CN206635399U - 一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置 - Google Patents
一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN206635399U CN206635399U CN201720365513.1U CN201720365513U CN206635399U CN 206635399 U CN206635399 U CN 206635399U CN 201720365513 U CN201720365513 U CN 201720365513U CN 206635399 U CN206635399 U CN 206635399U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- guide roller
- uncoiler
- adhesive force
- evaporation disc
- vacuum chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,该装置包括真空室,真空室内设置有开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒、收卷机和蒸镀盘,蒸镀盘设置在真空室的底部,蒸镀盘内设置有待沉积的铝,冷却滚筒设置在蒸镀盘的上方;蒸镀盘的上方还设置有石墨加热器;开卷机设置在蒸镀盘的一侧;第一导向辊设置在开卷机的上方;开卷机和第一导向辊之间设置有等离子体发射装置;第二导向辊设置在第一导向辊与冷却滚筒之间;收卷机设置在真空室的顶部的一侧。该装置利用等离子体轰击片状基材的表面,去除片状基材表面上吸附的氧气、湿气和任何其他低分子量的物质。轰击能够有效地提高铝蒸汽与片状基材表面之间的粘着力,避免铝膜脱落。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀铝薄膜技术领域,尤其涉及一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置。
背景技术
现有技术中,真空薄膜镀铝装置利用电阻加热法将待沉积的铝加热到熔融状态,在熔融状态的铝发生蒸发,蒸发的铝沉积在片状基材上,形成真空镀铝薄膜,但是这种电阻加热法需要耗费大量电能。另外,这种蒸镀方法形成的薄膜多为多孔性结构,蒸发的铝蒸汽与片状基材之间的粘着力较小,容易脱落。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,所要解决的技术问题是如何提高成膜的质量,使薄膜的粘着力增强,同时降低能耗。
本实用新型所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置包括真空室,真空室内设置有开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒、收卷机和蒸镀盘,蒸镀盘设置在真空室的底部,蒸镀盘内设置有待沉积的铝,冷却滚筒设置在蒸镀盘的上方;蒸镀盘的上方还设置有石墨加热器;开卷机设置在蒸镀盘的一侧;第一导向辊设置在开卷机的上方;开卷机和第一导向辊之间设置有等离子体发射装置;第二导向辊设置在第一导向辊与冷却滚筒之间;收卷机设置在真空室的顶部的一侧。
所述的冷却滚筒的温度维持在-10℃至-15℃之间。
所述的冷却滚筒的旋转速度维持在300至900厘米/秒之间。
所述真空室内的压力维持在2.66×10-5KPa至2.66×10-6KPa之间。
所述开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒和收卷机组成传动系统,该传动系统上设置有片状基材。
本实用新型的技术方案具有如下优点:
本实用新型所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置利用等离子体轰击片状基材的表面,等离子体与片状基材发生持续碰撞,去除片状基材表面上吸附的氧气、湿气和任何其他低分子量的物质。经过等离子体轰击的片状基材表面被明显粗糙化,能够有效地提高铝蒸汽与片状基材表面之间的粘着力,避免铝膜脱落。同时利用石墨加热器加热待沉积的铝,使铝蒸发或或升华成铝蒸汽,减小了能耗。
附图说明
图1是本实用新型所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置的结构示意图。
具体实施方式
以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。
如图1所示,本实用新型所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置包括真空室11,真空室11内设置有开卷机12、第一导向辊16、第二导向辊17、冷却滚筒18、收卷机26和蒸镀盘24,蒸镀盘24设置在真空室11的底部,蒸镀盘24内设置有待沉积的铝22,冷却滚筒18设置在蒸镀盘24的上方;蒸镀盘24的上方还设置有石墨加热器20;开卷机12设置在蒸镀盘24的一侧;第一导向辊16设置在开卷机12的上方;开卷机12和第一导向辊16之间设置有等离子体发射装置4;第二导向辊17设置在第一导向辊16与冷却滚筒18之间;收卷机26设置在真空室11的顶部的一侧。
所述的冷却滚筒18的温度维持在-10℃至-15℃之间。
所述的冷却滚筒18的旋转速度维持在300至900厘米/秒之间。
所述真空室111内的压力维持在2.66×10-5KPa至2.66×10-6KPa之间。
所述开卷机12、第一导向辊16、第二导向辊17、冷却滚筒18和收卷机26组成传动系统,该传动系统上设置有片状基材13。
本实用新型所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置在运行时,开卷机12旋转带动片状基材13沿着第一导向辊16、第二导向辊17、冷却滚筒18和收卷机26组成的传动系统运动,等离子体发射装置4发射的等离子体5轰击开卷机12和第一导向辊16之间的片状基材13,去除片状基材表面上吸附的氧气、湿气和任何其他低分子量的物质。研究发现,片状基材表面上吸附的氧气、湿气和任何其他低分子量的物质是造成蒸发的铝蒸汽与片状基材之间的粘着力较小、容易脱落的重要原因,因此去除这些物质之后能够显著提高铝蒸汽与片状基材之间的粘着力。而且经过等离子体轰击的片状基材表面被明显粗糙化,也能够有效地提高铝蒸汽与片状基材表面之间的粘着力,避免铝膜脱落。
石墨加热器20加热蒸镀盘24内的待沉积的铝22,铝被蒸发或升华成铝蒸汽25,经过等离子体轰击的片状基材运动到冷却滚筒18的底部的时候,铝蒸汽25沉积在冷却滚筒18的底部的片状基材上。冷却滚筒18持续在旋转,同时冷却滚筒18冷却到-10℃至-15℃,促进铝蒸汽在片状基材上的冷凝沉积。沉积了铝膜的片状基材变成复合基材19,由收卷机26收卷,缠绕成筒状的复合基材。
虽然,上文中已经用一般性说明及具体实施例对本实用新型作了详尽的描述,但在本实用新型基础上,可以对之作一些修改或改进,这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此,在不偏离本实用新型精神的基础上所做的这些修改或改进,均属于本实用新型要求保护的范围。
Claims (5)
1.一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,其特征在于,所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置包括真空室,真空室内设置有开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒、收卷机和蒸镀盘,蒸镀盘设置在真空室的底部,蒸镀盘内设置有待沉积的铝,冷却滚筒设置在蒸镀盘的上方;蒸镀盘的上方还设置有石墨加热器;开卷机设置在蒸镀盘的一侧;第一导向辊设置在开卷机的上方;开卷机和第一导向辊之间设置有等离子体发射装置;第二导向辊设置在第一导向辊与冷却滚筒之间;收卷机设置在真空室的顶部的一侧。
