CN207671933U - 透明面板 - Google Patents

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Abstract

本实用新型实施例公开了一种透明面板，该透明面板包括面板本体以及形成于面板本体的表面上的薄膜叠层结构，薄膜叠层结构包括从面板本体的表面向外侧依次叠层设置的氮化物衬底层、氧化物增透层以及氮化物加硬层。通过上述方式，通过上述薄膜叠层结构可以在改善透明面板的透光性的同时，提高透明面板的硬度及耐磨性。

Description

透明面板
技术领域
本实用新型实施例涉及材料领域，特别是涉及一种透明面板。
背景技术
对于汽车或手机等领域中所使用的面板玻璃往往对其硬度有较高的要求，目前上述面板玻璃所采用的硬化方式一般包括两种：
一种是化学硬化方法，具体是通过化学方法将玻璃表面浸泡在高温化学试剂溶液中，玻璃表层的钠离子会被溶剂中的离子替换，形成离子交换。所交换得到的离子比钠离子的直径大，使得玻璃表层的面积增加，但实际上体积没有变化，因此会产生“压应力”。从而使面板玻璃得到加硬强化。但是，通过上述化学硬化处理后的面板玻璃在与其他元件(例如，触摸屏)贴合加工过程中，兼容性一直较差，无法得到彻底解决。
另一种是物理硬化方法，具体是将面板玻璃加热到600-700℃后迅速冷却，使玻璃表面急剧收缩，形成压应力，而玻璃中层收缩较慢，而形成张应力，进而使面板玻璃获得较高的强度。但是，通过上述物理硬化处理后的面板玻璃会存在反光性强、玻璃脆性较大、容易碎裂等缺点。
进一步，为获得更好的透光效果，在面板玻璃上往往会镀设增透膜，而现有增透膜对面板玻璃的硬度没有改善。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种透明面板，以在改善透明面板的透光性的同时，提高透明面板的硬度及耐磨性。
为解决上述技术问题，本实用新型实施例采用的一个技术方案是：提供一种透明面板，该透明面板包括面板本体以及形成于所述面板本体的表面上的薄膜叠层结构，所述薄膜叠层结构包括从所述面板本体的表 面向外侧依次叠层设置的氮化物衬底层、氧化物增透层以及氮化物加硬层；其中，氮化物衬底层的厚度范围为8-35nm。
其中，氧化物增透层的厚度范围为8nm-150nm。
其中，氧化物增透层的厚度范围为30nm-90nm。
其中，氮化物加硬层的厚度范围为8nm-500nm。
其中，氮化物加硬层的厚度范围为8nm-35nm。
其中，氮化物衬底层的材料与所述氮化物加硬层相同，且所述氮化物衬底层的厚度与所述氮化物加硬层的厚度相同或小于所述氮化物加硬层的厚度。
其中，氮化物衬底层、氧化物增透层以及氮化物加硬层的厚度设置成使得所述薄膜叠层结构在380nm-780nm可见光范围内的平均透过率不小于85％。
其中，氮化物衬底层、氧化物增透层以及氮化物加硬层的厚度设置成使得在自然环境下经所述透明面板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：39≤L≤53，-2.5≤A≤-0.5，且-2.0≤B≤-3.0，或者35≤L≤45，4.5≤A≤7.0，且-2.5≤B≤-4.5。
本实用新型实施例的有益效果是：通过上述薄膜叠层结构可以在改善透明面板的透光性的同时，提高透明面板的硬度及耐磨性。
附图说明
图1是根据本实用新型第一实施例的透明面板的结构示意图；
图2是根据本实用新型第二实施例的透明面板的结构示意图；
图3是根据本实用新型第三实施例的透明面板的结构示意图；
