CN214542267U - 一种新型吸盘 - Google Patents

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姚正辉
周欢
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Abstract

本实用新型公开了一种新型吸盘,包括成对设置的第一吸盘和第二吸盘,第一吸盘和第二吸盘交错排列,第一吸盘包括进气部、吸取部、吸盘侧部以及封部,进气部与吸盘侧部位于同侧,第二吸盘包括进气板、吸取板、吸盘侧板以及封板,进气板与吸盘侧板位于不同侧,本实用新型的吸盘上设置一组或两组吸盘侧板/吸盘侧部,通孔的分布位置增加了吸盘与硅片的接触面积,同时使吸取硅片的力保持均衡,避免硅片部分受力或受力不均匀,提高对硅片的吸取效率,本实用新型中竖直连接部的横截面面积大于进气部横截面面积,便于进气部的安装定位,并有效控制进气部的插入长度,提高安装的精确度。

Description

一种新型吸盘
技术领域
本实用新型属于光伏领域,涉及一种新型吸盘。
背景技术
半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业,半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上,CVD技术、扩散工艺或氧化工艺是其中的一种处理方式,其中CVD即化学气相沉积,CVD技术目前已经广泛用于半导体或光伏材料加工,常见的加工设备有PECVD、LPCVD、APCVD等,除了CVD之外还有扩散工艺包括磷扩散、硼扩散等。目前行业内已有不少相关的设备,可以针对具体的加工需求来选择相应的设备进行加工,半导体或光伏材料的加工,通常是将片状材料送入炉中在一定温度和压力的条件下进行反应来实现。
现有工艺中有需求将一个花篮中位于一个凹槽中的两片硅片进行分片,而现有的硅片分片传送装置,无法满足均分为两组的要求,此设备有效地解决了这种问题。
发明内容
本实用新型为了克服现有技术的不足,提供一种新型吸盘。
为了实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:一种新型吸盘,其特征在于:包括成对设置的第一吸盘和第二吸盘,第一吸盘和第二吸盘交错排列,第一吸盘包括进气部、吸取部、吸盘侧部以及封部,进气部与吸盘侧部位于同侧,第二吸盘包括进气板、吸取板、吸盘侧板以及封板,进气板与吸盘侧板位于不同侧。
进一步的;所述第一吸盘上固设有进气槽和吸取槽,第二吸盘上固设有通气槽和吸片槽,进气槽与吸取槽通过通孔进行气体流通,通气槽和吸片槽通过穿孔进行气体流通,相邻的第一吸盘以及第二吸盘间形成间隙槽,硅片吸取进入间隙槽内。
进一步的;所述进气部和吸取部间连接有连接部,连接部设置为L型结构,包括水平连接部和竖直连接部,水平连接部与吸取部通过斜台平滑连接,竖直连接部与进气部固设连接。
进一步的;所述吸取部设置为平板结构,吸取部的前后侧面依次设置为吸取面和进气面,吸取槽位于吸取面上,进气槽位于进气面上,吸盘侧部设置有一组,进气部、吸取部以及一组吸盘侧部形成T型结构,一组吸盘侧部固设于吸取部的侧面,进气槽包括依次连通进气部、连接部和吸取部的进气槽一以及位于吸盘侧部上的进气槽二,进气槽一以及进气槽二形成T型结构,吸取槽包括位于吸取部的吸取槽一以及位于吸盘侧部上的吸取槽二,吸取槽一与进气槽一位置相对,吸取槽二与进气槽二位置相对,通孔数量设置有四组,其中一组通孔贯穿进气槽二和吸取槽二,另外三组通孔贯穿在进气槽一和吸取槽一。
进一步的;所述吸取部设置为平板结构,吸取部的前后侧面依次设置为吸取面和进气面,吸取槽位于吸取面上,进气槽位于进气面上,吸盘侧部设置有两组,进气部、吸取部以及两组吸盘侧部形成F型结构,两组吸盘侧部固设于吸取部的侧面,进气槽包括依次连通进气部、连接部和吸取部的进气槽一以及位于吸盘侧部上的进气槽二,进气槽一以及进气槽二形成F型结构,吸取槽包括位于吸取部的吸取槽一以及位于吸盘侧部上的吸取槽二,吸取槽一与进气槽一位置相对,吸取槽二与进气槽二位置相对,通孔数量设置有五组,两组通孔贯穿进气槽二和吸取槽二,另外三组通孔贯穿在进气槽一和吸取槽一。
进一步的;所述第一吸盘的连接部以及第二吸盘的连接板分别固设有第一压腔和第二压腔,通过第一压腔和第二压腔限制第一吸盘和第二吸盘的横向移动。
进一步的;所述第一吸盘、第二吸盘设为一体成型结构。
进一步的;所述进气部的侧面、连接部的侧面以及吸取部的进气面处于同一竖直面上。
进一步的;所述吸取部以及吸盘侧部的侧边设置为楔形结构,便于吸取和分离硅片时硅片的导入和导出。
进一步的;所述斜台与水平连接部和吸取部所成角度为钝角;间隙槽的间隙宽度大于两组硅片的厚度;竖直连接部与进气部连接位置的横截面面积大于进气部与竖直连接部连接位置的横截面面积;连接部的厚度大于进气部、吸取部以及吸盘侧部的厚度。
综上所述,本实用新型的有益之处在于:
1)、本实用新型的吸取部和吸盘侧部以及吸取板和吸盘侧板的侧边设置为楔形结构,便于吸取和分离硅片时硅片的导入和导出。
2)、本实用新型的吸盘上设置一组或两组吸盘侧板/吸盘侧部,通孔的分布位置增加了吸盘与硅片的接触面积,同时使吸取硅片的力保持均衡,避免硅片部分受力或受力不均匀,提高对硅片的吸取效率。
3)、本实用新型通过采用真空设备对硅片进行吸取,降低了人力成本,提高了工作效率。
4)、本实用新型中竖直连接部的横截面面积大于进气部横截面面积,便于进气部的安装定位,并有效控制进气部的插入长度,提高安装的精确度。
附图说明
图1为本实用新型的装置示意图。
图2为本实用新型的吸盘盖板示意图。
图3为本实用新型的吸盘安装板示意图一。
图4为本实用新型的吸盘安装板示意图二。
图5为本实用新型中压条示意图。
图6为本实用新型的第一吸盘(带封部)示意图一。
图7为本实用新型的第一吸盘(带封部)示意图二。
图8为本实用新型的第一吸盘(去封部)示意图三。
图9为本实用新型的第二吸盘(带封部)示意图一。
图10为本实用新型的第二吸盘(带封部)示意图二。
图11为实施例二中第一吸盘示意图。
图12为实施例二中第二吸盘示意图。
图中标识:吸盘盖板1、通气腔11、进气孔12、加强板14、吸盘安装板2、第一插槽21、第二插槽22、第一沟槽23、第二沟槽25、安装面200、连接面210、第一紧固孔211、第二紧固孔221、压条3、紧固部31、定位部32、紧固孔311、第二吸盘4、进气板41、吸取板42、连接板43、封板44、通气槽45、吸盘侧板46、吸片槽4211、穿孔4212、第二压腔4311、第一吸盘5、进气部51、吸取部52、连接部53、封部54、进气槽55、吸盘侧部56、吸取槽5211、通孔5212、水平连接部532、竖直连接部531、斜台5321、吸取面521、进气面522、第一压腔5311。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不冲突的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。
需要说明的是,以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想,遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、横向、纵向……)仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
实施例一:
如图1-10所示,一种新型吸盘,用于新型吸盘组件,新型吸盘组件包括吸盘盖板1、吸盘安装板2、压条3和吸盘机构,吸盘机构包括第一吸盘组件和第二吸盘组件,第一吸盘组件包括若干第一吸盘5,第二吸盘组件包括若干第二吸盘4,第一吸盘5和第二吸盘4交错安装于吸盘安装板2,吸盘盖板1为吸盘机构供气,吸盘机构通过第一吸盘5和第二吸盘4吸取硅片,吸盘安装板2和吸盘机构通过压条3固设连接。
本实施例中,新型吸盘包括成对设置的第一吸盘5和第二吸盘4,新型吸盘组件采用一一对应配置的第一吸盘5和第二吸盘4。
本实施例中,吸盘盖板1设置为长方体结构;吸盘盖板1内设置有开口朝外的通气腔11,吸盘盖板1侧面固设有与通气腔11连通的进气孔12,进气孔12与外接真空设备连通,外接真空设备为吸盘机构供能,外接真空设备可采用真空发生器或真空泵,进一步的,为保证吸盘盖板1的强度,吸盘盖板1上固设有对称位于通气腔11两侧的加强板14,加强板14的厚度小于通气腔11的深度。
如图2所示,吸盘安装板2设置为长方体结构,且吸盘安装板2长度和宽度与吸盘盖板1的长度和宽度相配,吸盘安装板2包括有用于与吸盘盖板1安装的安装面200和用于与吸盘机构安装的连接面210,安装面200和连接面210平行设置,吸盘安装板2上固设有第一通气组件和第二通气组件,第一通气组件和第二通气组件沿吸盘盖板1的宽度方向平行设置,第一通气组件由多组贯穿安装面200和连接面210的第一插槽21沿吸盘盖板1的长度方向平行排列而成,第二通气组件由多组贯穿安装面200和连接面210的第二插槽22沿吸盘盖板1的长度方向平行排列而成,第一插槽21以及第二插槽22数量相同,且两两交错排列,为保证气体由吸盘盖板1向吸盘安装板2流通过程中的密封性,安装面200上固设有第一沟槽23,第一沟槽23设置为内凹结构,第一沟槽23的横截面设置为方形环,将第一通气组件和第二通气组件设置在内环,第一沟槽23内设置第一密封圈(图未显示),通过第一密封圈有效防止气体在吸盘盖板1和吸盘安装板2的安装间隙缝口里泄露,便于吸盘盖板1与吸盘安装板2间的气体流通;进一步的,为保证气体由吸盘安装板2向吸盘机构流通过程中的密封性,位于连接面210的第一插槽21和第二插槽22端面均固设有第二沟槽25,第二沟槽25设置为内凹结构,第二沟槽25的横截面设置为方形环,第二沟槽25数量与第一插槽21和第二插槽22数量一一对应,第二沟槽25将第一插槽21和第二插槽22设置在内环,第二沟槽25内设置第二密封圈(图未显示),通过第二密封圈有效防止气体由吸盘安装板2向吸盘机构流通过程中出现泄露问题,保证吸盘安装板2与吸盘机构之间密封性,提高气体进入吸盘机构的效率。
吸盘安装板2侧面固设有与第一插槽21连通的第一紧固孔211以及与第二插槽22连通的第二紧固孔221,如图3-4所示,两组上下分布的第一紧固孔211与一组第一插槽21对应,两组上下分布的第二紧固孔221与一组第二插槽22对应,且第一紧固孔211、第二紧固孔221的插入方向分别与第一插槽21、第二插槽22的插入方向垂直或近似垂直,紧固件顶入第一紧固孔211将第一吸盘5固定在第一插槽21内,紧固件顶入第二紧固孔221将第二吸盘4固定在第二插槽22内。
第一吸盘5的数量与第一插槽21的数量相配,第二吸盘4的数量与第二插槽22的数量相配,第一吸盘5和第二吸盘4分别插入第一插槽21和第二插槽22内,使第一吸盘5以及第二吸盘4交错连接在吸盘安装板2上,第一吸盘5上固设有进气槽55和吸取槽5211,第二吸盘4上固设有通气槽45和吸片槽4211,进气槽55与吸取槽5211通过通孔5212进行气体流通,通气槽45和吸片槽4211通过穿孔4212进行气体流通,相邻的第一吸盘5以及第二吸盘4间形成间隙槽(图未标识),硅片吸取进入间隙槽内。
