以及设置在所述第一玻璃基板表面的镀膜层；
所述镀膜层包括至少一个功能叠层以及一个顶层保护层，每个所述功能叠层包括一个金属层和两个介质层，所述金属层位于两个所述介质层之间，所述顶层保护层为所述镀膜层中最远离所述第一玻璃基板表面的一层，所述顶层保护层的材料包括SiZrOx或SiZrMOx，1＜x＜3，M包括与Zr不同的金属元素，所述顶层保护层的折射率n值为1.50~1.60，消光系数k值为0.00001~0.001。
2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述顶层保护层的折射率n值为1.50~1.57，消光系数k值为0.00003~0.0008。
3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，M元素选自W、Nb、Ta、Y、Hf及Al中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述顶层保护层的物理厚度为15nm~80nm。
5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层的铅笔硬度≥8H。
6.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述功能叠层的数量为2~5个，在相邻两个所述功能叠层之间还设有中间层。
7.根据权利要求6所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层还包括设置在所述第一玻璃基板与所述至少一个功能叠层之间的最内附着层，所述最内附着层与所述第一玻璃基板表面直接接触。
8.根据权利要求7所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层满足如下条件中的一个或几个：
(1)各所述金属层的材料独立地选自银、金、铜、铝及铂金中的任意一种金属或金属合金；
(2)各所述金属层的物理厚度独立地为5nm～20nm；
(3)各所述介质层的材料独立地选自Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物；
(4)各所述介质层的物理厚度独立地为5nm～30nm；
(5)各所述中间层的材料独立地选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；
(6)各所述中间层的物理厚度独立地为20nm~100nm；
(7)所述最内附着层的材料选自Si、Zn、Mg、Sn、Ti、Nb、Zr、Ni、In、Al、Ce、W、Mo、Sb及Bi中的至少一种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物；
(8)所述最内附着层的物理厚度为10nm~50nm。
9.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层还包括设置在所述顶层保护层和所述至少一个功能叠层之间的第一保护层，所述第一保护层的折射率为2.0~2.75，所述第一保护层的物理厚度为5nm~20nm。
10.根据权利要求9所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层还包括设置在所述第一保护层和所述顶层保护层之间的第二保护层，所述第二保护层的折射率为1.8~2.4，所述第二保护层的物理厚度为5nm~30nm。
11.根据权利要求10所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层的折射率大于所述第二保护层的折射率，所述第一保护层的物理厚度小于或等于所述第二保护层的物理厚度，所述第二保护层的物理厚度小于所述顶层保护层的物理厚度。
12.一种镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供第一玻璃基板：
在所述第一玻璃基板的至少一个表面上通过磁控溅射工艺沉积镀膜层；
所述镀膜层包括至少一个功能叠层以及一个顶层保护层，每个所述功能叠层包括一个金属层和两个介质层，所述金属层位于两个所述介质层之间，所述顶层保护层为所述镀膜层中最远离所述第一玻璃基板表面的一层，所述顶层保护层的材料包括SiZrOx或SiZrMOx，1＜x＜3，M包括与Zr不同的金属元素，所述顶层保护层的折射率n值为1.50~1.60，消光系数k值为0.00001~0.001。
13.根据权利要求12所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述顶层保护层的溅射靶材为SiZr合金靶或SiZrM合金靶，以质量百分比计，所述SiZr合金靶包含50%-70%的Si和30%-50%的Zr，所述SiZrM合金靶包含50%-75%的Si、10%-40%的Zr和0.1%-15%的M。
14.根据权利要求13所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，M选自W、Nb、Ta、Y、Hf及Al中的两种以上的组合，所述组合中的含量最多的元素与含量最少的元素之间的质量比为1-2。
15.根据权利要求13所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述顶层保护层的靶材电源为高功率脉冲磁控溅射电源，磁控溅射所述顶层保护层的工作电压为550V-1200V、工作电流为200A-1000A、占空比为5%-15%。
16.一种夹层玻璃，其特征在于，包括第二玻璃基板、粘合层和如权利要求1~11任一项所述的镀膜玻璃，所述粘合层设置在所述镀膜玻璃和所述第二玻璃基板之间，所述镀膜层较所述第一玻璃基板更靠近所述粘合层。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311454088.XA CN117645417A (zh) | 2023-11-03 | 2023-11-03 | 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311454088.XA CN117645417A (zh) | 2023-11-03 | 2023-11-03 | 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN117645417A true CN117645417A (zh) | 2024-03-05 |
Family
ID=90046870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202311454088.XA Pending CN117645417A (zh) | 2023-11-03 | 2023-11-03 | 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN117645417A (zh) |
-
2023
- 2023-11-03 CN CN202311454088.XA patent/CN117645417A/zh active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5851495B2 (ja) | 太陽光制御板ガラス | |
| JP6196980B2 (ja) | 太陽光制御板ガラスユニット | |
| JP5864555B2 (ja) | 低いソーラファクターを有する太陽光制御板ガラス | |
| US7638184B2 (en) | Laminated glass for vehicle window | |
| US7629040B2 (en) | Infrared reflection glass plate and laminated glass for vehicle window | |
| JP6444891B2 (ja) | アンチソーラーグレージング | |
| EP2183102B1 (en) | Vehicle transparency | |
| JP6456295B2 (ja) | 部分的な金属層を含むスタックを備える基板、グレージングユニットおよび方法 | |
| JP4310872B2 (ja) | ガラス積層体、機能性透明物品およびその製造方法 | |
| CN103072341B (zh) | 一种低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品 | |
| JP2008511529A (ja) | 赤外線および／または太陽光線を反射する薄膜積層体および加熱手段を備えた積層板ガラス | |
| CN111601779B (zh) | 包含两个基于氮化钛的层的日光控制玻璃板 | |
| JP2022527467A (ja) | 低い可視光反射率を有するヘッドアップディスプレイのためのコーティング | |
| JP7038868B2 (ja) | ソーラーコントロール用積層グレージング | |
| JP3226953B2 (ja) | 積層ガラス構造 | |
| CN217265466U (zh) | 一种含有晶态银层的低辐射镀膜夹层玻璃 | |
| CN117645417A (zh) | 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 | |
| CN114043787B (zh) | 一种低辐射复合玻璃及天窗 | |
| CN117567046A (zh) | 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 | |
| CN117601524A (zh) | 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 | |
| CN117164249A (zh) | 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 | |
| CN117105538A (zh) | 镀膜玻璃及其制备方法、夹层玻璃 | |
| JP2019503894A (ja) | 少なくとも１つの酸化ニッケル層を含む熱的特性を有する積層体を備えた基材 | |
| CN210048664U (zh) | 仿24k金铜镜金色双银低辐射镀膜玻璃 | |
| JPH11343146A (ja) | 熱線遮蔽ガラス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |