CN217214673U - 一种辅助校准装置及容器 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种辅助校准装置及容器，包括第一分部以及第二分部。第一分部沿第一预设方向延伸，第一分部上设置有多个第一刻度，多个第一刻度沿第一预设方向间隔排布。第二分部与第一分部垂直设置，第二分部上设置有多个第二刻度，多个第二刻度沿第二预设方向间隔排布，第二预设方向与第一分部的表面垂直。本申请实施例为待处理件的位置校准提供一个固定的参考，使得待处理件在每次放置时可以确定一个放置位置，从而防止待处理件在放置时出现位置偏差。

Description

一种辅助校准装置及容器

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种辅助校准装置及容器。

背景技术

晶圆在加工生产时，要经历多个设备的加工操作，晶圆在每个设备上面加工完成后都需要用机械臂将晶圆放置在前开式晶圆盒(Front Opening Unified Pod，FOUP)内并运送至下一站点。

实用新型内容

本实用新型提供一种辅助校准装置及容器，能够校准待处理件放置在容器中的位置。

具体的，本申请实施例提供一种辅助校准装置，包括第一分部与第二分部。

所述第一分部沿第一预设方向延伸，所述第一分部上设置有多个第一刻度，多个所述第一刻度沿所述第一预设方向间隔排布。所述第二分部与所述第一分部垂直设置，所述第二分部上设置有多个第二刻度，多个所述第二刻度沿第二预设方向间隔排布，所述第二预设方向与所述第一分部的表面垂直。

在本申请一些实施例中，所述第一分部上还设置有多个第三刻度，多个所述第三刻度沿第三预设方向间隔排布，所述第三预设方向与所述第一预设方向以及所述第二预设方向均垂直。

基于上述实施例，在辅助校准装置中，所述第一分部上的所述第三刻度可以确定待处理件在所述第三预设方向上的位置，从而使得所述待处理件的放置位置不会在所述第三预设方向上出现偏差。

在本申请一些实施例中，所述辅助校准装置还包括第三分部，所述第三分部与所述第二分部连接，且所述第三分部与所述第一分部相对设置。

基于上述实施例，增加所述第三分部使得所述辅助校准装置的整体结构框架更稳定，保证了所述辅助校准装置的实用性。

在本申请一些实施例中，所述第一分部包括远离所述第三分部的第一表面，所述第三分部包括远离所述第一分部的第二表面，所述第一表面与所述第二表面的间距小于或等于10毫米。

基于上述实施例，所述辅助校准装置可以顺利地放入高度在10毫米以内的容器中进行位置校准。

在本申请一些实施例中，所述第一分部包括靠近所述第三分部的第三表面，所有所述第三刻度位于所述第三表面上。

基于上述实施例，在使用所述辅助校准装置时，所述待处理件触接所述第三表面，可以更方便清楚地根据所述第三刻度来确定所述待处理件在所述第三预设方向上的具体放置位置。

在本申请一些实施例中，所有所述第一刻度也位于所述第三表面上。

基于上述实施例，在使用所述辅助校准装置时，所述待处理件触接所述第三表面，可以更方便清楚地根据所述第三刻度来确定所述待处理件在所述第三预设方向上的具体放置位置。

在本申请一些实施例中，所述第二分部包括与所述第三表面垂直的第四表面，所述第一预设方向与所述第四表面平行，所有所述第二刻度位于所述第四表面上。

基于上述实施例，在使用所述辅助校准装置时，所述第二分部上的所述第二刻度可以更方便清楚地确定所述待处理件在所述第二预设方向上的具体位置。

在本申请一些实施例中，所有所述第一刻度沿所述第一预设方向均匀排布；所有所述第二刻度沿所述第二预设方向均匀排布；且所有所述第三刻度沿所述第三预设方向均匀排布。

基于上述实施例，所有刻度均匀分布使得观察所述待处理件的放置位置可以更加方便清楚，且均匀分布的刻度可以更精确的定位所述待处理件的放置位置。

本申请还提供一种容器，包括容纳盒以及上述任一实施例中所述的辅助校准装置。所述容纳盒的内壁上设置有多个隔板，多个所述隔板沿竖向间隔排布，相邻所述隔板之间形成容纳待处理件的容纳区，所述辅助校准装置位于所述容纳区中，所述辅助校准装置的第一分部与所述隔板平行设置，且所述第一分部与所述隔板触接。