2.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,其特征在于,所述的冷却滚筒的温度维持在-10℃至-15℃之间。
3.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,其特征在于,所述的冷却滚筒的旋转速度维持在300至900厘米/秒之间。
4.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,其特征在于,所述真空室内的压力维持在2.66×10-5KPa至2.66×10-6KPa之间。
5.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,其特征在于,所述开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒和收卷机组成传动系统,该传动系统上设置有片状基材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201720365513.1U CN206635399U (zh) | 2017-04-10 | 2017-04-10 | 一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201720365513.1U CN206635399U (zh) | 2017-04-10 | 2017-04-10 | 一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN206635399U true CN206635399U (zh) | 2017-11-14 |
Family
ID=60247982
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201720365513.1U Expired - Fee Related CN206635399U (zh) | 2017-04-10 | 2017-04-10 | 一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN206635399U (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108130514A (zh) * | 2018-01-04 | 2018-06-08 | 苏州智吉兴敏电子科技有限公司 | 一种用于包装材料的真空镀铝装置及镀铝方法 |
CN111041446A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-21 | 广东铭丰包装材料有限公司 | 一种镀铝机的送气装置 |
CN112221845A (zh) * | 2020-09-23 | 2021-01-15 | 惠州深格光电科技有限公司 | 一种金属网格触控薄膜的加工设备与加工方法 |
-
2017
- 2017-04-10 CN CN201720365513.1U patent/CN206635399U/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108130514A (zh) * | 2018-01-04 | 2018-06-08 | 苏州智吉兴敏电子科技有限公司 | 一种用于包装材料的真空镀铝装置及镀铝方法 |
CN108130514B (zh) * | 2018-01-04 | 2020-02-28 | 苏州智吉兴敏电子科技有限公司 | 一种用于包装材料的真空镀铝装置及镀铝方法 |
CN111041446A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-21 | 广东铭丰包装材料有限公司 | 一种镀铝机的送气装置 |
CN112221845A (zh) * | 2020-09-23 | 2021-01-15 | 惠州深格光电科技有限公司 | 一种金属网格触控薄膜的加工设备与加工方法 |
CN112221845B (zh) * | 2020-09-23 | 2022-05-13 | 惠州深格光电科技有限公司 | 一种金属网格触控薄膜的加工设备与加工方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN206635399U (zh) | 一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置 | |
TWI472634B (zh) | 單點線性蒸發源系統 | |
CN103459138B (zh) | 阻隔性蒸镀膜 | |
US9770890B2 (en) | Apparatus and method for manufacturing thin film, electro-chemical device and method for manufacturing electro-chemical device | |
CN103633297B (zh) | 锂离子电池负极的制备方法 | |
CN204385288U (zh) | 柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机 | |
JP4747802B2 (ja) | 真空成膜方法、及び真空成膜装置 | |
CN209243159U (zh) | 一种用于蒸发镀膜的装置 | |
WO2022047948A1 (zh) | 一种多层复合结构的铝基导电薄膜的制备方法 | |
JP7217663B2 (ja) | リチウム電極の製造装置及びその方法 | |
CN110331369A (zh) | 柔性覆铜板的制造方法 | |
CN104775102B (zh) | 卷对卷磁控溅射阴极与柱状多弧源相结合的真空镀膜系统 | |
CN206635397U (zh) | 一种双面真空薄膜镀铝装置 | |
US20100272887A1 (en) | Thin film forming apparatus and thin film forming method | |
JP2023528467A (ja) | 蒸発源用の温度制御されたシールド、材料堆積装置、及び基材の上に材料を堆積させるための方法 | |
CN203429245U (zh) | 一种卷绕蒸发式真空镀膜机 | |
CN206635401U (zh) | 一种真空薄膜镀铝装置 | |
CN108823546A (zh) | 一种真空镀膜辊冷镀装置 | |
CN106192434A (zh) | 一种多层级结构发泡合成革的干法处理工艺 | |
CN210261958U (zh) | 一种负极卷绕镀锂系统 | |
CN209443080U (zh) | 磁控溅射镀膜系统 | |
JP2007297712A (ja) | プラズマを利用して堆積された薄いシード層を介してのメタライゼーション | |
CN207468716U (zh) | 一种双面真空镀膜卷绕机 | |
JP2016120473A (ja) | 水平型両面塗工装置 | |
JP2018115383A (ja) | 透明ガスバリア性フィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20171114 Termination date: 20210410 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |