CN207468713U - 一种蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及显示设备技术领域，具体公开了一种蒸镀装置，包括蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩膜板支撑架和玻璃基板支撑架，所述掩膜板支撑架用于承载金属掩膜板，所述玻璃基板支撑架用于承载玻璃基板，所述金属掩膜板设于所述蒸镀源和所述玻璃基板之间，所述蒸镀装置还包括依次设置于玻璃基板上方的冷板和磁铁，所述冷板下表面设置有凸起组件，本实用新型通过在冷板下表面设置凸起组件，减少冷板与玻璃基板之间接触产生的静电，同时使得冷板与金属掩膜板贴合时，保持稳定的高度，从而稳定金属掩膜板在不同腔体的制作工艺的一致性，降低金属掩膜板调试的难度以及报废的风险。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示设备技术领域，尤其涉及一种蒸镀装置。
背景技术
在平板显示技术中，有机发光二极管显示器尤其轻薄、主动发光、快速响应、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为继液晶显示器（LCD）之后的第三代显示技术。按驱动方式，OLED分为被动式OLED（Passive Matrix OLED，PMOLED）及主动式OLED（Active Martix OLED，AMOLED），其中，PMOLED只能制作小尺寸、低分辨率的显示面板，AMOLED因通过在每个像素中集成薄膜晶体管（TFT）和电容器并由电容器维持电压的方法进行驱动，因而可以实现大尺寸、高分辨率面板，是当前研究的重点及未来显示技术的发展方向。
AMOLED涉及的蒸镀设备在支撑固定玻璃时使用了大型的金属平板，其平板内部通入冷却水，可以减低玻璃在蒸镀时的热量影响，不同的机台之间，传统的冷板结构其玻璃接触面与金属掩膜板（FMM）在贴合时高度难以保持一致。而AMOLED产品在有机蒸镀过程中需要很多张FMM，分布于不同的腔体机台，由于机台结构差异性，尤其是贴合时的高度因素，使得不同腔体机台对应于不同FMM制作工艺，导致一方面FMM调试的难度大，另一方面FMM制作工艺不稳定，容易导致FMM报废。
实用新型内容
针对上述技术问题，本实用新型提供了一种保持冷板与金属掩膜板贴合时的稳定高度、降低金属掩膜板的调试难度以及报废风险的蒸镀装置。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供的具体方案如下：一种蒸镀装置，包括蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩膜板支撑架和玻璃基板支撑架，所述掩膜板支撑架用于承载金属掩膜板，所述玻璃基板支撑架用于承载玻璃基板，所述金属掩膜板设于所述蒸镀源和所述玻璃基板之间，所述蒸镀装置还包括依次设置于玻璃基板上方的冷板和磁铁，所述冷板下表面设置有凸起组件。
优选的，所述凸起组件包括设置于冷板下表面呈矩阵排列的第一凸起以及设置于冷板下表面边缘处的第二凸起，所述第一凸起呈矩阵排列，减少冷板与玻璃基板之间接触产生的静电，提高制作的稳定性。
优选的，所述第二凸起的高度大于第一凸起的高度，第二凸起的高度稳定冷板与金属掩膜板贴合时的高度，从而稳定金属掩膜板在不同腔体制作工艺的一致性。
优选的，所述第二凸起的高度大于第一凸起的高度40~60um，该高度范围根据实际制作过程中不同金属掩膜板做相应的物理调整。
优选的，所述凸起组件包括设置于冷板下表面呈矩阵排列的第一凸起和冷板下表面边缘处的凸起边框，所述第一凸起呈矩阵排列，减少冷板与玻璃基板之间接触产生的静电，提高制作的稳定性。
优选的，所述凸起边框的高度大于所述第一凸起的高度，所述凸起边框稳定冷板与金属掩膜板贴合时的高度，无需多次调整冷板与金属掩膜板之间的高度距离。
进一步优选的，所述蒸镀装置还包括调节冷板和磁铁上下运动的牵引组件，所述牵引组件包括与冷板和磁铁固定连接的中轴、控制中轴上下运动的控制器，控制器控制中轴上下运动进而调节冷板与磁铁的位置。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：通过在冷板下表面设置第一凸起，减少冷板与玻璃基板之间接触产生的静电，提到制作的稳定性，同时在冷板的下表面还设置有第二凸起或凸起边框，通过第二凸起或凸起边框稳定冷板与金属掩膜板贴合时的高度，从而稳定金属掩膜板在不同腔体制作工艺的一致性，无需多次调整冷板与金属掩膜板之间的高度距离，提高生产效率，稳定的高度距离可以保证蒸镀像素位置精度的稳定性，降低了金属掩膜板调试的难度以及报废的风险。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构框图；
图2为本实用新型实施例一冷板的主视图；
图3为本实用新型实施例一冷板的侧视图；
图4为本实用新型实施例二冷板的主视图；
图5为本实用新型实施例二冷板的侧视图；
其中，1为蒸镀腔室；2为蒸镀源；3为掩膜板支撑架；4为玻璃基板支撑架；5为金属掩膜板；6为玻璃基板；7为冷板；8为磁铁；9为第一凸起；10为第二凸起；11为凸起边框；12为中轴；13为控制器。
具体实施方式
为了使本领域的技术人员更好的理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型的技术方案做进一步的阐述。