在本申请一些实施例中，每一所述容纳区中均设有两个所述辅助校准装置，两个所述辅助校准装置相对设置。

基于上述实施例，所述待处理件放入所述容纳区中，两个所述辅助校准装置可以同时对所述待处理件的放置位置进行校准定位，可以更准确的校准所述待处理件的具体放置位置。

本申请的有益效果为：所述待处理件进行生产加工运输时，需要确认所述待处理件在容器中的放置位置，本申请实施例为所述待处理件的位置校准提供一个固定的参考，使得所述待处理件在每次放置时可以确定一个放置位置，从而防止所述待处理件在放置时出现位置偏差，使得所述待处理件不会因校准位置出现偏差而造成所述待处理件表面被容器的边缘划伤。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请一实施例中辅助校准装置的结构示意图；

图2为本申请一实施例中第一分部的第一视角结构示意图；

图3为本申请另一实施例中辅助校准装置的结构示意图；

图4为本申请另一实施例中辅助校准装置的第二视角结构示意图；

图5为本申请一实施例中容器的结构示意图。

附图标记：

1.辅助校准装置；11.第一分部；111.第一刻度；112.第三刻度；113.第一表面；114.第三表面；12.第二分部；121.第二刻度；122.第四表面；13.第三分部；131.第二表面；2.容器；21.容纳盒；211.隔板；22.容纳区；3.待处理件。

具体实施方式

为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图来进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

在相关技术中，用于运输晶圆的前开式晶圆盒在装机或者维护保养时，都需要确定晶圆在前开式晶圆盒内的放置位置，这个确定的过程完全依靠人为的经验判断，没有固定的标准，这就导致对晶圆每次校准的位置不一样。若校准的位置有偏差，则会导致在取放晶圆时出现问题。例如，当校准位置过于贴近前开式晶圆盒的内壁时，在放置晶圆时可能会造成晶圆表面被前开式晶圆盒的边缘划伤。

为解决上述技术问题，本申请实施例提供一种辅助校准装置及容器，能够校准定位待处理件放置在容器中的位置。

第一方面，参考图1，本申请实施例提供一种辅助校准装置1，所述辅助校准装置1包括第一分部11以及第二分部12。

其中，所述第一分部11沿第一预设方向AA延伸，所述第一分部11上设置有多个第一刻度111，多个所述第一刻度111沿所述第一预设方向AA间隔排布，即两个相邻的第一刻度111之间具有一定的间距。

所述第二分部12与所述第一分部11垂直设置，所述第二分部12上设置有多个第二刻度121，多个所述第二刻度121沿第二预设方向BB间隔排布，即两个相邻的第二刻度121之间具有一定的间距，所述第二预设方向BB与所述第一分部11的表面垂直。

具体的，第二分部12与第一分部11垂直使得辅助校准装置1的结构相对稳定，第二分部12与第一分部11之间可以为胶接、焊接、铆接或螺纹连接等，在本申请中不做具体限定。

需要说明的是，在辅助校准装置1中，第一分部11上的第一刻度111可以确定待处理件3(如图5)在第一预设方向AA上的放置位置，而第二分部12上的第二刻度121可以确定待处理件3在第二预设方向BB上的放置位置，使得待处理件3的位置不会在第一预设方向AA以及第二预设方向BB上出现偏差。其中，待处理件3可以为晶圆。

还需要说明的是，在相关技术中，待处理件3进行生产加工运输时，需要确认待处理件3在前开式晶圆盒等容器中的放置位置，但是这个确认的过程完全依靠人为的经验判断，没有固定的标准，这会导致对待处理件3每次校准的位置不一样。而在本申请实施例中，先将辅助校准装置1从容器的开口处放入，然后再将待处理件3也从容器的开口处放入，此时，待处理件3触接辅助校准装置1的第一分部11，待处理件3在放入容器内的过程中，第一分部11上的第一刻度111可以测量待处理件3在第一预设方向AA上的位置，使得待处理件3不会因放入的位置过深而碰触到容器与开口处相对的内壁表面。而第二分部12上的第二刻度121可以测量待处理件3在第二预设方向BB上的位置，使得待处理件3在放入容器时不会因位置过高或过低而碰触到容器的上下壁。第一刻度111和第二刻度121为校准待处理件3的放置位置提供一个固定的标准，可以量化对待处理件3位置的校准，从而可以根据固定的刻度来确定待处理件3在容器中的具体放置位置，使得待处理件3不会因校准位置有偏差而造成待处理件3表面被容器的边缘划伤。

在本申请一些实施例中，参考图1和图2，所述第一分部11上还设置有多个第三刻度112，多个所述第三刻度112沿第三预设方向CC间隔排布，即两个相邻的第三刻度112之间具有一定的间距，所述第三预设方向CC与所述第一预设方向AA以及所述第二预设方向BB均垂直。

需要说明的是，在本申请实施例中，可以先将辅助校准装置1放入容器中，然后再将待处理件3也放入容器中，此时，待处理件3触接辅助校准装置1的第一分部11，待处理件3在放入容器内的过程中，第一分部11上的第三刻度112可以测量待处理件3在第三预设方向CC上的位置，使得待处理件3不会因放入的位置过于靠近容器的左侧或右侧而碰触到容器的左边内壁或右边内壁。从而使得待处理件3的放置位置不会在第三预设方向CC上出现偏差。

还需要说明的是，同时观察第一刻度111、第二刻度121以及第三刻度112，可以更准确地确定待处理件3在容器中的放置位置，这使得每次在向容器中放置待处理件3时，可以防止待处理件3的放置位置产生偏差。

其中，第一刻度111、第二刻度121以及第三刻度112可以设置为各种颜色，如黑色、红色、蓝色或黄色等，从而使得工作人员可以更容易地观察到第一刻度111、第二刻度121以及第三刻度112。

在本申请一些实施例中，参考图3，所述辅助校准装置1还包括第三分部13，所述第三分部13与所述第二分部12连接，且所述第三分部13与所述第一分部11相对设置。

可以理解的是，增加第三分部13使得辅助校准装置1的整体结构框架更稳定，保证了辅助校准装置1的实用性。

在本申请一些实施例中，参考图3和图4，所述第一分部11包括远离所述第三分部13的第一表面113，所述第三分部13包括远离所述第一分部11的第二表面131，所述第一表面113与所述第二表面131的间距小于或等于10毫米。

需要说明的是，在相关技术中，待处理件3进行生产加工运输时，容器中有容纳腔可以放置待处理件3，而容纳腔的高度一般为10毫米，故第一表面113与第二表面131的间距小于或等于10毫米时，辅助校准装置1可以顺利地放入容纳腔中，以校准待处理件3放置在容纳腔中的位置。

还需要说明的是，第一分部11沿第二预设方向BB(如图1)的厚度范围为0.5毫米到1毫米，这样使得第一分部11既有一定的承载强度，又不会影响辅助校准装置1放入容纳腔中。

在本申请一些实施例中，继续参考图3和图4，所述第一分部11包括靠近所述第三分部13的第三表面114，所有所述第三刻度112位于所述第三表面114上。

需要说明的是，在使用辅助校准装置1时，待处理件3触接第三表面114，可以更方便清楚地根据第三刻度112来确定待处理件3在第三预设方向CC上的具体放置位置。

还需要说明的是，在本申请一些实施例中，继续参考图3和图4，所有所述第一刻度111也位于所述第三表面114上。同理可知，在使用辅助校准装置1时，待处理件3触接第三表面114，可以更方便清楚地根据第一刻度111来确定待处理件3在第一预设方向AA上的具体位置。

在本申请一些实施例中，继续参考图3和图4，所述第二分部12包括与所述第三表面114垂直的第四表面122，所述第一预设方向AA与所述第四表面122平行，所有所述第二刻度121位于所述第四表面122上。

可以理解的是，在使用辅助校准装置1时，第二刻度121在第四表面122可以更方便清楚地确定待处理件3在第二预设方向BB上的具体位置。

在本申请一些实施例中，接着参考图3和图4，所有所述第一刻度111沿所述第一预设方向AA均匀排布；所有所述第二刻度121沿所述第二预设方向BB均匀排布；且所有所述第三刻度112沿所述第三预设方向CC均匀排布。

可以理解的是，所有刻度均匀分布使得观察待处理件3的放置位置可以更加方便清楚，且均匀分布的刻度可以更精确的定位待处理件3的放置位置。

第二方面，基于上述辅助校准装置1，本申请实施例还提供一种容器2，参考图5，所述容器2包括容纳盒21以及上述任一实施例中的辅助校准装置1。其中，所述容纳盒21的内壁上设置有多个隔板211，多个所述隔板211沿竖向间隔排布，相邻所述隔板211之间形成容纳待处理件3的容纳区22，所述辅助校准装置1位于所述容纳区22中，所述辅助校准装置1的第一分部11与所述隔板211平行设置，且所述第一分部11与所述隔板211触接。其中，容纳盒21可以为前开式晶圆盒。

需要说明的是，图5中仅示意了容器2为方柱体的情况，除此之外，容器2还可以为圆柱体或斜柱体等。设置多个隔板211可以形成多个容纳待处理件3的容纳区22，可以同时放置多个待处理件3，以提高生产效率。

还需要说明的是，容纳盒21上具有用于取放待处理件3的开口(图中未标出)，开口与容纳区22连通。开口处还可以设置一个前门，用于控制开口的启闭。

在本申请一些实施例中，继续参考图5，每一所述容纳区22中均设有两个所述辅助校准装置1，两个所述辅助校准装置1相对设置。

需要说明的是，第二分部12与第一分部11垂直设置，第二分部12可以位于第一分部11的边缘上，也可以位于第一分部11的表面上。以第二分部12位于第一分部11的边缘上为例，如图5所示，当容纳区22中相对设置两个辅助校准装置1时，待处理件3触接两个第一分部11的第三表面114，此时，两个第二分部12的第四表面122相对。

还需要说明的是，待处理件3放入容纳区22中，待处理件3同时触接两个辅助校准装置1的第三表面114，两个辅助校准装置1同时对待处理件3的放置位置进行校准定位，可以更准确的校准待处理件3的具体放置位置。其中，两个辅助校准装置1之间设置的距离可以根据待处理件3的尺寸来进行调整。

在本申请中，校准待处理件3在容纳盒21中的放置位置的过程为：

如图5所示，先将两个辅助校准装置1相对设置在容纳盒21的容纳区22中，然后将待处理件3从容纳盒21的开口处放入容纳区22中，此时，待处理件3同时触接两个辅助校准装置1的第三表面114。待处理件3在放入容纳盒21的过程中，第三表面114上的第一刻度111可以测量待处理件3在第一预设方向AA上的位置，使得待处理件3不会因放入的位置过深而碰触到容纳盒21与开口处相对的内壁表面。且第三表面114上的第三刻度112可以测量待处理件3在第三预设方向CC上的位置，使得待处理件3不会因放入的位置过于靠近容纳盒21的左侧或右侧而碰触到容纳盒21的左侧内壁或右侧内壁。而第四表面122上的第二刻度121则可以测量待处理件3在第二预设方向BB上的位置，使得待处理件3在放入容纳盒21时不会因位置过高或过低而碰触到容纳盒21的上侧内壁或下侧内壁。根据辅助校准装置1上固定的第一刻度111、第二刻度121以及第三刻度112来确定待处理件3在容纳区22中的具体放置位置，使得待处理件3不会因校准位置有偏差而造成待处理件3的表面被容纳盒21的边缘划伤。

本实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本申请的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此说明书中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种辅助校准装置，其特征在于，包括：

第一分部，沿第一预设方向延伸，所述第一分部上设置有多个第一刻度，多个所述第一刻度沿所述第一预设方向间隔排布；

第二分部，与所述第一分部垂直设置，所述第二分部上设置有多个第二刻度，多个所述第二刻度沿第二预设方向间隔排布，所述第二预设方向与所述第一分部的表面垂直。

2.根据权利要求1所述的辅助校准装置，其特征在于，所述第一分部上还设置有多个第三刻度，多个所述第三刻度沿第三预设方向间隔排布，所述第三预设方向与所述第一预设方向以及所述第二预设方向均垂直。

3.根据权利要求2所述的辅助校准装置，其特征在于，所述辅助校准装置还包括：

第三分部，与所述第二分部连接，且所述第三分部与所述第一分部相对设置。

4.根据权利要求3所述的辅助校准装置，其特征在于，所述第一分部包括远离所述第三分部的第一表面，所述第三分部包括远离所述第一分部的第二表面，所述第一表面与所述第二表面的间距小于或等于10毫米。

5.根据权利要求3所述的辅助校准装置，其特征在于，所述第一分部包括靠近所述第三分部的第三表面，所有所述第三刻度位于所述第三表面上。

6.根据权利要求5所述的辅助校准装置，其特征在于，所有所述第一刻度也位于所述第三表面上。

7.根据权利要求5所述的辅助校准装置，其特征在于，所述第二分部包括与所述第三表面垂直的第四表面，所述第一预设方向与所述第四表面平行，所有所述第二刻度位于所述第四表面上。

8.根据权利要求2所述的辅助校准装置，其特征在于，所有所述第一刻度沿所述第一预设方向均匀排布；所有所述第二刻度沿所述第二预设方向均匀排布；且所有所述第三刻度沿所述第三预设方向均匀排布。

9.一种容器，其特征在于，包括容纳盒以及如权利要求1至8中任一项所述的辅助校准装置；

其中，所述容纳盒的内壁上设置有多个隔板，多个所述隔板沿竖向间隔排布，相邻所述隔板之间形成容纳待处理件的容纳区，所述辅助校准装置位于所述容纳区中，所述辅助校准装置的第一分部与所述隔板平行设置，且所述第一分部与所述隔板触接。

10.根据权利要求9所述的容器，其特征在于，每一所述容纳区中均设有两个所述辅助校准装置，两个所述辅助校准装置相对设置。

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