图4是根据本实用新型第四实施例的透明面板的结构示意图；
图5是应用本实用新型实施例的透明面板以及终端的结构示意图；
图6是应用本实用新型实施例的挡风玻璃以及汽车的结构示意图；
图7是采用不同材料的氮化物加硬层的面板本体的表面硬度随膜层厚度的变化曲线；
图8是不同材料的氮化物加硬层的平均透过率随膜层厚度的变化曲 线；
图9是不同膜层厚度的氮化物加硬层的透过率随波长的变化曲线；
图10-15是包括不同材料的增透层和加硬层的双层膜结构的平均透过率随加硬层的膜层厚度的变化曲线。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
参照图1所示，图1是根据本实用新型第一实施例的透明面板的结构示意图。本实施例的透明面板包括面板本体10以及形成于面板本体10的表面上的薄膜叠层结构11。面板本体10的材料可以是玻璃、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯等任何适当的透明材料。
在本实施例中，薄膜叠层结构11包括增透层111以及加硬层112。其中，增透层111形成于面板本体10的表面上，加硬层112形成于增透层111的表面上，以使得增透层111和加硬层112依次层叠于面板本体10的表面上且彼此相互接触。
通过增透层111以及加硬层112可以在改善透明面板的透光性的同时，提高透明面板的硬度及耐磨性。
进一步，从增透层111以及加硬层112的物理特性考虑，为了获得上述效果，一般来说要求增透层111的折射率低于加硬层112，且加硬层112的硬度高于增透层111。
在具体应用例中，增透层111在380nm-780nm波长范围内的折射率为1.48-1.44，而加硬层112在380nm-780nm波长范围内的折射率为2.04-2.01。进一步可选的，增透层111的莫氏硬度为6-7，加硬层112的莫氏硬度为9-9.5。
此外，为了获得更好的透光效果，增透层111在380nm-780nm波长 范围内的吸收系数形成为小于0.001，加硬层112在380nm-780nm波长范围内的吸收系数为0.0068-0.0066。
从增透层111以及加硬层112的材料特性考虑，增透层111的材料可采用氧化物，例如增透层111的材料可以是氧化硅、氧化铝以及氧化硅铝中的至少一种或组合。
加硬层112的材料可以是氮化物以及类金刚石碳中的至少一种或组合。该氮化物还可以是氮硼化物或氮碳化物。例如，加硬层112的材料可以是氮化硅、氮化铝、氮化钛、氮化铬、氮化钽、氮化锆、氮化硅铝、氮化钛铝、氮化铬铝、氮化铬钛铝、氮化铬硅铝、氮化硅钛铝、氮化硼、氮硼化钛、氮硼化铬、氮硼化钛铝、氮硼化钛硅、氮硼化硅钛铝、氮碳化钛、氮碳化铬、氮碳化锆、氮碳化钨中的至少一种或组合。
从增透层111以及加硬层112的膜层厚度考虑，增透层111的厚度范围可以是50nm-100nm，加硬层112的厚度范围可以是5nm-20nm。更优选地，增透层111的厚度范围可以是80nm-90nm，加硬层112的厚度范围可以是10nm-15nm。需要值得注意的是，上述数值范围实际上包括两个端点的数值。
参照图2所示，图2是根据本实用新型第二实施例的透明面板的结构示意图。本实施例的透明面板包括面板本体20以及形成于面板本体20的表面上的薄膜叠层结构21。薄膜叠层结构21包括增透层211以及加硬层212。本实施例的透明面板与图1所示的透明面板的不同之处在于，本实施例的透明基板进一步形成于面板本体20与相邻设置的增透层211之间的衬底层22。衬底层22的设置目的是为了增加增透层211与面板本体20之间的附着力。衬底层22可选择任意适当的材料，同时衬底层22的厚度可根据实际情况进行任意设置。例如在本实施例中，衬底层22的材料与加硬层212相同，并优选与加硬层212的厚度相同，由此可简化镀膜过程。进一步，在薄膜叠层结构21的外侧进一步形成防指纹层23，防指纹层23可以采用具有疏水性和疏油性的聚合物涂层或者适当材料的镀膜。
参照图3所示，图3是根据本实用新型第三实施例的透明面板的结 构示意图。本实施例的透明面板包括面板本体30以及形成于面板本体30的表面上的薄膜叠层结构31。本实施例的透明面板与图1所示的透明面板的不同之处在于，本实施例的薄膜叠层结构31包括依次层叠设置于面板本体30的表面上的增透层311、加硬层312、增透层313以及加硬层314。
在本实施例中，可以将增透层311和加硬层312作为一个叠层周期，而将增透层313和加硬层314作为一个叠层周期。也就是说，在图1所示的实施例中，薄膜叠层结构11仅包括由相互接触的增透层111和加硬层112形成的一个叠层周期。而在图3所示的实施例中，薄膜叠层结构31包括分别由相互接触的增透层311和加硬层312以及由相互接触的增透层311和加硬层312所形成的两个叠层周期。在其他实施例中，薄膜叠层结构还可以包括两个以上由相互接触的增透层和加硬层所形成的叠层周期。其中，在每一叠层周期内，加硬层设置于增透层的远离面板本体的一侧。并且薄膜叠层结构的最外层为加硬层。
进一步，本实施例的面板本体30与薄膜叠层结构31之间以及薄膜叠层结构31的最外侧也可以根据实际需要增加图2所示实施例中的衬底层和防指纹层。
参照图4所示，图4是根据本实用新型的第四实施例的透明面板的制造方法的流程图。本实施例的制造方法主要包括以下步骤：
步骤41，对面板本体进行表面清洗和烘干；
在本步骤中，由于面板本体的表面光洁度对镀膜影响非常大，因此优选通过超声波清洗方式对面板本体进行表面清洗。
在一具体应用例中，在第一超声波清洗槽内加入超声波清洗剂，将其加热到70℃，再将面板本体放置其中，开始超声波清洗，5分钟后结束；
在第二和第三超声波清洗槽内加入市水，并将面板本体依次放入第二和第三超声波清洗槽内，进行超声漂洗，每槽持续时间5分钟；
在第四超声波清洗槽中加入超声波清洗剂，并在常温条件下进行超声波清洗5分钟；
在第五至第七超声波清洗槽中加入纯水，其中纯水的电阻率≥10-15MΩ/CM3，将面板本体放入其中，依次进行超声波漂洗，每槽持续时间为5分钟；
将面板本体置于第八超声波清洗槽中进行一次脱水，再将面板本体第九和第十超声波清洗槽中进行两次热烘干脱水；
最后，经超声波清洗完成后的玻璃面板置于托盘内，准备进行真空溅射镀膜加工。
步骤42，利用衬底材料通过真空溅镀方式在面板本体的表面形成衬底层；
步骤43，利用增透材料通过真空溅镀方式在衬底层的表面形成增透层；
步骤44，利用加硬材料通过真空溅镀方式在增透层的表面形成加硬层。
在上述步骤42-44中，真空溅镀可采用中频反应溅射、射频溅射、高能脉冲溅射中的一种或组合。衬底材料、增透材料和加硬材料可采用上文描述的各种材料，且衬底材料和加硬材料可采用相同材料。进一步，衬底层、增透层和加硬层的物理特性以及膜层厚度可设置成上文描述的各种数值范围，且衬底层和加硬层的物理特性以及膜层厚度可以相同。
进一步，如上文描述的，本领域技术人员可以根据实际需要将步骤42省略，或者重复步骤43-44，进而使得最终形成的薄膜叠层结构包括一个以上由相互接触的增透层和加硬层所形成的叠层周期。其中，加硬层优选位于薄膜叠层结构的最外层。
进一步，还可以在薄膜叠层结构的外侧进一步形成防指纹膜。
下面以玻璃基底作为面板本体，以氧化硅(SiO2)作为增透材料，以氮化硅(Si3N4)作为衬底材料和加硬材料为例描述一具体应用例。
在具体应用例中，首先对玻璃基底进行超声波表面清洗、脱水、烘干后，放置在真空设备的工件架上。开启真空设备，将玻璃基底通过传动机构以2.5cm/秒的速度进入连续溅射镀膜真空设备，真空设备的本底真空为3.0×10-3Pa，并在面板本体的表面依次镀制氮化硅衬底层、氧化 硅增透层以及氮化硅加硬层三层膜层结构。
其中，在氮化硅衬底层的镀制过程中，Si靶材配置40KW中频反应电源，向真空设备内充入300sccm的氩气作为保护气体，同时再向其中充入120sccm的氮气作为反应气体，使工作真空度为0.5-0.8Pa，保证氮化硅衬底层的沉积厚度为10-20纳米；
在氧化硅增透层的镀制过程中，保持真空设备的本底真空为3.0×10-3Pa，Si靶材配置40KW中频反应电源，充入350sccm的氩气以及80-120sccm氧气，工作真空度为0.5Pa，保证氧化硅增透层的沉积厚度为80-100纳米。
氮化硅加硬层与氮化硅衬底层的溅镀工艺参数相同，沉积厚度为10-20纳米。
经测试，采用上述薄膜叠层结构的玻璃基底透过率提高了4％，且硬度可以达到铅笔硬度的9H，具有硬度高、耐磨擦、耐刮花、使用寿命长等优点。
如上文所示，本实用新型的各实施例的透明面板中通过在面板本体的表面设置包括至少一增透层和加硬层的薄膜叠层结构可以在改善透明面板的透光性的同时，提高透明面板的硬度及耐磨性，并可广泛应用于多种领域。
参照图5所示，图5是应用本实用新型实施例的透明面板的显示屏及终端的结构示意图。
在本实施例中，在终端设备50的显示屏51的最外侧设置上述各实施例的透明面板52，并将透明面板52的最外侧加硬层设置成朝向显示屏51的外部。
参照图6所示，图6是应用本实用新型实施例的透明面板的挡风玻璃及汽车的结构示意图。
在本实施例中，汽车60的汽车挡风玻璃61采用上述各实施例的透明面板，将透明面板的的最外侧加硬层设置成朝向汽车60的外部，或者根据实际需要在透明面板的两侧均设置上述薄膜叠层结构，以使得最外侧加硬层分别朝向汽车的内部和外部。如本领域技术人员所理解的上 述挡风玻璃还可以应用于其他移动交通工具上。
经本实用新型人进一步研究发现，在上述膜层结构的基础上，还可以考虑以下变型：
首先，在不考虑增透效果的情况下，也可以仅在面板本体的表面上设置与上文类似的氮化物加硬层，进而达到对面板本体的表面进行加硬的效果，此时面板本体也可以是非透明材料。如图7所示，图7中分别显示了不同材料的氮化物加硬层的膜层厚度变化而导致的面板本体的表面硬度的变化曲线。其中以氮化硅、氮化铝和氮化硅铝为例进行显示，但如本领域技术人员所了解的，氮化物加硬层也可以采用上文中提到的其他氮化物材料，并具有类似的特性。由于氮化物加硬层的厚度直接影响面板本体的表面硬度，因此在本实用新型中氮化物加硬层的厚度选择至关重要。从图7和对其它氮化物材料的测试结果可以发现，当氮化物加硬层的膜层厚度达到8nm时，面板本体的表面的莫氏硬度已经达到或超过目前市售的普通玻璃面板的莫氏硬度，并达到或接近6.0。因此，在本实用新型中，氮化物加硬层的厚度优选设置成不小于8nm。进一步，为获得更好的保护效果，可通过设置氮化物加硬层的膜层厚度，使得面板本体的表面硬度不小于6.0，甚至更高，例如7.0、8.0、9.0等，具体根据面板的实际使用场景而定。在本实用新型的一可选实施例中，通过设置氮化物加硬层的厚度使得面板本体的表面的莫氏硬度介于6.0-8.5之间。
进一步，从图7和对其它氮化物材料的测试结果可以发现面板本体的表面硬度随氮化物加硬层的膜层厚度呈现非线性变化。在氮化物加硬层的厚度达到一定厚度后，面板本体的表面硬度不再明显增加。例如，当氮化物加硬层的厚度达到500nm时，面板本体的表面硬度已经达到或接近由材料本身所决定的极限硬度(氮化硅加硬层和氮化硅铝加硬层达到莫氏硬度9.0，而氮化铝加硬层达到莫氏硬度8.5)，并基本不再随膜层厚度增加而增大。因此，在本实用新型中，氮化物加硬层的厚度可以在8nm-500nm的范围内进行选择。
进一步，从图7和对其它氮化物材料的测试结果可以发现在膜层厚 度从8nm变化到500nm的过程中，面板本体的表面硬度首先随膜层厚度的增加的急速增大，并在增大到一定程度后随膜层厚度的增加而缓慢增大。例如，当氮化物加硬层的厚度达到150nm时，面板本体的表面硬度的增加趋势随氮化物加硬层的厚度的增加而趋于放缓。因此，在本实用新型中进一步综合硬度效果及经济成本的双重考量，氮化物加硬层的厚度可以在8nm-150nm的范围内进行选择适当的选择。在本实用新型的一可选实施例中，通过设置氮化硅加硬层的厚度而使得面板本体的表面硬度介于6.5-8.5之间，或者通过氮化铝加硬层或氮化硅铝加硬层的厚度而使得面板本体的表面硬度介于6.5-8.0之间。
进一步，如图8所示，图8中分别显示了不同材料的氮化物加硬层的膜层厚度下的平均透过率的变化曲线。从图8和对其它氮化物材料的测试结果可以发现，氮化物加硬层的膜层厚度对氮化物加硬层的平均透过率存在较大影响。因此，当面板作为液晶屏保护盖板或其他需考虑透射亮度的情况下，需要进一步基于氮化物加硬层的平均透过率来设置氮化物加硬层的膜层厚度。例如，可以将氮化物加硬层的膜层厚度设置在8nm-35nm或100-150nm来获得相对较高的平均透过率，同时保证相对较低的经济成本。进一步，本实用新型一可选实施例中，针对具体材料差异进一步以下优选膜层厚度，氮化硅层的厚度为12nm-35nm或100nm-135nm；氮化铝层的厚度为16nm-35nm或115nm-150nm；氮化硅铝层的厚度为14nm-35nm或110nm-140nm。在本实用新型一可选实施例中，氮化物加硬层的厚度设置成使得氮化物加硬层在380nm-780nm可见光范围内的平均透过率不小于82％，更优选不小于85％。
当然，在不考虑经济成本和透过率效果的情况下，可以将氮化物加硬层的膜层厚度设置其他范围，例如当面板作为手机或电脑后盖板而要求更高硬度和耐磨性的情况下，可以将氮化物加硬层的膜层厚度设置150-500nm或者其他范围。
进一步，如图9所示，图9中分别显示了在不同膜层厚度下氮化物加硬层随波长变化的透过率曲线。从图9和对其它氮化物材料的测试结果可以发现，在一定膜层厚度下，氮化物加硬层对不同波长光线的透射 率会产生不同，因此会产生一定的色偏，影响色彩还原度。因此，当面板作为液晶屏保护盖板或其他需考虑色彩还原度的情况下，需要进一步基于氮化物加硬层的透射光的色坐标来设置氮化物加硬层的膜层厚度。在本实用新型中，通过设置氮化物加硬层的膜层厚度，使得在自然环境下经面板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：39≤L≤53，-2.5≤A≤-0.5，且-2.0≤B≤-3.0，或者35≤L≤45，4.5≤A≤7.0，且-2.5≤B≤-4.5，由此可以确保面板具有较好的色彩还原度。
