CN210803757U - 一种抗反射膜 - Google Patents

Abstract

一种抗反射膜。本实用新型是为了解决现有抗反射膜存在采用干式涂布等复杂工艺，生产效率低，生产成本较高，不适于推广应用等问题。技术要点：特征是由透明基膜、附着在所述透明基膜上的硬化层和附着在所述硬化层上的低折射层构成，所述硬化层中设置有折射率为2.1‑2.5的纳米金属氧化物颗粒，所述低折射层中设置有粒径为30‑60nm的空心二氧化硅颗粒，所述硬化层的厚度为0.5‑3μm，所述低折射层的厚度为80‑120nm。

Description

一种抗反射膜

技术领域

本实用新型涉及覆盖在液晶显示屏上的功能性薄膜，特别是一种抗反射膜。

背景技术

目前普遍使用的显示器，当其暴露于各种照明及自然光等的外光情况下，会因外光反射作用造成肉眼无法看清显示器内部所形成的图像，还会引发眼睛疲劳或头疼。抗反射膜的出现，就是借以贴附在显示器表面来降低外光反射作用，解决肉眼在光反射作用下无法看清显示器内部所形成的图像，还会引发眼睛疲劳或头疼的问题。

中国专利申请第201210097416.0号公开的一种SiO2减反射薄膜及其制备方法，其SiO2减反射薄膜，包括光伏玻璃衬底以及依次涂覆在光伏玻璃衬底上的10nm-30nm厚的第一SiO2致密层、50nm-300nm厚的SiO2纳米空心颗粒层和填充在SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒之间孔隙中的第二SiO2致密物；所述第二SiO2致密物的填充总量等同于5nm-30nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量；所述SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒的粒径为30nm～120 nm，壁厚为3nm～20nm，粒径的相对标准偏差为5%～30%。所述SiO2纳米空心颗粒层的厚度为90nm-120nm；所述第二SiO2致密物的填充总量等同于10nm-20nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量。这一方案的缺点是：采用提拉法、旋涂与喷涂等干式涂布的工艺比较复杂，比较适用于制作以玻璃为基材的光伏玻璃，比较不适用于制作以薄膜为基材的湿式涂布的抗反射膜产品，而且生产效率低，生产成本较高。

中国专利申请第200680055867.0号公开的一种用于低折射层的涂层组合物、使用其的抗反射膜以及包括所述抗反射膜的图像显示装置，其用于形成低折射率层的涂层组合物，包含：由以下化学式1表示的氟化合物、活性硅化合物、(甲基)丙烯酸酯化合物、聚合引发剂和溶剂，其中化学式1为(CH2＝CR1COO)2Rf，Rf是C1-19全氟代基团，R1是氢原子或甲基，所述化学式1中的Rf由以下化学式2表示：化学式2的Rf1是直链C1-10全氟代基团，而Rf2、Rf3、Rf4、以及 Rf5各自是直链C1-14全氟代基团，基于100重量份的所述组合物的固体含量的组合物包括：70-95重量份的由化学式1表示的所述氟化合物、0.1-15重量份的所述活性硅化合物、1-20重量份的所述(甲基)丙烯酸酯化合物、0.1-10重量份的所述聚合引发剂，所述硅化合物由以下化学式5或6表示：化学式5的彼此相同或不同的X1、X2、以及X3各自是氢或甲基，彼此相同或不同的R1和R2的至少之一是可固化活性基团，以及c是3至1000的整数，化学式6的彼此相同或不同的X1和X2各自是氢或甲基，彼此相同或不同的R1和R2中的至少之一是可固化活性基团，以及c 是3至1000的整数。其抗反射膜，包括：衬底、硬涂层、高折射率层、低折射率层，所述低折射率层由所述的组合物来形成。这一方案的缺点是：制作工艺复杂，制作成本较高，不适于推广应用。

发明内容

为了克服现有抗反射膜存在采用干式涂布等复杂工艺，生产效率低，生产成本较高，不适于推广应用的问题，本实用新型的目的是提供一种改进的抗反射膜，可以克服现有技术的缺陷。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种抗反射膜，其特征是：由透明基膜、附着在所述透明基膜上的硬化层和附着在所述硬化层上的低折射层构成，所述硬化层中设置有折射率为2.1-2.5的纳米金属氧化物颗粒，所述低折射层中设置有粒径为30-60nm的空心二氧化硅颗粒，所述硬化层的厚度为0.5-3μm，所述低折射层的厚度为80-120nm。所述硬化层和所述低折射层均由丙烯酸酯化合物、UV树脂和光起始剂混合构成。

上述技术方案所述硬化层的形成可以是在各组分经充分混合均匀后调配成涂布液，然后采用湿式精密涂布工艺涂布到所述透明基膜顶面，再通过UV固化工艺将涂布层固化为硬化层。所述硬化层的硬度可以控制在>H，折射率可以控制在1.50-1.65。

上述技术方案所述低折射层的形成可以是在各组分经充分混合均匀后调配成涂布液，然后采用湿式精密涂布工艺涂布到所述硬化层顶面，再通过UV固化工艺将涂布层固化为低折射层。所述低折射层的折射率可以控制在1.3-1.4。

上述技术方案所述透明基膜选用具有良好机械强度及光穿透率的树脂膜材，可以是：聚对苯二甲酸乙二酯（PET）、三乙酰纤维素(TAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚酰亚胺(PI)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚乙烯醇(PVA)、聚氯乙烯(PVC)、环烯烃共聚物(COC)或环烯烃聚合体（COP）等树脂膜材。

上述技术方案所述透明基膜可以采用具有80％以上的光穿透率、特别是具有90％以上的光穿透率的透明基膜，所述透明基膜厚度可以采用在10-500μm之间，较佳方案可以采用在20-250μm之间，最佳方案可以采用在50-200μm之间。

上述技术方案所述丙烯酸酯化合物可以由第一类丙烯酸酯化合物（含1,2,3-反应性基团的丙烯酸酯化合物）和第二类丙烯酸酯化合物（含4,5,6-反应性基团的丙烯酸酯化合物）按设定配比均匀混融构成。

上述技术方案所述第一类丙烯酸酯化合物可以采用自由甲基丙烯酸酯类衍生物、乙基丙烯酸酯类衍生物、丁基丙烯酸酯类衍生物、异辛基丙烯酸酯类衍生物、甲基丙烯酸甲酯衍生物、丙烯酸-2-羟基乙酯衍生物、丙烯酸-2-羟基丙酯衍生物、丙烯酰胺、γ-甲基丙烯酰丙基三甲氧基硅烷、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯类衍生物、二丙烯酸-1,6-己二醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二丙烯酸对新戊二醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯等中的一种或多种。

上述技术方案所述第二类丙烯酸酯化合物可以采用自由季戊四醇四丙烯酸酯类衍生物、乙氧基季戊四醇四丙烯酸酯类衍生物、二季戊四醇五丙烯酸酯类衍生物和二季戊四醇六丙烯酸酯类衍生物等中的一种或多种。

上述技术方案所述光起始剂可以采用光起始剂-184、光起始剂-651、光起始剂-907或光起始剂-1173等。光起始剂是一种能在油墨固化过程中，吸收紫外光辐射能而形成自由基或阳离子，引发单体和低聚物发生聚合、交联和接枝反应，在很短的时间里使油墨固化成三维网状结构的高分子聚合物。

上述技术方案所述UV树脂可以采用UV不饱和聚酯、UV环氧丙烯酸酯、UV聚氨酯丙烯酸酯、UV聚酯丙烯酸酯、UV聚醚丙烯酯、UV纯丙烯酸树脂、UV环氧树脂或UV有机硅低聚物等。具体可以是：聚酯二丙烯酸脂、聚亚酰胺二丙烯酸酯、胺基甲酸二丙烯酸酯或环氧二丙烯酸酯等。

上述技术方案所谓UV是紫外线的英语Ultra-Violet Ray缩写，UV树脂是指紫外线固化树脂。

上述技术方案所述纳米金属氧化物颗粒可以采用二氧化钛或二氧化锆等。

本实用新型的有益效果：一是抗反射功能层采用按设定配比组分物质构成的硬化层和低折射层的二层结构，利用硬化层和低折射层之间的高低折射率差异性，能够达到较理想的有效降低光反射效果，解决肉眼在光反射作用下无法看清显示器内部所形成的图像、还会引发眼睛疲劳或头疼的问题，而且硬化层和低折射层均可以通过湿式精密涂布工艺来完成，所以抗反射膜的制作工艺较简单，生产效率高，制作成本较低，适于普及应用。

以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述。

附图说明

图1是本实用新型的一种局部截面的放大示意图。

图中：1、透明基膜；2、硬化层；3、低折射层；4、丙烯酸酯化合物、UV树脂和光起始剂的混合物质；5、折射率为2.1-2.5的纳米金属氧化物颗粒；6、丙烯酸酯化合物、UV树脂和光起始剂的混合物质；7、粒径为30-60nm的空心二氧化硅颗粒。

具体实施方式

参照图1，本抗反射膜，其特征是：由透明基膜1、附着在所述透明基膜1上的硬化层2和附着在所述硬化层2上的低折射层3构成，所述硬化层2中设置有折射率为2.1-2.5的纳米金属氧化物颗粒5，所述低折射层3中设置有粒径为30-60nm的空心二氧化硅颗粒7，所述硬化层2的厚度为0.5-3μm，所述低折射层3的厚度为80-120nm。

另外，所述硬化层2和所述低折射层3分别由丙烯酸酯化合物、UV树脂和光起始剂混合物质4和6构成；所述透明基膜1的厚度为10-500μm。

Claims (1)

1.一种抗反射膜，其特征是：由透明基膜、附着在所述透明基膜上的硬化层和附着在所述硬化层上的低折射层构成，所述硬化层中设置有折射率为2.1-2.5的纳米金属氧化物颗粒，所述低折射层中设置有粒径为30-60nm的空心二氧化硅颗粒，所述硬化层的厚度为0.5-3μm，所述低折射层的厚度为80-120nm。

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