实施例一：如图1~3所示，一种蒸镀装置，包括蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩膜板支撑架和玻璃基板支撑架，所述掩膜板支撑架用于承载金属掩膜板，所述玻璃基板支撑架用于承载玻璃基板，所述金属掩膜板设于所述蒸镀源和所述玻璃基板之间，所述蒸镀装置还包括依次设置于玻璃基板上方的冷板和磁铁，所述冷板下表面设置有凸起组件。
本实施例中，所述蒸镀装置还包括调节冷板和磁铁上下运动的牵引组件，牵引组件包括与冷板和磁铁固定连接的中轴、控制中轴上下运动的控制器，控制器控制中轴上下运动进而调节冷板与磁铁的位置。
其中，凸起组件包括设置于冷板下表面呈矩阵排列的第一凸起以及设置于第一凸起四周的第二凸起，第一凸起呈矩阵排列，减少冷板与玻璃基板之间接触产生的静电，提高制作的稳定性。
磁铁设置于冷板的上方，在制作过程中，通过磁铁的磁力使冷板与金属掩膜板紧密贴合，而在生产应用过程中的玻璃基板，由于其表面积较大，厚度较薄，其中心会出现下垂的弧度，进而引起金属掩膜板发生形变。冷板与金属掩膜板之间的高度距离决定了冷板对玻璃基板挤压的力度，距离越小，说明冷板的压力越大，而玻璃基板向下挤压金属掩膜板的力度也就越大，因此，冷板与金属掩膜板之间的高度距离间接影响了金属掩膜板的形变程度，本实施例中的第二凸起高度大于第一凸起的高度，且高于第一凸起50um，该高度数值的确定通过实际应用生产的金属掩膜板的需求来确定，并不限定于本实施例所采用的高度数值，由于第二凸起比第一凸起高玻璃厚度的数值为稳定值，如此可以保证不同的机台在贴合时，冷板与金属掩膜板的高度均为固定数值，而稳定的高度可以保证蒸镀像素位置精度的稳定性，降低了金属掩膜板调试、制作的难度以及报废的风险。
实施例二：如图1、4、5所示，一种蒸镀装置，包括蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩膜板支撑架和玻璃基板支撑架，所述掩膜板支撑架用于承载金属掩膜板，所述玻璃基板支撑架用于承载玻璃基板，所述金属掩膜板设于所述蒸镀源和所述玻璃基板之间，所述蒸镀装置还包括依次设置于玻璃基板上方的冷板和磁铁，所述冷板下表面设置有凸起组件。
其中，凸起组件包括设置于冷板下表面呈矩阵排列的第一凸起和冷板下表面边缘处的凸起边框，所述第一凸起呈矩阵排列，减少冷板与玻璃基板之间接触产生的静电，提高制作的稳定性。
磁铁设置于冷板的上方，在制作过程中，通过磁铁的磁力使冷板与金属掩膜板紧密贴合，而在生产应用过程中的玻璃基板，由于其表面积较大，厚度较薄，其中心会出现下垂的弧度，进而引起金属掩膜板发生形变，本实施例中凸起边框的高度大于第一凸起的高度，其高度范围可根据实际生产过程中不同金属掩膜板的制作需求来调整，通过确定的高度数值使冷板与金属掩膜板之间的高度距离保持稳定，可以保证蒸镀像素位置精度的稳定性，降低了金属掩膜板调试、制作的难度以及报废的风险。
本实用新型通过物理定位的方法，在冷板的下表面设置第一凸起、第二凸起或凸起边框，使得不同腔体之间的冷板与金属掩膜板之间的间距都是一定的，提高了生产效率，降低了金属掩膜板调试与制作的难度。
以上为本实用新型的较佳的实现方式，需要说明的是，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型做出各种相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
Claims (7)
1.一种蒸镀装置，包括蒸镀腔室（1）、设置于蒸镀腔室（1）内的蒸镀源（2）、掩膜板支撑架（3）和玻璃基板支撑架（4），所述掩膜板支撑架（3）用于承载金属掩膜板（5），所述玻璃基板支撑架（4）用于承载玻璃基板（6），所述金属掩膜板（5）设于所述蒸镀源（2）和所述玻璃基板（6）之间，其特征在于：所述蒸镀装置还包括依次设置于玻璃基板（6）上方的冷板（7）和磁铁（8），所述冷板（7）下表面设置有凸起组件。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述凸起组件包括设置于冷板（7）下表面呈矩阵排列的第一凸起（9）以及设置于冷板下表面边缘处的第二凸起（10）。
3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于：所述第二凸起（10）的高度大于第一凸起（9）的高度。
4.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于：所述第二凸起（10）的高度大于第一凸起（9）的高度40~60um。
5.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述凸起组件包括设置于冷板（7）下表面呈矩阵排列的第一凸起（9）和冷板（7）下表面边缘处的凸起边框（11）。
6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于：所述凸起边框（11）的高度大于所述第一凸起的高度。
7.根据权利要求1~6任一项所述的蒸镀装置，其特征在于：所述蒸镀装置还包括调节冷板（7）和磁铁（8）上下运动的牵引组件，所述牵引组件包括与冷板（7）和磁铁（8）固定连接的中轴（12）、控制中轴（12）上下运动的控制器（13）。
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