通过上述氮化物加硬层可以有效提高面板本体的表面硬度和耐磨度。具体选择不同的氮化物材料并在8nm-500nm选择不同的膜层厚度，进行摩擦实验与水滴角测量。具体测试条件为：1kg砝码作为负重，尺寸10×10mm的钢丝绒作为磨头，行程40mm，速度50次(往复)/分，摩擦完成后，进行水滴角测量，测量水滴与基板表面夹角。评判标准：在水滴角>100°的前提下，摩擦次数越多表明耐磨性越优。普通玻璃面板经过防指纹镀膜处理后，摩擦测试3000次，水滴角<100°，本实用新型的面板经过4000次摩擦，水滴角>100°。由此可见，在采用适当厚度的氮化物加硬层后，面板本体表面的硬度以及耐磨性得到了显著提升。
进一步，经本实用新型人研究发现，在上文公开的增透层和加硬层或者衬底层、增透层以及加硬层的叠层结构中上述各膜层的厚度可根据实际需要进行扩大。
在图1所示的以氮化物为加硬层且以氧化物为增透层的双层膜结构中，图10-15中分别显示了以氧化硅为增透层且以氮化硅为加硬层、以氧化铝为增透层且以氮化硅为加硬层、以氧化硅为增透层且以氮化铝为加硬层、以氧化铝为增透层且以氮化铝为加硬层、以氧化硅为增透层且以氮化硅铝为加硬层以及以氧化铝为增透层且以氮化硅铝为加硬层的六种不同材料的双层膜结构的平均透过率变化曲线。
具体来说，在上述每幅示意图中分别显示了六条曲线，这六条曲线分别表示将增透层的厚度设置成8nm、20nm、30nm、50nm、100nm和150nm时，随加硬层的膜层厚度从12nm变化到150nm时上述双层膜 结构的平均透过率。
如图10-15所示，虽然各双层膜结构的平均透过率随材料以及膜层厚度的改变而有所变化，但均基本保持在92％-80％之间。因此，在增透层的厚度可以在8nm-150nm之间进行选择，并从经济成本考虑可进一步在8nm-90nm之间进行选择。
同时，经进一步研究发现，设置有上述双层膜结构的面板本体的表面硬度主要取决于与氮化物加硬层，因此在上述双层膜结构中的氮化物加硬层的膜层厚度选择标准与上文所描述的单层氮化物加硬层类似，其可选范围为8nm-500nm，进一步可选范围为8nm-150nm，更进一步的可选范围为8nm-35nm，或100nm-150nm，并可根据材料不同进行上文描述的优化。
进一步，可以基于双层膜结构的平均透过率来设置增透层和加硬层的膜层厚度，以使得双层膜结构在380nm-780nm可见光范围内的平均透过率不小于82％，优先不小于85％，更优选不小于90％。例如，可以在8nm-35nm或100-150nm的范围内选择氮化物加硬层的膜层厚度设置且在8nm-90nm的范围内选择氧化物增透层的膜层厚度来获得相对较高的平均透过率，同时保证相对较低的经济成本。需要指出的是，由于增透层的存在，可通过设置适当的增透层的厚度，使得在加硬层厚度相同的情况下，上述双层膜结构的平均透过率相较于仅采用单层氮化物加硬层的平均透过率至少增加4％。
此外，还可以基于双层膜结构的透射光的色坐标来设置氮化物加硬层和氧化物加硬层的膜层厚度。在本实用新型中，通过设置二者的膜层厚度，使得在自然环境下经面板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：39≤L≤53，-2.5≤A≤-0.5，且-2.0≤B≤-3.0，或者35≤L≤45，4.5≤A≤7.0，且-2.5≤B≤-4.5，由此可以确保面板具有较好的色彩还原度。
进一步，在图2所示的以氮化物为加硬层和衬底层且以氧化物为增透层的三层膜结构中，氮化物衬底层的厚度可在8nm-500nm的范围内进行选择，并进一步可选的在8nm-35nm的范围内进行选择，氧化物增透 层的厚度可在8nm-150nm的范围内进行选择，并进一步可选的在30nm-90nm的范围内进行选择，而氮化物加硬层的厚度可在8nm-500nm的范围内进行选择，并进一步可选的在8nm-35nm的范围内进行选择，并可根据材料不同进行上文描述的优化。
