CN215288540U - 一种含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃。所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃的膜层结构自玻璃基板向外包括：玻璃基板、至少3层连续设置的复合低辐射功能层以及保护层；所述复合低辐射功能层的内外两侧各设置有一层介质层；所述复合低辐射功能层沿玻璃基板向外的方向依次包括叠加设置的第一晶态介质层、银层和第二晶态介质层。经测试，本实用新型提供的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃具有高透过率和低遮阳系数，同时可进行弯钢化，能够满足汽车领域和建筑行业对镀膜玻璃的要求，更加适用于市场需求。

Description

一种含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃

技术领域

本实用新型属于建筑和汽车用镀膜玻璃领域，涉及一种多银层低辐射镀膜玻璃，尤其涉及一种含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是一种既能像普通玻璃一样让室外的太阳能、可见光透过，又能像红外反射镜一样将物体二次辐射热反射回去的新一代镀膜玻璃，在任何气候环境下使用，均能达到控制光线、节约能源热量、控制调节及改善环境的作用。传统低辐射玻璃包括单银、双银镀膜玻璃，为了获得更低的遮阳系数和良好的光热比，只有通过不断增加银层的厚度，但是银层厚度的增加，就意味着可见光透过的降低、颜色选择受限，无法满足不同客户的需求，于是就出现了更加复杂的三银甚至四银低辐射镀膜玻璃。

CN 110092594A公开了一种三银镀膜玻璃及其制备方法，所述三银镀膜玻璃从一侧至另外一侧依次包括玻璃基板层、第一介质层、第一银层、第二介质层、第二银层、第三介质层、第三银层和第四介质层；所述第一介质层、所述第二介质层、所述第三介质层和所述第四介质层均为多层介质层，且分别选自Si₃N₄层、TiO_x层、SnO_y层、ZnO_z层、ZnSnO_a+b层和AZO层中的至少两种；其中0<x≤2，0<y≤2，0<z≤1，0<b≤2，0<a≤1。

CN 102514279A公开了一种四银低辐射镀膜玻璃及其制造工艺，所述四银低辐射镀膜玻璃在玻璃基板上设有镀膜，所述镀膜的膜层自玻璃基板向外依次为：第一电介质组合层、第一银层、第一间隔层电介质组合层、第二银层、第二间隔层电介质组合层、第三银层、第三间隔层电介质组合层、第四银层、第二电介质组合层。

CN 102092959A公开了一种含有三层复合减反层的高遮阳三银低辐射镀膜玻璃及工艺，该产品自玻璃基板向外的结构层依次为:玻璃/复合减反层(1)+银层(1)+保护层(1)+复合减反层(2)+银层(2)+保护层(2)+复合减反层(3)+银层(3)+保护层(3)+电介质层(1)；该产品采用真空磁控溅射镀膜工艺。

上述专利提供了具有不同膜层结构的镀膜玻璃，但是对银层的层数有所限定，随着银层层数的增加，无法保证镀膜玻璃的高透过率和低遮阳系数的优点，因此需要从性能上对镀膜玻璃作进一步改进，如何提供一种既具有多银层，又具有高透过率和低遮阳系数优点的镀膜玻璃，已成为亟需解决的问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种含有晶态介质的多银层低辐射镀膜玻璃。本实用新型提供的含有晶态介质的多银层低辐射镀膜玻璃具有高透过率和低遮阳系数，同时可进行弯钢化，能够满足建筑和汽车领域对镀膜玻璃的要求，更加适用于市场需求。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供一种含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，所述含有晶态介质的多银层低辐射镀膜玻璃的膜层结构自玻璃基板向外包括：玻璃基板、至少3层连续设置的复合低辐射功能层以及保护层；

所述复合低辐射功能层的内外两侧各设置有一层介质层；

所述复合低辐射功能层自玻璃基板向外依次包括叠加设置的第一晶态介质层、银层和第二晶态介质层。

所述多银层低辐射镀膜玻璃的膜层结构中包括至少3层连续设置的复合低辐射功能层，例如可以是3层、4层、6层、8层或12层，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

本实用新型所述“所述复合低辐射功能层的内外两侧各设置有一层介质层”，指的是沿玻璃基板向外的方向，每层复合低辐射功能层的内外两侧各设置有一层介质层。以3层连续设置的复合低辐射功能层为例，其膜层结构为：玻璃基板、介质层、复合低辐射功能层、介质层、复合低辐射功能层、介质层、复合低辐射功能层、介质层、保护层。