第一吸盘5包括进气部51、吸取部52、吸盘侧部56以及封部54,进气部51与吸盘侧部56位于同侧,第一吸盘5上设置有进气槽55和吸取槽5211,进气槽55与吸取槽5211通过通孔5212进行气体流通,第一吸盘5通过吸取槽5211吸取硅片;第二吸盘4包括进气板41、吸取板42、吸盘侧板46以及封板44,进气板41与吸盘侧板46位于不同侧,进气板41以及吸取板42上设置有通气槽45,吸取板42以及吸盘侧板46上固设有吸片槽4211,通气槽45与吸片槽4211通过穿孔4212进行气体流通,第二吸盘4通过吸片槽4211吸取硅片;如图6-10所示,第一吸盘5和第二吸盘4的区别仅在于第一吸盘5的吸盘侧部56与吸盘侧部56位于同侧,而第二吸盘4的进气板41与吸盘侧板46位于不同侧,具体说明以第一吸盘5为例。
本实施例中,第一吸盘5的进气部51和吸取部52间连接有连接部53,连接部53设置为L型结构,具体包括水平连接部532和竖直连接部531,水平连接部532的宽度与吸取部52的宽度相配,水平连接部532与吸取部52固设连接,进一步的,水平连接部532与吸取部52通过斜台5321平滑连接,斜台5321与水平连接部532和吸取部52所成角度为钝角,防止出现堆积,有利于提高合格率;竖直连接部531与进气部51固设连接,竖直连接部531与进气部51连接位置的横截面面积大于进气部51与竖直连接部531连接位置的横截面面积,进气部51的宽度、厚度和高度与第一插槽21的宽度、厚度和高度相配,根据上述结构,进气部51插入第一插槽21后,进气部51上端面与吸盘安装板2上表面平齐,吸盘安装板2与竖直连接部531相抵,便于定位,并有效控制进气部51的插入长度,提高安装的精确度;连接部53的厚度大于进气部51、吸取部52以及吸盘侧部56的厚度,第一吸盘组件、第二吸盘组件与吸盘安装板2安装后,相邻的第一吸盘5和第二吸盘4紧密连接,具体来说,相邻的连接部53和连接板43相抵,从而使相邻的吸取部52和吸取板42间形成间隙槽,硅片吸取进入间隙槽内,间隙槽的间隙宽度大于两组硅片的厚度。
吸取部52设置为平板结构,如图6-8所示,吸取部52的前后侧面依次设置为吸取面521和进气面522,吸取槽5211位于吸取面521上,进气槽55位于进气面522上,根据图8的视觉角度,进气部51的前侧面、连接部53的前侧面以及吸取部52的进气面522处于同一竖直面上;本实施例中,吸盘侧部56设置为一组,进气部51、吸取部52以及一组吸盘侧部56形成T型结构,进气部51和吸取部52形成T型的竖直结构,一组吸盘侧部56固设于吸取部52的侧面,并与吸取部52以设定角度连接,优选角度为,两者垂直连接。
进气槽55包括依次连通进气部51、连接部53和吸取部52的进气槽一(图未标识)以及位于吸盘侧部56上的进气槽二(图未标识),进气槽一以及进气槽二形成T型结构,进气槽一为T型的竖直结构,进气槽二为T型的水平结构;
吸取槽5211包括位于吸取部52的吸取槽一(图未标识)以及位于吸盘侧部56上的吸取槽二(图未标识),吸取槽一与进气槽一位置相对,吸取槽二与进气槽二位置相对,如图6、8所示,吸取槽5211位于吸取面521上,进气槽55位于进气面522上,两者位于吸取部52的两侧,两者通过通孔5212连通,进气槽55宽度大于吸取槽5211宽度,通孔5212直径与吸取槽5211宽度相配,本实施例中,通孔5212数量设置有四组,其中一组通孔5212贯穿进气槽二和吸取槽二,另外三组通孔5212贯穿在进气槽一和吸取槽一,吸取槽一长度小于进气槽一长度,三组通孔5212均匀分布在吸取槽一内,通孔5212的分布位置增加了吸盘与硅片的接触面积,同时使吸取硅片的力保持均衡,避免硅片部分受力或受力不均匀,提高对硅片的吸取效率。
封部54形状与吸取部52、吸盘侧部56、封部54以及连接部53安装后的形状相配,封部54将位于连接部53和吸取部52的进气槽一以及位于吸盘侧部56上的进气槽二进行密封,保证气体由位于进气部51上的进气槽一通入沿位于连接部53和吸取部52的进气槽一流通,并通过通孔5212通入吸取槽5211实现对硅片的吸取。
为了保证吸盘机构与吸盘安装板2间固定的稳定性,还设置压条3,压条3设置为L型结构,包括位于水平面的定位部32和位于竖直面的紧固部31,紧固部31上固设有紧固孔311,本实施例中,压条3设置有两组,且对称安装在吸盘机构的两侧,具体来说,第一吸盘5的连接部53以及第二吸盘4的连接板43上相同位置分别固设有第一压腔5311和第二压腔4311,吸盘机构与吸盘安装板2安装后,一组压条3的定位部32插入第一吸盘组件的若干第一压腔5311内,另一组压条3的定位部32插入第二吸盘组件的若干第二压腔4311内,紧固部31分别与第一吸盘组件和第二吸盘组件相抵,从而限制了第一吸盘组件以及第二吸盘组件的横向移动;进一步的,吸盘安装板2上固设有用于连接压条3的安装孔(图未显示),安装孔与紧固孔311位置数量相配,安装件通过安装孔与紧固孔311的连接使压条3和吸盘安装板2固设连接,从而保证第一吸盘组件和第二吸盘组件的稳定安装。
通过上述结构对第一吸盘组件和第二吸盘组件进行固定,吸盘采用插片式安装后累计误差小,并可精准定位每个吸盘的位置,且相邻吸盘位置之间不受影响,当其中一个吸盘损坏时,拧开螺钉,便可以将吸盘抽出进行更换,从而方便更换吸盘,提高拆卸效率。
本实施例中,吸取部52以及吸盘侧部56的侧边设置为楔形结构,有利于吸取和分离硅片时硅片的导入和导出。
本实施例中,第一吸盘5、第二吸盘4设为一体成型结构。
本实施例中,吸盘机构还可包括真空过滤器,真空过滤器可过滤空气中的杂质,保护设备的正常使用,从而提高设备的使用寿命。
本实施例二:
如图11-12所示,本实施例与实施例一的区别在于,实施例一中,第一吸盘5以及第二吸盘4分别包括一组吸盘侧部56和一组吸盘侧部46,进气部51、吸取部52以及一组吸盘侧部56形成T型结构,而本实施例中,第一吸盘5以及第二吸盘4分别包括两组吸盘侧部56和两组吸盘侧部46,进气部51、吸取部52以及两组吸盘侧部56形成F型结构。
以第一吸盘5为例进行说明,进气槽55包括依次连通进气部51、连接部53和吸取部52的进气槽一(图未标识)以及分别位于两组吸盘侧部56上的进气槽二(图未标识),进气槽一以及两组进气槽二形成F型结构,进气槽一为F型的竖直结构,两组进气槽二为F型的水平结构;
吸取槽5211包括位于吸取部52的吸取槽一(图未标识)以及分别位于两组吸盘侧部56上的吸取槽二(图未标识),吸取槽一与进气槽一位置相对,吸取槽二与进气槽二位置相对,如图11所示,吸取槽5211位于吸取面521上,进气槽55位于进气面522上,两者位于吸取部52的两侧,两者通过通孔5212连通,进气槽55宽度大于吸取槽5211宽度,通孔5212直径与吸取槽5211宽度相配,本实施例中,通孔5212数量设置有五组,其中两组通孔5212分别贯穿进气槽二和吸取槽二,另外三组通孔5212贯穿在进气槽一和吸取槽一,吸取槽一长度小于进气槽一长度,三组通孔5212均匀分布在吸取槽一内,通孔5212的分布位置增加了吸盘与硅片的接触面积,同时使吸取硅片的力保持均衡,避免硅片部分受力或受力不均匀,提高对硅片的吸取效率。
在其他实施例中,通孔5212的横截面可设置为椭圆形、方形或与硅片形状相配合的其他形状,通孔5212的数量可根据实际需要进行设置。
此外,在其他实施例中,侧板的吸盘侧部56数量大于两组,根据根据实际需要进行设置。
显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本实用新型保护的范围。

Claims (10)

1.一种新型吸盘,其特征在于:包括成对设置的第一吸盘和第二吸盘,第一吸盘和第二吸盘交错排列,第一吸盘包括进气部、吸取部、吸盘侧部以及封部,进气部与吸盘侧部位于同侧,第二吸盘包括进气板、吸取板、吸盘侧板以及封板,进气板与吸盘侧板位于不同侧。
2.根据权利要求1所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述第一吸盘上固设有进气槽和吸取槽,第二吸盘上固设有通气槽和吸片槽,进气槽与吸取槽通过通孔进行气体流通,通气槽和吸片槽通过穿孔进行气体流通,相邻的第一吸盘以及第二吸盘间形成间隙槽,硅片吸取进入间隙槽内。
3.根据权利要求1所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述进气部和吸取部间连接有连接部,连接部设置为L型结构,包括水平连接部和竖直连接部,水平连接部与吸取部通过斜台平滑连接,竖直连接部与进气部固设连接。
4.根据权利要求1所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述吸取部设置为平板结构,吸取部的前后侧面依次设置为吸取面和进气面,吸取槽位于吸取面上,进气槽位于进气面上,吸盘侧部设置有一组,进气部、吸取部以及一组吸盘侧部形成T型结构,一组吸盘侧部固设于吸取部的侧面,进气槽包括依次连通进气部、连接部和吸取部的进气槽一以及位于吸盘侧部上的进气槽二,进气槽一以及进气槽二形成T型结构,吸取槽包括位于吸取部的吸取槽一以及位于吸盘侧部上的吸取槽二,吸取槽一与进气槽一位置相对,吸取槽二与进气槽二位置相对,通孔数量设置有四组,其中一组通孔贯穿进气槽二和吸取槽二,另外三组通孔贯穿在进气槽一和吸取槽一。
5.根据权利要求1所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述吸取部设置为平板结构,吸取部的前后侧面依次设置为吸取面和进气面,吸取槽位于吸取面上,进气槽位于进气面上,吸盘侧部设置有两组,进气部、吸取部以及两组吸盘侧部形成F型结构,两组吸盘侧部固设于吸取部的侧面,进气槽包括依次连通进气部、连接部和吸取部的进气槽一以及位于吸盘侧部上的进气槽二,进气槽一以及进气槽二形成F型结构,吸取槽包括位于吸取部的吸取槽一以及位于吸盘侧部上的吸取槽二,吸取槽一与进气槽一位置相对,吸取槽二与进气槽二位置相对,通孔数量设置有五组,两组通孔贯穿进气槽二和吸取槽二,另外三组通孔贯穿在进气槽一和吸取槽一。
6.根据权利要求3所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述第一吸盘的连接部以及第二吸盘的连接板分别固设有第一压腔和第二压腔,通过第一压腔和第二压腔限制第一吸盘和第二吸盘的横向移动。
7.根据权利要求1所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述第一吸盘、第二吸盘设为一体成型结构。
8.根据权利要求3所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述进气部的侧面、连接部的侧面以及吸取部的进气面处于同一竖直面上。
9.根据权利要求1所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述吸取部以及吸盘侧部的侧边设置为楔形结构,便于吸取和分离硅片时硅片的导入和导出。
10.根据权利要求3所述的一种新型吸盘,其特征在于:所述斜台与水平连接部和吸取部所成角度为钝角;间隙槽的间隙宽度大于两组硅片的厚度;竖直连接部与进气部连接位置的横截面面积大于进气部与竖直连接部连接位置的横截面面积;连接部的厚度大于进气部、吸取部以及吸盘侧部的厚度。
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