进一步，在图3所示的以氮化物为加硬层且以氧化物为增透层的四叠层结构并进一步设置氮化物衬底层的五层膜结构中，氮化物衬底层的厚度可在8nm-500nm的范围内进行选择，并进一步可选的在8nm-35nm的范围内进行选择，靠近面板本体的第一氧化物增透层的厚度可在8nm-150nm的范围内进行选择，并进一步可选的在22nm-38nm的范围内进行选择，靠近面板本体的第一氮化物加硬层的厚度可在8nm-500nm的范围内进行选择，并进一步可选的在50nm-70nm的范围内进行选择，远离面板本体的第二氧化物增透层的厚度可在8nm-150nm的范围内进行选择，并进一步可选的在10nm-70nm的范围内进行选择，远离面板本体的第二氮化物加硬层的厚度可在8nm-500nm的范围内进行选择，并进一步可选的在10nm-55nm的范围内进行选择。其中，氮化物衬底层也可根据实际需要取消。
需要说明的是，为了简化制程且处于成本考虑，氮化物衬底层的材料可选择成与氮化物加硬层的材料相同，且其厚度可选择成等于或小于氮化物加硬层的厚度。例如，在五层膜结构中，氮化物衬底层的材料可选择与第一氮化物加硬层和/或第二氮化物加硬层相同，且氮化物衬底层的厚度与第一氮化物加硬层和/或第二氮化物加硬层的厚度相同或小于第一氮化物加硬层和/或第二氮化物加硬层的厚度。同时，通过设置适当的膜层厚度使得包括衬底层在内的整体薄膜叠层结构的平均透过率和色坐标满足上文描述的平均透过率和色坐标标准。
以上所述仅为本实用新型的实施方式，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种透明面板，其特征在于，所述透明面板包括面板本体以及形成于所述面板本体的表面上的薄膜叠层结构，所述薄膜叠层结构包括从所述面板本体的表面向外侧依次叠层设置的氮化物衬底层、氧化物增透层以及氮化物加硬层；
其中，所述氮化物衬底层的厚度范围为8-35nm。
2.根据权利要求1所述的透明面板，其特征在于，所述氧化物增透层的厚度范围为8nm-150nm。
3.根据权利要求2所述的透明面板，其特征在于，所述氧化物增透层的厚度范围为30nm-90nm。
4.根据权利要求1所述的透明面板，其特征在于，所述氮化物加硬层的厚度范围为8nm-500nm。
5.根据权利要求4所述的透明面板，其特征在于，所述氮化物加硬层的厚度范围为8nm-35nm。
6.根据权利要求1所述的透明面板，其特征在于，所述氮化物衬底层的材料与所述氮化物加硬层相同，且所述氮化物衬底层的厚度与所述氮化物加硬层的厚度相同或小于所述氮化物加硬层的厚度。
7.根据权利要求1所述的透明面板，其特征在于，所述氮化物衬底层、氧化物增透层以及氮化物加硬层的厚度设置成使得所述薄膜叠层结构在380nm-780nm可见光范围内的平均透过率不小于85％。
8.根据权利要求1所述的面板，其特征在于，所述氮化物衬底层、氧化物增透层以及氮化物加硬层的厚度设置成使得在自然环境下经所述透明面板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：39≤L≤53，-2.5≤A≤-0.5，且-2.0≤B≤-3.0，或者35≤L≤45，4.5≤A≤7.0，且-2.5≤B≤-4.5。
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