CN209243159U - 一种用于蒸发镀膜的装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型是提供一种采用电子束加热的用于蒸发镀膜的装置，以提高镀膜产品质量，涉及金属镀膜技术领域。一种用于蒸发镀膜的装置，包括抽真空装置、旋转电机、电子束枪和镀膜腔；所述抽真空装置与所述镀膜腔相连，所述镀膜腔内安装有坩埚，所述电子束枪安装在所述镀膜腔侧壁并对准所述坩埚锅口；所述镀膜腔内设置有位于所述坩埚上方的基片台，所述旋转电机与所述基片台连接并驱动所述基片台转动；所述基片台设置有加热电热丝。本实用新型的装置可获得更高质量的镀膜产品。
Description
技术领域
本实用新型涉及金属镀膜技术领域，具体涉及一种用于蒸发镀膜的装置。
背景技术
电子束加热技术是在真空条件下将高速运动的电子能转换成热能的一种加热技术。在真空条件下利用电子束枪产生的高能电子束轰击所需加热金属，使高能电子束与加热金属发生碰撞，从而将电子的动能转换为热能。由于电子束功率密度大，电子束加热技术可使加热金属瞬时熔化或蒸发。
蒸发镀膜又称真空镀膜，其特点是在真空条件下将材料蒸发并在被镀物体表面上凝结成膜，再经高温处理后，在被镀物体表面形成附着力很强的膜层。
传统的蒸发镀膜通常采用电阻加热技术，由于电阻加热方式中膜料与高温蒸镀源材料直接接触，材料之间容易互混，从而影响薄膜纯度。且电阻加热还存在发热效率较低，较难运用于难熔(高熔点)材料的蒸发，镀膜不均匀、附着力不够的问题，从而影响了镀膜产品质量。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种采用电子束加热的用于蒸发镀膜的装置，以提高镀膜产品质量。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于蒸发镀膜的装置，包括抽真空装置、旋转电机、电子束枪和镀膜腔；所述抽真空装置与所述镀膜腔相连，所述镀膜腔内安装有坩埚，所述电子束枪安装在所述镀膜腔侧壁并对准所述坩埚锅口；所述镀膜腔内设置有位于所述坩埚上方的基片台，所述旋转电机与所述基片台连接并驱动所述基片台转动；所述基片台设置有加热电热丝。
进一步的，所述基片台由导热层和隔热层的双层结构构成，所述导热层面向所述坩埚设置；所述加热电热丝设置在导热层和隔热层之间。
进一步的，所述镀膜腔的壳体为双层壳体结构，所述镀膜腔的内壳体和外壳体之间设有冷却管。
进一步的，所述电子束枪与竖直方向呈15°设置，所述坩埚与水平方向呈20°设置。
进一步的，所述镀膜腔内设置有送料轨道，所述坩埚安装在所述送料轨道上。
进一步的，所述坩埚为水冷坩埚。
本实用新型的有益效果是：本实用新型的一种用于蒸发镀膜的装置，装置采用电子束枪作为加热蒸发源，电子束枪效率高且加热膜料时不用与坩埚中的膜料直接接触，从而可以提高薄膜纯度，且可运用于难熔(高熔点)材料的蒸发镀膜。基板放置于基片台上由加热电热丝加热，从而可提高薄膜附着力，并且基片台可由旋转电机驱动转动，从而可以保证镀膜时薄膜形成的更均匀，因此本实用新型的装置提高了镀膜产品质量，可获得更高质量的镀膜产品。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；
图2是本实用新型的基片台结构示意图；
图中所示：1.抽真空装置，2.镀膜腔，3.坩埚，4.电子束枪，5.基片台，6.旋转电机，7.送料轨道，8.基片，21.内壳体，22.外壳体，23.冷却管，51.隔热层，52.导热层，53.加热电热丝，54.转轴。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
如图1、图2所示，本实用新型的、一种用于蒸发镀膜的装置，包括抽真空装置1、旋转电机6、电子束枪4和镀膜腔2；所述抽真空装置1与所述镀膜腔2相连，所述镀膜腔2内安装有坩埚3，所述电子束枪4安装在所述镀膜腔2侧壁并对准所述坩埚3锅口；所述镀膜腔2内设置有位于所述坩埚3上方的基片台5，所述旋转电机6与所述基片台5连接并驱动所述基片台5转动；所述基片台5设置有加热电热丝53。
如图1所示，坩埚3设置在镀膜腔2内用于盛放膜料，坩埚可选普通坩埚，为了保证加热膜料时坩埚材料不受热蒸发，坩埚3优选为水冷坩埚。抽真空装置1与镀膜腔2相连以用于对镀膜腔2进行抽真空处理。电子束枪4安装在镀膜腔2侧壁并对准坩埚3锅口，从而保证电子束枪4产生电子束可加热坩埚3内的膜料。电子束枪4安装在镀膜腔2侧壁，可防止电子束枪4遮挡膜源蒸汽上升。基片台5位于坩埚3上方，便于膜源蒸汽附着在基片台5上的基片8上。基片台5设置有加热电热丝53以加热基片。通过在高真空下加热基片，使基片的表面吸附的气体脱附，然后经真空泵抽气排出真空室，从而有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力。
由于膜源受热时产生的蒸汽密度并不均匀，如基片8左侧蒸汽密度低，右侧蒸汽密度高，通过旋转电机6与基片台5连接并驱动基片台5转动，可以基片8在高、低密度蒸汽之间循环旋转，从而可以保证在镀膜时基片上可形成较均匀厚度的薄膜。具体的连接关系如图1所示，基片台5中心设有转轴54，转轴54穿过镀膜腔2顶部与安装在镀膜腔2顶部的旋转电机6传动连接。
装置使用时，将膜料放置在坩埚3中，将镀膜基片8固定在基片台5并由加热电热丝53加热，旋转电机6驱动基片台5匀速旋转，利用抽真空装置1对镀膜腔2抽真空，电子束枪4产生电子速熔化蒸发膜料，膜料蒸汽上升附着在基片8上形式薄膜。电子束枪效率高且加热膜料时不用与坩埚中的膜料直接接触，从而可以提高薄膜纯度，且电热丝、旋转电机可保证薄膜的附着力以及均匀性，本实用新型的装置提高了镀膜产品质量，可获得更高质量的镀膜产品。
加热电热丝可直接设置在基片台表面，但这样电热丝表面也容易附着薄膜，使用寿命不长，且这样加热效率不高。如2所示，基片台5由导热层52和隔热层51的双层结构构成，导热层52面向述坩埚3设置；加热电热丝53设置在导热层52和隔热层51之间。加热电热丝53设置在导热层52和隔热层51之间，可防止薄膜沉积在加热电热丝上，基片台5由导热层52和隔热层51的双层结构构成，可减少热量散失，使加热电热丝53产生的热量尽可能的用于加热基片8。
由于电子束枪加热过程中会产生高温，镀膜腔2的温度也会很高，如图1所示，镀膜腔2的壳体为双层壳体结构，镀膜腔2的内壳体21和外壳体22之间设有冷却管23以冷却镀膜腔2。
坩埚3多为水平放置在镀膜腔2内，镀膜腔2侧壁的电子束枪4与坩埚3之间存在一定夹角，即坩埚3内存在电子束枪4产生的电子束不能到达的区域，在不影响镀膜的情况下为了缩小这一区域，如图1所示，电子束枪4与竖直方向的夹角θ呈15°设置，所述坩埚3与水平方向的夹角α呈20°设置。
由于镀膜腔2空间有限，坩埚的移出、移入极为不便，为了便于装置内膜料的装卸，镀膜腔2内设置有送料轨道7，坩埚3安装在送料轨道7上。装料卸料时，坩埚能够在轨道上运动，从而便于将坩埚从镀膜腔2内拉出。
Claims (6)
1.一种用于蒸发镀膜的装置，其特征在于：包括抽真空装置(1)、旋转电机(6)、电子束枪(4)和镀膜腔(2)；所述抽真空装置(1)与所述镀膜腔(2)相连，所述镀膜腔(2)内安装有坩埚(3)，所述电子束枪(4)安装在所述镀膜腔(2)侧壁并对准所述坩埚(3)锅口；所述镀膜腔(2)内设置有位于所述坩埚(3)上方的基片台(5)，所述旋转电机(6)与所述基片台(5)连接并驱动所述基片台(5)转动；所述基片台(5)设置有加热电热丝(53)。
2.如权利要求1所述的一种用于蒸发镀膜的装置，其特征在于：所述基片台(5)由导热层(52)和隔热层(51)的双层结构构成，所述导热层(52)面向所述坩埚(3)设置；所述加热电热丝(53)设置在导热层(52)和隔热层(51)之间。
3.如权利要求1或2所述的一种用于蒸发镀膜的装置，其特征在于：所述镀膜腔(2)的壳体为双层壳体结构，所述镀膜腔(2)的内壳体和外壳体之间设有冷却管(23)。
4.如权利要求1所述的一种用于蒸发镀膜的装置，其特征在于：所述电子束枪(4)与竖直方向呈15°设置，所述坩埚(3)与水平方向呈20°设置。
5.如权利要求1或4所述的一种用于蒸发镀膜的装置，其特征在于：所述镀膜腔(2)内设置有送料轨道(7)，所述坩埚(3)安装在所述送料轨道(7)上。
6.如权利要求1所述的一种用于蒸发镀膜的装置，其特征在于：所述坩埚(3)为水冷坩埚。
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|---|---|---|---|---|
| CN111321379A (zh) * | 2020-04-29 | 2020-06-23 | 山东交通职业学院 | 一种金属板表面处理设备 |
| CN113235054A (zh) * | 2021-05-14 | 2021-08-10 | 江苏葛西光学科技有限公司 | 一种SiO2自动换料装置及真空镀膜机 |
| CN114507845A (zh) * | 2022-01-24 | 2022-05-17 | 仪晟科学仪器(嘉兴)有限公司 | 超高真空金属蒸镀设备及其蒸镀方法 |
| CN115627447A (zh) * | 2022-10-27 | 2023-01-20 | 广东振华科技股份有限公司 | 一种高能粒子束流加热蒸发速率加强装置及方法 |
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2018
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