本实用新型所述镀膜玻璃的膜层结构中包括至少3层连续设置的复合低辐射功能层，每个复合低辐射功能层中包括第一晶态介质层、银层和第二晶态介质层，由此构成多银层的镀膜玻璃；本实用新型提供的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃的辐射率≤0.018。

本实用新型所述的第一晶态介质层和第二晶态介质层是具有较高的热稳定性、耐化学耐腐蚀性、耐盐雾的优点，对银层有优秀的保护作用，同时第一晶态介质层和第二晶态介质层可以作为金属银层很好的晶床，使得银层既可以很好的生长。第一晶态介质层和第二晶态介质层具有较高的折射率(n>2)，使得可见光透过率大幅度提升，提高了镀膜玻璃的使用寿命。

优选地，所述介质层的厚度为20nm-50nm，例如可以是20nm，25nm，30nm，35nm，40nm，45nm或50nm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

本实用新型所述介质层为本领域常规的介质层，示例性的，所述介质层包括Si₃N₄层、TiO₂层、ZnSnO_x层、ZrO₂层、NbO_y层或TaO层中的任意一种；其中，0<x≤2，例如可以是0.1、0.2、0.5、1、1.5或2，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；0<y≤2，例如可以是0.1、0.2、0.5、1、1.5或2，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

优选地，所述第一晶态介质层为Zn₂SnO₄层或Nb₂O₅层。

优选地，所述第一晶态介质层的厚度为8nm-20nm，例如可以是8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

优选地，所述第二晶态介质层为Zn₂SnO₄层或Nb₂O₅层。

优选地，所述第二晶态介质层的厚度为8nm-20nm，例如可以是8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

优选地，所述银层的厚度为5nm-20nm，例如可以是5nm，8nm，10nm，12nm，14nm，16nm，18nm或20nm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

优选地，所述保护层的厚度为5nm-15nm，例如可以是5nm，8nm，10nm，12nm，14nm或15nm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

示例性的，所述保护层为ZrO₂层、NbO_a层、SiC_b层、Si₃N₄层、SiNC_c层或TiN_d层中的任意一种；其中，0<a≤2，例如可以是0.1、0.2、0.5、1、1.5或2，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；0<b≤4，例如可以是0.1、0.5、1.0、1.5、2.0、2.5、3.0、3.5或4，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；0<c≤4，例如可以是0.1、0.5、1.0、1.5、2.0、2.5、3.0、3.5或4，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；0<d≤4，例如可以是0.1、0.5、1.0、1.5、2.0、2.5、3.0、3.5或4，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

示例性的，本实新型所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：采用真空磁控溅射镀膜方法，在玻璃基板上镀制介质层、至少3层连续设置的复合低辐射功能层、介质层以及保护层。

所述制备方法还包括对镀膜玻璃的热处理过程，目的是使得晶态介质层的材料由非晶态的不稳定结构转变为晶态稳定结构。

本实用新型所述热处理方法包括热处理镀膜玻璃或分别独立地热处理第一晶态介质层和第二晶态介质层。热处理镀膜玻璃的方法包括基底加热或钢化热处理；分别独立地热处理第一晶态介质层和第二晶态介质层的方法包括激光处理和/或辐照处理。本实用新型所述基底加热是在镀膜玻璃镀制前进行的，所述激光处理、辐射处理以及钢化热处理是在镀制后进行的。

所述热处理镀膜玻璃的温度为500-720℃，例如可以是500℃、550℃、600℃、650℃、700℃或720℃，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

所述第一晶态介质层进行热处理的温度为500-720℃，例如可以是500℃、550℃、600℃、650℃、700℃或720℃，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

所述第二晶态介质层进行热处理的温度为500-720℃，例如可以是500℃、550℃、600℃、650℃、700℃或720℃，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。

本实用新型进行热处理的目的是：使得溅射生成的非晶态材料转变为晶态稳定结构。

镀制复合低辐射功能层为依次镀制第一晶态介质层、银层和第二晶态介质层。

所述第一晶态介质层通过交流阴极的氧化陶瓷靶在氩气氛围中溅射。

所述银层通过直流平靶银靶在氩气氛围中溅射。

所述介质层通过交流阴极的靶材在氩氮氛围或氩氧氛围中溅射。

所述保护层通过交流圆靶在氩气氛围或者氩氮氛围中溅射。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

本实用新型提供的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，具有独特的膜层结构，对传统的低辐射镀膜玻璃进行了改进，解决了传统低辐射镀膜玻璃在银层层数增加后产生的可见光透过率降低的问题，特别是使用晶态介质层代替介质层的阻挡保护作用，提高了镀膜玻璃的使用寿命。本实用新型提供的多银层低辐射镀膜玻璃具有较高的可见光透过率、较低的辐射率、良好的光热比、良好的耐腐蚀性，同时可进行弯钢化，能够满足汽车领域对镀膜玻璃的要求，更加适用于市场的需求。

附图说明

图1为本实用新型实施例1中含有晶态介质层的三银层低辐射镀膜玻璃的结构示意图；

图2为本实用新型实施例2中含有晶态介质层的四银层低辐射镀膜玻璃的结构示意图。

其中：1为玻璃基板；2为介质层；3为第一复合低辐射功能层；3-1为第一晶态介质层；3-2为银层；3-3为第二晶态介质层；4为保护层；5为第二复合低辐射功能层；6为第三复合低辐射功能层；7为第四复合低辐射功能层。

具体实施方式

需要理解的是，在本实用新型的描述中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

需要说明的是，在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

实施例1

本实施例提供了一种如图1所示的含有晶态介质的多银层低辐射镀膜玻璃，所述多银层低辐射镀膜玻璃的膜层结构自玻璃基板向外包括：玻璃基板1、3层连续设置的复合低辐射功能层以及保护层4；

所述复合低辐射功能层的内外两侧各设置有一层介质层2；

所述3层连续设置的复合低辐射功能层包括第一复合低辐射功能层3、第二复合低辐射功能层5和第三复合低辐射功能层6；

第一复合低辐射功能层3、第二复合低辐射功能层5和第三复合低辐射功能层6各自独立地包括第一晶态介质层3-1、银层3-2和第二晶态介质层3-3；

所述镀膜玻璃自玻璃基板1向外的各个膜层的材料组成及膜层厚度如表1所示。

本实施例具体实施使用的磁控溅射镀膜机，包括23个交流阴极，8个直流平面阴极，采用表1列出的工艺参数，使用11个交流圆靶，3个直流单靶，共14个靶位进行生产，按照膜层的先后顺序依次镀制，制出本实施例所述含有晶态介质的多银层低辐射镀膜玻璃。玻璃基板在镀膜前要经过清洗干燥，然后在真空磁控溅射镀膜机中进行预真空过渡，然后开始镀膜工序，其工艺参数和靶的位置如表1所示。

所述制备方法还包括在镀制所有晶态介质层前，对采用基底加热的方法对镀膜玻璃加热至550℃，使得镀制的材料由非晶态转变为晶态。

表1

按照上述膜系结构和生产方法，在6mm玻璃基板上制备出含有晶态介质层的三银层低辐射镀膜，经检测，本实施例所得镀膜玻璃的辐射率ε＝0.015，SHGC＝0.36，Tv(可见光透过率)＝76％。

参照参考GB/T 18951.1对本实施例制备出含有晶态介质层的三银层低辐射镀膜玻璃进行耐酸性和耐碱性实验，将镀膜玻璃分别浸泡在1mol/L的盐酸、1mol/L的氢氧化钠溶液中，盐酸溶液中的玻璃4小时后膜层开始出现明显脱落现象，氢氧化钠溶液中的玻璃24小时后膜层无明显脱落。

实施例2

本实施例提供了一种含有晶态介质的多银层低辐射镀膜玻璃，所述多银层低辐射镀膜玻璃的膜层结构自玻璃基板向外包括：玻璃基板1、4层连续设置的复合低辐射功能层以及保护层4；

所述复合低辐射功能层的内外两侧各设置有一层介质层2；

所述4层连续设置复合低辐射功能层包括第一复合低辐射功能层3、第二复合低辐射功能层5、第三复合低辐射功能层6和第四复合低辐射功能层7；

第一复合低辐射功能层3、第二复合低辐射功能层5、第三复合低辐射功能层6和第四复合低辐射功能层7各自独立地包括第一晶态介质层3-1、银层3-2和第二晶态介质层3-3；

所述镀膜玻璃自玻璃基板1向外的各个膜层的材料组成及膜层厚度如表2所示。

本实施例具体实施使用的磁控溅射镀膜机，包括23个交流阴极，8个直流平面阴极，采用表2列出的工艺参数，使用14个交流圆靶，4个直流单靶，共18个靶位进行生产，按照膜层的先后顺序依次镀制，制出本实施例所述含有晶态介质的多银层低辐射镀膜玻璃。玻璃基板在镀膜前要经过清洗干燥，然后在真空磁控溅射镀膜机中进行预真空过渡，然后开始镀膜工序，其工艺参数和靶的位置如表2所示。

所述制备方法还包括在镀制后，采用钢化热处理的方法加热第一晶态介质层3-1和第二晶态介质层3-3至680℃，并保温2～3分钟，使得所有晶态介质层的材料由非晶态转变为晶态。

表2

按照上述膜系结构和生产方法，在6mm玻璃基板上制备出含有晶态介质层的四银层低辐射镀膜，经检测，本实施例所得镀膜玻璃的辐射率ε＝0.010，SHGC＝0.33，Tv(可见光透过率)＝68％。

参照参考GB/T 18951.1对本实施例制备出含有晶态介质层的四银层低辐射镀膜玻璃进行耐酸性和耐碱性实验，将镀膜玻璃分别浸泡在1mol/L的盐酸、1mol/L的氢氧化钠溶液中，盐酸溶液中的玻璃3小时后膜层开始出现明显脱落现象，氢氧化钠溶液中的玻璃24小时后膜层无明显脱落。

实施例3

本实施例提供了一种多银层低辐射的镀膜玻璃，除将复合低辐射功能层中的第一晶态介质层和第二晶态介质层的材料更换为Nb₂O₅，热处理工艺更改为激光加热第一晶态介质层和第二晶态介质层至500℃，其余均与实施例1相同。

按照上述膜系结构和生产方法，在玻璃基板上制备出含有晶态介质层的三银层低辐射镀膜。经检测，本实施例所得镀膜玻璃的辐射率ε＝0.016，SHGC＝0.36，Tv(可见光透过率)＝74％。

参照参考GB/T 18951.1对本实施例制备出含有晶态介质层的三银层低辐射镀膜玻璃进行耐酸性和耐碱性实验，将镀膜玻璃分别浸泡在1mol/L的盐酸、1mol/L的氢氧化钠溶液中，盐酸溶液中的玻璃3小时后膜层开始出现明显脱落现象，氢氧化钠溶液中的玻璃24小时后膜层无明显脱落。

对比例1

本对比例提供了一种多银层低辐射的镀膜玻璃，除将复合低辐射功能层中的第一晶态介质层和第二晶态介质层均更换为介质层，其余均与实施例1相同。

以第一复合低辐射功能层为例，将其中的第一晶态介质层更换为厚度为10nm、材料为AZO的介质层；将其中的第二晶态介质层更换为厚度为10nm、材料为AZO的介质层。

按照上述膜系结构和生产方法，在6mm玻璃基板上制备出含有晶态介质层的三银层低辐射镀膜。经检测，本对比例所得镀膜玻璃的辐射率ε＝0.014，SHGC＝0.36，Tv(可见光透过率)＝75％。

参照参考GB/T 18951.1对本对比例制备出的三银层低辐射镀膜玻璃进行耐酸性和耐碱性实验，将镀膜玻璃分别浸泡在1mol/L的盐酸、1mol/L的氢氧化钠溶液中，盐酸溶液中的玻璃5分钟后膜层已完全脱落现象，氢氧化钠溶液中玻璃8小时开始出现明显膜层脱落。

与实施例1相比，本对比例所得镀膜玻璃的可见光透过率和辐射率均与实施例1所制得的镀膜玻璃相近，但是耐腐蚀性能远远差于实施例1。

对比例2

本对比例提供了一种多银层低辐射的镀膜玻璃，除将复合低辐射功能层中的第一晶态介质层和第二晶态介质层均更换为普通介质层AZO，其余均与实施例2相同。

以第一复合低辐射功能层为例，将其中的第一晶态介质层更换为厚度为12nm、材料为AZO的介质层；将其中的第二晶态介质层更换为厚度为12nm、材料为AZO的介质层。

按照上述膜系结构和生产方法，在6mm玻璃基板上制备出含有晶态介质层的四银层低辐射镀膜，经检测，本对比例所得镀膜玻璃的辐射率ε＝0.009，SHGC＝0.33，Tv(可见光透过率)＝65％。

参照参考GB/T 18951.1对本对比例制备出的四银层低辐射镀膜玻璃进行耐酸性和耐碱性实验，将镀膜玻璃分别浸泡在1mol/L的盐酸、1mol/L的氢氧化钠溶液中，盐酸溶液中的玻璃5分钟后膜层已完全脱落现象，氢氧化钠溶液中玻璃5小时开始出现明显膜层脱落。

与实施例2相比，本对比例所得镀膜玻璃的可见光透过率和辐射率均与实施例2所制得的镀膜玻璃相近，但是耐腐蚀性能远远差于实施例2。

对比例3

本对比例提供了一种多银层低辐射的镀膜玻璃，除将复合低辐射功能层的第二晶态介质层更换为的金属阻挡层NiCr，其余均与实施例1相同。

以第一复合低辐射功能层为例，将其中的第二晶态介质层更换为厚度为3nm、材料为NiCr的金属阻挡层。

按照上述膜系结构和生产方法，在玻璃基板上制备出含有晶态介质层的三银层低辐射镀膜，经检测，本对比例所得镀膜玻璃的辐射率ε＝0.015，SHGC＝0.34，Tv(可见光透过率)＝69％。

参照参考GB/T 18951.1对本对比例制备出的镀膜玻璃进行耐酸性和耐碱性实验，将镀膜玻璃分别浸泡在1mol/L的盐酸、1mol/L的氢氧化钠溶液中，盐酸溶液中的玻璃4小时后膜层开始出现明显脱落现象，氢氧化钠溶液中的玻璃24小时后膜层无明显脱落。

与实施例1相比，本对比例所得镀膜玻璃的辐射率与实施例1相同，膜层的耐酸碱性能也与实施例1相近，但是可见光透过率远差与实施例1.

对比例4

本对比例提供了一种多银层低辐射的镀膜玻璃，除将复合低辐射层的第一晶态介质层和第二晶态介质层均更换为的金属阻挡层，其余均与实施例1相同。

以第一复合低辐射功能层为例，将其中的第一晶态介质层更换为厚度为3nm、材料为NiCr的金属阻挡层；将其中的第二晶态介质层更换为厚度为3nm、材料为NiCr的金属阻挡层。

按照上述膜系结构和生产方法，在玻璃基板上制备出含有晶态介质层的三银层低辐射镀膜，经检测，本对比例所得镀膜玻璃的辐射率ε＝0.018，SHGC＝0.31，Tv(可见光透过率)＝63％。

参照参考GB/T 18951.1对本对比例制备出的三银层低辐射镀膜玻璃进行耐酸性和耐碱性实验，将镀膜玻璃分别浸泡在1mol/L的盐酸、1mol/L的氢氧化钠溶液中，盐酸溶液中的玻璃12小时膜层开始出现脱落现象，氢氧化钠溶液中的玻璃24小时后膜层无明显脱落现象。

与实施例1相比，本对比例所得镀膜玻璃的耐酸碱性能远优于与实施例1，但是可见光透过率、辐射率和遮阳性能远远差于实施例1。

应用实施例1-3以及对比例1-4所述方法制备出的镀膜玻璃的可见光透过率Tv％、辐射率ε、太阳能总透过率SHGC、耐酸时间以及耐碱时间如表3所示。

表3

由表3可以看出，本实用新型所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃具有优异的可见光透过率Tv％、辐射率ε、太阳能总透过率SHGC、耐酸性和耐碱性。与对比例相比，实施例1具有更优异的耐酸性和耐碱性；与对比例3-4相比，实施例1具有更优异的可见光透过率Tv％；与对比例2相比，实施例2具有更优异的太阳能总透过率SHGC、耐酸性和耐碱性。

综上所述，本实用新型提供的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃具有较高的可见光透过率、较低的辐射率、良好的光热比、良好的耐腐蚀性，同时可进行弯钢化，能够满足汽车领域和建筑行业对镀膜玻璃的要求，更加适用于市场的需求。

申请人声明，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，所属技术领域的技术人员应该明了，任何属于本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，均落在本实用新型的保护范围和公开范围之内。

Claims (8)

1.一种含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃的膜层结构自玻璃基板向外包括：玻璃基板、至少3层连续设置的复合低辐射功能层以及保护层；

所述复合低辐射功能层的内外两侧各设置有一层介质层；

所述复合低辐射功能层沿玻璃基板向外的方向依次包括叠加设置的第一晶态介质层、银层和第二晶态介质层。

2.根据权利要求1所述的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一晶态介质层为晶态结构的Zn₂SnO₄层或Nb₂O₅层。

3.根据权利要求1所述的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一晶态介质层的厚度为8nm-20nm。

4.根据权利要求1所述的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二晶态介质层为晶态结构的Zn₂SnO₄层或Nb₂O₅层。

5.根据权利要求4所述的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二晶态介质层的厚度为8nm-20nm。

6.根据权利要求1所述的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述介质层的厚度为20nm-50nm。

7.根据权利要求1所述的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述银层的厚度为5nm-20nm。

8.根据权利要求1所述的含有晶态介质层的多银层低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述保护层的厚度为5nm-15nm。

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